KR0130143Y1 - 반도체 소자 제조용 증기 송출 시스템 - Google Patents

Abstract

1. 청구 범위에 기재된 고안이 속한 기술분야

반도체 소자 제조용 증기 송출 시스템

2. 고안이 해결하려고 하는 기술적 과제

반도체 소자 제조용 증기 송출 시스템에서 반도체 소자의 오염 방지 등의 목적으로 순수 저장 용기내의 H₂O를 주기적으로 교체해 주어야 하는데, 종래에는 용기내에서 H₂O를 배수시킬 때, 순수 저장 용기에 밸브를 통해 N₂를 주입시켜 용기내의 기압을 대기압보다 높게 만든 다음 그 압력차에 의해 H₂O를 배수시키도록 구성되어 있는데, 이 과정에서 압력 조절 오류 등으로 인해 H₂O가 역류하는 현상이 발생할 수도 있고, 또한 H₂O가 완전히 배수하지 않고 남아 있어 새로 주입되는 H₂O를 오염시키는 등의 문제점이 있었음.

3. 고안의 해결방법의 요지

배수관에 첵크 밸브를 설치하여 배수되는 H₂O의 역류를 방지하고, 또한 벤츄리 밸브를 설치하고 질소 가스를 공급하므로써, 배수관과 용기내부 사이의 압력차를 크게 하여 H₂O의 용기내 잔류를 방지할 수 있는 증기 송출 시스템을 제공하고자 함.

4. 고안의 중요한 용도

반도체 소자 제조 장비에 이용됨

Description

반도체 소자 제조용 증기 송출 시스템

제1도는 본 고안에 따른 증기 송출 시스템의 구성도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 순수 저장 용기 2,3 : 뉴머틱 밸브

4 : 첵크 밸브 5 : 벤츄리 밸브

6 : 배수통

본 고안은 일반적으로 반도체 소자 제조 장비에 관한 것으로서, 특히 반도체 소자의 패시베이션 공정에 사용되는 증기 송출 시스템에 관한 것이다.

반도체 소자 제조시, 금속 배선 공정중 포토레지스트를 스트립하기 전에 패시베이션 공정이 수행되는데, 이 공정은 H₂O 증기에 의해 진행된다. 이때 순서(D.I. Water)를 이용한 증기 송출 시스템(Vapor Delivery System) 내의 순수 저장 용기로부터 송출관을 통해 증기가 공급되게 되는데, 반도체 소자의 오염 방지 등의 목적으로 이 시스템내의 순수 저장 용기내의 H₂O를 주기적으로 교체해 주어야 한다. 그런데 종래에는 용기내에서 H₂O를 배수시킬 때 제1도의 순수 저장 용기(1)에 밸브(2)를 통해 질소 가스(N₂)를 주입시켜 용기(1)내의 기압을 대기압보다 높게 만든 다음 그 압력차에 의해 H₂O를 밸브(3)을 통해 배수시키도록 구성되어 있는데, 이 과정에서 압력 조절 오류 등으로 인해 H₂O가 역류하는 현상이 발생할 수도 있고, 또한 H₂O가 완전히 배수되지 않고 남아 있어 새로 주입되는 H₂O를 오염시키는 등의 문제점이 있었다.

따라서, 본 고안의 목적은 순수 저장 용기내의 순수의 배수가 보다 용이하고 배수되는 순수의 역류를 방지할 수 있는 반도체 소자 제조용 증기 송출 시스템을 제공하는 것이다.

본 고안에 따른 반도체 소자 제조용 증기 송출 시스템은, 증기 발생을 위한 물을 저장하기 위한 저장 용기와, 상기 저장 용기 내부의 압력을 대기압보다 높은 압력으로 만들기 위해 질소 공급관을 통해 질소 가스를 공급하기 위한 제1질소 공급 수단과, 상기 질소 공급관에 설치되어 질소 가스의 흐름을 제어하기 위한 제1밸브와, 상기 저장 용기로부터 물을 배수시키기 위한 배수관과, 상기 배수관의 개폐를 위한 제2밸브와, 상기 배수관에 설치되어 배수되는 물의 역류를 방지하기 위한 제3밸브와, 상기 배수관에 질소 가스를 공급하기 위한 제2질소 공급 수단 및 상기 배수관에 설치되어 상기 제2질소 공급 수단으로부터 공급되는 질소 가스의 흐름에 의해 배수관 내의 압력을 대기압보다 낮은 압력으로 만들기 위한 제4밸브를 포함하는 것을 특징으로 한다.

이제 본 고안은 첨부도면을 참조하여 보다 상세하게 설명되게 된다. 제1도를 보면, 참조 번호 1은 H₂O를 저장하기 위한 용기로써, 이 용기에서 H₂O가 증기화되어 송출관을 통해 공정 챔버에 공급되도록 되어 있다. 본 고안에 따른 증기 송출 시스템에 있어서는 저장 용기(1)내의 H₂O를 교체하기 위해 기사용된 H₂O를 배수하는 경우에, 먼저 뉴머틱(pnuematic) 밸브(2)가 온 상태로 동작하면서 질소 공급 수단(도시 안됨)에 의해 용기(1)내로 약 15PSi의 질소(N₂)가 공급되어 용기(1)내부의 기압을 대기압보다 높은 압력으로 만들게 된다. 용기(1)내의 압력이 충분히 높아지면, 배수 밸브인 뉴머틱 밸브(3)가 온상태로 동작하는 것과 동시에, 벤츄리 밸브(5)가 온 상태로 동작하고 다시 질소 공급 수단에 의해 약 80PSi의 질소(N₂)가 배수 라인에 공급되어 벤츄리 효과에 위해 배수 라인이 거의 진공 상태로 되면서 용기(1) 내부에 있는 H₂O의 배수가 용이하게 이루어져 진공 상태로 되면서 용기(1) 내부에 있는 H₂O의 배수가 용이하게 이루어져 배수통(6)으로 들어가게 된다. 이때 일단 배수가 이루어진 H₂O는 뉴머틱 밸브(a3)와 벤츄리 밸브(5) 사이에 설치된 첵크 밸브(4)에 의해 다시 용기(1)내로 역류되지 않게 된다. 따라서, 용기(1)내에 H₂O가 잔류하지 않고 거의 완전한 배수가 이루어져 용기를 새로운 H₂O로 채우는 경우에 기사용된 H₂O에 의해 오염되는 일이 발생하지 않으므로 반도체 제조시 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 반도체 소자 제조를 위한 증기를 공급하기 위한 증기 송출 시스템에 있어서, 증기 발생을 위한 물을 저장하기 위한 저장 용기와, 상기 저장 용기 내부의 압력을 대기압보다 높은 압력으로 만들기 위해 질소 공급관을 통해 질소 가스를 공급하기 위한 제1질소 공급 수단과, 상기 질소 공급관에 설치되어 질소 가스의 흐름을 제어하기 위한 제1밸브와, 상기 저장 용기로부터 물을 배수시키기 위한 배수관과, 상기 배수관의 개폐를 위한 제2밸브와, 상기 배수관에 설치되어 배수되는 물의 역류를 방지하기 위한 제3밸브와, 상기 배수관에 질소가스를 공급하기 위한 제2질소 공급 수단 및 상기 배수관에 설치되어 상기 제2질소 공급 수단으로부터 공급되는 질소 가스의 흐름에 의해 상기 배수관 내의 압력을 대기압보다 낮은 압력으로 만들기 위한 제4밸브를 포함해서 이루어진 증기 송출 시스템.
2. 제1항에 있어서, 상기 제3밸브는 첵크 밸브로 이루어지고, 상기 제4밸브는 벤츄리 밸브로 이루어진 것을 특징으로 하는 증기 송출 시스템.