JPWO2020100180A1 - 欠陥の発生を推定するシステム、及びコンピューター可読媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
ここで、走査領域の1回の走査で得られる画像を1フレームの画像と呼ぶ。例えば、8フレームの画像を積算する場合、8回の2次元走査によって得られた信号を画素単位で加算平均処理を行うことによって、積算画像を生成する。同一走査領域を複数回走査して、走査毎に1フレームの画像を複数個生成して保存することもできる。
Claims (17)
- 計測ツールによって得られた計測データから、ウエハの欠陥の発生確率を推定するためのコンピューターで実行される方法を実施するためのコンピューターシステムで実行可能なプログラム命令を保存する非一時的コンピューター可読媒体であって、
コンピューターで実行される方法は、
ウエハ上の複数の計測点の計測データに基づいて求められる、パターンのエッジが、第1の位置に存在する確率に関する第1のデータを、取得或いは発生し、
前記エッジが前記第1の位置にあるときに、当該第1の位置とは異なる第2の位置と前記第1の位置を含む領域を欠陥が覆う確率に関する第2のデータを取得或いは発生し、
前記第1のデータと前記第2のデータの積に基づいて、前記欠陥の発生確率を予測する。 - 請求項1において、
前記第1のデータは、前記第1の位置の設計パターンに対する相対的なエッジ位置座標をx_edgeとしたときの、前記複数の計測点の計測データから求められるx_edgeの頻度分布、P1(x_edge)である非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項1において、
前記第2のデータは、前記エッジがx_edgeにあるときに、当該x_edgeと、前記第2の位置xとの間に連続して膜欠陥を生じる確率関数P2(x,x_edge)である非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項3において、
前記ウエハにパターンを投影する露光装置によって得られる光強度分布から、単位面積当たりの局所的な膜欠陥確率P3を求め、当該P3について、前記x_edgeから前記xの範囲の直積を求めることによって、前記確率関数P2を導出する非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項3において、
前記ウエハにパターンを投影する露光装置によって、前記ウエハ上に形成されたレジスト膜に投影された光の光子により発生した光電子が、上記レジスト膜の前記座標x_edgeから前記座標xの間に近接して2次電子を発生する確率を求めることによって、前記確率関数P2を導出する非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項1において、
前記欠陥発生確率の推定を行うウエハとは異なるウエハ上に形成された複数のパターンの計測に基づいて、前記第1のデータと、前記欠陥の発生確率を導出し、当該異なるウエハに関する第1のデータと、欠陥の発生分布に基づいて、前記第2のデータを導出する非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項6において、
前記第1のデータは、前記第1の位置の設計パターンに対する相対的なエッジ位置座標をx_edgeとしたときの、前記複数の計測点の計測データから求められるx_edgeの頻度分布、P1(x_edge)である非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項7において、
前記第2のデータは、前記エッジがx_edgeにあるときに、当該x_edgeと、前記第2の位置との間に連続して膜欠陥を生じる確率関数P2(x,x_edge)である非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項6において、
前記欠陥発生確率の推定を行うウエハとは異なるウエハとは、欠陥発生確率の推定を行うウエハとは、製造条件の異なるウエハである非一時的コンピューター可読媒体。 - 請求項6において、
前記P1(x_edge)を入力、前記欠陥の発生確率を出力とする教師データを用いて学習されたパラメータを前記第2のデータとして中間層に備えた学習モデルを生成し、当該学習モデルに、前記P1(x_edge)を入力することによって、前記欠陥の発生確率を出力する非一時的コンピューター可読媒体。 - ウエハ上の欠陥の発生確率を予測するために構成されたシステムであって、
ウエハに対してビームを照射することによって得られる信号の検出に基づいて、出力を発生するように構成された計測ツールと、
ウエハ上の複数の計測点の計測データに基づいて求められる、パターンのエッジが、第1の位置に存在する確率に関する第1のデータを、取得或いは発生し、
前記エッジが前記第1の位置にあるときに、当該第1の位置とは異なる第2の位置と前記第1の位置との間の領域を膜欠陥が覆う確率に関する第2のデータを取得或いは発生し、
前記第1のデータと前記第2のデータの積を求めるように構成されたコンピューターを含むシステム。 - 請求項11において、
前記第1のデータは、前記第1の位置の設計パターンに対する相対的なエッジ位置座標をx_edgeとしたときの、前記複数の計測点の計測データから求められるx_edgeの頻度分布、P1(x_edge)であるシステム。 - 請求項11において、
前記第2のデータは、前記エッジがx_edgeにあるときに、当該x_edgeと、前記第2の位置xとの間に連続して欠陥を生じる確率関数P2(x,x_edge)であるシステム。 - 請求項13において、
前記コンピューターは、前記ウエハにパターンを投影する露光装置によって得られる光強度分布から、単位面積当たりの局所的な膜欠陥確率P3を求め、当該P3について、前記x_edgeから前記xの範囲の直積を求めることによって、前記確率関数P2を導出するシステム。 - 請求項13において、
前記コンピューターは、前記ウエハにパターンを投影する露光装置によって、前記ウエハ上に形成されたレジスト膜に投影された光の光子により発生した光電子が、上記レジスト膜の前記座標x_edgeから前記座標xの間に近接して2次電子を発生する確率を求めることによって、前記確率関数P2を導出するシステム。 - 請求項11において、
前記コンピューターは、第1のデータと欠陥確率の実測値を入力として、第2のデータを出力するように構成されたシステム - 請求項13において、
前記コンピューターは、前記第1のデータを入力、前記欠陥の発生確率を出力とする教師データを用いて学習されたパラメータを前記第2のデータとして中間層に備えた学習モデルを生成し、当該学習モデルに、前記第1のデータを入力することによって、前記欠陥の発生確率を出力するシステム。
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