JPWO2020185360A5 - - Google Patents
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Claims (20)
- 処理チャンバ用のシャワーヘッドアセンブリであって、
支持特徴を備えた支持構造、及び
少なくとも約50W/(mK)の熱伝導率を有し、かつ約100μm未満の平均直径を有する複数のポアを備えた多孔性プレートであって、該多孔性プレートのエッジの少なくとも一部が前記支持特徴上にある、多孔性プレート
を含む、シャワーヘッドアセンブリ。 - 前記複数のポアが、前記多孔性プレートの第1の表面から第2の表面まで延びる複数の連続した経路を形成する、請求項1に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
- 前記多孔性プレートが、少なくとも約200mmの直径を有する円形形状を有している、請求項1に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
- 前記複数のポアの数が、前記多孔性プレートの立方インチあたり少なくとも約60ポアである、請求項1に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
- 前記多孔性プレートの熱伝導率が少なくとも約75W/(mK)である、請求項1に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
- 前記複数のポアが約50μm未満の平均直径を有する、請求項1に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
- 前記支持構造がクランププレートをさらに含み、前記多孔性プレートの前記エッジの少なくとも一部が、前記クランププレートと前記支持特徴との間に保持される、請求項1に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
- 前記多孔性プレートが、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、及びモリブデンのうちの1つを含む、請求項1に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
- 処理チャンバであって、
基板を支持するように構成された基板支持体、
前記処理チャンバの内部にガスを流すように構成されたシャワーヘッドアセンブリであって、該シャワーヘッドアセンブリが、
支持特徴を備えた支持構造と、
少なくとも約50W/(mK)の熱伝導率を有し、かつ約100μm未満の直径を有する複数のポアを備えた多孔性プレートであって、該多孔性プレートのエッジの少なくとも一部が前記支持特徴上にある、多孔性プレートと
を備えている、シャワーヘッドアセンブリ、及び
プロセスガスを前記シャワーヘッドアセンブリに供給するように構成されたガス供給源
を含む、処理チャンバ。 - 前記複数のポアが、前記多孔性プレートの第1の表面から第2の表面まで延びる複数の連続した経路を形成する、請求項9に記載の処理チャンバ。
- 前記多孔性プレートが、少なくとも約200mmの直径を有する円形形状を有している、請求項9に記載の処理チャンバ。
- 前記複数のポアの数が、前記多孔性プレートの立方インチあたり少なくとも約60ポアである、請求項9に記載の処理チャンバ。
- 前記多孔性プレートの熱伝導率が少なくとも約75W/(mK)である、請求項9に記載の処理チャンバ。
- 前記複数のポアが約50μm未満の平均直径を有する、請求項9に記載の処理チャンバ。
- 前記支持構造がクランププレートをさらに含み、前記多孔性プレートの前記エッジの少なくとも一部が前記クランププレートと前記支持特徴との間に保持される、請求項9に記載の処理チャンバ。
- 前記多孔性プレートが、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、及びモリブデンのうちの1つを含む、請求項9に記載の処理チャンバ。
- 処理チャンバのシャワーヘッドアセンブリのための多孔性プレートであって、該多孔性プレートが、
不規則なパターンに従って配置された複数のポアと、
前記複数のポアから形成された複数の連続した経路と
を備え、前記複数の連続した経路が、前記多孔性プレートの第1の表面から第2の表面まで延び、
前記多孔性プレートが少なくとも約50W/(mK)の熱伝導率を有する、多孔性プレート。 - 前記複数のポアが、約100μm未満の平均直径を有する、請求項17に記載の多孔性プレート。
- 前記複数の連続した経路の数が、前記多孔性プレートの立方インチあたり少なくとも約60ポアである、請求項17に記載の多孔性プレート。
- 前記複数のポアが約50μm未満の平均直径を有する、請求項17に記載の多孔性プレート。
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