KR0142791B1 - 레티클구조 - Google Patents
레티클구조Info
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- KR0142791B1 KR0142791B1 KR1019940009724A KR19940009724A KR0142791B1 KR 0142791 B1 KR0142791 B1 KR 0142791B1 KR 1019940009724 A KR1019940009724 A KR 1019940009724A KR 19940009724 A KR19940009724 A KR 19940009724A KR 0142791 B1 KR0142791 B1 KR 0142791B1
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- South Korea
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- quartz substrate
- reticle structure
- quartz
- reticle
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
본 발명은 레티클구조에 관한 것으로, 취급이 용이하고 외부요인에 의해 오염되는 일이 없는 레티클구조에 관한 것이다.
본 발명은 석영기판과, 상기 석영기판상에 형성된 크롬패턴층, 및 상기 석영기판 상부에 상기 석영기판과 동일한 크기를 가지며 상기 석영기판의 외곽에 장착된 접착패드에 의해 상기 석영기판과 일정간격을 두고 부착된 상부 석영판을 구비하여 구성된 레티클구조를 제공한다.
Description
제1도는 종래의 레티클 구조 및 제조방법을 도시한 단면도
제2도는 종래의 레티클구조의 평면도
제3도는 본 발명의 레티클 구조 및 제조방법을 도시한 단면도
제4도는 본 발명의 레티클 구조의 평면도
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
11:석영기판 12:크롬층
13:포토레지스트 14:접착패드
15:상부 석영판
본 발명은 레티클(Reticle)구조에 관한 것으로, 특히 취급이 용이하고 외부여인에 의한 오염에 강한 포토리소그래피(Photolithography)용 레티클구조에 관한 것이다.
종래 포토리소그래피용 레티클은 제1도(a)에 도시된 바와 같이 석영기판(Quartz)(1)상에 크롬(2)과 포토레스트(3)가 도포된 레티클 원판을 전자빔(E-beam)장비를 이용하여 특정패턴을 만들고 제1도(b)와 같이 상기 포토레지스트를 제거한 다음 만들어진 크롬(2)이 외부입자등에 의해 오염되지 않도록 높은 광투과성을 갖는 박막(4)이 붙여진 펠리클(Pellicle)(5)을 부착함으로써 형성된다. 제2도는 이와 같이 형성된 종래의 레티클구조의 평면도이다.
상기와 같이 형성되는 레티클에 있어서는 크롬면에 부착된 오염방지를 위한 펠리클이 충격에 민감하여 쉽게 찢어지고 이 찢어진 박막이 크롬면에 붙게 되면 쉽게 제거되지 않아 박막이 파손될시에는 레티클의 재사용이 불가능하게 되며, 마스크상에 펠리클을 씌워야 하므로 펠리클이 씌워진 곳과 씌워지지 않은 곳의 경계면이 생겨 크기가 크고 연속적인 패턴구성이 불가능하게 되어 패턴구성시의 제약이 따르는 문제가 있다.
또한 펠리클을 씌우기 위해 필요한 패턴을 마스크상에 만들어야 하며 이를 이용해 정화하게 펠리클을 씌워야 하므로 작업이 어려운 문제점도 따른다.
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 취급이 용이하고 외부요인에 의해 오염되는 일이 없는 레티클구조를 제공하는 데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 레티클구조는 석영기판과, 상기 석영기판상에 형성된 크롬패턴층, 및 상기 석영기판 상부에 상기 석영기판과 동일한 크기를 가지며 상기 석영기판의 외곽에 장착된 접착패드에 의해 상기 석영기판과 일정간격을 두고 부착된 상부 석영판을 구비하여 구성된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발며을 상세히 설명한다.
제3도는 본 발명에 의한 레티클구조의 단면도 및 이의 제조방법을 나타내었다. 본 발명의 레티클구조는 제3도(a)와 같이 석영기판(11)상에 크롬층(12)을 형성하고 이위에 포토레지스트(13)를 도포한 후, 전자빔리소그래피에 의해 상기 크롬층(12)을 패터닝하여 소정의 패턴을 형성한 다음, 제3도(b)와 같이 상기 포토레지스트를 제거하고 상기 형성된 크롬층(12)을 보호하기 위해 크롬이 없는 고 투과성의 상부 석영판(15)을 상기 석영기판(11)과 4-5mm의 간격을 두고 부착함으로써 형성한다. 이때, 석영기판(11)과 상부 석영판(15)사이의 간격을 유지하기 위해 두께 4-5mm의 접착패드(14)를 레티클 외곽에 장착한다. 이와 같이 형성된 본 발명의 레티클구조를 제4도에 평면도로 나타내었다.
상기와 같이 본 발명은 크롬패턴이 석영기판과 상부 석영판 사이에 있으므로 외부 입자에 의한 오염의 염려가 없고 펠리클을 사용하지 않으므로 취급 및 보관이 용이하며, 석영표면의 오염시 세척이 용이해 재사용이 가능하게 된다.
또한 종래의 레티클에 비해 이중의 석영판을 사용하므로 강도가 커져 잘 깨어지지 않게 되며, 마스크상의 어느 곳이든지 연속패턴을 만들어 쓸 수 있으므로 패턴구성에 제약이 없으며, 상부 석영판과 석영기판으로 크기가 같은 석영을 사용하므로 펠리클과 같이 미스얼라인이 발생하지 않게 된다.
Claims (1)
- 석영기판과, 상기 석영기판상에 형성된 크롬패턴층, 및 상기 석영기판 상부에 상기 석영기판과 동일한 크기를 가지며 상기 석영기판의 외곽에 장착된 접착패드에 의해 상기 석영기판과 일정간격을 두고 부착된 상부 석영판을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 레티클구조.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940009724A KR0142791B1 (ko) | 1994-05-03 | 1994-05-03 | 레티클구조 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940009724A KR0142791B1 (ko) | 1994-05-03 | 1994-05-03 | 레티클구조 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950034513A KR950034513A (ko) | 1995-12-28 |
| KR0142791B1 true KR0142791B1 (ko) | 1998-08-17 |
Family
ID=19382431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940009724A KR0142791B1 (ko) | 1994-05-03 | 1994-05-03 | 레티클구조 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0142791B1 (ko) |
-
1994
- 1994-05-03 KR KR1019940009724A patent/KR0142791B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950034513A (ko) | 1995-12-28 |
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