JP6393363B2

JP6393363B2 - Gas chromatograph

Info

Publication number: JP6393363B2
Application number: JP2017088572A
Authority: JP
Inventors: 和田　豊仁; 豊仁和田; 紘一塩見; 隆日根; 進北川; 雅一樋口
Original assignee: Shimadzu Corp; Kyoto University
Current assignee: Shimadzu Corp; Kyoto University
Priority date: 2017-04-27
Filing date: 2017-04-27
Publication date: 2018-09-19
Anticipated expiration: 2032-08-09
Also published as: JP2017151117A

Description

本発明は、ガスクロマトグラフ装置に関する。特に、液体試料を固体触媒又は固体試料と反応させて発生させたガスを分析するために好適に使用できるガスクロマトグラフ装置に関する。 The present invention relates to a gas chromatograph apparatus. In particular, the present invention relates to a gas chromatograph apparatus that can be suitably used for analyzing a gas generated by reacting a liquid sample with a solid catalyst or a solid sample.

液体試料を固体触媒又は固体試料（固体は塊体だけでなく粉体や粒体を含む。以下同じ。）と反応させて発生させたガスを分析するために、ガスクロマトグラフ装置が広く用いられている。 A gas chromatograph apparatus is widely used to analyze a gas generated by reacting a liquid sample with a solid catalyst or a solid sample (a solid includes not only a lump but also a powder and a granule; the same applies hereinafter). Yes.

図１に、一般的なガスクロマトグラフ装置の一例の要部構成を示す。図示しないボンベから供給されるヘリウム等のキャリアガスは、キャリアガス供給流路１に設けられた流量制御部（AFCなど）２により所定の流量に調整されて液体試料気化室３に供給される。キャリアガスは液体試料気化室３を経て、図示しないヒータにより所定の温度に保たれたカラムオーブン５に収容されたキャピラリカラム６に送られる。分析対象の液体試料は、インジェクタ４を液体試料注入部８のセプタム９に刺し入れることにより、図示しない加熱機構を備えた液体試料気化室３に注入される。液体試料気化室３に注入された液体試料は該液体試料気化室３内で気化して試料ガスとなり、キャリアガス流によりキャピラリカラム６に送り込まれる。キャピラリカラム６に送り込まれた試料ガスは、キャピラリカラム６を通過する間に成分分離され、検出部７で検出される。検出部７としては、水素炎イオン化型検出器（FID）や熱伝導度型検出器（TCD）、質量検出器（MS）などが用いられる。また、分離すべき成分によっては、キャピラリカラムに代えてパックドカラムを用いることもある。 In FIG. 1, the principal part structure of an example of a general gas chromatograph apparatus is shown. A carrier gas such as helium supplied from a cylinder (not shown) is adjusted to a predetermined flow rate by a flow rate control unit (AFC or the like) 2 provided in the carrier gas supply channel 1 and supplied to the liquid sample vaporizing chamber 3. The carrier gas passes through the liquid sample vaporizing chamber 3 and is sent to the capillary column 6 accommodated in the column oven 5 maintained at a predetermined temperature by a heater (not shown). The liquid sample to be analyzed is injected into the liquid sample vaporizing chamber 3 having a heating mechanism (not shown) by inserting the injector 4 into the septum 9 of the liquid sample injection unit 8. The liquid sample injected into the liquid sample vaporizing chamber 3 is vaporized in the liquid sample vaporizing chamber 3 to become a sample gas, and is sent into the capillary column 6 by the carrier gas flow. The sample gas sent into the capillary column 6 is separated into components while passing through the capillary column 6 and detected by the detection unit 7. As the detector 7, a flame ionization detector (FID), a thermal conductivity detector (TCD), a mass detector (MS), or the like is used. Depending on the components to be separated, a packed column may be used instead of the capillary column.

図２に、液体試料を固体触媒又は固体試料と反応させて発生させたガスを分析するために用いられるガス分析装置の一例の要部構成を示す。以下の説明において、図１と同じ構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。このガス分析装置は、ガスクロマトグラフ装置のキャリアガス流の上流側に配管１１を通じて前処理装置１０が接続されて構成されている。前処理装置１０は、固体触媒存在下で液体試料を分解させたり、液体試料を固体試料と化学反応させてガスを発生させたりするために用いられる。配管１１は、該配管１１を保温するヒートライン１２で覆われている。図２のガス分析装置に含まれるガスクロマトグラフ装置は図１に示した一般的なガスクロマトグラフ装置と類似の構成を有しているが、この装置では前処理装置１０で液体試料を反応させて発生させたガスをガスクロマトグラフ装置のカラムに注入するため、液体試料気化室３に代えてガス試料注入部１３が備えられている。
また、ガスクロマトグラフ装置のガス試料注入部１３の上流側には、フォーカシング機構１４が備えられている。図２のような従来の装置では、前処理装置１０がガスクロマトグラフ装置とは別に設けられているため、両者の間を接続する配管１１は長いものとならざるを得ず、前処理装置１０で生成されたガスがガス試料注入部１３に至るまでの間に拡散してしまい、クロマトグラムのピークがブロードになってしまう。フォーカシング機構１４は、そのように拡散したガスを空間的に集中させる（フォーカスする）ためのものである。一般的なフォーカシング機構１４は加熱手段と冷却手段を備え、まず配管１１を冷却して該配管１１を流通するガスを凝集させておき、続いて配管１１を急速に加熱するとともにキャリアガス供給流路１５から流量制御部２により所定の流量に調整されたキャリアガスを導入することにより試料ガス成分を瞬時に放出させる。 FIG. 2 shows a main configuration of an example of a gas analyzer used for analyzing a gas generated by reacting a liquid sample with a solid catalyst or a solid sample. In the following description, the same components as those in FIG. This gas analyzer is configured by connecting a pretreatment device 10 through a pipe 11 on the upstream side of a carrier gas flow of a gas chromatograph device. The pretreatment device 10 is used for decomposing a liquid sample in the presence of a solid catalyst or for generating a gas by chemically reacting the liquid sample with the solid sample. The pipe 11 is covered with a heat line 12 that keeps the pipe 11 warm. The gas chromatograph apparatus included in the gas analyzer of FIG. 2 has a configuration similar to that of the general gas chromatograph apparatus shown in FIG. 1, but in this apparatus, the liquid sample is reacted by the pretreatment apparatus 10. In order to inject the gas into the column of the gas chromatograph apparatus, a gas sample injection unit 13 is provided instead of the liquid sample vaporization chamber 3.
Further, a focusing mechanism 14 is provided on the upstream side of the gas sample injection unit 13 of the gas chromatograph apparatus. In the conventional apparatus as shown in FIG. 2, since the pretreatment apparatus 10 is provided separately from the gas chromatograph apparatus, the pipe 11 connecting the two must be long. The generated gas diffuses before reaching the gas sample injection section 13, and the peak of the chromatogram becomes broad. The focusing mechanism 14 is for spatially concentrating (focusing) the diffused gas. A general focusing mechanism 14 includes a heating unit and a cooling unit. First, the pipe 11 is cooled to aggregate the gas flowing through the pipe 11, and then the pipe 11 is rapidly heated and a carrier gas supply channel is provided. The sample gas component is instantaneously released by introducing the carrier gas adjusted to a predetermined flow rate by the flow rate control unit 2 from 15.

特開平10-104213号公報（[0003],[0004], 図5）Japanese Patent Laid-Open No. 10-104213 ([0003], [0004], FIG. 5)

上記のとおり、従来の装置では、前処理装置１０とガス試料注入部１３の間で拡散したガスを凝集させるフォーカシング機構１４を備える必要がある。また、フォーカシング機構１４を設けたとしても、そこに到達するまでの間に、ガス中の一部の成分が配管１１の内壁に吸着したり、ガス自体が変質したりして、発生させたガスを正確に分析することができないという問題がある。
従来の装置では、液体試料と固体触媒又は固体試料を反応させる際には、まず、カプセルと称される金属容器に固体触媒又は固体試料を入れておき、そこに反応させる液体試料を添加して前処理装置に装着している。しかし、液体試料の揮発性が高い場合には装着前に液体試料の一部が揮発するため、液体試料を定量的に再現性よく反応させることが困難であることや、容器が金属であるため加熱反応時に金属そのものの触媒的作用が無視できないという問題がある。
その他、ガスクロマトグラフ装置とは別に前処理装置１０を設けなければならないため、広い設置面積が必要となるという問題もある。 As described above, the conventional apparatus needs to include the focusing mechanism 14 for aggregating the gas diffused between the pretreatment apparatus 10 and the gas sample injection unit 13. Further, even if the focusing mechanism 14 is provided, the generated gas is generated by the adsorption of some components in the gas to the inner wall of the pipe 11 or the alteration of the gas itself before reaching the focusing mechanism 14. There is a problem that cannot be analyzed accurately.
In a conventional apparatus, when a liquid sample and a solid catalyst or a solid sample are reacted, first, the solid catalyst or the solid sample is put in a metal container called a capsule, and the liquid sample to be reacted is added thereto. It is attached to the pretreatment device. However, when the liquid sample is highly volatile, a part of the liquid sample is volatilized before mounting, so it is difficult to react the liquid sample quantitatively with good reproducibility, and the container is made of metal. There is a problem that the catalytic action of the metal itself cannot be ignored during the heating reaction.
In addition, since the pretreatment device 10 must be provided separately from the gas chromatograph device, there is a problem that a large installation area is required.

本発明が解決しようとする課題は、液体試料を固体触媒又は固体試料と反応させて発生させたガスをカラムにより成分分離するガスクロマトグラフ装置であって、液体試料の一部が反応前に揮発してしまったり、前記発生させたガスが拡散、吸着、あるいは変質してしまったりすることなく分析でき、省スペースで設置可能なガスクロマトグラフ装置を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is a gas chromatograph apparatus that separates a gas generated by reacting a liquid sample with a solid catalyst or a solid sample by a column, and a part of the liquid sample is volatilized before the reaction. It is an object of the present invention to provide a gas chromatograph apparatus that can be analyzed in a space-saving manner without being diffused, adsorbed or altered by the generated gas.

上記課題を解決するために成された本発明に係るガスクロマトグラフ装置は、
固体触媒が内部に収容される試料反応管と、
分析液体試料注入口、キャリアガス入口、及びキャリアガス出口を有し、前記試料反応管が内部に着脱可能に取り付けられる分析液体試料気化室と、
標準液体試料注入口、キャリアガス入口、及びキャリアガス出口を有する標準液体試料気化室と、
キャリアガスを送給するキャリアガス流路と、
前記キャリアガス流路に設けられた流量調整部と、
前記流量調整部の下流のキャリアガス流路を、前記分析液体試料気化室のキャリアガス入口に繋がる第１流路に接続する第１流路接続状態と、前記標準液体試料気化室のキャリアガス入口に繋がる第２流路に接続する第２流路接続状態とを切り替える流路切替部と、
前記第２流路に設けられた流路抵抗部と、
カラムと、前記分析液体試料気化室のキャリアガス出口とを収容するカラムオーブンと
を備えることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the gas chromatograph apparatus according to the present invention,
A sample reaction tube in which a solid catalyst is accommodated, and
An analysis liquid sample vaporization chamber having an analysis liquid sample inlet, a carrier gas inlet, and a carrier gas outlet, the sample reaction tube being detachably attached to the inside;
A standard liquid sample vaporization chamber having a standard liquid sample inlet, a carrier gas inlet, and a carrier gas outlet;
A carrier gas flow path for supplying carrier gas;
A flow rate adjusting unit provided in the carrier gas flow path;
A first channel connection state in which a carrier gas channel downstream of the flow rate adjusting unit is connected to a first channel connected to a carrier gas inlet of the analysis liquid sample vaporizing chamber; and a carrier gas inlet of the standard liquid sample vaporizing chamber A flow path switching unit for switching between a second flow path connection state connected to the second flow path connected to
A flow path resistance portion provided in the second flow path;
A column oven that houses a column and a carrier gas outlet of the analysis liquid sample vaporizing chamber.

本発明に係るガスクロマトグラフ装置では分析液体試料気化室のキャリアガス出口がカラムオーブン内に位置しており、そこでカラムに接続されている。そのため、従来のように液体試料の反応により発生したガスが長い流路を流れることがない。従って、長い流路を流通する間に拡散したガスを凝集させるためのフォーカシング機構を設ける必要がない。また、液体試料を直接試料反応管内に注入できるので、液体試料の一部が反応前に揮発してしまうことも防止できる。さらに、生成されたガス中の一部の成分が配管の内壁に吸着したり、ガス自体が変質したりすることもない。
また、本発明に係るガスクロマトグラフ装置は、前処理装置とガスクロマトグラフ装置からなる従来のガス分析装置に比べて省スペースで設置することができる。
なお、試料反応管の液体試料注入口及びキャリアガス入口はカラムオーブンの内外のいずれに位置させてもよい。 In the gas chromatograph apparatus according to the present invention, the carrier gas outlet of the analysis liquid sample vaporizing chamber is located in the column oven, and is connected to the column there. Therefore, unlike the conventional case, the gas generated by the reaction of the liquid sample does not flow through the long channel. Therefore, it is not necessary to provide a focusing mechanism for aggregating the diffused gas while flowing through the long flow path. In addition, since the liquid sample can be directly injected into the sample reaction tube, it is possible to prevent a part of the liquid sample from volatilizing before the reaction. Furthermore, some components in the generated gas are not adsorbed on the inner wall of the pipe, and the gas itself is not altered.
In addition, the gas chromatograph apparatus according to the present invention can be installed in a smaller space than a conventional gas analyzer composed of a pretreatment apparatus and a gas chromatograph apparatus.
The liquid sample inlet and the carrier gas inlet of the sample reaction tube may be located either inside or outside the column oven.

図１に示したとおり、一般的なガスクロマトグラフ装置は液体試料気化室を標準仕様として備えている。そのため、試料反応管を測定試料気化室内部に装着することにより、汎用のガスクロマトグラフ装置のガス流路配管等の構成を利用でき、液体試料を固体触媒又は固体試料と反応させて発生させたガスを簡便に分析することができる。また、上述したとおり、液体試料気化室は液体試料を気化させるための加熱機構を備えているため、液体試料を反応させる際に試料反応管を昇温することもできる。 As shown in FIG. 1, a general gas chromatograph apparatus includes a liquid sample vaporizing chamber as a standard specification. Therefore, by installing the sample reaction tube inside the measurement sample vaporization chamber, it is possible to use a configuration such as a gas flow pipe of a general-purpose gas chromatograph device, and a gas generated by reacting a liquid sample with a solid catalyst or a solid sample. Can be easily analyzed. In addition, as described above, the liquid sample vaporization chamber includes a heating mechanism for vaporizing the liquid sample, so that the temperature of the sample reaction tube can be raised when the liquid sample is reacted.

また、本発明に係るガスクロマトグラフ装置は、更に、
キャリアガスと異なる種類の雰囲気ガスを前記試料反応管に導入する流路切替部
を備えることが望ましい。これにより、キャリアガスと異なる種類の雰囲気ガスを導入し、液体試料の反応条件を変化させてガスを発生させることができる。 Moreover, the gas chromatograph apparatus according to the present invention further includes:
It is desirable to provide a flow path switching unit that introduces a different kind of atmospheric gas from the carrier gas into the sample reaction tube. Thereby, a different kind of atmospheric gas from the carrier gas can be introduced, and the gas can be generated by changing the reaction conditions of the liquid sample.

本発明に係るガスクロマトグラフ装置では試料反応管のキャリアガス出口がカラムオーブン内に位置しており、そこでカラムに接続されている。従って、長い流路を流通する間に拡散したガスを凝集させるためのフォーカシング機構を設ける必要がない。また、液体試料の一部が反応前に揮発してしまったり、生成されたガス中の一部の成分が配管の内壁に吸着したり、ガス自体が変質したりすることもない。さらに、従来のガス分析装置に比べて省スペースで設置することができる。 In the gas chromatograph apparatus according to the present invention, the carrier gas outlet of the sample reaction tube is located in the column oven and is connected to the column there. Therefore, it is not necessary to provide a focusing mechanism for aggregating the diffused gas while flowing through the long flow path. In addition, part of the liquid sample is not volatilized before the reaction, part of the components in the generated gas is not adsorbed on the inner wall of the pipe, and the gas itself is not altered. Furthermore, it can be installed in a smaller space than conventional gas analyzers.

一般的なガスクロマトグラフ装置の一例の要部構成図。The principal part block diagram of an example of a general gas chromatograph apparatus. 前処理装置を備えた従来のガスクロマトグラフ装置の一例の要部構成図。The principal part block diagram of an example of the conventional gas chromatograph apparatus provided with the pre-processing apparatus. 本発明に係るガスクロマトグラフ装置の一実施例の要部構成図。The principal part block diagram of one Example of the gas chromatograph apparatus which concerns on this invention. 本実施例の試料反応管の構造の一例及び変形例を示す図。The figure which shows an example of the structure of the sample reaction tube of a present Example, and a modification. 本実施例に係るガスクロマトグラフ装置のパックドカラムにより成分分離して得たクロマトグラム。The chromatogram obtained by component-separating with the packed column of the gas chromatograph apparatus which concerns on a present Example. 本実施例に係るガスクロマトグラフ装置のキャピラリカラムにより成分分離して得たクロマトグラム。The chromatogram obtained by component-separating with the capillary column of the gas chromatograph apparatus which concerns on a present Example. 反応条件を変化させる雰囲気ガスを導入する場合のパージガス導入路構成図。FIG. 3 is a configuration diagram of a purge gas introduction path when introducing an atmospheric gas that changes reaction conditions.

本発明のガスクロマトグラフ装置に係る一実施例の要部構成を図３に示す。本実施例のガスクロマトグラフ装置は、分析対象の液体試料を加熱して気化させる分析液体試料気化室２２、標準液体試料を加熱して気化させる標準液体試料気化室２３、キャリアガス（例えば、Heなど）流路６０、パージガス／雰囲気ガス（例えば、H₂など）導入路４０、パージガス／雰囲気ガス排出路５０、パックドカラム２４、キャピラリカラム２５と、これらを後述するように接続するための八方バルブ３０（本発明における流路切替部に相当）が備えられている。図３に示す一点鎖線の内部に位置する各構成要素はカラムオーブン２６内に配置されている。また、八方バルブ３０及び分析液体試料から発生させたガスを流通させる流路は図示しない温調機構により保温されている。分析液体試料気化室２２（本発明における液体試料気化室に相当）内部には試料反応管２１が装着されている。八方バルブ３０のポートaはパージガス／雰囲気ガス排出路５０、ポートbはパージガス／雰囲気ガス導入路４０、ポートcは試料反応管２１の出口２１５（本発明におけるキャリアガス出口に相当）、ポートdは標準液体試料気化室２３の入口、ポートgはキャリアガス流路６０にそれぞれ接続されている。また、ニードルバルブ３１の両端がポートe、fに接続されている。パージガス／雰囲気ガス導入路４０には上流側から順に圧力調整バルブ４１、圧力計４２及びストップバルブ４３が備えられている。パージガス／雰囲気ガス排出路５０には、上流側から順に圧力計５２、ストップバルブ５３、及び抵抗管５４が備えられている。キャリアガス流路６０には流量制御部（AFC）６１が備えられている。 The principal part structure of one Example which concerns on the gas chromatograph apparatus of this invention is shown in FIG. The gas chromatograph apparatus of the present embodiment includes an analysis liquid sample vaporizing chamber 22 that heats and vaporizes a liquid sample to be analyzed, a standard liquid sample vaporizing chamber 23 that heats and vaporizes a standard liquid sample, and a carrier gas (for example, He or the like). ) A flow path 60, a purge gas / atmosphere gas (for example, H ₂ ) introduction path 40, a purge gas / atmosphere gas discharge path 50, a packed column 24, a capillary column 25, and an eight-way valve 30 for connecting them as described later. (Corresponding to the flow path switching unit in the present invention) is provided. Each component located inside the alternate long and short dash line shown in FIG. 3 is arranged in the column oven 26. Further, the flow path through which the gas generated from the eight-way valve 30 and the analysis liquid sample flows is kept warm by a temperature control mechanism (not shown). A sample reaction tube 21 is mounted inside the analysis liquid sample vaporizing chamber 22 (corresponding to the liquid sample vaporizing chamber in the present invention). The port a of the eight-way valve 30 is the purge gas / atmosphere gas discharge path 50, the port b is the purge gas / atmosphere gas introduction path 40, the port c is the outlet 215 of the sample reaction tube 21 (corresponding to the carrier gas outlet in the present invention), and the port d is The inlet and the port g of the standard liquid sample vaporizing chamber 23 are connected to the carrier gas channel 60, respectively. Further, both ends of the needle valve 31 are connected to the ports e and f. The purge gas / atmosphere gas introduction path 40 is provided with a pressure adjustment valve 41, a pressure gauge 42, and a stop valve 43 in order from the upstream side. The purge gas / atmosphere gas discharge path 50 is provided with a pressure gauge 52, a stop valve 53, and a resistance tube 54 in order from the upstream side. The carrier gas flow path 60 is provided with a flow rate control unit (AFC) 61.

図４(a)に試料反応管２１の構造を示す。試料反応管２１は、硬質ガラスまたは石英でできており、円筒状を有しており、その外径は5.0mmである。試料反応管２１の内部は内径2.6mmの上部領域２１１と、内径1.2mmの下部領域２１２とに分かれており、これらの間はテーパー状になっている。使用時には、テーパー状の最下部に石英ウール２１４を詰め、その上に固体触媒や固体試料２１３を充填し、さらにその上方に石英ウール２１４を詰めて蓋をする。固体触媒や固体試料２１３が塊体であって、テーパー状領域の下部に落下せず、試料反応管２１の外部に飛び散らないものであれば、必ずしも石英ウール２１４を詰めなくてもよい。また、粉粒体の落下や飛散を防止できるものであって、触媒作用を有さず液体試料及び反応後のガスが通過可能な材料であれば、石英ウール以外のものを用いてもよい。分析液体試料は試料反応管２１上部の開口２１０から注入される。また、キャリアガスも同開口２１０から流入し、固体触媒や固体試料２１３との反応により発生したガスとともに試料反応管２１下部の開口２１５から流出する。つまり、本実施例の試料反応管２１では、試料反応管２１上部の開口２１０が液体試料注入口及びキャリアガス入口に相当し、下部の開口２１５がキャリアガス出口に相当する。試料反応管２１下部の開口２１５は、八方バルブ３０及び標準液体試料気化室２３を通る流路を介して、カラムオーブン２６内でパックドカラム２４とキャピラリカラム２５に接続されている。
本実施例では試料反応管２１を分析液体試料気化室２２内部に装着して用いるため、液体試料注入口及びキャリアガス入口が共通しているが、試料反応管のみを単独で用いる場合には、例えば図４(b)に示すように、試料反応管２１aの上部に液体試料注入口２１６とキャリアガス入口２１７とをそれぞれ独立に設けてもよい。 FIG. 4A shows the structure of the sample reaction tube 21. The sample reaction tube 21 is made of hard glass or quartz, has a cylindrical shape, and has an outer diameter of 5.0 mm. The inside of the sample reaction tube 21 is divided into an upper region 211 having an inner diameter of 2.6 mm and a lower region 212 having an inner diameter of 1.2 mm, and the space between them is tapered. At the time of use, quartz wool 214 is filled at the bottom of the tapered shape, solid catalyst or solid sample 213 is filled thereon, and further quartz wool 214 is filled above and capped. If the solid catalyst or the solid sample 213 is a lump and does not fall to the lower part of the tapered region and does not scatter outside the sample reaction tube 21, the quartz wool 214 is not necessarily filled. In addition, materials other than quartz wool may be used as long as they can prevent the powder particles from falling and scattering and can pass a liquid sample and a gas after reaction without having a catalytic action. The analysis liquid sample is injected from the opening 210 above the sample reaction tube 21. The carrier gas also flows from the opening 210 and flows out from the opening 215 below the sample reaction tube 21 together with the gas generated by the reaction with the solid catalyst and the solid sample 213. That is, in the sample reaction tube 21 of this embodiment, the opening 210 at the top of the sample reaction tube 21 corresponds to the liquid sample inlet and the carrier gas inlet, and the lower opening 215 corresponds to the carrier gas outlet. The opening 215 at the bottom of the sample reaction tube 21 is connected to the packed column 24 and the capillary column 25 in the column oven 26 through a flow path that passes through the eight-way valve 30 and the standard liquid sample vaporizing chamber 23.
In this embodiment, since the sample reaction tube 21 is mounted inside the analysis liquid sample vaporization chamber 22 and used, the liquid sample inlet and the carrier gas inlet are common, but when only the sample reaction tube is used alone, For example, as shown in FIG. 4B, a liquid sample inlet 216 and a carrier gas inlet 217 may be provided independently on the upper part of the sample reaction tube 21a.

本実施例のガスクロマトグラフを用いた測定の手順を説明する。本実施例では、水素ガス雰囲気においてヘキセン（測定対象の液体試料）を微細ゼオライト粒子（固体触媒）の存在下で反応させて発生させたガスを分析する。この反応では、ゼオライトが有する細孔内にヘキセン分子を取り込み、これを熱分解させてガスを発生させる。発生させたガスを成分分離するカラムとして、KOH/Aluminaカラム（パックドカラム）２４と無極性キャピラリカラム２５を用い、これらの出口にはそれぞれFID（水素炎イオン化型検出器）を接続した。本実施例で用いたパックドカラム２４は内径3mm、長さ2mであり、キャピラリカラム２５は内径0.32mm、長さ60mである。 A measurement procedure using the gas chromatograph of this example will be described. In the present embodiment, a gas generated by reacting hexene (a liquid sample to be measured) in the presence of fine zeolite particles (solid catalyst) in a hydrogen gas atmosphere is analyzed. In this reaction, hexene molecules are taken into the pores of zeolite and thermally decomposed to generate gas. A KOH / Alumina column (packed column) 24 and a nonpolar capillary column 25 were used as columns for separating the generated gas into components, and FID (hydrogen flame ionization detector) was connected to each of these outlets. The packed column 24 used in this example has an inner diameter of 3 mm and a length of 2 m, and the capillary column 25 has an inner diameter of 0.32 mm and a length of 60 m.

はじめに、上述した試料反応管２１にゼオライトを充填して分析液体試料気化室２２に装着する。これと並行して分析液体試料気化室２２及び標準液体試料気化室２３を300℃に加熱し保温しておく。 First, the sample reaction tube 21 is filled with zeolite and mounted in the analysis liquid sample vaporizing chamber 22. In parallel with this, the analysis liquid sample vaporizing chamber 22 and the standard liquid sample vaporizing chamber 23 are heated to 300 ° C. and kept warm.

次に、八方バルブ３０を破線の流路にして、キャリアガス流路６０から試料反応管２１、標準液体試料気化室２３を通ってパックドカラム２４及びキャピラリカラム２５に至る流路に流すヘリウムガスの流量を50ml/min、圧力200kPaに設定する。上述したように、本実施例では微細ゼオライト粒子を試料反応管２１に充填している。そのため、試料反応管２１の上流側から下流側への流路抵抗が大きくなっている場合がある。この場合には、八方バルブ３０を実線で示す流路に切り替えてニードルバルブ３１によりヘリウムガスの圧力を調整し、八方バルブ３０の流路が破線で示す流路であるときと同じ圧力に調整して流路抵抗が等しくなるようにする。つまり、八方バルブ３０を切り替えた時に流路抵抗が変動しないように調整する。 Next, helium gas flowing in the flow path from the carrier gas flow path 60 to the packed column 24 and the capillary column 25 through the sample reaction tube 21 and the standard liquid sample vaporization chamber 23 is made with the eight-way valve 30 as a broken flow path. Set the flow rate to 50 ml / min and pressure 200 kPa. As described above, in this embodiment, the sample reaction tube 21 is filled with fine zeolite particles. Therefore, the flow path resistance from the upstream side to the downstream side of the sample reaction tube 21 may be increased. In this case, the eight-way valve 30 is switched to the flow path indicated by the solid line, the pressure of the helium gas is adjusted by the needle valve 31, and the pressure of the eight-way valve 30 is adjusted to the same pressure as when the flow path is indicated by the broken line. To equalize the channel resistance. That is, the flow path resistance is adjusted so as not to fluctuate when the eight-way valve 30 is switched.

続いて、八方バルブ３０を実線で示す流路に設定し、圧力調整バルブ４１で調整された圧力で水素ガス（雰囲気ガス）を導入して、パージガス／雰囲気ガス導入路４０及びパージガス／雰囲気ガス排出路５０のストップバルブ４３、５３をそれぞれ開放する。本実施例では水素ガスをパージガスとしても使用するため、パージガス／雰囲気ガス導入路４０及びパージガス／雰囲気ガス排出路５０を使用して水素ガスを流通させる。これにより、試料反応管２１内の空気を試料反応管２１の下方から（キャリアガス流とは逆方向から）置換する。その後、両ストップバルブ４３、５３を閉じ、パージガス／雰囲気ガス排出路５０の圧力計５２に表示される圧力が低下しないことを確認してリークチェックを行う。 Subsequently, the eight-way valve 30 is set to a flow path indicated by a solid line, hydrogen gas (atmosphere gas) is introduced at a pressure adjusted by the pressure adjustment valve 41, and the purge gas / atmosphere gas introduction path 40 and purge gas / atmosphere gas discharge are performed. Stop valves 43 and 53 in the passage 50 are opened. In this embodiment, since hydrogen gas is also used as the purge gas, the purge gas / atmosphere gas introduction path 40 and the purge gas / atmosphere gas discharge path 50 are used to circulate the hydrogen gas. Thereby, the air in the sample reaction tube 21 is replaced from below the sample reaction tube 21 (from a direction opposite to the carrier gas flow). Thereafter, both stop valves 43 and 53 are closed, and a leak check is performed after confirming that the pressure displayed on the pressure gauge 52 of the purge gas / atmosphere gas discharge path 50 does not decrease.

八方バルブ３０を実線で示す流路に保持して試料反応管２１を含む領域を閉空間にしておき、この状態で分析対象試料であるヘキセン0.5μlをインジェクタにより試料反応管２１に注入し、該試料反応管２１内のゼオライト２１３と5分間反応させる。 The region including the sample reaction tube 21 is kept in a closed space by holding the eight-way valve 30 in a flow path indicated by a solid line, and in this state, 0.5 μl of hexene, which is an analysis target sample, is injected into the sample reaction tube 21 by an injector. React with the zeolite 213 in the sample reaction tube 21 for 5 minutes.

上記5分間の反応終了後、八方バルブ３０の流路を破線で示す流路に切り替え、10秒後に再び実線の流路に切替える。キャリアガス流量は毎分50mlであるので、約8mlのキャリアガスにより試料反応管２１内で発生させたガスを送り出し、標準液体試料気化室２３を経てカラム２４、２５に導入する。上述したように、流量制御部６１により毎分50mlでヘリウムガスが流れるように調整しているため、毎分50mlのガス（反応により発生したガスとヘリウムガスの混合ガス）がカラム入口に導入される。このガスは、パックドカラム２４とキャピラリカラム２５の流路抵抗比に応じた比率でこれらのカラムに導入される。本実施例では、パックドカラム２４に毎分45ml、キャピラリカラム２５に毎分5mlが導入される。両カラムに導入されたガスは、該カラム内でそれぞれ成分分離されてそれぞれのカラム出口に到達し、FIDにより検出される。図５に、上記反応で発生したガスをパックドカラム２４により成分分離して得られたクロマトグラムを示す。このクロマトグラムではメタン、エタン、エチレン、プロパン、及びプロピレン（炭素数が3個以下である炭化水素）のピークがそれぞれ分離して検出された。また、図６に同ガスをキャピラリカラム２５により成分分離して得られたクロマトグラムを示す。このカラムでは、エタンとエチレンおよびプロパンとプロピレンは分離できないが、炭素数が4個以上である炭化水素のピークがそれぞれ分離して検出された。 After completion of the reaction for 5 minutes, the flow path of the eight-way valve 30 is switched to a flow path indicated by a broken line, and after 10 seconds, the flow path is switched to a solid flow path again. Since the carrier gas flow rate is 50 ml per minute, the gas generated in the sample reaction tube 21 is sent out by about 8 ml of carrier gas and introduced into the columns 24 and 25 through the standard liquid sample vaporizing chamber 23. As described above, since the flow rate control unit 61 adjusts the helium gas to flow at 50 ml / min, 50 ml / min of gas (mixed gas of reaction and helium gas) is introduced into the column inlet. The This gas is introduced into these columns at a ratio corresponding to the flow path resistance ratio between the packed column 24 and the capillary column 25. In this embodiment, 45 ml / min is introduced into the packed column 24 and 5 ml / min is introduced into the capillary column 25. Gases introduced into both columns are separated into components in the columns, reach the outlet of each column, and are detected by the FID. FIG. 5 shows a chromatogram obtained by separating the components of the gas generated in the above reaction using the packed column 24. In this chromatogram, peaks of methane, ethane, ethylene, propane, and propylene (hydrocarbons having 3 or less carbon atoms) were separated and detected. FIG. 6 shows a chromatogram obtained by separating the components of the same gas with the capillary column 25. In this column, ethane and ethylene and propane and propylene could not be separated, but hydrocarbon peaks having 4 or more carbon atoms were separated and detected.

上記実施例は一例であって、本発明の趣旨に沿って適宜変更や修正を行うことが可能である。
本実施例では、予めヘキセンとゼオライトの反応により発生する化合物ガスの種類が分かっていたため標準液体試料を使用せずに分析を行ったが、反応により発生する化合物が不明である場合には、予め構成成分及び含有量が分かっている標準液体試料を標準液体試料気化室２３に導入してクロマトグラムを取得し、測定対象の液体試料から発生したガスにより得られたクロマトグラムの各ピークに対応する成分の同定や定量を行うことができる。
本実施例では、パックドカラム２４とキャピラリカラム２５の流路抵抗に応じた比率で反応ガスを導入する構成としたが、両カラムの上流側流路に流量調整部を備え、両カラムに導入するガスの比率を変更できるように構成してもよい。また、前述した構成に限らず、発生させたガスに含まれる目的成分の分離、検出を達成するためにカラムの種類（パックドカラム、キャピラリカラム、液相、吸着剤など）やカラムの本数など自由に変更しても良い。さらに、検出器として熱伝導度型検出器（TCD）や質量検出器を用いてもよい。 The above embodiment is merely an example, and can be appropriately changed or modified in accordance with the spirit of the present invention.
In this example, since the type of compound gas generated by the reaction of hexene and zeolite was known in advance, the analysis was performed without using the standard liquid sample, but when the compound generated by the reaction is unknown, A standard liquid sample whose constituent components and content are known is introduced into the standard liquid sample vaporizing chamber 23 to obtain a chromatogram, and corresponds to each peak of the chromatogram obtained by the gas generated from the liquid sample to be measured. Components can be identified and quantified.
In this embodiment, the reaction gas is introduced at a ratio corresponding to the flow path resistance of the packed column 24 and the capillary column 25. However, the upstream side flow path of both columns is provided with a flow rate adjusting unit and is introduced into both columns. You may comprise so that the ratio of gas can be changed. In addition to the configuration described above, the type of column (packed column, capillary column, liquid phase, adsorbent, etc.) and the number of columns are free to achieve separation and detection of the target component contained in the generated gas. You may change to Further, a thermal conductivity detector (TCD) or a mass detector may be used as the detector.

図７に示すように、パージガス／雰囲気ガス導入路４０及びパージガス／雰囲気ガス排出路５０の上流側にパージガスと、雰囲気ガス（例えば、酸素、二酸化炭素、空気など）とを切り替え可能に導入するパージガス／雰囲気ガス切換バルブ７０を備えてもよい。上記実施例では、試料反応管２１を含む閉空間内に水素ガスを導入した状態で液体試料を反応させたが、パージガス／雰囲気ガス切替バルブ７０を備えた構成とすることによりパージガスと異なる種類の雰囲気ガスを導入して反応条件を変化させることができる。 As shown in FIG. 7, a purge gas that introduces a purge gas and an atmospheric gas (for example, oxygen, carbon dioxide, air, etc.) to the upstream side of the purge gas / atmosphere gas introduction path 40 and the purge gas / atmosphere gas discharge path 50 in a switchable manner. / Ambient gas switching valve 70 may be provided. In the above embodiment, the liquid sample is reacted in a state where hydrogen gas is introduced into the closed space including the sample reaction tube 21. However, the configuration including the purge gas / atmosphere gas switching valve 70 is different from the purge gas. Atmospheric gas can be introduced to change the reaction conditions.

１…キャリアガス供給流路
２…流量制御部
３…液体試料気化室
４…インジェクタ
５…カラムオーブン
６…キャピラリカラム
７…検出部
８…液体試料注入部
９…セプタム
１０…前処理装置
１１…配管
１２…ヒートライン
１３…ガス試料注入部
１４…フォーカシング機構
１５…キャリアガス供給流路
２１、２１a…試料反応管
２１０…上部開口（液体試料注入口及びキャリアガス入口）
２１１…上部領域
２１２…下部領域
２１３…ゼオライト（固体触媒あるいは固体試料）
２１４…石英ウール
２１５…下部開口（キャリアガス出口）
２１６…液体試料注入口
２１７…キャリアガス入口
２２…分析液体試料気化室
２３…標準液体試料気化室
２４…パックドカラム
２５…キャピラリカラム
２６…カラムオーブン
３０…八方バルブ
３１…ニードルバルブ
４０…パージガス／雰囲気ガス導入路
４１…圧力調整バルブ
４２…圧力計
４３…ストップバルブ
５０…パージガス／雰囲気ガス排出路
５２…圧力計
５３…ストップバルブ
５４…抵抗管
６０…キャリアガス流路
６１…流量制御部
７０…パージガス／雰囲気ガス切替バルブ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Carrier gas supply flow path 2 ... Flow rate control part 3 ... Liquid sample vaporization chamber 4 ... Injector 5 ... Column oven 6 ... Capillary column 7 ... Detection part 8 ... Liquid sample injection | pouring part 9 ... Septum 10 ... Pretreatment apparatus 11 ... Piping DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 ... Heat line 13 ... Gas sample injection | pouring part 14 ... Focusing mechanism 15 ... Carrier gas supply flow path 21, 21a ... Sample reaction tube 210 ... Upper opening (liquid sample injection port and carrier gas inlet)
211 ... Upper region 212 ... Lower region 213 ... Zeolite (solid catalyst or solid sample)
214 ... Quartz wool 215 ... Lower opening (carrier gas outlet)
216 ... liquid sample inlet 217 ... carrier gas inlet 22 ... analysis liquid sample vaporization chamber 23 ... standard liquid sample vaporization chamber 24 ... packed column 25 ... capillary column 26 ... column oven 30 ... eight-way valve 31 ... needle valve 40 ... purge gas / atmosphere Gas introduction path 41 ... Pressure adjustment valve 42 ... Pressure gauge 43 ... Stop valve 50 ... Purge gas / atmosphere gas discharge path 52 ... Pressure gauge 53 ... Stop valve 54 ... Resistance pipe 60 ... Carrier gas flow path 61 ... Flow rate control unit 70 ... Purge gas / Ambient gas switching valve

Claims

固体触媒が内部に収容される試料反応管と、
分析液体試料注入口、キャリアガス入口、及びキャリアガス出口を有し、前記試料反応管が内部に着脱可能に取り付けられる分析液体試料気化室と、
標準液体試料注入口、キャリアガス入口、及びキャリアガス出口を有する標準液体試料気化室と、
キャリアガスを送給するキャリアガス流路と、
前記キャリアガス流路に設けられた流量調整部と、
前記流量調整部の下流のキャリアガス流路を、前記分析液体試料気化室のキャリアガス入口に繋がる第１流路に接続する第１流路接続状態と、前記標準液体試料気化室のキャリアガス入口に繋がる第２流路に接続する第２流路接続状態とを切り替える流路切替部と、
前記第２流路に設けられた流路抵抗部と、
カラムと、前記分析液体試料気化室のキャリアガス出口とを収容するカラムオーブンと
を備えることを特徴とするガスクロマトグラフ装置。 A sample reaction tube in which a solid catalyst is accommodated, and
An analysis liquid sample vaporization chamber having an analysis liquid sample inlet, a carrier gas inlet, and a carrier gas outlet, the sample reaction tube being detachably attached to the inside;
A standard liquid sample vaporization chamber having a standard liquid sample inlet, a carrier gas inlet, and a carrier gas outlet;
A carrier gas flow path for supplying carrier gas;
A flow rate adjusting unit provided in the carrier gas flow path;
A first channel connection state in which a carrier gas channel downstream of the flow rate adjusting unit is connected to a first channel connected to a carrier gas inlet of the analysis liquid sample vaporizing chamber; and a carrier gas inlet of the standard liquid sample vaporizing chamber A flow path switching unit for switching between a second flow path connection state connected to the second flow path connected to
A flow path resistance portion provided in the second flow path;
A gas chromatograph apparatus comprising: a column; and a column oven that houses a carrier gas outlet of the analysis liquid sample vaporizing chamber.

前記流路抵抗部が前記第２流路の抵抗の大きさを変更可能なニードルバルブであることを特徴とする請求項１に記載のガスクロマトグラフ装置。 The gas chromatograph apparatus according to claim 1, wherein the flow path resistance unit is a needle valve capable of changing a magnitude of resistance of the second flow path.

さらに、
キャリアガスと異なる種類の雰囲気ガスを送給する雰囲気ガス流路を備え、
前記流路切替部が、さらに、前記雰囲気ガス流路と前記キャリアガス出口に繋がる第３流路を接続した状態と接続しない状態とを切り替えることを特徴とする請求項１又は２に記載のガスクロマトグラフ装置。 further,
Equipped with an atmospheric gas flow path for feeding different types of atmospheric gas from the carrier gas,
The gas chromatograph according to claim 1 or 2, wherein the flow path switching unit further switches between a state in which the atmosphere gas flow path and the third flow path connected to the carrier gas outlet are connected and a state in which the third flow path is not connected. Tograph device.