JPWO2018207258A1 - Gas chromatograph - Google Patents

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    • G01N30/02—Column chromatography
    • G01N30/50—Conditioning of the sorbent material or stationary liquid
    • G01N30/52—Physical parameters
    • G01N30/54—Temperature

Abstract

ガスクロマトグラフ１は、冷却装置８を備える。冷却装置８には、内部供給管８３が含まれる。内部供給管８３は、カラムオーブン３内におけるカラム２が配置される領域の近傍まで延びている。外部供給管８１からカラムオーブン３内に向けて供給された冷媒は、内部供給管８３に流入し、その後、吐出口８３Ａからカラムオーブン３内に吐出される。このとき、カラムオーブン３内は、冷媒を内部に含む内部供給管８３によって冷却されるとともに、内部供給管８３を介して冷媒が供給されることにより、さらに冷却される。このように、カラムオーブン３内は、内部供給管８３自体、及び、内部供給管８３から供給される冷媒によって段階的に冷却される。その結果、冷却装置８によって、カラムオーブン３内を精度よく温調できる。The gas chromatograph 1 includes a cooling device 8. The cooling device 8 includes an internal supply pipe 83. The internal supply pipe 83 extends to near the area where the column 2 is arranged in the column oven 3. The refrigerant supplied from the external supply pipe 81 toward the inside of the column oven 3 flows into the internal supply pipe 83, and is thereafter discharged into the column oven 3 from the discharge port 83A. At this time, the inside of the column oven 3 is cooled by the internal supply pipe 83 containing the refrigerant, and further cooled by the supply of the refrigerant through the internal supply pipe 83. As described above, the inside of the column oven 3 is gradually cooled by the internal supply pipe 83 itself and the refrigerant supplied from the internal supply pipe 83. As a result, the temperature inside the column oven 3 can be accurately controlled by the cooling device 8.

Description

本発明は、カラムオーブン内を冷却する冷却装置を備えるガスクロマトグラフに関するものである。   The present invention relates to a gas chromatograph provided with a cooling device for cooling the inside of a column oven.

従来より、カラムオーブン内に冷媒を導入し、カラムオーブン内部を所定温度まで冷却させる冷却装置を備えたガスクロマトグラフが用いられている。ガスクロマトグラフでは、分析動作が行われることにより、カラムオーブン内がヒータによって加熱されて高温状態となる。その後、次回の測定のために、冷却装置によって、カラムオーブン内が所定温度まで冷却される。このように、ガスクロマトグラフでは、カラムオーブン内が、冷却装置によって適宜冷却されて、分析動作が繰り返し行われる（例えば、下記特許文献１参照）。   Conventionally, a gas chromatograph provided with a cooling device for introducing a refrigerant into a column oven and cooling the inside of the column oven to a predetermined temperature has been used. In a gas chromatograph, the inside of a column oven is heated by a heater to a high temperature state by performing an analysis operation. Thereafter, the inside of the column oven is cooled to a predetermined temperature by the cooling device for the next measurement. As described above, in the gas chromatograph, the inside of the column oven is appropriately cooled by the cooling device, and the analysis operation is repeatedly performed (for example, see Patent Document 1 below).

下記特許文献１に記載のガスクロマトグラフでは、冷却用ガスの供給管（供給ライン）がカラムオーブンに接続されている。供給管には、冷却用ガスの供給量を調整するバルブが設けられている。そして、バルブが適宜開放されることで、供給管を介して冷却用ガスがカラムオーブン内に導入されて、カラムオーブン内が冷却される。   In a gas chromatograph described in Patent Literature 1 below, a supply pipe (supply line) for a cooling gas is connected to a column oven. The supply pipe is provided with a valve for adjusting the supply amount of the cooling gas. Then, by appropriately opening the valve, a cooling gas is introduced into the column oven via the supply pipe, and the inside of the column oven is cooled.

特開平１１−４４６８０号公報JP-A-11-44680

上記した従来のガスクロマトグラフでは、カラムオーブン内を冷却させる際に温度が安定しにくいという不具合があった。   In the above-described conventional gas chromatograph, there was a problem that the temperature was hardly stabilized when cooling the inside of the column oven.

具体的には、上記のガスクロマトグラフでは、カラムオーブン内の温度を検知するセンサが設けられており、センサが検知するカラムオーブン内の温度に基づいて、供給管を介してカラムオーブン内に冷却用ガスが導入される。このように、内部に導入する冷却用ガスのみによって、カラムオーブン内を冷却する構成の冷却装置では、冷却用ガスが導入されてから、そのガスの影響によってセンサ周囲の雰囲気温度が低下するまでの間にタイムラグが生じる。   Specifically, the above-described gas chromatograph is provided with a sensor for detecting the temperature in the column oven, and for cooling in the column oven via the supply pipe based on the temperature in the column oven detected by the sensor. Gas is introduced. As described above, in the cooling device configured to cool the inside of the column oven only by the cooling gas introduced into the inside, the cooling gas is introduced until the ambient temperature around the sensor decreases due to the influence of the gas. There is a time lag between them.

例えば、必要な量のガスがカラムオーブン内に導入された場合であっても、ガスが導入された直後には、センサ周囲の雰囲気温度は完全には低下しない（安定しない）。そのため、センサの検知温度に基づいて、ガスをカラムオーブン内に導入し続けると、センサの検知温度が目的温度に到達したときには、カラムオーブン内に必要以上のガスが導入されることとなる。その結果、その後にガスの供給を停止したとしても、センサ周囲の雰囲気温度は、さらに低下し、最終的には、目的温度よりも大きく低下してしまう。このように、上記のガスクロマトグラフの構成では、内部温度が安定しにくいという不具合が生じてしまう。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、カラムオーブン内を精度よく温調できるガスクロマトグラフを提供することを目的とする。For example, even when a required amount of gas is introduced into the column oven, immediately after the introduction of the gas, the ambient temperature around the sensor does not completely decrease (is not stable). Therefore, if the gas is continuously introduced into the column oven based on the detection temperature of the sensor, when the detection temperature of the sensor reaches the target temperature, more gas than necessary is introduced into the column oven. As a result, even if the supply of gas is stopped after that, the ambient temperature around the sensor further decreases, and ultimately drops significantly below the target temperature. As described above, the configuration of the gas chromatograph described above causes a problem that the internal temperature is difficult to stabilize.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a gas chromatograph that can accurately control the temperature inside a column oven.

（１）本発明に係るガスクロマトグラフは、カラムオーブンと、冷却装置とを備える。前記カラムオーブンは、内部にカラムが収容される。前記冷却装置は、吐出口から前記カラムオーブン内に冷媒を吐出することにより、前記カラムオーブン内を冷却する。前記冷却装置には、前記カラムオーブン内における前記カラムが配置される領域の近傍まで延び、前記吐出口へと冷媒を供給するための供給管が含まれる。 (1) A gas chromatograph according to the present invention includes a column oven and a cooling device. The column oven contains a column therein. The cooling device cools the inside of the column oven by discharging a coolant from the discharge port into the column oven. The cooling device includes a supply pipe extending to a vicinity of a region where the column is arranged in the column oven and supplying a coolant to the discharge port.

このような構成によれば、カラムオーブン内は、冷媒を内部に含む供給管によって冷却される。そして、カラムオーブン内に、供給管を介して冷媒が供給されることにより、カラムオーブン内がさらに冷却される。すなわち、カラムオーブン内は、供給管自体、及び、供給管から供給される冷媒によって段階的に冷却される。
そのため、冷却装置によって、カラムオーブン内を精度よく温調できる。According to such a configuration, the inside of the column oven is cooled by the supply pipe containing the refrigerant therein. Then, the coolant is supplied into the column oven through the supply pipe, whereby the inside of the column oven is further cooled. That is, the inside of the column oven is gradually cooled by the supply pipe itself and the refrigerant supplied from the supply pipe.
Therefore, the temperature inside the column oven can be accurately controlled by the cooling device.

（２）また、前記ガスクロマトグラフは、ヒータをさらに備えてもよい。前記ヒータは、前記カラムオーブン内に設けられ、当該カラムオーブン内を加熱する。前記供給管は、前記ヒータと前記カラムとの間の領域まで延びていてもよい。 (2) The gas chromatograph may further include a heater. The heater is provided in the column oven and heats the inside of the column oven. The supply pipe may extend to a region between the heater and the column.

このような構成によれば、冷媒を内部に含む供給管によって、ヒータとカラムとの間の領域を冷却できる。   According to such a configuration, the region between the heater and the column can be cooled by the supply pipe containing the refrigerant therein.

（３）また、前記供給管は、前記カラムが配置される領域の近傍において湾曲形状に形成されていてもよい。 (3) The supply pipe may be formed in a curved shape in the vicinity of a region where the column is arranged.

このような構成によれば、冷媒を内部に含む供給管によって、カラム周辺の雰囲気を効率的に冷却できる。   According to such a configuration, the atmosphere around the column can be efficiently cooled by the supply pipe containing the refrigerant therein.

（４）また、前記供給管は、前記カラムの形状に対応する湾曲形状に形成されていてもよい。 (4) The supply pipe may be formed in a curved shape corresponding to the shape of the column.

このような構成によれば、冷媒を内部に含む供給管によって、カラム自体を効率的に冷却できる。   According to such a configuration, the column itself can be efficiently cooled by the supply pipe containing the refrigerant therein.

（５）また、前記冷却装置には、前記供給管よりも内径が小さい抵抗部を有し、前記供給管に対して上流側において当該供給管に連通する抵抗管が含まれてもよい。 (5) Further, the cooling device may include a resistance pipe having a resistance portion having an inner diameter smaller than the supply pipe, and being connected to the supply pipe on an upstream side of the supply pipe.

このような構成によれば、冷媒は、抵抗部を通過した後、供給管を通過してカラムオーブン内に供給される。そのため、冷媒の供給圧力が大きい場合であっても、抵抗部を通過させることで、その流量を調整できる。   According to such a configuration, the refrigerant is supplied into the column oven through the supply pipe after passing through the resistance portion. Therefore, even when the supply pressure of the refrigerant is high, the flow rate can be adjusted by passing the refrigerant through the resistance portion.

（６）また、前記ガスクロマトグラフは、切替部をさらに備えてもよい。前記切替部は、前記抵抗部を介して前記供給管に冷媒を供給する第１供給状態、又は、前記抵抗部を介さずに前記供給管に冷媒を供給する第２供給状態に切り替える。 (6) The gas chromatograph may further include a switching unit. The switching unit switches between a first supply state in which the refrigerant is supplied to the supply pipe via the resistance unit and a second supply state in which the refrigerant is supplied to the supply pipe without passing through the resistance unit.

このような構成によれば、切替部によって適宜供給状態を切り替えることにより、冷媒を適切な供給状態（供給経路）でカラムオーブン内に供給できる。   According to such a configuration, by appropriately switching the supply state by the switching unit, the refrigerant can be supplied into the column oven in an appropriate supply state (supply path).

（７）また、前記冷却装置には、流量調整バルブが含まれてもよい。前記流量調整バルブは、前記供給管に対して上流側において当該供給管に供給する冷媒の流量を調整する。 (7) Further, the cooling device may include a flow control valve. The flow control valve adjusts a flow rate of the refrigerant supplied to the supply pipe on an upstream side with respect to the supply pipe.

このような構成によれば、流量調整バルブによって冷媒の流量を調整した上で、さらに、抵抗部によって冷媒の流量を調整できる。
そのため、冷媒の流量を適切に調整できる。According to such a configuration, the flow rate of the refrigerant can be adjusted by the flow rate adjustment valve, and further, the flow rate of the refrigerant can be adjusted by the resistance portion.
Therefore, the flow rate of the refrigerant can be appropriately adjusted.

本発明によれば、カラムオーブン内は、供給管自体、及び、供給管から供給される冷媒によって段階的に冷却される。そのため、カラムオーブン内を精度よく温調できる。   According to the present invention, the inside of the column oven is cooled stepwise by the supply pipe itself and the refrigerant supplied from the supply pipe. Therefore, the temperature inside the column oven can be accurately controlled.

本発明の第１実施形態に係るガスクロマトグラフの構成例を示した概略図である。It is the schematic which showed the structural example of the gas chromatograph which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図１の冷却装置に用いられる内部供給管を示した正面図である。It is the front view which showed the internal supply pipe used for the cooling device of FIG. 本発明の第２実施形態に係るガスクロマトグラフの冷却装置に用いられる内部供給管を示した正面図である。It is the front view which showed the internal supply pipe used for the cooling device of the gas chromatograph which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係るガスクロマトグラフの構成例を示した概略図である。It is the schematic which showed the example of a structure of the gas chromatograph which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

１．ガスクロマトグラフの構成
図１は、本発明の第１実施形態に係るガスクロマトグラフ１の構成例を示した概略図である。1. Configuration of Gas Chromatograph FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of a gas chromatograph 1 according to the first embodiment of the present invention.

ガスクロマトグラフ１は、キャリアガスとともに試料ガスをカラム２内に供給することにより分析を行うためのものであり、上記カラム２以外に、カラムオーブン３、ヒータ４、ファン５、試料導入部６、検出器７及び冷却装置８などを備えている。
カラム２は、カラムオーブン３内に収容されている。カラム２は、例えば、キャピラリカラムからなる。
カラムオーブン３は、ボックス形状に形成されている。The gas chromatograph 1 is for performing analysis by supplying a sample gas together with a carrier gas into the column 2, and in addition to the column 2, a column oven 3, a heater 4, a fan 5, a sample introduction unit 6, It has a vessel 7 and a cooling device 8.
The column 2 is housed in a column oven 3. The column 2 is, for example, a capillary column.
The column oven 3 is formed in a box shape.

ヒータ４は、カラムオーブン３内を加熱するためのものであり、カラムオーブン３内に配置されている。ヒータ４は、カラム２と間隔を隔てて配置されている。カラムオーブン３内において、カラム２とヒータ４との間には、仕切り板９が設けられている。仕切り板９には、空気が通過するため穴や、冷却装置８の一部を挿通させるための穴が形成されている。   The heater 4 is for heating the inside of the column oven 3 and is disposed in the column oven 3. The heater 4 is arranged at an interval from the column 2. In the column oven 3, a partition plate 9 is provided between the column 2 and the heater 4. The partition plate 9 is formed with a hole through which air passes and a hole through which a part of the cooling device 8 is inserted.

ファン５は、カラムオーブン３内に配置されている。ファン５は、ヒータ４に対して、カラム２と反対側に設けられている。ガスクロマトグラフ１では、ファン５が設けられる側が後方側であり、カラム２が設けられる側が前方側である。   The fan 5 is arranged in the column oven 3. The fan 5 is provided on the side opposite to the column 2 with respect to the heater 4. In the gas chromatograph 1, the side where the fan 5 is provided is the rear side, and the side where the column 2 is provided is the front side.

試料導入部６は、カラム２内にキャリアガス及び試料ガスを導入するためのものであり、その内部に試料気化室（図示せず）が形成されている。この試料気化室には、液体試料が注入され、試料気化室内で気化された試料が、キャリアガスとともにカラム２内に導入される。また、試料気化室には、ガス供給流路１１及びスプリット流路１２が連通している。
ガス供給流路１１は、試料導入部６の試料気化室内にキャリアガスを供給するための流路である。The sample introducing section 6 is for introducing a carrier gas and a sample gas into the column 2 and has a sample vaporizing chamber (not shown) formed therein. A liquid sample is injected into the sample vaporization chamber, and the sample vaporized in the sample vaporization chamber is introduced into the column 2 together with a carrier gas. Further, a gas supply channel 11 and a split channel 12 communicate with the sample vaporization chamber.
The gas supply channel 11 is a channel for supplying a carrier gas into the sample vaporization chamber of the sample introduction unit 6.

スプリット流路１２は、スプリット導入法によりカラム２内にキャリアガス及び試料ガスを導入する際に、試料気化室内のガス（キャリアガス及び試料ガスの混合ガス）の一部を所定のスプリット比で外部に排出するための流路である。   When a carrier gas and a sample gas are introduced into the column 2 by the split introduction method, a part of the gas in the sample vaporization chamber (mixed gas of the carrier gas and the sample gas) is externally separated at a predetermined split ratio. This is a flow path for discharging to

検出器７は、例えば、水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）や、炎光光度検出器（ＦＰＤ）により構成される。検出器７は、カラム２から導入されるキャリアガスに含まれる各試料成分を順次検出する。   The detector 7 includes, for example, a hydrogen flame ionization detector (FID) and a flame photometric detector (FPD). The detector 7 sequentially detects each sample component contained in the carrier gas introduced from the column 2.

冷却装置８は、カラムオーブン３内に冷媒を吐出することにより、カラムオーブン３内を冷却するための装置である。冷却装置８から吐出される冷媒は、例えば、Ｎ２ガスやＣＯ２ガスなどの冷却用ガスである。冷却装置８は、その一部がカラムオーブン３内に配置されている。冷却装置８の詳細な構成については、後述する。   The cooling device 8 is a device for cooling the inside of the column oven 3 by discharging a refrigerant into the column oven 3. The refrigerant discharged from the cooling device 8 is, for example, a cooling gas such as N2 gas or CO2 gas. A part of the cooling device 8 is arranged in the column oven 3. The detailed configuration of the cooling device 8 will be described later.

ガスクロマトグラフ１において試料の測定が行われる場合には、まず、冷却装置８を用いてカラムオーブン３内の温度が設定温度（室温以下）まで下げられる。この状態において、分析対象となる試料が試料導入部６に注入される。試料は、試料気化室において気化される。また、試料導入部６の試料気化室には、ガス供給流路１１を介してキャリアガスが供給される。   When a sample is measured in the gas chromatograph 1, first, the temperature in the column oven 3 is reduced to a set temperature (below room temperature) using the cooling device 8. In this state, a sample to be analyzed is injected into the sample introduction unit 6. The sample is vaporized in a sample vaporization chamber. Further, a carrier gas is supplied to the sample vaporization chamber of the sample introduction unit 6 via a gas supply channel 11.

試料気化室内で気化された試料は、キャリアガスとともにカラム２内に導入される。カラム２内に試料が導入された後、ヒータ４及びファン５が駆動されて、カラムオーブン３内が加熱されることにより、カラムオーブン３内の温度が徐々に上昇する。試料に含まれる各試料成分は、カラム２内を通過する過程で分離されて、検出器７に順次導入される。   The sample vaporized in the sample vaporization chamber is introduced into the column 2 together with the carrier gas. After the sample is introduced into the column 2, the heater 4 and the fan 5 are driven to heat the inside of the column oven 3, so that the temperature in the column oven 3 gradually increases. Each sample component contained in the sample is separated while passing through the column 2 and is sequentially introduced into the detector 7.

そして、検出器７において、カラム２から導入されるキャリアガスに含まれる各試料成分が順次検出される。ガスクロマトグラフ１では、検出器７の検出信号に基づいてクロマトグラムが生成される。ユーザは、得られたクロマトグラムを確認して、各種分析を行う。クロマトグラムの確認後、高温空気が系外に排出されることにより、カラムオーブン３内が初期温度まで冷却される。   Then, in the detector 7, each sample component contained in the carrier gas introduced from the column 2 is sequentially detected. In the gas chromatograph 1, a chromatogram is generated based on a detection signal of the detector 7. The user confirms the obtained chromatogram and performs various analyses. After the confirmation of the chromatogram, the inside of the column oven 3 is cooled to the initial temperature by discharging the high-temperature air out of the system.

その後、冷却装置８からカラムオーブン３内に冷媒が吐出される。これにより、カラムオーブン３内が所定温度（目的温度）まで冷却される。そして、上記の分析動作が繰り返される。このように、ガスクロマトグラフ１において、分析動作が繰り返し行われる際には、冷却装置８による温調が適宜行われる。   Thereafter, the refrigerant is discharged from the cooling device 8 into the column oven 3. Thereby, the inside of the column oven 3 is cooled to a predetermined temperature (target temperature). Then, the above analysis operation is repeated. As described above, in the gas chromatograph 1, when the analysis operation is repeatedly performed, the temperature control by the cooling device 8 is appropriately performed.

２．冷却装置の構成
冷却装置８は、流量調整バルブ８０と、外部供給管８１と、抵抗管８２と、内部供給管８３とを備えている。
流量調整バルブ８０は、カラムオーブン３の側壁（後壁）に設けられている。流量調整バルブ８０は、冷媒の流量を調整するためのバルブである。流量調整バルブ８０には、外部供給管８１と、抵抗管８２とが接続されている。すなわち、流量調整バルブ８０は、外部供給管８１と、抵抗管８２との間に介在されている。流量調整バルブ８０は、図示しない制御部によって、その開度が調整される。なお、流量調整バルブ８０は、手動により、その開度が調整される構成であってもよい。2. Configuration of Cooling Device The cooling device 8 includes a flow control valve 80, an external supply pipe 81, a resistance pipe 82, and an internal supply pipe 83.
The flow control valve 80 is provided on a side wall (rear wall) of the column oven 3. The flow rate adjustment valve 80 is a valve for adjusting the flow rate of the refrigerant. An external supply pipe 81 and a resistance pipe 82 are connected to the flow control valve 80. That is, the flow control valve 80 is interposed between the external supply pipe 81 and the resistance pipe 82. The opening of the flow rate adjusting valve 80 is adjusted by a control unit (not shown). The opening of the flow control valve 80 may be manually adjusted.

外部供給管８１は、カラムオーブン３の外部に配置されている。外部供給管８１は、その下流側端部が、流量調整バルブ８０に接続されている。図示しないが、外部供給管８１の上流側端部は、冷媒が貯留されたボンベなどの貯留部に接続されている。そして、この貯留部から冷媒が供給される。   The external supply pipe 81 is arranged outside the column oven 3. The downstream end of the external supply pipe 81 is connected to the flow control valve 80. Although not shown, the upstream end of the external supply pipe 81 is connected to a storage unit such as a cylinder storing the refrigerant. And a refrigerant is supplied from this storage part.

抵抗管８２は、カラムオーブン３の内部に配置されている。抵抗管８２は、その上流側端部が、流量調整バルブ８０に接続されている。抵抗管８２は、その長さに応じた流路抵抗を有する管状の部材である。抵抗管８２の内径は、内部供給管８３の内径よりも小さい。後述するように、抵抗管８２は、着脱可能な部材である。抵抗管８２が、抵抗部の一例である。   The resistance tube 82 is arranged inside the column oven 3. The upstream end of the resistance tube 82 is connected to the flow control valve 80. The resistance tube 82 is a tubular member having a flow path resistance according to its length. The inner diameter of the resistance pipe 82 is smaller than the inner diameter of the internal supply pipe 83. As described later, the resistance tube 82 is a detachable member. The resistance tube 82 is an example of a resistance unit.

内部供給管８３は、カラムオーブン３の内部に配置されている。具体的には、内部供給管８３は、カラム２と、ヒータ４との間の領域に配置されており（延びており）、より具体的には、カラム２と、仕切り板９との間に配置されている（延びている）。内部供給管８３が供給管の一例である。
図３は、内部供給管８３を示した正面図である。
内部供給管８３は、湾曲形状（円弧状）に形成されている。内部供給管８３は、管状部８３１と、接続部８３２とを備えている。The internal supply pipe 83 is arranged inside the column oven 3. Specifically, the internal supply pipe 83 is arranged (extended) in a region between the column 2 and the heater 4, and more specifically, between the column 2 and the partition plate 9. Located (extending). The internal supply pipe 83 is an example of a supply pipe.
FIG. 3 is a front view showing the internal supply pipe 83.
The internal supply pipe 83 is formed in a curved shape (arc shape). The internal supply pipe 83 includes a tubular portion 831 and a connection portion 832.

管状部８３１は、管状に形成されている。管状部８３１は、上流側端部から中央部にかけて円弧状に湾曲しており、中央部（中央部からやや下流側部分）から下流側端部までの部分が直線状に延びる形状となっている。すなわち、管状部８３１は、円弧状に形成される部分と、直線状に形成される部分とを含んでいる。管状部８３１の下流側端部（直線部分の先端部）の内部空間が吐出口８３Ａである。管状部８３１の中央部は、固定部材２０に保持されている。管状部８３１の上流側端部には、接続部８３２が取り付けられている。   The tubular portion 831 is formed in a tubular shape. The tubular portion 831 is curved in an arc shape from the upstream end portion to the center portion, and has a shape in which a portion from the center portion (slightly downstream portion from the center portion) to the downstream end portion extends linearly. . That is, the tubular portion 831 includes a portion formed in an arc shape and a portion formed in a straight line. The internal space at the downstream end (the end of the linear portion) of the tubular portion 831 is the discharge port 83A. The central portion of the tubular portion 831 is held by the fixing member 20. The connecting portion 832 is attached to the upstream end of the tubular portion 831.

接続部８３２は、円筒状に形成されている。接続部８３２の内部空間は、管状部８３１の内部空間に連通している。接続部８３２の先端部（上流側端部）は、抵抗管８２を取り付けることができる構成となっている。   The connection portion 832 is formed in a cylindrical shape. The internal space of the connecting portion 832 communicates with the internal space of the tubular portion 831. The distal end (upstream end) of the connection portion 832 has a configuration to which the resistance tube 82 can be attached.

図１では、図示を省略しているが、固定部材２０は、仕切り板９に取り付けられている。そして、その固定部材２０によって内部供給管８３（管状部８３１）が保持されている。これにより、内部供給管８３は、仕切り板９とカラム２との間に配置された状態で保持される。この状態において、内部供給管８３の下流側端部は、カラムオーブン３内における下方部分に配置されている。また、内部供給管８３の吐出口８３Ａは、水平方向に向いている。これにより、吐出口８３Ａから吐出される冷媒は、カラム２に直接噴射されず、カラムオーブン３の内壁に当たって拡散するようになっている。   Although not shown in FIG. 1, the fixing member 20 is attached to the partition plate 9. Then, the internal supply pipe 83 (the tubular portion 831) is held by the fixing member 20. Accordingly, the internal supply pipe 83 is held in a state where the internal supply pipe 83 is disposed between the partition plate 9 and the column 2. In this state, the downstream end of the internal supply pipe 83 is arranged at a lower part in the column oven 3. Further, the discharge port 83A of the internal supply pipe 83 is oriented in the horizontal direction. Thereby, the refrigerant discharged from the discharge port 83A is not directly injected into the column 2 but spreads on the inner wall of the column oven 3.

内部供給管８３は、カラムオーブン３内で保持された状態において、カラム２が配置される領域の近傍に設けられる。具体的には、内部供給管８３は、カラム２の後方に間隔を隔てて配置されている。また、内部供給管８３の形状は、カラム２の形状に対応している。具体的には、内部供給管８３の外形の大きさは、カラム２の外形の大きさとほぼ同程度であり、前後方向に見たときに、内部供給管８３とカラム２とは重なっている。   The internal supply pipe 83 is provided near a region where the column 2 is arranged while being held in the column oven 3. Specifically, the internal supply pipe 83 is arranged at an interval behind the column 2. Further, the shape of the internal supply pipe 83 corresponds to the shape of the column 2. Specifically, the size of the outer shape of the internal supply pipe 83 is substantially the same as the size of the outer shape of the column 2, and the internal supply pipe 83 and the column 2 overlap when viewed in the front-back direction.

３．冷却装置の動作
ガスクロマトグラフ１では、ガスクロマトグラフ１の使用状況に応じた適切な長さの抵抗管８２（適切な流路抵抗を有する抵抗管８２）が選択され、その抵抗管８２が用いられる。3. Operation of Cooling Device In the gas chromatograph 1, a resistance tube 82 having an appropriate length (a resistance tube 82 having an appropriate flow path resistance) according to the usage state of the gas chromatograph 1 is selected, and the resistance tube 82 is used.

例えば、冷媒の残量が多い場合などには、冷媒の供給圧が大きくなるため、流量調整バルブ８０の開度が同一であっても、その供給量が大きくなる。このような場合には、ユーザは、長さの長い（流路抵抗の大きい）抵抗管８２を選択し、その抵抗管８２を内部供給管８３及び流量調整バルブ８０に接続する。また、例えば、冷媒の残量が少ない場合などには、冷媒の供給圧が小さくなる。そのため、このような場合には、ユーザは、長さの短い（流路抵抗の小さい）抵抗管８２を選択し、その抵抗管８２を内部供給管８３及び流量調整バルブ８０に接続する。   For example, when the remaining amount of the refrigerant is large, the supply pressure of the refrigerant increases, so that the supply amount increases even if the opening degree of the flow control valve 80 is the same. In such a case, the user selects the resistance pipe 82 having a long length (having a large flow path resistance), and connects the resistance pipe 82 to the internal supply pipe 83 and the flow control valve 80. Further, for example, when the remaining amount of the refrigerant is small, the supply pressure of the refrigerant becomes small. Therefore, in such a case, the user selects the resistance pipe 82 having a short length (small flow path resistance), and connects the resistance pipe 82 to the internal supply pipe 83 and the flow control valve 80.

抵抗管８２は、その下流側端部が内部供給管８３の接続部８３２に接続されるとともに、その上流側端部が流量調整バルブ８０に接続される。これにより、抵抗管８２と内部供給管８３とが接続部８３２を介して連通するとともに、抵抗管８２と外部供給管８１とが流量調整バルブ８０を介して連通する。このように、抵抗管８２は、内部供給管８３に対して上流側に配置される。また、流量調整バルブ８０は、抵抗管８２及び内部供給管８３に対して上流側に配置される。   The downstream end of the resistance pipe 82 is connected to the connection portion 832 of the internal supply pipe 83, and the upstream end of the resistance pipe 82 is connected to the flow control valve 80. Thus, the resistance pipe 82 and the internal supply pipe 83 communicate with each other via the connection portion 832, and the resistance pipe 82 and the external supply pipe 81 communicate with each other via the flow rate adjustment valve 80. Thus, the resistance pipe 82 is arranged on the upstream side with respect to the internal supply pipe 83. Further, the flow control valve 80 is arranged on the upstream side with respect to the resistance pipe 82 and the internal supply pipe 83.

カラムオーブン３内を冷却する際には、外部供給管８１からカラムオーブン３内に向けて冷媒が供給される。外部供給管８１を通過した冷媒は、流量調整バルブ８０を通過して、抵抗管８２に流入する。そして、冷媒は、抵抗管８２を通過した後、内部供給管８３に流入し、その後、吐出口８３Ａからカラムオーブン３内における下方部分に吐出される。   When cooling the inside of the column oven 3, a coolant is supplied from the external supply pipe 81 into the column oven 3. The refrigerant that has passed through the external supply pipe 81 passes through the flow control valve 80 and flows into the resistance pipe 82. After passing through the resistance pipe 82, the refrigerant flows into the internal supply pipe 83, and is thereafter discharged from the discharge port 83 </ b> A to a lower part in the column oven 3.

このように、冷媒は、抵抗管８２によって流量の調整がされた後、内部供給管８３の吐出口８３Ａから吐出される。そして、カラムオーブン３内（カラム２）が冷媒によって冷却される。このとき、カラムオーブン３内は、冷媒のみならず、冷媒を内部に含む内部供給管８３によっても冷却される。すなわち、カラムオーブン３内は、内部供給管８３及び冷媒によって、段階的に冷却される。   As described above, after the flow rate of the refrigerant is adjusted by the resistance pipe 82, the refrigerant is discharged from the discharge port 83A of the internal supply pipe 83. Then, the inside of the column oven 3 (column 2) is cooled by the refrigerant. At this time, the inside of the column oven 3 is cooled not only by the refrigerant but also by the internal supply pipe 83 containing the refrigerant. That is, the inside of the column oven 3 is gradually cooled by the internal supply pipe 83 and the refrigerant.

また、ガスクロマトグラフ１において、冷却装置８によるカラムオーブン３内の冷却が繰り返し行われた結果、冷媒の供給圧が小さくなった場合などには、流量調整バルブ８０の開度が調整されて、冷媒の流量が調整される。これにより、抵抗管８２の種類を変えることなく、冷媒の流量の調整を行うことができる。このように、ガスクロマトグラフ１の冷却装置８では、抵抗管８２及び流量調整バルブ８０によって、冷媒の流量が調整される。   In the gas chromatograph 1, when the cooling device 8 repeatedly cools the inside of the column oven 3 as a result, for example, when the supply pressure of the refrigerant is reduced, the opening of the flow control valve 80 is adjusted, and the refrigerant is cooled. Is adjusted. Thus, the flow rate of the refrigerant can be adjusted without changing the type of the resistance tube 82. As described above, in the cooling device 8 of the gas chromatograph 1, the flow rate of the refrigerant is adjusted by the resistance pipe 82 and the flow rate adjustment valve 80.

４．作用効果
（１）本実施形態によれば、図１に示すように、ガスクロマトグラフ１の冷却装置８には、内部供給管８３が含まれる。内部供給管８３は、カラムオーブン３内におけるカラム２が配置される領域の近傍まで延びている。4. Operation and Effect (1) According to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the cooling device 8 of the gas chromatograph 1 includes the internal supply pipe 83. The internal supply pipe 83 extends to near the region where the column 2 is arranged in the column oven 3.

そのため、カラムオーブン３内は、冷媒を内部に含む内部供給管８３によって冷却されるとともに、内部供給管８３を介して冷媒が供給されることにより、さらに冷却される。すなわち、カラムオーブン３内は、内部供給管８３自体、及び、内部供給管８３から供給される冷媒によって段階的に冷却される。
その結果、冷却装置８によって、カラムオーブン３内を精度よく温調できる。Therefore, the inside of the column oven 3 is cooled by the internal supply pipe 83 containing the refrigerant, and further cooled by the supply of the refrigerant through the internal supply pipe 83. That is, the inside of the column oven 3 is gradually cooled by the internal supply pipe 83 itself and the refrigerant supplied from the internal supply pipe 83.
As a result, the temperature inside the column oven 3 can be accurately controlled by the cooling device 8.

（２）また、本実施形態によれば、図１に示すように、内部供給管８３は、ヒータ４とカラム２との間の領域まで延びている。 (2) According to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the internal supply pipe 83 extends to a region between the heater 4 and the column 2.

そのため、冷媒を内部に含む内部供給管８３によって、ヒータ４とカラム２との間の領域を冷却できる。   Therefore, the area between the heater 4 and the column 2 can be cooled by the internal supply pipe 83 containing a refrigerant therein.

（３）また、本実施形態によれば、図１に示すように、内部供給管８３は、カラム２が配置される領域の近傍において湾曲形状に形成されている。 (3) According to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the internal supply pipe 83 is formed in a curved shape in the vicinity of the region where the column 2 is arranged.

そのため、冷媒を内部に含む内部供給管８３によって、カラム２周辺の雰囲気を効率的に冷却できる。   Therefore, the atmosphere around the column 2 can be efficiently cooled by the internal supply pipe 83 containing a refrigerant therein.

（４）また、本実施形態によれば、図１及び図２に示すように、内部供給管８３は、カラム２の形状に対応する湾曲形状に形成されている。具体的には、内部供給管８３の外形の大きさは、カラム２の外形の大きさとほぼ同程度であり、前後方向に見たときに、内部供給管８３とカラム２とは重なっている。 (4) Further, according to the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the internal supply pipe 83 is formed in a curved shape corresponding to the shape of the column 2. Specifically, the size of the outer shape of the internal supply pipe 83 is substantially the same as the size of the outer shape of the column 2, and the internal supply pipe 83 and the column 2 overlap when viewed in the front-back direction.

そのため、冷媒を内部に含む内部供給管８３によって、カラム２自体を効率的に冷却できる。   Therefore, the column 2 itself can be efficiently cooled by the internal supply pipe 83 containing the refrigerant therein.

（５）また、本実施形態によれば、図１に示すように、冷却装置８には、抵抗管８２が含まれる。抵抗管８２は、内部供給管８３に対して上流側に配置されており、内部供給管８３に連通している。 (5) According to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the cooling device 8 includes the resistance tube 82. The resistance pipe 82 is arranged on the upstream side with respect to the internal supply pipe 83, and communicates with the internal supply pipe 83.

そのため、外部供給管８１を介して供給される冷媒は、抵抗管８２を通過した後、供給管を通過してカラムオーブン３内に吐出される。
その結果、冷媒の供給圧力が大きい場合であっても、抵抗管８２を通過させることで、その流量を調整できる。Therefore, the refrigerant supplied through the external supply pipe 81 passes through the resistance pipe 82, and then passes through the supply pipe and is discharged into the column oven 3.
As a result, even when the supply pressure of the refrigerant is high, the flow rate can be adjusted by passing the refrigerant through the resistance tube 82.

（６）また、本実施形態によれば、図１に示すように、冷却装置８には、流量調整バルブ８０が含まれる。流量調整バルブ８０は、内部供給管８３及び抵抗管８２に対して上流側において冷媒の流量を調整する。 (6) According to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the cooling device 8 includes the flow rate adjusting valve 80. The flow adjustment valve 80 adjusts the flow rate of the refrigerant upstream of the internal supply pipe 83 and the resistance pipe 82.

そのため、流量調整バルブ８０によって冷媒の流量を調整した上で、さらに、抵抗管８２によって冷媒の流量を調整できる。
その結果、冷媒の流量を適切に調整できる。Therefore, the flow rate of the refrigerant can be adjusted by the flow rate adjusting valve 80, and further, the flow rate of the refrigerant can be adjusted by the resistance pipe 82.
As a result, the flow rate of the refrigerant can be appropriately adjusted.

５．第２実施形態
図３及び図４を用いて、本発明の他の実施形態に係るガスクロマトグラフ１について説明する。なお、第１実施形態と同様の構成については、上記と同様の符号を用いることにより説明を省略する。
図３は、本発明の第２実施形態に係るガスクロマトグラフ１の冷却装置８に用いられる内部供給管８５を示した正面図である。5. Second Embodiment A gas chromatograph 1 according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In addition, about the structure similar to 1st Embodiment, description is abbreviate | omitted using the same code | symbol as the above.
FIG. 3 is a front view showing an internal supply pipe 85 used in the cooling device 8 of the gas chromatograph 1 according to the second embodiment of the present invention.

第２実施形態では、冷却装置８において、上記した内部供給管８３に代えて、内部供給管８５が用いられる。内部供給管８５は、第１実施形態の内部供給管８３の形状とは異なる形状を有している。
具体的には、内部供給管８５は、管状部８５１と、接続部８５２とを備えている。In the second embodiment, an internal supply pipe 85 is used in the cooling device 8 instead of the internal supply pipe 83 described above. The internal supply pipe 85 has a shape different from the shape of the internal supply pipe 83 of the first embodiment.
Specifically, the internal supply pipe 85 includes a tubular portion 851 and a connection portion 852.

管状部８５１は、管状に形成されており、かつ、渦巻き状に形成されている。具体的には、管状部８５１は、上流側端部から下流に向かって、旋回するように湾曲しており、かつ、下流に向かうにつれて中心から遠ざかる形状に形成されている。管状部８５１の下流側端部は、直線状に下方に向かって延びている。管状部８５１の下流側端部（直線部分の先端部）の内部空間が吐出口８５Ａである。管状部８５１の中間部は、固定部材２０に保持されている。管状部８５１の上流側端部には、接続部８５２が取り付けられている。   The tubular portion 851 is formed in a tubular shape, and is formed in a spiral shape. Specifically, the tubular portion 851 is curved so as to pivot from the upstream end to the downstream, and is formed in a shape that is further away from the center toward the downstream. The downstream end of the tubular portion 851 extends linearly downward. The internal space at the downstream end (the end of the linear portion) of the tubular portion 851 is the discharge port 85A. An intermediate portion of the tubular portion 851 is held by the fixing member 20. The connecting portion 852 is attached to the upstream end of the tubular portion 851.

接続部８５２は、長尺な円筒状に形成されている。接続部８５２の内部空間は、管状部８５１の内部空間に連通している。接続部８５２の先端部（上流側端部）には、抵抗管８２が取り付けられる。   The connection part 852 is formed in a long cylindrical shape. The internal space of the connection portion 852 communicates with the internal space of the tubular portion 851. The resistance tube 82 is attached to the tip (upstream end) of the connection portion 852.

固定部材２０は、カラムオーブン３内において仕切り板９（図１参照）に取り付けられる。そして、その固定部材２０によって内部供給管８５（管状部８５１）が保持される。この状態において、内部供給管８５の吐出口８５Ａは、下方に向いている。これにより、吐出口８５Ａから吐出される冷媒は、カラム２に直接噴射されず、カラムオーブン３の底壁に当たって拡散するようになっている。   The fixing member 20 is attached to the partition plate 9 (see FIG. 1) in the column oven 3. Then, the internal supply pipe 85 (the tubular portion 851) is held by the fixing member 20. In this state, the discharge port 85A of the internal supply pipe 85 faces downward. As a result, the refrigerant discharged from the discharge port 85A is not directly injected into the column 2 but spreads on the bottom wall of the column oven 3.

内部供給管８３は、カラムオーブン３内で保持された状態において、カラム２が配置される領域の近傍に設けられる。具体的には、内部供給管８３の管状部８５１は、カラム２と対向しており、かつ、カラム２に沿うようにして、カラムオーブン３内に配置されている。   The internal supply pipe 83 is provided near a region where the column 2 is arranged while being held in the column oven 3. Specifically, the tubular portion 851 of the internal supply pipe 83 faces the column 2 and is arranged in the column oven 3 along the column 2.

そして、外部供給管８１からカラムオーブン３内に向けて冷媒が供給されると、外部供給管８１を通過した冷媒は、流量調整バルブ８０及び抵抗管８２を通過し、その後、内部供給管８３を通過して、吐出口８３Ａからカラムオーブン３内の底壁に向かって吐出される。   When the refrigerant is supplied from the external supply pipe 81 into the column oven 3, the refrigerant that has passed through the external supply pipe 81 passes through the flow control valve 80 and the resistance pipe 82, and then passes through the internal supply pipe 83. After passing through, it is discharged toward the bottom wall in the column oven 3 from the discharge port 83A.

このように、第２実施形態によれば、冷却装置８において、内部供給管８５の管状部８５１は、渦巻き状に形成される。そのため、カラムオーブン３内において、内部供給管８３の管状部８５１を、カラム２と対向させて、カラム２に沿うように配置させることができる。
その結果、内部供給管８５によって、カラム２を効率的に冷却できる。Thus, according to the second embodiment, in the cooling device 8, the tubular portion 851 of the internal supply pipe 85 is formed in a spiral shape. Therefore, in the column oven 3, the tubular portion 851 of the internal supply pipe 83 can be disposed so as to face the column 2 along the column 2.
As a result, the column 2 can be efficiently cooled by the internal supply pipe 85.

６．第３実施形態
図４は、本発明の第３実施形態に係るガスクロマトグラフ１の構成例を示した概略図である。第３実施形態では、内部供給管８３に供給される冷媒の供給経路を適宜変更できる点が第１実施形態と異なる。6. Third Embodiment FIG. 4 is a schematic diagram showing a configuration example of a gas chromatograph 1 according to a third embodiment of the present invention. The third embodiment differs from the first embodiment in that the supply path of the refrigerant supplied to the internal supply pipe 83 can be changed as appropriate.

具体的には、第３実施形態では、流路切替バルブ９０と、バイパス管９１とが設けられる。また、流量調整バルブ８０は、外部供給管８１の下流側端部のやや上流側に介在されるように設けられる。   Specifically, in the third embodiment, a flow path switching valve 90 and a bypass pipe 91 are provided. The flow control valve 80 is provided so as to be located slightly upstream of the downstream end of the external supply pipe 81.

流路切替バルブ９０は、外部供給管８１の下流側端部に介在されている。すなわち、流路切替バルブ９０は、流量調整バルブ８０よりも下流側に配置されている。流路切替バルブ９０には、抵抗管８２の上流側端部と、バイパス管９１の上流側端部が接続されている。流路切替バルブ９０は、外部供給管８１に供給された冷媒の供給経路を、抵抗管８２及びバイパス管９１のいずれか一方に切替えることのできるバルブである。
バイパス管９１は、抵抗管８２の内径よりも大きい内径を有しており、流路抵抗が抵抗管８２よりも小さい。バイパス管９１は、その下流側端部が、接続部８３２に接続されている。The flow path switching valve 90 is interposed at the downstream end of the external supply pipe 81. That is, the flow path switching valve 90 is disposed downstream of the flow control valve 80. The upstream end of the resistance pipe 82 and the upstream end of the bypass pipe 91 are connected to the flow path switching valve 90. The flow path switching valve 90 is a valve that can switch the supply path of the refrigerant supplied to the external supply pipe 81 to one of the resistance pipe 82 and the bypass pipe 91.
The bypass pipe 91 has an inner diameter larger than the inner diameter of the resistance pipe 82, and the flow path resistance is smaller than that of the resistance pipe 82. The downstream end of the bypass pipe 91 is connected to the connection portion 832.

これにより、流路切替バルブ９０を切り替えることで、外部供給管８１に供給された冷媒を、抵抗管８２を介して内部供給管８３に流入する経路（第１供給状態）、又は、抵抗管８２を介さずにバイパス管９１を通過して内部供給管８３に流入する経路（第２供給状態）のいずれか一方の経路を通過させて、カラムオーブン３内に吐出させることができる。   Thus, by switching the flow path switching valve 90, the path (first supply state) in which the refrigerant supplied to the external supply pipe 81 flows into the internal supply pipe 83 via the resistance pipe 82, or the resistance pipe 82 Without passing through the bypass pipe 91 and flowing into the internal supply pipe 83 (the second supply state), the liquid can be discharged into the column oven 3.

このように、第３実施形態のガスクロマトグラフ１によれば、流路切替バルブ９０によって適宜供給状態（供給経路）を切り替えることにより、冷媒を適切な供給状態でカラムオーブン３内に供給できる。
７．変形例As described above, according to the gas chromatograph 1 of the third embodiment, the refrigerant can be supplied into the column oven 3 in an appropriate supply state by appropriately switching the supply state (supply path) by the flow path switching valve 90.
7. Modified example

以上の実施形態では、ガスクロマトグラフ１において、内部供給管８３と流量調整バルブ８０との間には、抵抗管８２が介在するとして説明した。しかし、ガスクロマトグラフ１において、抵抗管８２を設けずに、内部供給管８３の上流側端部を流量調整バルブ８０に接続する構成であってもよい。   In the above embodiment, the gas chromatograph 1 has been described on the assumption that the resistance pipe 82 is interposed between the internal supply pipe 83 and the flow control valve 80. However, in the gas chromatograph 1, the upstream end of the internal supply pipe 83 may be connected to the flow control valve 80 without providing the resistance pipe 82.

また、以上の実施形態では、内部供給管８３，８５は、カラム２の近傍に設けられており、具体的には、カラム２の後方（カラム２とヒータ４との間の領域）に設けられるとして説明した。しかし、内部供給管８３，８５は、カラム２の近傍として、カラム２の前方（カラム２に対してヒータ４と反対側）に設けられてもよい。   Further, in the above embodiment, the internal supply pipes 83 and 85 are provided near the column 2, and specifically, provided behind the column 2 (the area between the column 2 and the heater 4). It was explained as. However, the internal supply pipes 83 and 85 may be provided near the column 2 and in front of the column 2 (on the side opposite to the heater 4 with respect to the column 2).

１ ガスクロマトグラフ
２ カラム
３ カラムオーブン
４ ヒータ
８ 冷却装置
８０ 流量調整バルブ
８２ 抵抗管
８３ 内部供給管
８３Ａ 吐出口
８５ 内部供給管
８５Ａ 吐出口
９０ 流路切替バルブDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gas chromatograph 2 Column 3 Column oven 4 Heater 8 Cooling device 80 Flow control valve 82 Resistance tube 83 Internal supply pipe 83A Discharge port 85 Internal supply pipe 85A Discharge port 90 Flow path switching valve

Claims (7)

内部にカラムが収容されるカラムオーブンと、
吐出口から前記カラムオーブン内に冷媒を吐出することにより、前記カラムオーブン内を冷却する冷却装置とを備え、
前記冷却装置には、前記カラムオーブン内における前記カラムが配置される領域の近傍まで延び、前記吐出口へと冷媒を供給するための供給管が含まれることを特徴とするガスクロマトグラフ。A column oven in which the column is housed,
A cooling device that cools the inside of the column oven by discharging a refrigerant into the column oven from a discharge port,
The gas chromatograph, wherein the cooling device includes a supply pipe extending to a vicinity of a region where the column is arranged in the column oven and supplying a refrigerant to the discharge port. 前記カラムオーブン内に設けられ、当該カラムオーブン内を加熱するためのヒータをさらに備え、
前記供給管は、前記ヒータと前記カラムとの間の領域まで延びていることを特徴とする請求項１に記載のガスクロマトグラフ。Further provided in the column oven, further comprising a heater for heating the inside of the column oven,
The gas chromatograph according to claim 1, wherein the supply pipe extends to a region between the heater and the column. 前記供給管は、前記カラムが配置される領域の近傍において湾曲形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のガスクロマトグラフ。   The gas chromatograph according to claim 1, wherein the supply pipe is formed in a curved shape near a region where the column is arranged. 前記供給管は、前記カラムの形状に対応する湾曲形状に形成されていることを特徴とする請求項３に記載のガスクロマトグラフ。   The gas chromatograph according to claim 3, wherein the supply pipe is formed in a curved shape corresponding to the shape of the column. 前記冷却装置には、前記供給管よりも内径が小さい抵抗部を有し、前記供給管に対して上流側において当該供給管に連通する抵抗管が含まれることを特徴とする請求項１に記載のガスクロマトグラフ。   2. The cooling device according to claim 1, wherein the cooling device includes a resistance part having an inner diameter smaller than the supply pipe and communicating with the supply pipe on an upstream side with respect to the supply pipe. 3. Gas chromatograph. 前記抵抗部を介して前記供給管に冷媒を供給する第１供給状態、又は、前記抵抗部を介さずに前記供給管に冷媒を供給する第２供給状態に切り替えるための切替部をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載のガスクロマトグラフ。   It further includes a switching unit for switching to a first supply state in which the refrigerant is supplied to the supply pipe via the resistance unit, or to a second supply state in which the refrigerant is supplied to the supply pipe without passing through the resistance unit. The gas chromatograph according to claim 5, characterized in that: 前記冷却装置には、前記供給管に対して上流側において当該供給管に供給する冷媒の流量を調整するための流量調整バルブが含まれることを特徴とする請求項５に記載のガスクロマトグラフ。   The gas chromatograph according to claim 5, wherein the cooling device includes a flow rate adjustment valve for adjusting a flow rate of a refrigerant supplied to the supply pipe on an upstream side with respect to the supply pipe.
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