JPWO2020039736A1 - 切削工具 - Google Patents
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Abstract
Description
したがって、刃先の摩耗及び欠けを抑制することが切削工具の寿命を向上させる上で重要である。
基材と、上記基材の表面を被覆する被膜とを備える切削工具であって、
上記被膜は、A層とB層とが基材側から表面側に向かって交互にそれぞれ1層以上積層された多層構造層を含み、
上記A層の平均組成は、AlxCr(1−x)Nであり、
上記B層は、TiyAlzSi(1−y−z)Nからなり、
上記A層は、ドメイン領域とマトリックス領域とからなり、
上記ドメイン領域は、上記マトリックス領域中で複数の部分に分散した状態で存在している領域であり、
上記マトリックス領域は、上記ドメイン領域を構成する上記複数の部分のそれぞれを取り囲むように配置されている領域であり、
上記ドメイン領域におけるCrの組成比は、上記マトリックス領域におけるCrの組成比より高い。ここで、xの範囲は0.5≦x≦0.8であり、yの範囲は0.5≦y<0.71であり、zの範囲は0.29≦z<0.5であり、1−y−zの範囲は0<1−y−z≦0.1である。
例えば、特許文献2に記載の耐摩耗皮膜被覆工具は、皮膜にアモルファス層を含むため硬度が低く、切削工具の性能に改善の余地がある。また、当該耐摩耗皮膜被覆工具は、(TiSi)(NB)相を含むため残留応力が高くなる傾向があり、基材と皮膜との密着性に改善の余地がある。
上記によれば、耐摩耗性に優れる切削工具を提供することが可能になる。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
基材と、上記基材の表面を被覆する被膜とを備える切削工具であって、
上記被膜は、A層とB層とが基材側から表面側に向かって交互にそれぞれ1層以上積層された多層構造層を含み、
上記A層の平均組成は、AlxCr(1−x)Nであり、
上記B層は、TiyAlzSi(1−y−z)Nからなり、
上記A層は、ドメイン領域とマトリックス領域とからなり、
上記ドメイン領域は、上記マトリックス領域中で複数の部分に分散した状態で存在している領域であり、
上記マトリックス領域は、上記ドメイン領域を構成する上記複数の部分のそれぞれを取り囲むように配置されている領域であり、
上記ドメイン領域におけるCrの組成比は、上記マトリックス領域におけるCrの組成比より高い。ここで、xの範囲は0.5≦x≦0.8であり、yの範囲は0.5≦y<0.71であり、zの範囲は0.29≦z<0.5であり、1−y−zの範囲は0<1−y−z≦0.1である。
以下、本開示の一実施形態(以下「本実施形態」と記す。)について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「A〜B」という形式の表記は、範囲の上限下限(すなわちA以上B以下)を意味し、Aにおいて単位の記載がなく、Bにおいてのみ単位が記載されている場合、Aの単位とBの単位とは同じである。さらに、本明細書において、例えば「TiC」等のように、構成元素の組成比が限定されていない化学式によって化合物が表された場合には、その化学式は従来公知のあらゆる組成比(元素比)を含むものとする。このとき上記化学式は、化学量論組成のみならず、非化学量論組成も含むものとする。例えば「TiC」の化学式には、化学量論組成「Ti1C1」のみならず、例えば「Ti1C0.8」のような非化学量論組成も含まれる。このことは、「TiC」以外の化合物の記載についても同様である。
本開示に係る切削工具は、
基材と、上記基材の表面を被覆する被膜とを備える切削工具であって、
上記被膜は、A層とB層とが基材側から表面側に向かって交互にそれぞれ1層以上積層された多層構造層を含み、
上記A層の平均組成は、AlxCr(1−x)N(0.5≦x≦0.8)であり、
上記B層は、TiyAlzSi(1−y−z)N(0.5≦y<0.71、0.29≦z<0.5、0<(1−y−z)≦0.1)からなり、
上記A層は、ドメイン領域とマトリックス領域とからなり、
上記ドメイン領域は、上記マトリックス領域中に複数の部分に分かれ、分散した状態で存在している領域であり、
上記マトリックス領域は、上記ドメイン領域を構成する上記複数の領域のそれぞれを取り囲むように配置されている領域であり、
上記ドメイン領域におけるCrの組成比は、上記マトリックス領域におけるCrの組成比より高い。
本実施形態の基材は、この種の基材として従来公知のものであればいずれのものも使用することができる。例えば、上記基材は、超硬合金(例えば、炭化タングステン(WC)基超硬合金、WCの他にCoを含む超硬合金、WCの他にCr、Ti、Ta、Nb等の炭窒化物を添加した超硬合金等)、サーメット(TiC、TiN、TiCN等を主成分とするもの)、高速度鋼、セラミックス(炭化チタン、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等)、立方晶型窒化硼素焼結体(cBN焼結体)及びダイヤモンド焼結体からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。上記基材は、超硬合金、サーメット及びcBN焼結体からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことがより好ましい。
本実施形態に係る被膜20は、A層121とB層122とが基材11側から表面側に向かって交互にそれぞれ1層以上積層された多層構造層12を含む(例えば、図5)。「被膜」は、上記基材の少なくとも一部(例えば、切削加工時に被削材と接する部分)を被覆することで、切削工具における耐欠損性、耐摩耗性等の諸特性を向上させる作用を有するものである。上記被膜は、上記基材の全面を被覆することが好ましい。しかしながら、上記基材の一部が上記被膜で被覆されていなかったり被膜の構成が部分的に異なっていたりしていたとしても本実施形態の範囲を逸脱するものではない。
本実施形態に係る多層構造層は、A層とB層とを含む。上記多層構造層は、上記A層と上記B層とが基材側から表面側に向かって交互にそれぞれ1層以上積層されている。ここで、上記多層構造層12の基材11側は上記A層121から開始することが好ましい(例えば、図5)。このようにすることで、微細構造化したA層の上にB層が積層され、B層の微細構造化が促進される。
(繰返し単位の数)=(多層構造層の厚さ)/(A層とB層との合計厚さ)
本実施形態に係るA層121は、ドメイン領域31とマトリックス領域32とからなる(例えば、図6)。すなわち、上記A層は、微細構造を有する。ここで「ドメイン領域」とは、後述するマトリックス領域中に複数の部分に分かれ、分散した状態で存在している領域を意味する。すなわち、上記ドメイン領域は、上記マトリックス領域中で複数の部分に分散した状態で存在している。また、上記ドメイン領域は、上記A層において複数の領域に分かれて配置される領域と把握することもできる。なお、上述の「分散した状態」は、ドメイン領域が互いに接触しているものを排除するものではない。すなわち、各ドメイン領域は、互いに接していてもよいし、離合していてもよい。
本実施形態に係るB層は、TiyAlzSi(1−y−z)N(0.5≦y<0.71、0.29≦z<0.5、0<(1−y−z)≦0.1)からなる。上記B層におけるTiyAlzSi(1−y−z)Nの組成は、上述したA層の平均組成を求める方法と同様の方法によって求めることが可能である。
本実施形態の効果を損なわない範囲において、上記被膜は、他の層を更に含んでいてもよい。上記他の層は、上記多層構造層とは組成が異なっていてもよいし、同じであってもよい。他の層としては、例えば、TiN層、TiCN層、TiBN層、Al2O3層等を挙げることができる。なお、その積層の順も特に限定されない。例えば、上記他の層としては、上記基材と上記多層構造層との間に設けられている下地層、上記多層構造層の上に設けられている最外層等が挙げられる。上記他の層の厚さは、本実施形態の効果を損なわない範囲において、特に制限はないが例えば、0.1μm以上2μm以下が挙げられる。
本実施形態に係る切削工具の製造方法は、
上記基材を準備する工程(以下、「第1工程」という場合がある。)と、
物理的蒸着法を用いて上記基材の上に上記A層と上記B層とを交互にそれぞれ1層以上積層することによって上記多層構造層を形成する工程(以下、「第2工程」という場合がある。)と、
を含む。
第1工程では基材を準備する。例えば、基材として超硬合金基材が準備される。超硬合金基材は、市販のものを用いてもよく、一般的な粉末冶金法で製造してもよい。一般的な粉末冶金法で製造する場合、例えば、ボールミル等によってWC粉末とCo粉末等とを混合して混合粉末を得る。該混合粉末を乾燥した後、所定の形状に成形して成形体を得る。さらに該成形体を焼結することにより、WC−Co系超硬合金(焼結体)を得る。次いで該焼結体に対して、ホーニング処理等の所定の刃先加工を施すことにより、WC−Co系超硬合金からなる基材を製造することができる。第1工程では、上記以外の基材であっても、この種の基材として従来公知のものであればいずれも準備可能である。
第2工程では、A層とB層とが交互にそれぞれ1層以上積層された多層構造層が形成される。その方法としては、形成しようとするA層及びB層の組成に応じて、各種の方法が用いられる。例えば、Ti、Cr、Al、Si及びホウ素等の粒径をそれぞれ変化させた合金製ターゲットを使用する方法、それぞれ組成の異なる複数のターゲットを使用する方法、成膜時に印可するバイアス電圧をパルス電圧とする方法、成膜時にガス流量を変化させる方法、又は、成膜装置において基材を保持する基材ホルダの回転速度を調整する方法等を挙げることができる。これらの方法を組み合わせて多層構造層を形成することもできる。
なお、ホウ素は通常、金属元素と非金属元素との中間の性質を示す半金属として捉えられるが、本実施形態においては、自由電子を有する元素を金属であるとみなしてホウ素を金属元素の範囲に含むものとする。
本実施形態に係る製造方法では、上述した工程の他にも、基材と上記多層構造層との間に下地層を形成する下地層被覆工程、上記多層構造層の上に最外層を形成する最外層被覆工程及び表面処理する工程等を適宜行ってもよい。上述の下地層及び最外層等の他の層を形成する場合、従来の方法によって他の層を形成してもよい。具体的には、例えば、上述したPVD法によって上記他の層を形成することが挙げられる。表面処理をする工程としては、例えば、応力を付与する弾性材にダイヤモンド粉末を担持させたメディアを用いた表面処理等が挙げられる。上記表面処理を行う装置としては、例えば、株式会社不二製作所製のシリウスZ等が挙げられる。
(付記1)
基材と、前記基材の表面を被覆する被膜とを備える表面被覆切削工具であって、
前記被膜は、A層とB層とが基材側から表面側に向かって交互にそれぞれ1層以上積層された多層構造層を含み、
前記A層の平均組成は、AlxCr(1−x)N(0.5≦x≦0.8)であり、
前記B層は、TiyAlzSi(1−y−z)N(0.5≦y<0.71、0.29≦z<0.5、0<(1−y−z)≦0.1)からなり、
前記A層は、ドメイン領域とマトリックス領域とからなり、
前記ドメイン領域は、前記マトリックス領域中に複数の部分に分かれ、分散した状態で存在している領域であり、
前記マトリックス領域は、前記ドメイン領域を構成する前記複数の領域のそれぞれを取り囲むように配置されている領域であり、
前記ドメイン領域におけるCrの組成比は、前記マトリックス領域におけるCrの組成比より高い、表面被覆切削工具。
(付記2)
前記A層は、その厚さが0.2nm以上3μm以下である、付記1に記載の表面被覆切削工具。
(付記3)
前記B層は、その厚さが0.2nm以上3μm以下である、付記1又は付記2に記載の表面被覆切削工具。
(付記4)
前記多層構造層は、その厚さが0.5μm以上30μm以下である、付記1から付記3のいずれかに記載の表面被覆切削工具。
<基材の準備>
まず、被膜を形成させる対象となる基材として、旋削加工用超硬チップ(JIS規格 K30相当超硬合金、CNMG120408N−GU)及び超硬ドリル(外径8mm、JIS規格 K10相当超硬合金、MDW0800HGS5)を準備した(基材を準備する工程)。
上記基材の表面上に、表1〜表3に示されるA層及びB層を含む多層構造層を形成することによって、被膜を作製した。以下、多層構造層の作製方法について説明する。
実施例1〜21及び比較例1〜13においては、基材(旋削加工用超硬チップ及び超硬ドリル)をチャンバ内の中央で回転させた状態で、反応ガスとして窒素を導入した。さらに、基材を温度500℃に、反応ガス圧を2.0Paに、バイアス電源の電圧を−30V〜−800Vの範囲の一定値にそれぞれ維持し、又はそれぞれを徐々に変化させながらA層形成用の蒸発源及びB層形成用の蒸発源にそれぞれ100Aのアーク電流を供給した。これにより、A層形成用の蒸発源及びB層形成用の蒸発源からそれぞれ金属イオンを発生させ、所定の時間が経過したところでアーク電流の供給を止めて、基材の表面上に表1に示す組成の多層構造層を形成した。ここで、A層形成用の蒸発源及びB層形成用の蒸発源は、それぞれ表1〜3に記載の原料組成のものを用いた。このとき多層構造層は、表1〜3に示す組成を有するA層及びB層を、表1に示す厚さを有するように基材の回転速度を調整しながら、それぞれ1層ずつ交互に積層することによって作製した。
上述のようにして作製した試料(実施例1〜21及び比較例1〜13)の切削工具(旋削加工用表面被覆超硬チップ)を用いて、以下のように、切削工具の各特性を評価した。なお、表面被覆超硬ドリルも同一のチャンバ内で被膜を形成したことから、対応する旋削加工用表面被覆超硬チップと同様の特性を有していると考えられる。
被膜の厚さ(すなわち、多層構造層の厚さ)は、走査透過型電子顕微鏡(STEM)(日本電子株式会社製、商品名:JEM−2100F)を用いて、基材の表面の法線方向に平行な断面サンプルにおける任意の10点を測定し、測定された10点の厚さの平均値をとることで求めた。結果を表1〜表3に示す。
A層及びB層それぞれの厚さは、EELSを用いた分析によって求めた。具体的には、上述の測定によって得られたSTEM像において、上記多層構造層の積層方向に平行な方向(図3Aの領域3b)に沿ってCrとTiとに対応する強度プロファイルを測定した。例えば、図3Bの下側には、この測定によって得られた上記強度プロファイルの結果を示している。図3Bにおいて上記強度プロファイルは、X軸(横軸)を上記多層構造層上の測定開始点からの距離とし、Y軸(縦軸)を強度(原子に起因する明るさ)とした折れ線グラフとして表される。得られたグラフにおいて、Crに対応する折れ線グラフと、Tiに対応する折れ線グラフとの交点間の距離をA層及びB層それぞれの厚さとした。ここで、CrはA層にのみ存在することから、Crの組成比がTiの組成比よりも高い部分における当該交点間のX軸における距離をA層の厚さとした。また、Tiの組成比がCrの組成比よりも高い部分における当該交点間のX軸における距離をB層の厚さとした。このようにして求められた各A層の厚さ及び各B層の厚さそれぞれを少なくとも4カ所算出し、それぞれの平均値をA層の厚さ及びB層の厚さとした。結果を表1〜3に示す。
上述の測定で求められた多層構造層の厚さ、A層及びB層それぞれの厚さに基づいて、以下の式からA層及びB層の積層回数(繰返し単位の数)を算出した。
(繰返し単位の数)=(多層構造層の厚さ)/(A層とB層との合計厚さ)
求められた繰返し単位の数を表1〜3に示す。
多層構造層におけるA層におけるドメイン領域及びマトリックス領域(A層の微細構造)は、走査透過型電子顕微鏡の低角度散乱暗視野法(LAADF−STEM:Low−Angle Annular Dark−Field Scanning Transmission Electron Microscopy)を用いた分析によってそれぞれ特定した。具体的には、まず切削工具(旋削加工用表面被覆超硬チップ)を切断し、その切断面を研磨することにより、基材と被膜とが含まれる長さ2.5mm×幅0.5mm×厚さ0.1mmの切片を作製した。この切片に対し、イオンスライサ装置(商品名:「IB−09060CIS」、日本電子株式会社製)を用い、切片の厚さが50nm以下となるまで加工することにより測定試料を得た。さらに、この測定試料に対し、LAADF−STEMを用いた分析によって例えば、図1Aに示すような断面STEM像を得た。このときの測定倍率は、200万倍であった。図1Aの領域1bにおいて、暗い領域(マトリックス領域)が明るい領域(ドメイン領域)のそれぞれを取り囲むように配置されていることが視覚的に確認できた。ここで、LAADF−STEMを用いた分析には、日本電子株式会社製のSTEM装置(商品名:「JEM−2100F」)を加速電圧200kVの条件下で用いた。
A層におけるドロップレットの分析を以下の方法で行った。まず切削工具(旋削加工用表面被覆超硬チップ)を切断し、その切断面を集束イオンビーム装置、クロスセクションポリッシャ装置等を用いて研磨した。その後、研磨された当該切断面について、走査電子顕微鏡に付帯のEDXで組成分析した。
その結果、実施例1〜21に係る被膜では、A層におけるドロップレットにホウ素が含まれることが分かった。
A層の平均組成、及びB層の組成を以下の方法で算出した。各層の中央部をTEM−EELS(観察倍率200万倍)で線分析し、A層についてはAlとCrとの組成比を、B層についてはAlとTiの組成比を算出した。結果を表1〜3に示す。
<切削試験1:旋削加工試験>
上述のようにして作製した試料(実施例1〜21、比較例1〜13)の切削工具(旋削加工用表面被覆超硬チップ)を用いて、以下の切削条件により逃げ面摩耗量(Vb)が0.2mmとなるまでの切削距離を測定した。その結果を表4及び表5に示す。切削距離が長いほど耐摩耗性に優れる切削工具として評価することができる。
切削条件
被削材 :FCD700
切削速度 :200m/min
送り量 :0.15mm/rev
切込み量(ap):2mm、dry
上述のようにして作製した試料(実施例1〜21、比較例1〜13)の切削工具(表面被覆超硬ドリル)を用いて、以下の切削条件により、被加工材における加工された穴の寸法精度が規定の範囲(7.99mm以上8.01mm以下)を外れた時点の穴数を計数した。上記寸法精度の判定は、50穴ごとに実施した。その結果を表4及び表5に示す。穴数が多いほど耐摩耗性に優れる切削工具として評価することができる。
切削条件
被削材 :FCD450
切削速度 :100m/min
送り量 :0.2mm/rev
穴深さ :30mm(貫通穴)、内部給油
Claims (4)
- 基材と、前記基材の表面を被覆する被膜とを備える切削工具であって、
前記被膜は、A層とB層とが基材側から表面側に向かって交互にそれぞれ1層以上積層された多層構造層を含み、
前記A層の平均組成は、AlxCr(1−x)Nであり、
前記B層は、TiyAlzSi(1−y−z)Nからなり、
前記A層は、ドメイン領域とマトリックス領域とからなり、
前記ドメイン領域は、前記マトリックス領域中で複数の部分に分散した状態で存在している領域であり、
前記マトリックス領域は、前記ドメイン領域を構成する前記複数の部分のそれぞれを取り囲むように配置されている領域であり、
前記ドメイン領域におけるCrの組成比は、前記マトリックス領域におけるCrの組成比より高い、切削工具。
ここで、xの範囲は0.5≦x≦0.8であり、yの範囲は0.5≦y<0.71であり、zの範囲は0.29≦z<0.5であり、1−y−zの範囲は0<1−y−z≦0.1である。 - 前記A層の厚さが0.2nm以上3μm以下である、請求項1に記載の切削工具。
- 前記B層の厚さが0.2nm以上3μm以下である、請求項1又は請求項2に記載の切削工具。
- 前記多層構造層の厚さが0.5μm以上30μm以下である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の切削工具。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004050381A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-19 | Mitsubishi Materials Corp | 重切削加工条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2011011286A (ja) * | 2009-07-01 | 2011-01-20 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
JP2017154200A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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ATE502710T1 (de) * | 2002-01-21 | 2011-04-15 | Mitsubishi Materials Corp | ßOBERFLÄCHENBESCHICHTETES SCHNEIDWERKZEUGGLIED MIT HARTER BESCHICHTUNGSSCHICHT, DIE EINEN HERVORRAGENDEN REIBWIDERSTAND BEIM HOCHGESCHWINDIGKEITSSCHNEIDEN AUFWEIST, UND VERFAHREN ZUR BILDUNG DER HARTEN BESCHICHTUNGSSCHICHT AUF DER FLÄCHE DES SCHNEIDWERKZEUGSß |
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WO2006070509A1 (ja) | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | 表面被覆切削工具および表面被覆切削工具の製造方法 |
US7348074B2 (en) * | 2005-04-01 | 2008-03-25 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Multilayer hard coating for tools |
US7947363B2 (en) * | 2007-12-14 | 2011-05-24 | Kennametal Inc. | Coated article with nanolayered coating scheme |
JP5061394B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2012-10-31 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
EP2336383A1 (en) * | 2009-12-04 | 2011-06-22 | Sandvik Intellectual Property AB | Multilayered coated cutting tool |
JP2011167794A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Mitsubishi Materials Corp | 表面被覆切削工具 |
JP5459506B2 (ja) * | 2010-08-09 | 2014-04-02 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
JP5035479B2 (ja) * | 2011-01-27 | 2012-09-26 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐欠損性、耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具 |
JP6014959B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2016-10-26 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
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---|---|---|---|---|
JP2004050381A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-19 | Mitsubishi Materials Corp | 重切削加工条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2011011286A (ja) * | 2009-07-01 | 2011-01-20 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
JP2017154200A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
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