JPWO2019203320A1

JPWO2019203320A1 - 組成物および物品

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Publication number: JPWO2019203320A1
Application number: JP2020514446A
Authority: JP
Inventors: 伊藤　昌宏; 昌宏伊藤; 健二石関; 勇佑冨依; 星野　泰輝; 泰輝星野; 弘賢山本
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2018-04-20
Filing date: 2019-04-18
Publication date: 2021-05-27
Also published as: CN111989370A; KR20210002456A; WO2019203320A1

Abstract

耐摩擦性および保護フィルムとの密着性に優れた表面層を形成できる組成物および物品の提供。Ｒ１１−（ＯＸ）ｍ−Ｙ−Ｚ（Ｒ１２）ｑ（Ｒ１３）ｒ−ｑで表される化合物１、および、（ＯＸ２）で表される単位を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と−Ｓｉ（Ｒ２）ｎ２Ｌ２３−ｎ２とを有する化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、（ＯＸ３）ｍ３で表される単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と、２個以上の−Ｓｉ（Ｒ３）ｎ３Ｌ３３−ｎ３とを有し、式２１で表される繰り返し単位を含まない化合物３とを含む、組成物。Ｒ１１はフルオロアルキル基、Ｘはフッ素原子を有するアルキレン基、ｍは０〜４、Ｙは単結合または２価の連結基、Ｘ２は水素原子を有するフルオロアルキレン基、Ｘ３はペルフルオロアルキレン基、ｍ３は５以上、−Ｚ（Ｒ１２）ｑ（Ｒ１３）ｒ−ｑ、−Ｓｉ（Ｒ２）ｎ２Ｌ２３−ｎ２、−Ｓｉ（Ｒ３）ｎ３Ｌ３３−ｎ３は加水分解性基を有する基である。

Description

本発明は、耐摩擦性、密着性に優れた表面層を形成できる組成物および物品に関する。

含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。

上記含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長時間維持されるのが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
上記含フッ素エーテル化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、末端に加水分解性シリル基を有する化合物が広く用いられている。このような化合物の中でも、特許文献１には、加水分解性シリル基を複数有する含フッ素エール化合物が好ましいことが示されている。

日本特開２０１６−０３７５４１号公報

上記表面処理剤を用いて基材上に表面層を形成した後、表面層が形成された基材を次工程で使用するまでの間、表面層が形成された基材を保護するために、剥離可能な保護フィルムを表面層上に貼着する場合がある。
ここで、特許文献１に記載の加水分解性シリル基を複数有する含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、耐摩擦性に優れた表面層を形成できる。しかしながら、表面層と保護フィルムとの密着性が不充分であるため、表面層が形成された基材の保存時や運搬時に、保護フィルムが表面層から剥離する場合や、保護フィルムと表面層との間に生じた隙間にゴミが入り込む場合があった。

本発明は、上記課題に鑑みて、耐摩擦性および保護フィルムとの密着性に優れた表面層を形成できる組成物および物品の提供を目的とする。

本発明は、上記目的を達成するものであり、下記の態様を有するものである。
［１］式１で表される化合物１、および、式２１で表される繰り返し単位を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と式２２で表される基とを有する化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、
式３１で表される繰り返し単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と、２個以上の式３２で表される基とを有し、式２１で表される繰り返し単位を含まない化合物３と、を含む、組成物。
Ｒ^１１−（ＯＸ）_ｍ−Ｙ−Ｚ（Ｒ^１２）_ｑ（Ｒ^１３）_ｒ−ｑ式１
ただし、式１中、
Ｒ^１１は、フルオロアルキル基である。
Ｘは、１個以上のフッ素原子を有する炭素数１以上のフルオロアルキレン基である。
ｍは、０〜４の整数である。
Ｙは、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−もしくは−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−である。上記−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基は、フッ素原子を有していてもよい。ただし、上記Ｙが−ＯＣＦ_２−を含むアルキレン基である場合、上記アルキレン基中の−ＯＣＦ_２−の数は１個である。
Ｒ^１４は、水素原子またはアルキル基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ^１２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ^１３は、−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎ１Ｌ_３−ｎ1である。Ｒ^１は、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎ１は、０〜２の整数である。Ｌ^１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜１の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０である。
（ＯＸ^２）式２１
−Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２式２２
ただし、式２１および式２２中、
Ｘ^２は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｒ^２は、１価の炭化水素基である。
Ｌ^２は、加水分解性基または水酸基である。
ｎ２は、０〜２の整数である。
（ＯＸ^３）_ｍ３式３１
−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３式３２
ただし、式３１および式３２中、
Ｘ^３は、ペルフルオロアルキレン基である。
ｍ３は、５以上の整数である。
Ｒ^３は、１価の炭化水素基である。
Ｌ^３は、加水分解性基または水酸基である。ｎ３は、０〜２の整数である。
［２］上記式（１）におけるｍが０または１である、［１］に記載の組成物。
［３］上記化合物２が式２で表される化合物である、［１］または［２］に記載の組成物。
Ｒ^２１−［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｒ^２３）_{ｒ２−ｑ２} 式２
ただし、式２中、
Ｒ^２１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｒ^２３）_{ｒ２−ｑ２}である。
Ｘ^２は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ^２１は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙ^２は、単結合または２価の連結基である。
Ｚ^２は、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ^２２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ^２３は、−Ｌ^２１−Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２である。Ｌ^２１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。Ｒ^２は、１価の炭化水素基である。Ｌ^２は、加水分解性基または水酸基である。ｎ２は、０〜２の整数である。
ｍ２は２以上の整数であり、ｍ２０は０以上の整数であり、ｍ２＋ｍ２０は５以上の整数である。
Ｚ^２が炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒ２は３であり、ｑ２は０〜２の整数である。Ｚ^２が窒素原子の場合、ｒ２は２であり、ｑ２は０〜１の整数である。
［４］上記化合物３が式３で表される化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の組成物。
［Ａ−（ＯＸ^３）_ｍ３−］_ｊＺ^３［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｇ式３
ただし、式中、
Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋである。
Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。
ｋは１〜１０の整数である。
Ｒ^３は、１価の炭化水素基である。
Ｌ^３は、加水分解性基または水酸基である。ｎ３は、０〜２の整数である。
Ｘ^３は、ペルフルオロアルキレン基である。
ｍ３は、５以上の整数である。
Ｚ^３は、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
ｊは、１以上の整数である。
ｇは、１以上の整数である。ただし、Ａがペルフルオロアルキル基の場合、ｇは、２以上の整数であり、Ａが−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋの場合、ｇ＋ｋは、２以上の整数である。
［５］前記化合物１および化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、化合物３と、の数平均分子量の差が０〜３，０００である、［１］〜［４］のいずれかに記載の組成物。
［６］上記化合物１および上記化合物２の含有量の合計に対する、上記化合物３の含有量が、質量比で０．１〜４である、［１］〜［５］のいずれかに記載の組成物。
［７］フッ素系有機溶媒、非フッ素系有機溶媒、または水を含む液状媒体を含む、［１］〜［６］のいずれかに記載の組成物。
［８］基材と、上記基材上に、［１］〜［７］のいずれかに記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
［９］前記組成物からドライコーティング法により形成されてなる、［８］に記載の物品。
［１０］前記基材が、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、または、これらの複合材料である、［８］または［９］に記載の物品。
［１１］前記表面層の膜厚が、１〜１００ｎｍである、［８］〜［１０］のいずれかに記載の物品。
［１２］前記表面層の表面に保護フィルムが貼着されている、［８］〜［１１］のいずれかに記載の物品。

本発明によれば、耐摩擦性を有し、基材や、保護フィルムとの密着性に優れた表面層を形成できる組成物、および物品を提供できる。

本明細書における用語の意味及び記載の仕方は下記のとおりである。
「式２１で表される繰り返し単位」を単位２１と記す。他の式で表される繰り返し単位もこれに準じて記す。
「式２２で表される基」を基２２と記す。他の式で表される基もこれに準じて記す。
「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよい。

「２価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるＲ^ｘは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。また、ｇ１は、１以上の整数であり、１〜９の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。

「シルフェニレン骨格基」とは、−Ｓｉ（Ｒ^ｙ）_２ＰｈＳｉ（Ｒ^ｙ）_２−（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒ^ｙは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒ^ｙとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が好ましい。
「ジアルキルシリレン基」は、−Ｓｉ（Ｒ^ｚ）_２−（ただし、Ｒ^ｚはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。）で表される基である。
「表面層」とは、基材上に形成される層を意味する。なお、表面層は、基材上に直接形成されてもよいし、基材の表面に形成された他の層を介して基材上に形成されてもよい。
「数平均分子量（以下、Ｍｎともいう。）」は、^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。

加水分解性シリル基は、加水分解反応によりＳｉ−ＯＨで表されるシラノール基となる基を意味する。シラノール基は、シラノール基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できると考えられる。加水分解性シリル基は、たとえば化合物１における−Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎ１Ｌ_３−ｎ1である。

〔組成物〕
本発明の組成物（以下、「本組成物」ともいう。）は、式１で表される化合物１、および、単位２１を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と基２２とを有する化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、単位３１を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と２個以上の基３２とを有し、単位２１を含まない化合物３と、を含む。
本組成物を用いて形成される表面層は、耐摩擦性に優れる。この理由としては、基３２を２個以上有する化合物３を用いることで、本組成物と基材との反応点が増加して、表面層と基材との密着性が良好になったためと推測される。

また、本組成物を用いて形成される表面層は、保護フィルムとの密着性に優れる。この理由としては、化合物１における（ＯＸ）で表されるオキシフルオロアルキレン鎖の繰り返し単位数（ｍ）が０〜４と少ないことで、保護フィルムが有する粘着剤との親和性が向上したためと考えられる。また、化合物２が水素原子を有する単位２１を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有することで、水素原子を有しないポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を用いた場合と比較して、表面張力が増大したためと考えられる。

保護フィルムとしては、粘着剤付き樹脂フィルムが挙げられる。粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が挙げられ、剥離しやすい観点からアクリル系粘着剤が好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルムまたはポリウレタンフィルムが挙げられる。剥離しやすい観点からポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレンフィルムまたはポリプロピレンフィルムが好ましい。

（化合物１）
化合物１は、式１で表される。
Ｒ^１１−（ＯＸ）_ｍ−Ｙ−Ｚ（Ｒ^１２）_ｑ（Ｒ^１３）_ｒ−ｑ式１
Ｒ^１１は、フルオロアルキル基（１個以上のフッ素原子を有するアルキル基）であり、ペルフルオロアルキル基であることが好ましい。
フルオロアルキル基中の炭素数は、表面層の耐候性および耐食性がより優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。フルオロアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状および環状のいずれでもよい。

Ｘは、１個以上のフッ素原子を有する炭素数１以上のフルオロアルキレン基である。
フルオロアルキレン基の炭素数は、１以上であり、表面層の耐候性および耐食性がより優れる点から、２以上が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜３が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
フルオロアルキレン基は、フッ素原子を１個以上有する。フルオロアルキレン基のフッ素原子の数は、表面層の耐食性がより優れる点から、２〜１０個が好ましく、２〜４個が特に好ましい。
フルオロアルキレン基は、フルオロアルキレン基中の全ての水素原子がフッ素原子に置換された基（ペルフルオロアルキレン基）であってもよい。

（ＯＸ）の具体例としては、ＯＣＨＦ、ＯＣＦ_２、ＯＣＨＦＣＦ_２、ＯＣＦ_２ＣＦ_２、ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２が挙げられる。

ｍは、０〜４の整数であり、保護フィルムに対する表面層の密着性と表面層の耐摩擦性とのバランスに優れる点で、０〜３が好ましく、０または１がより好ましい。
ｍが０の場合、（ＯＸ）_ｍは単結合である。

なお、ｍが２以上の場合、複数のＯＸは同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＯＸ）_ｍは、異なる２種以上のＯＸから構成されていてもよい。２種以上の（ＯＸ）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。

Ｙは、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−もしくは−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−である。
アルキレン基が−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−を有する場合、炭素−炭素原子間および（ＯＸ）_ｍ側の末端の少なくとも一方にこれらの基を有することが好ましい。
アルキレン基は、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−および−Ｃ（Ｏ）−からなる群から選択される基を複数有していてもよい。アルキレン基が−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−および−Ｃ（Ｏ）−からなる群から選択される基を複数有する場合、炭素−炭素原子間および（ＯＸ）_ｍ側の末端の両方にこれらの基を有することが好ましい。
−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基は、フッ素原子を有していてもよい。つまり、アルキレン基中の水素原子が、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｒ^１４は、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。
ここで、Ｙが−ＯＣＦ_２−を含むアルキレン基である場合、上記アルキレン基中の−ＯＣＦ_２−の数は１個である。たとえば、−ＯＣＦ_２−で表されるアルキレン基、−ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−で表されるアルキレン基および−ＯＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−で表されるアルキレン基はいずれも、−ＯＣＦ_２−の数が１個であり、Ｙの定義を満たす。これに対して、−ＯＣＦ_２ＯＣＦ_２−で表されるアルキレン基および−ＯＣＦ_２ＯＣＦ_２ＯＣＦ_２−で表されるアルキレン基等、−ＯＣＦ_２−の数が２個以上のアルキレン基は、Ｙの定義を満たさない。
−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^４）−または−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基の具体例としては、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が挙げられる。

Ｚは、炭素原子、窒素原子またはケイ素原子である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜１の整数（好ましくは０）である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０である。

Ｒ^１２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。

Ｒ^１３は、−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎ１Ｌ_３−ｎ1である。
Ｌ^１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、炭素−炭素原子間またはＺ側の末端に−Ｏ−を有することが好ましい。
Ｌ^１の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が特に好ましい。
Ｒ^１３が１分子中に複数ある場合、複数あるＲ^１３は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

Ｒ^１は、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒ^１の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が特に好ましい。

Ｌは、加水分解性基または水酸基である。すなわち、Ｌが加水分解性基である場合、Ｓｉ−Ｌで表される基は加水分解性シリル基である。

Ｌの具体例としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、化合物１の製造がより容易である点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物１の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物１の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎ１は、０〜２の整数である。
ｎ１は、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎ１が１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

化合物１の具体例としては、以下の例示１〜４８が挙げられる。

化合物１は、公知の製造方法によって製造できる。たとえば、化合物１は、式１Ａで表される化合物をＨＳｉ（Ｒ^１）_ｎ１Ｌ_３−ｎ1（Ｒ^１、Ｌ、ｎ１の定義は上述の通りである。）とヒドロシリル化反応させることによって製造できる。
Ｒ^１１−（ＯＸ）_ｍ−Ｙ−Ｚ（Ｒ^１２）_ｑ（Ｌ^１Ａ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｒ−ｑ式１Ａ
式中、Ｒ^１１、Ｘ、ｍ、Ｙ、Ｚ、Ｒ^１２、ｑ、ｒの定義は上述の通りであり、Ｌ^１Ａは−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−であり、Ｌ^１Ａ−ＣＨ＝ＣＨ_２がヒドロシリル化されると化合物１のＬ^１になる。式１Ａで表される化合物は、たとえばＹが−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−の場合、Ｒ^１１−ＯＨ（Ｒ^１１の定義は上述の通りである。）を原料として公知の方法でＲ^１１−（ＯＸ）_ｍ−Ｃ（Ｏ）ＯＲ^１Ｂ（Ｒ^１Ｂは炭素数１〜６のアルキル基。）を得て、ＮＨ_２−ＣＨ_２−Ｚ（Ｒ^１２）_ｑ（Ｌ^１Ａ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｒ−ｑと反応させて製造できる。

（化合物２）
化合物２は、単位２１を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖を有する。
（ＯＸ^２）式２１
Ｘ^２は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
フルオロアルキレン基の炭素数は、１〜６が好ましく、２〜４が特に好ましい。
フルオロアルキレン基が有する水素原子は、１個以上であり、保護フィルムに対する表面層の密着性と表面層の耐摩擦性とのバランスに優れる点で、１〜３個が好ましく、１または２個が特に好ましい。

フルオロアルキレン基は、１個以上のフッ素原子を有する。フルオロアルキレン基が有するフッ素原子は、１個以上であり、保護フィルムに対する表面層の密着性と表面層の耐摩擦性とのバランスに優れる点で、１〜１１個が好ましく、２〜７個が特に好ましい。
Ｘ^２は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。

単位２１の具体例としては、ＯＣＨＦ、−ＯＣＦ_２ＣＨＦ−、−ＯＣＨＦＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦ−、−ＯＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−が挙げられる。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる単位２１の繰り返し数ｍ２は、２以上の整数が好ましく、２〜２００の整数がより好ましく、５〜１５０の整数がさらに好ましく、５〜１００の整数が特に好ましく、１０〜５０の整数が最も好ましい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、１種のみの単位２１を含んでいてもよく、２種以上の単位２１を含んでいてもよい。
２種以上の単位２１としては、たとえば、炭素数の異なる２種以上の単位２１、水素原子の数が異なる２種以上の単位２１、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上の単位２１が挙げられる。
２種以上の単位２１の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が有する（ＯＸ^２）_ｍ２としては、（ＯＣＨＦ）_ｍ２１（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）_ｍ２２（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６−ｍｂ）}）_ｍ２３（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８−ｍｃ）}）_ｍ２４（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０−ｍｄ）}）_ｍ２５（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２−ｍｅ）}）_ｍ２６が好ましい。
ｍａは１〜３の整数であり、ｍｂは１〜５の整数であり、ｍｃは１〜７の整数であり、ｍｄは１〜９の整数であり、ｍｅは１〜１１の整数である。
ｍ２１、ｍ２２、ｍ２３、ｍ２４、ｍ２５およびｍ２６は、それぞれ独立に、０以上の整数であり、１００以下が好ましい。
ｍ２１＋ｍ２２＋ｍ２３＋ｍ２４＋ｍ２５＋ｍ２６は２以上の整数であり、２〜２００の整数がより好ましく、５〜１５０の整数がより好ましく、５〜１００の整数がさらに好ましく、１０〜５０の整数が特に好ましい。
なかでも、化合物２の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性がより優れる点で、ｍ２２は１以上の整数が好ましく、２〜２００の整数が特に好ましい。
また、Ｃ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６−ｍｂ）}、Ｃ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８−ｍｃ）}、Ｃ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０−ｍｄ）}およびＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２−ｍｅ）}は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。

なお、ｍ２１個の（ＯＣＨＦ）、ｍ２２個の（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）、ｍ２３個の（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６−ｍｂ）}）、ｍ２４個の（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８−ｍｃ）}）、ｍ２５個の（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０−ｍｄ）}）、ｍ２６個の（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２−ｍｅ）}）の結合順序は限定されない。
ｍ２１が２以上の場合、複数の（ＯＣＨＦ）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２２が２以上の場合、複数の（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２３が２以上の場合、複数の（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６−ｍｂ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２４が２以上の場合、複数の（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８−ｍｃ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２５が２以上の場合、複数の（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０−ｍｄ）}）は同一であっても異なっていてもよい。
ｍ２６が２以上の場合、複数の（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２−ｍｅ）}）は同一であっても異なっていてもよい。

なかでも、化合物２の非フッ素系有機溶媒に対する溶解性がより優れる点で、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が有する（ＯＸ^２）_ｍ２としては、以下の（１）〜（４）が好ましい。
（１）（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）_ｍ２２（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６−ｍｂ）}）_ｍ２３
（２）（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）_ｍ２２（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８−ｍｃ）}）_ｍ２４
（３）（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）_ｍ２２（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０−ｍｄ）}）_ｍ２５
（４）（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）_ｍ２２（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２−ｍｅ）}）_ｍ２６
上記（１）は、ｍ２１、ｍ２４、ｍ２５およびｍ２６が０の態様に該当し、ｍ２２＋ｍ２３は２以上の整数である。上記（２）は、ｍ２１、ｍ２３、ｍ２５およびｍ２６が０の態様に該当し、ｍ２２＋ｍ２４は２以上の整数である。上記（３）は、ｍ２１、ｍ２３、ｍ２４およびｍ２６が０の態様に該当し、ｍ２２＋ｍ２５は２以上の整数である。上記（４）は、ｍ２１、ｍ２３、ｍ２４およびｍ２５が０の態様に該当し、ｍ２２＋ｍ２６は２以上の整数である。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、単位２１以外に、さらにオキシペルフルオロアルキレン単位を含んでいてもよい。
具体的には、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、単位２３を含んでいてもよい。
（ＯＸ^２１）式２３
Ｘ^２１は、ペルフルオロアルキレン基である。ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、１〜６が好ましい。

ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖は、１種のみの単位２３を含んでいてもよく、２種以上の単位２３を含んでいてもよい。
２種以上の単位２３としては、たとえば、炭素数の異なる２種以上の単位２３、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上の単位２３が挙げられる。

単位２３の具体例としては、−ＯＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−が挙げられる。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖中に含まれる単位２３の繰り返し数ｍ２０は、０以上の整数であり、０〜２００の整数が好ましく、０〜５０の整数がより好ましく、０〜１０の整数がさらに好ましく、０〜２の整数が特に好ましい。

ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、単位２１および単位２３を含む場合、単位２１と単位２３との結合順序は限定されない。たとえば、単位２１と単位２３とは、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖が、単位２１のｍ２個と単位２３のｍ２０個を含む場合、ｍ２＋ｍ２０は、５以上の整数であり、５〜４００の整数が好ましく、５〜２００の整数がより好ましく、５〜１２０の整数がさらに好ましく、１０〜５２の整数が特に好ましい。

化合物２は、基２２を有する。
−Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２式２２
化合物２が有する基２２の数は、１個以上であり、表面層の耐摩擦性がより優れる点で、２個以上が好ましく、２〜１０個がより好ましく、２〜５個がさらに好ましく、２または３個が特に好ましい。
基２２が１分子中に複数ある場合、複数ある基２２は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物２の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

Ｒ^２は、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒ^２の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が特に好ましい。
Ｌ^２は、加水分解性基または水酸基である。すなわち、Ｌ^２が加水分解性基である場合、Ｓｉ−Ｌ^２で表される基は加水分解性シリル基である。

Ｌ^２の具体例としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌ^２としては、化合物２の製造がより容易である点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌ^２としては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物２の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物２の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎ２は、０〜２の整数である。
ｎ２は、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌ^２が複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎ２が１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬ^２は同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物２の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎ２が２である場合、１分子中に存在する複数のＲ^２は同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物２の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

なお、化合物１および化合物２の両方に該当する化合物は、化合物１または化合物２の一方のみに該当するとして取り扱う。

化合物２としては、化合物２の保護フィルムに対する表面層の密着性および表面層の耐摩擦性により優れる点で、式２で表される化合物が好ましい。
Ｒ^２１−［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｒ^２３）_{ｒ２−ｑ２} 式２

Ｒ^２１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｒ^２３）_{ｒ２−ｑ２}である。なお、Ｙ^２、Ｚ^２、Ｒ^１、Ｒ^２３、ｒ２およびｑ２の定義は、後述する通りである。
フッ素原子を有していてもよいアルキル基中の炭素数は、保護フィルムに対する表面層の密着性および表面層の耐摩擦性により優れる点で、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
フッ素原子を有していてもよいアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、表面層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
フッ素原子を有していてもよいアルキル基は、アルキル基中の全ての水素原子がフッ素原子に置換された基（ペルフルオロアルキル基）であってもよい。

フッ素原子を有していてもよいアルキル基の具体例としては、ＣＨ_３−、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＨ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−、（ＣＦ_３）_２ＣＨ−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が挙げられる。

［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］で表される基は、ポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖である。
Ｘ^２、Ｘ^２１、ｍ２およびｍ２０の定義は、上述した通りである。ただし、式２におけるｍ２＋ｍ２０は、５以上の整数であり、５〜４００の整数が好ましく、５〜２００の整数がより好ましく、５〜１２０の整数がさらに好ましく、１０〜５２の整数が特に好ましい。
［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］において、（ＯＸ^２）と（ＯＸ^２１）との結合順序は限定されない。たとえば、（ＯＸ^２）と（ＯＸ^２１）とは、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
また、複数の（ＯＸ^２）は、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＯＸ^２）_ｍ２は、Ｘ^２が異なる２種以上の（ＯＸ^２）から構成されていてもよい。２種以上の（ＯＸ^２）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
さらに、ｍ２０が２以上の場合、複数の（ＯＸ^２１）は、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＯＸ^２１）_ｍ２０は、Ｘ^２１が異なる２種以上の（ＯＸ^２１）から構成されていてもよい。２種以上の（ＯＸ^２１）の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。

［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］で表される基としては、［（ＯＣＨＦ）_ｍ２１（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）_ｍ２２（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６−ｍｂ）}）_ｍ２３（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８−ｍｃ）}）_ｍ２４（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０−ｍｄ）}）_ｍ２５（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２−ｍｅ）}）_ｍ２６（ＯＸ^２１）_ｍ２０］が好ましい。
ｍ２１、ｍ２２、ｍ２３、ｍ２４、ｍ２５、ｍ２６、ｍａ、ｍｂ、ｍｃ、ｍｄおよびｍｅの定義は、上述した通りである。

Ｙ^２は、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が特に好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−Ｎ（Ｒ^２４）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒ^２５）_２−およびこれらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。Ｒ^２４は、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。Ｒ^２５は、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）またはフェニル基である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２４）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２４）−アルキレン基−、−Ｏ−アルキレン基−、−ＯＣ（Ｏ）−が挙げられる。

なかでも、化合物２の合成がより容易である点から、Ｙ^２は、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２４）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２４）−アルキレン基−、−Ｏ−アルキレン基−が好ましい。

Ｚ^２は、炭素原子、窒素原子またはケイ素原子である。

Ｒ^２２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。
ｑ２が２の場合、２個あるＲ^２２は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や式２で表される化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

Ｒ^２３は、−Ｌ^２１−Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２である。
Ｒ^２、Ｌ^２およびｎ２の定義は、上述した通りである。
Ｌ^２１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、炭素−炭素原子間またはＺ^２側の末端に−Ｏ−を有することが好ましい。
Ｌ^２１の炭素数は１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が特に好ましい。

Ｚ^２が炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒ２は３であり、ｑ２は０〜２の整数である。Ｚ^２が窒素原子の場合、ｒ２は２であり、ｑ２は０〜１の整数である。
Ｒ^２３が１分子中に複数ある場合、複数あるＲ^２３は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物２の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

化合物２としては、化合物２の保護フィルムに対する表面層の密着性および表面層の耐摩擦性により優れる点で、式２０で表される化合物が好ましい。
Ｒ^２１−［（ＯＣＨＦ）_ｍ２１（ＯＣ_２Ｈ_ｍａＦ_{（４−ｍａ）}）_ｍ２２（ＯＣ_３Ｈ_ｍｂＦ_{（６−ｍｂ）}）_ｍ２３（ＯＣ_４Ｈ_ｍｃＦ_{（８−ｍｃ）}）_ｍ２４（ＯＣ_５Ｈ_ｍｄＦ_{（１０−ｍｄ）}）_ｍ２５（ＯＣ_６Ｈ_ｍｅＦ_{（１２−ｍｅ）}）_ｍ２６（ＯＸ^２１）_ｍ２０］−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｒ^２３）_{ｒ２−ｑ２} 式２０
各基の定義は、上述した通りである。

化合物２の具体例としては、以下の例示１〜６８が挙げられる。以下の表中、ｔは１以上の整数を表す。ｔは５０以下の整数が好ましい。

化合物２は、公知の製造方法によって製造できる。たとえば、化合物２の一態様である式２で表される化合物は、式２Ａで表される化合物をＨＳｉ（Ｒ^２）_ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２（Ｒ^２、Ｌ^２、ｎ２の定義は上述の通りである。）とヒドロシリル化反応させることによって、製造できる。
Ｒ^２１Ａ−［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｌ^２Ａ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_{ｒ２−ｑ２} 式２Ａ
式中、Ｘ^２、Ｘ^２１、Ｙ^２、Ｚ^２、Ｒ^２２、ｍ２、ｍ２０、ｑ２、ｒ２の定義は上述の通りであり、Ｒ^２１Ａはフッ素原子を有してもよいアルキル基、または−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｌ^２Ａ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_{ｒ２−ｑ２}であり、Ｌ^２Ａは−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−であり、Ｌ^２Ａ−ＣＨ＝ＣＨ_２がヒドロシリル化されると式２で表される化合物のＬ^２になる。式２Ａで表される化合物は、たとえばＹ^２が−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−の場合、Ｒ^２１Ａ−ＯＨを原料として公知の方法でＲ^２１Ａ−［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］−Ｃ（Ｏ）ＯＲ^２Ｂ（Ｒ^２Ｂは炭素数１〜６のアルキル基。）を得て、ＮＨ_２−ＣＨ_２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｌ^２Ａ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_{ｒ２−ｑ２}と反応させて製造できる。

（化合物３）
化合物３は、式３１で表される繰り返し単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する。
（ＯＸ^３）_ｍ３式３１
Ｘ^３は、ペルフルオロアルキレン基である。
ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜６が好ましい。
ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、表面層の撥水撥油性により優れる点から、直鎖状が好ましい。
なお、複数のＯＸ^３は、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＯＸ^３）_ｍ３は、炭素数の異なる２種以上のＯＸ^３から構成されていても、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上のＯＸ^３から構成されていてもよい。

ｍ３は、５以上の整数であり、５〜２００の整数が好ましく、５〜１５０の整数がより好ましく、１０〜１００の整数が特に好ましい。ｍ３が５以上であれば、表面層の撥水撥油性がより優れる。ｍ３が上記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性がより優れる。

（ＯＸ^３）_ｍ３において、炭素数の異なる２種以上のＯＸ^３が存在する場合、各ＯＸ^３の結合順序は限定されない。たとえば、２種のＯＸ^３が存在する場合、２種のＯＸ^３がランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
（ＯＸ^３）_ｍ３としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、｛（ＯＣＦ_２）_ｍ３１（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３４｝、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３６、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３７、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３５（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３８（ＯＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３９（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、または、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ４０（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）が好ましく、｛（ＯＣＦ_２）_ｍ３１（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３４｝、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３５（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３８（ＯＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３９（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、または、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ４０（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）がより好ましく、｛（ＯＣＦ_２）_ｍ３１（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３２｝、｛（ＯＣＦ_２）_ｍ３１（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３３｝、または、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ４０（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）が特に好ましい。
ただし、ｍ３１は、１以上の整数であり、ｍ３２、ｍ３３およびｍ３４は、それぞれ０または１以上の整数であり、ｍ３１＋ｍ３２＋ｍ３３＋ｍ３４は５〜２００の整数であり、ｍ３１個のＯＣＦ_２、ｍ３２個のＯＣＦ_２ＣＦ_２、ｍ３３個のＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２、ｍ３４個のＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２の結合順序は限定されない。ｍ３６およびｍ３７は、それぞれ５〜２００の整数であり、ｍ３５、ｍ３８およびｍ３９は、２〜９９の整数であり、ｍ４０は、３〜９９の整数である。
また｛（ＯＣＦ_２）_ｍ３１（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ３４｝において、ｍ３３およびｍ３４が０の場合、ｍ３２／ｍ３１は、表面層の耐摩擦性がさらに優れる点から、０．１〜１０が好ましく、０．２〜５．０がより好ましく、０．２〜２．０がさらに好ましく、０．２〜１．５が特に好ましく、０．２〜０．８５が最も好ましい。

化合物３は、基３２を２個以上有する。
−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３式３２

化合物３が有する基３２の数は、２個以上であり、表面層の耐摩擦性が優れる点で、２〜１０個が好ましく、２〜５個がより好ましく、２または３個が特に好ましい。
基３２が１分子中に複数ある場合、複数ある基３２は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物３の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

Ｒ^３は、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。Ｒ^３の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が特に好ましい。

Ｌ^３は、加水分解性基または水酸基である。すなわち、Ｌ^３が加水分解性基である場合、Ｓｉ−Ｌ^３で表される基は加水分解性シリル基である。

Ｌ^３の具体例としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌ^３としては、化合物３の製造がより容易である点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌ^３としては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物３の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物３の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎ３は、０〜２の整数である。
ｎ３は、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌ^３が複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎ３が１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬ^３は同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物３の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎ３が２である場合、１分子中に存在する複数のＲ^３は同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物３の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。

化合物３は、上述した単位２１を含まない。化合物３が単位２１を含まないとは、化合物３が実質的に単位２１を含まないことを意味し、具体的には、^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ）により化合物３を分析して得られる化学シフト値δについて、δ＝５．０〜６．５ｐｐｍにおいて観測される全てのシグナルをＨ（プロトン）の個数に換算した場合に、１分子あたりの上記Ｈの個数の合計が１．０個以下であることを意味する。化合物３が単位２１を含まず、化合物２が単位２１を含むことにより、本組成物の表面張力が好適に調整され、本表面層の密着性が向上すると考えられる。

化合物３としては、化合物３の表面層の撥水撥油性および耐摩擦性により優れる点で、式３で表される化合物が好ましい。
［Ａ−（ＯＸ^３）_ｍ３−］_ｊＺ^３［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｇ式３

Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋである。
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
ただし、Ａが−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋである場合、ｊは１である。

ペルフルオロアルキル基としては、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）−等が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−が好ましい。

Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。後述するように、ｋは１〜１０の整数である。よって、Ｑとしては、２〜１１価の連結基が挙げられる。
Ｑとしては、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式３−１Ａ、式３−１Ｂ、式３−１Ａ−１〜３−１Ａ−６からＳｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３を除いた基が挙げられる。

Ｒ^３、Ｌ^３、ｎ３、Ｘ^３およびｍ３の定義は、上述の通りである。

Ｚ^３は、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
Ｚ^３は、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式３−１Ａ、式３−１Ｂ、式３−１Ａ−１〜３−１Ａ−６からＳｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３を除いた基が挙げられる。

ｊは、１以上の整数であり、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜５の整数が好ましく、化合物３を製造しやすい点から、１が特に好ましい。
ｇは、１以上の整数である。ただし、Ａがペルフルオロアルキル基の場合、ｇは、２以上の整数であり、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、２〜４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。Ａが−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋの場合には、ｇ＋ｋは、２以上の整数であり、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。

化合物３は、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、式３−１で表される化合物が好ましい。
Ａ−（ＯＸ^３）_ｍ３−Ｚ^３１式３−１
式３−１中、Ａ、Ｘ^３およびｍ３の定義は、式３中の各基の定義と同義である。

Ｚ^３１は、基３−１Ａまたは基３−１Ｂである。
−Ｑ^ａ−Ｘ^３１（−Ｑ^ｂ−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３）_ｈ（−Ｒ^３１）_ｉ式３−１Ａ
−Ｑ^ｃ−［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（−Ｑ^ｄ−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３）］_ｙ−Ｒ^３３式３−１Ｂ

Ｑ^ａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−Ｎ（Ｒ^ｄ）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２−および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。Ｒ^ｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−、アルキレン基−Ｏ−アルキレン基、アルキレン基−ＯＣ（Ｏ）−アルキレン基、アルキレン基−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２−フェニレン基−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２が挙げられる。

Ｘ^３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または２〜８価のオルガノポリシロキサン残基である。
なお、上記アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘ^３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０が特に好ましい。
２〜８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。

Ｑ^ｂは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱ^ａで説明した定義と同義である。

Ｒ^３１は、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。

Ｘ^３１が単結合またはアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘ^３１が窒素原子の場合、ｈは１または２の整数であり、ｉは０または１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘ^３１が炭素原子またはケイ素原子の場合、ｈは１〜３の整数であり、ｉは０〜２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘ^３１が２〜８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１〜７の整数であり、ｉは０〜６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１〜７を満たす。
ただし、ｈが１の場合、Ａは−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋである。
（−Ｑ^ｂ−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３）が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｑ^ｂ−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^３１が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｒ^３１）は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｑ^ｃは、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｒ^３２は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。

Ｑ^ｄは、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑ^ｄは、単結合または−ＣＨ_２−が好ましい。

Ｒ^３３は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。

ｙは、１〜１０の整数であり、１〜６の整数が好ましい。ただし、ｙが１の場合、Ａは−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋである。
２個以上の［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^３２）（−Ｑ^ｄ−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３）］は、同一であっても異なっていてもよい。

基３−１Ａとしては、基３−１Ａ−１〜３−１Ａ−６が好ましい。
−（Ｘ^３２）_ｓ１−Ｑ^ｂ１−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ式３−１Ａ−１
−（Ｘ^３３）_ｓ２−Ｑ^ａ２−Ｎ［−Ｑ^ｂ２−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_２式３−１Ａ−２
−Ｑ^ａ３−Ｇ（Ｒ^ｇ）［−Ｑ^ｂ３−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_２式３−１Ａ−３
−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｓ４−Ｑ^ａ４−（Ｏ）_ｔ４−Ｃ［−（Ｏ）_ｕ４−Ｑ^ｂ４−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_３式３−１Ａ−４
−Ｑ^ａ５−Ｓｉ［−Ｑ^ｂ５−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_３式３−１Ａ−５
−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｖ−Ｑ^ａ６−Ｚ^ａ［−Ｑ^ｂ６−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｗ式３−１Ａ−６
ただし、基３−１Ａが基３−１Ａ−１である場合、式３−１におけるＡは、−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋである。
なお、式３−１Ａ−１〜３−１Ａ−６中、Ｒ^３、Ｌ^３、および、ｎ３の定義は、上述した通りである。

Ｘ^３２は、−Ｏ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−である（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓ１は、０または１である。

Ｑ^ｂ１は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子−炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。

Ｑ^ｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｑ^ｂ１としては、ｓ１が０の場合は、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が−Ｏ−の場合は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。（Ｘ^３２）_ｓ１が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−の場合は、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ^ｂ１に結合する）。Ｑ^ｂ１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。

基３−１Ａ−１の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ^３）_ｍ３との結合位置を表す。

Ｘ^３３は、−Ｏ−、−ＮＨ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−である。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。

Ｑ^ａ２は、単結合、アルキレン基、−Ｃ（Ｏ）−、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−もしくは−ＮＨ−を有する基である。
Ｑ^ａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−または−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｑ^ａ２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２−、−Ｃ（Ｏ）−が好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。

ｓ２は、０または１（ただし、Ｑ^ａ２が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。

Ｑ^ｂ２は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基である。
Ｑ^ｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間に、２価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子または−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｑ^ｂ２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

２個の［−Ｑ^ｂ２−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］は、同一であっても異なっていてもよい。

基３−１Ａ−２の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ^３）_ｍ３との結合位置を表す。

Ｑ^ａ３は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
Ｑ^ａ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ａ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｇは、炭素原子またはケイ素原子である。
Ｒ^ｇは、水酸基またはアルキル基である。Ｒ^ｇで表されるアルキル基の炭素数は、１〜４が好ましい。
Ｇ（Ｒ^ｇ）としては、化合物を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）またはＳｉ（Ｒ^ｇａ）（ただし、Ｒ^ｇａはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１〜１０が好ましく、メチル基が特に好ましい。）が好ましい。

Ｑ^ｂ３は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ３としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。

２個の［−Ｑ^ｂ３−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］は、同一であっても異なっていてもよい。

基３−１Ａ−３の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ^３）_ｍ３との結合位置を表す。

式３−１Ａ−４中のＲ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓ４は、０または１である。
Ｑ^ａ４は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^ａ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ａ４で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
ｔ４は、０または１（ただし、Ｑ^ａ４が単結合の場合は０である。）である。
−Ｑ^ａ４−（Ｏ）_ｔ４−としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましく（ただし、左側が（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、ｓ４が１の場合は、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。

Ｑ^ｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−（Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−またはシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子−炭素原子間に−Ｏ−またはシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−、ジアルキルシリレン基または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｏ）_ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑ^ｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

ｕ４は、０または１である。
−（Ｏ）_ｕ４−Ｑ^ｂ４−としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

３個の［−（Ｏ）_ｕ４−Ｑ^ｂ４−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］は、同一であっても異なっていてもよい。

基３−１Ａ−４の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ^３）_ｍ３との結合位置を表す。

Ｑ^ａ５は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^ａ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ａ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ａ５としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

Ｑ^ｂ５は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ５としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３に結合する。）。

３個の［−Ｑ^ｂ５−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］は、同一であっても異なっていてもよい。

基２−１−５の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、＊は、（ＯＸ^３）_ｍ３との結合位置を表す。

式３−１Ａ−６中のＲ^ｄの定義は、上述の通りである。
ｖは、０または１である。

Ｑ^ａ６は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^ａ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ａ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ａ６としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＺ^ａに結合する。）。

Ｚ^ａは、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗは、２〜７の整数である。
（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、上述の通りである。

Ｑ^ｂ６は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
Ｑ^ｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^ｂ６としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。

ｗ個の［−Ｑ^ｂ６−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］は、同一であっても異なっていてもよい。

（化合物１〜３の含有比）
化合物１〜３はそれぞれ、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
本組成物における、化合物１および化合物２の含有量の合計に対する、化合物３の含有量は、保護フィルムに対する表面層の密着性と表面層の耐摩擦性とのバランスに優れる点で、質量比で０．１〜１０が好ましく、０．１〜４がより好ましく、０．１〜１．５がさらに好ましく、０．２５〜０．６７が特に好ましい。
なお、化合物１および化合物２の両方に該当する化合物については、化合物１または化合物２の一方のみに該当するとして上記質量比を計算する。

（他の成分）
本組成物は、液状媒体を含んでいてもよい。
液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒は、２種以上を併用してもよい。

フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４〜８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ−６０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。

非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、アルコール系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
アルコール系有機溶媒の具体例としては、イソプロピルアルコールが挙げられる。

本組成物が液状媒体を含む場合、液状媒体の含有量は、本組成物の全質量に対して、７０〜９９．９９質量％が好ましく、８０〜９９．９質量％が特に好ましい。
本組成物が液状媒体を含み、かつ化合物１を含む場合、化合物１の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．００２〜２７．３質量％が好ましく、０．０６〜１６．０質量％が特に好ましい。
本組成物が液状媒体を含み、かつ化合物２を含む場合、化合物２の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．００２〜２７．３質量％が好ましく、０．０６〜１６．０質量％が特に好ましい。
本組成物が液状媒体を含む場合の化合物３の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．００１〜２４．０質量％が好ましく、０．０２〜８．０質量％が特に好ましい。

本組成物は、上記以外の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、化合物１〜化合物３の製造工程で生成した副生物、未反応の原料等
の製造上の不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒の具体例としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアが挙げられる。
他の成分の含有量は、化合物１〜化合物３の合計量に対して、０〜１０質量％が好ましく、０〜５質量％がより好ましく、０〜１質量％が特に好ましい。

〔物品〕
本発明の物品は、基材と、基材上に本組成物から形成されてなる表面層と、を有する。表面層の表面には保護フィルムが貼着されていることが好ましい。
表面層には、化合物１および化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、ならびに化合物３の、加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれる。
表面層の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＡＴＸ−Ｇ：製品名、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。

基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材は、国際公開第２０１１／０１６４５８号の段落００８９〜００９５に記載の化合物やＳｉＯ_２等で下地処理されていてもよい。

上記物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、上記物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって本組成物を基材の表面に塗布し、乾燥させて、上記物品を得る方法。
なお、ウェットコーティング法においては、化合物１〜化合物３を酸触媒や塩基性触媒等を用いて予め加水分解しておき、加水分解した化合物と液状媒体とを含む組成物を使用することもできる。

本組成物に含まれる、化合物１および化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、化合物３と、のＭｎの差が小さい場合（好ましくはＭｎの差が０〜３，０００、特に好ましくはＭｎの差が０〜２，０００）、化合物１および化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、化合物３とが均一に分布した表面層が得られる点で、ドライコーティング法を用いて表面層を形成することが好ましい。
一方で、本組成物に含まれる、化合物１および化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、化合物３と、のＭの差が大きい場合（好ましくはＭｎの差が２，０００以上、特に好ましくＭｎの差が３，０００以上）、化合物１および化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、化合物３とが均一に分布した表面層が得られる点で、ウェットコーティング法を用いて表面層を形成することが好ましい。

ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、化合物１〜３の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に本組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、例６〜９、１１〜１６および１８〜１９が実施例であり、例５、１０、１７および２０が比較例である。各成分の配合量は、質量基準を示す。

〔評価方法〕
（水接触角の測定方法）
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水の接触角（水接触角）を、接触角測定装置（ＤＭ−５００：製品名、協和界面科学社製）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。接触角は１００度以上が良好である。

（耐摩擦性の試験方法）
表面層について、ＪＩＳＬ０８４９：２０１３（ＩＳＯ１０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で往復させた。１０００回往復させる毎に水接触角を測定し、水接触角が試験前の水接触角に対して初めて８５％以下となった時点の往復回数を測定した。なお、往復回数の上限は２０，０００回とした。往復回数が多いほど、耐摩擦性に優れる。往復回数は５０００回以上が好ましく、１０，０００回以上がより好ましい。

（密着性の試験方法）
アクリル系粘着層を有するポリ塩化ビニルフィルム（エレップマスキングＮ−３８０：製品名、日東電工株式会社製、テープ幅５０ｍｍ）のアクリル系粘着層を表面層に貼付し、ＪＩＳＫ６８５４−１：１９９９（ＩＳＯ８５１０−１：１９９０）に準拠して、９０度剥離試験機（日新科学社製）を用い、室温（２３℃）下で１００ｍｍ／分の剥離速度で、上記ポリ塩化ビニルフィルムを剥離した際の９０度剥離力を測定した。剥離力が大きいほど、密着性に優れる。剥離力は２５０ｍＮ／５０ｍｍ以上が好ましく、３７０ｍＮ／５０ｍｍ以上がより好ましい。

〔例１〕
化合物２−Ａは、以下の手順で合成した。
（例１−１）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の例６−１に記載の方法にしたがい、化合物Ｘ１を得た。
化合物Ｘ１：ＣＨ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦＨＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＨ、繰り返し単位数ｎの平均値：１４

（例１−２）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物Ｘ１の８．０ｇ、臭化アリルの０．３４ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミドの０．０８ｇおよび４８質量％水酸化カリウム水溶液の０．６０ｇを入れ、混合物を８０℃で５時間撹拌した。混合物を室温（２３℃）まで冷却し、ＡＣ−６０００（製品名、ＡＧＣ社製）の１０ｇを入れ、２回水洗した。得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−６０００）で精製し、化合物Ｘ２の７．９ｇ（収率９８％）を得た。
化合物Ｘ２のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ（テトラメチルシラン）） δ（ｐｐｍ）：２．４（２Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、４．５（２Ｈ）、４．８（２６Ｈ）、５．２〜５．４（２Ｈ）、５．８〜６．０（１Ｈ）、６．７〜６．９（１４Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８１（３Ｆ）、−８４〜−８５（２８Ｆ）、−８９〜−９１（２８Ｆ）、−１１４（２Ｆ）、−１２０（２６Ｆ）、−１２２（４Ｆ）、−１２３（２Ｆ）、−１２４（２Ｆ）、−１２７（３０Ｆ）、−１４５（１４Ｆ）。
化合物Ｘ２：ＣＨ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦＨＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２、繰り返し単位数ｎの平均値：１４、化合物Ｘ２のＭｎ：４，３００。

（例１−３）
１０ｍＬのガラス製サンプル瓶に、例１−２で得た化合物Ｘ２の６．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．０６ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ_３）_３の１．０１ｇ、アニリンの０．０２ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）の１．０ｇを入れ、混合物を４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物２−Ａの６．５ｇ（収率１００％）を得た。
化合物２−ＡのＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．４（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、３．２（９Ｈ）、３．３（３Ｈ）、３．７（２Ｈ）、４. ０（２Ｈ）、４．２（２６Ｈ）、５．５〜５．８（１３Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−８４．５〜−８７．０（２６Ｆ）、−９０．３〜−９２．２（２６Ｆ）、−１２０．６（２４Ｆ）、−１２４．１（２Ｆ）、−１２８．０（２６Ｆ）、−１４３．８〜−１４５．０（１３Ｆ）。
化合物２−Ａ：ＣＨ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦＨＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、
繰り返し単位数ｎの平均値：１４、化合物２−ＡのＭｎ：４，４２０。

〔例２〕
化合物３−Ａは、以下の手順で合成した。
（例２−１）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の例１１−１〜１１−３に記載の方法にしたがい、化合物Ｙ１を得た。
化合物Ｙ１：ＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ−ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３、ｎの平均値：１３、Ｍｎ：５，０５０。

（例２−２）
５０ｍＬの３つ口フラスコ内に、化合物Ｙ１の９．０ｇおよびＮＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３の０．４５ｇを入れ、混合物を室温（２３℃）で１２時間撹拌した。反応粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して、化合物Ｙ２の９．４ｇ（収率９９％）を分取した。
化合物Ｙ２：ＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ−ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３、
ｎの平均値：１３、Ｍｎ：４，８００。

（例２−３）
１００ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体製ナスフラスコに、化合物Ｙ２の５．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．０３ｇ、トリメトキシシランの０．３６ｇ、アニリンの０．０１ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、混合物を室温（２３℃）で８時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物３−Ａの５．２ｇ（純度９９％以上、収率９９％）を得た。
化合物３−ＡのＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７５（６Ｈ）、１．３〜１．６（１２Ｈ）、３．４（２Ｈ）、３．７（２７Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５５．２（３Ｆ）、−８２．１（５４Ｆ）、−８８．１（５４Ｆ）、−９０．２（２Ｆ）、−１１９．６（２Ｆ）、−１２５．４（５２Ｆ）、−１２６．２（２Ｆ）。
化合物３−Ａ：ＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ−ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３、ｎの平均値：１３、Ｍｎ：５，４００。

〔例３〕
化合物３−Ｂは、以下の手順で合成した。
（例３−１）
５０ｍＬの３つ口フラスコ内に、例２−１で得た化合物Ｙ１の１０．１ｇ、ジアリルアミンの０．９７ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１０ｇを入れ、混合物を室温（２３℃）で８時間撹拌した。反応粗液をエバポレータで濃縮し、粗生成物の９．８ｇを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して、化合物Ｙ３の９．５ｇ（収率９９％）を分取した。
化合物Ｙ３のＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．０（４Ｈ）、５．３〜５．４（４Ｈ）、５．７〜６．０（２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５５．１（３Ｆ）、−８２．６（５４Ｆ）、−８７．９（５４Ｆ）、−９０．０（２Ｆ）、−１１０．３（２Ｆ）、−１２４．１（２Ｆ）、−１２５．０（５２Ｆ）。
化合物Ｙ３：ＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ−ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２、
ｎの平均値：１３、Ｍｎ：４，７９０。

（例３−２）
１００ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体製ナスフラスコに、化合物Ｙ３の５．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．０３ｇ、トリメトキシシランの０．３６ｇ、アニリンの０．０１ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、混合物を室温（２３℃）で８時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物３−Ｂの５．２ｇ（純度９９％以上、収率９９％）を得た。
化合物３−ＢのＮＭＲスペクトル；
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６（４Ｈ）、１．８（４Ｈ）、３．４（４Ｈ）、３．６（１８Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、基準：ＣＦＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：−５５．２（３Ｆ）、−８２．８（５４Ｆ）、−８８．１（５４Ｆ）、−９０．２（２Ｆ）、−１１１．４（２Ｆ）、−１２４．２（２Ｆ）、−１２５．２（５２Ｆ）。
化合物３−Ｂ：ＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ−ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）Ｎ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２、
ｎの平均値：１３、Ｍｎ：５，０５０。

〔例４〕
化合物１−Ａは、東京化成工業社製、トリメトキシ（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチル）シラン（ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_５（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）を用いた。
［例５〜２０］
例１〜４で得た各化合物１−Ａ、２−Ａ、３−Ａ、３−Ｂを、表１、２に記載の割合で混合して、例６〜９、１１〜１６および１８〜１９の組成物を得た。
得られた組成物を用いて、以下のドライコーティング法にて基材の表面処理を行い、基材（化学強化ガラス）の表面に表面層が形成されてなる評価サンプル（物品）を得た。
なお、例５、１０、１７および２０については、化合物１−Ａ、２−Ａ、３−Ａ、および３−Ｂのうち、１種の化合物のみを用いた他は、上記の例６〜９、１１〜１６および１８〜１９の場合と同様に実施することにより、各評価サンプルを作製した。
得られた各評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表１、２に示す。

（ドライコーティング法）
真空蒸着装置（ＶＴＲ−３５０Ｍ：製品名、アルバック機工社製）内のモリブデン製ボートに、蒸着源として表１に記載の組成物（０．５ｇ）を配置した。真空蒸着装置内に基材を配置し、真空蒸着装置内を５×１０^−３Ｐａ以下（絶対圧）の圧力になるまで排気した。上記各組成物を配置したボートを３００℃になるまで加熱し、表１に記載の各組成物を基材に真空蒸着させ、厚さ１０ｎｍの蒸着膜を形成した。蒸着膜が形成された基材を、温度２００℃で３０分間加熱（後処理）して、厚さ１０ｎｍの表面層を形成し、評価サンプルを得た。

表１、２の通り、化合物１または化合物２、および、化合物３を含む組成物を用いた場合（例６〜９、１１〜１６および１８〜１９）、耐摩擦性および保護フィルムとの密着性に優れた表面層が得られることを確認した。

本発明の組成物は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置のコート；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート；トイレタリー用防汚コート；導通しながら撥液が必要な部材へのコート；熱交換機の撥水・防水・滑水コート；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。

より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器のコート、メガネレンズ等の表面保護コート、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材のコート、配線板用防水コーティング、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車等の輸送機器用部品（たとえば、外装、ガラス、ミラー、バンパー）、
工具等の表面保護コート等が挙げられる。

なお、２０１８年４月２０日に出願された日本特許出願２０１８−０８１６０７号の明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims

式１で表される化合物１、および、式２１で表される繰り返し単位を含むポリ（オキシフルオロアルキレン）鎖と式２２で表される基とを有する化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、
式３１で表される繰り返し単位を含むポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖と、２個以上の式３２で表される基とを有し、式２１で表される繰り返し単位を含まない化合物３と、を含む、組成物。
Ｒ^１１−（ＯＸ）_ｍ−Ｙ−Ｚ（Ｒ^１２）_ｑ（Ｒ^１３）_ｒ−ｑ式１
ただし、式１中、
Ｒ^１１は、フルオロアルキル基である。
Ｘは、１個以上のフッ素原子を有する炭素数１以上のフルオロアルキレン基である。
ｍは、０〜４の整数である。
Ｙは、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−もしくは−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−である。前記−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^１４）−または−Ｃ（Ｏ）−を有していてもよいアルキレン基は、フッ素原子を有していてもよい。ただし、前記Ｙが−ＯＣＦ_２−を含むアルキレン基である場合、前記アルキレン基中の−ＯＣＦ_２−の数は１個である。
Ｒ^１４は、水素原子またはアルキル基である。
Ｚは、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ^１２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ^１３は、−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎ１Ｌ_３−ｎ1である。Ｒ^１は、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎ１は、０〜２の整数である。Ｌ^１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
Ｚが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒは３であり、ｑは０〜１の整数である。Ｚが窒素原子の場合、ｒは２であり、ｑは０である。
（ＯＸ^２）式２１
−Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２式２２
ただし、式２１および式２２中、
Ｘ^２は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｒ^２は、１価の炭化水素基である。
Ｌ^２は、加水分解性基または水酸基である。
ｎ２は、０〜２の整数である。
（ＯＸ^３）_ｍ３式３１
−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３式３２
ただし、式３１および式３２中、
Ｘ^３は、ペルフルオロアルキレン基である。
ｍ３は、５以上の整数である。
Ｒ^３は、１価の炭化水素基である。
Ｌ^３は、加水分解性基または水酸基である。ｎ３は、０〜２の整数である。
前記式（１）におけるｍが０または１である、請求項１に記載の組成物。
前記化合物２が式２で表される化合物である、請求項１または２に記載の組成物。
Ｒ^２１−［（ＯＸ^２）_ｍ２（ＯＸ^２１）_ｍ２０］−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｒ^２３）_{ｒ２−ｑ２} 式２
ただし、式２中、
Ｒ^２１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基、または、−Ｙ^２−Ｚ^２（Ｒ^２２）_ｑ２（Ｒ^２３）_{ｒ２−ｑ２}である。
Ｘ^２は、１個以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。
Ｘ^２１は、ペルフルオロアルキレン基である。
Ｙ^２は、単結合または２価の連結基である。
Ｚ^２は、炭素原子、ケイ素原子または窒素原子である。
Ｒ^２２は、水素原子、水酸基またはアルキル基である。
Ｒ^２３は、−Ｌ^２１−Ｓｉ（Ｒ^２）_ｎ２Ｌ^２ _３−ｎ２である。Ｌ^２１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。Ｒ^２は、１価の炭化水素基である。Ｌ^２は、加水分解性基または水酸基である。ｎ２は、０〜２の整数である。
ｍ２は２以上の整数であり、ｍ２０は０以上の整数であり、ｍ２＋ｍ２０は５以上の整数である。
Ｚ^２が炭素原子またはケイ素原子の場合、ｒ２は３であり、ｑ２は０〜２の整数である。Ｚ^２が窒素原子の場合、ｒ２は２であり、ｑ２は０〜１の整数である。
前記化合物３が式３で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
［Ａ−（ＯＸ^３）_ｍ３−］_ｊＺ^３［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｇ式３
ただし、式３中、
Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋである。
Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。
ｋは１〜１０の整数である。
Ｒ^３は、１価の炭化水素基である。
Ｌ^３は、加水分解性基または水酸基である。ｎ３は、０〜２の整数である。
Ｘ^３は、ペルフルオロアルキレン基である。
ｍ３は、５以上の整数である。
Ｚ^３は、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
ｊは、１以上の整数である。
ｇは、１以上の整数である。ただし、Ａがペルフルオロアルキル基の場合、ｇは、２以上の整数であり、Ａが−Ｑ［−Ｓｉ（Ｒ^３）_ｎ３Ｌ^３ _３−ｎ３］_ｋの場合、ｇ＋ｋは、２以上の整数である。
前記化合物１および化合物２からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、化合物３と、の数平均分子量の差が０〜３，０００である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
前記化合物１および前記化合物２の含有量の合計に対する、前記化合物３の含有量が、質量比で０．１〜１０である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
フッ素系有機溶媒、非フッ素系有機溶媒、または水を含む液状媒体を含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
基材と、前記基材上に、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有する物品。
前記組成物からドライコーティング法により形成されてなる請求項８に記載の物品。
前記基材が、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、または、これらの複合材料である、請求項８または９に記載の物品。
前記表面層の膜厚が、１〜１００ｎｍである、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の物品。
前記表面層の表面に保護フィルムが貼着されている、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の物品。