JPWO2018190074A1 - Vaporization device and vaporization system - Google Patents

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Abstract

容器内の液体材料の液面を精度良く検出することができるようにすべく、液体材料Ｘを収容する容器１０と、容器１０内の液体材料Ｘを加熱するヒータ３０と、容器１０内の液体材料の液面を検出する液面センサ２０とを具備し、容器１０内を上方から視て、液体材料Ｘが気化される気化領域Ｓ１と、気化領域Ｓ１とは異なる液面安定領域Ｓ２とが形成されるように構成されており、液面センサ２０が、液面安定領域Ｓ２における液体材料Ｘの液面を検出するようにした。In order to accurately detect the liquid level of the liquid material in the container, a container 10 containing the liquid material X, a heater 30 for heating the liquid material X in the container 10, and a liquid in the container 10 A liquid level sensor 20 for detecting a liquid level of the material, and a vaporizing area S1 where the liquid material X is vaporized and a liquid level stable area S2 different from the vaporizing area S1 when the inside of the container 10 is viewed from above. The liquid level sensor 20 detects the liquid level of the liquid material X in the liquid level stable region S2.

Description

本発明は、液体材料を気化する気化装置及びこの気化装置を用いた気化システムに関するものである。  The present invention relates to a vaporizer for vaporizing a liquid material and a vaporization system using the vaporizer.

この種の気化装置としては、特許文献１に示すように、液体材料が導入される容器と、容器内の液体材料を加熱するヒータとを備え、液体材料を加熱して気化させ、その気化したガスを容器から導出して種々の機器に導くように構成されたものがある。  As shown in Patent Document 1, this type of vaporizer includes a container into which a liquid material is introduced, and a heater that heats the liquid material in the container, and heats and vaporizes the liquid material to evaporate the liquid material. Some are configured to take gas from a container and guide it to various devices.

この気化装置は、容器内の液体材料の残量をチェックできるようにすべく、容器内に挿通させた液面センサをさらに具備している。  The vaporizer further includes a liquid level sensor inserted into the container so that the remaining amount of the liquid material in the container can be checked.

ところが、容器内には液体材料を気化させることによるバブリングが生じるので、液面が揺れたり、液面から飛散した液体材料が液面センサに付着するなどして、液面を正しく検出することができないという問題がある。かかる問題は、気化装置の小型化に伴いより顕著になる。  However, bubbling occurs in the container due to vaporization of the liquid material, so that the liquid surface shakes or the liquid material scattered from the liquid surface adheres to the liquid level sensor, so that the liquid surface can be correctly detected. There is a problem that can not be. Such a problem becomes more conspicuous as the vaporizer becomes smaller.

特開平７−１９４９６１号公報JP-A-7-194961

そこで本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであって、容器内の液体材料の液面を精度良く検出することができる気化装置を提供することをその主たる課題とするものである。  Therefore, the present invention has been made to solve the above problems, and has as its main object to provide a vaporizer capable of accurately detecting the liquid level of a liquid material in a container. .

すなわち、本発明の気化装置は、液体材料を収容する容器と、前記容器内の前記液体材料を加熱するヒータと、前記容器内の前記液体材料の液面を検出する液面センサとを具備し、前記容器内を上方から視て、前記液体材料が気化される気化領域と、液面安定領域とが形成されており、前記液面センサが、前記液面安定領域における前記液体材料の液面を検出することを特徴とするものである。  That is, the vaporization device of the present invention includes a container that stores a liquid material, a heater that heats the liquid material in the container, and a liquid level sensor that detects a liquid level of the liquid material in the container. When the inside of the container is viewed from above, a vaporizing region in which the liquid material is vaporized and a liquid level stable region are formed, and the liquid level sensor is configured to detect a liquid level of the liquid material in the liquid level stable region. Is detected.

このように構成された気化装置であれば、容器内を上方から視て、気化領域と液面安定領域とが形成されており、液面センサによって液面安定領域における液面を検出しているので、容器内の液体材料の液面を精度良く検出することができる。
なお、ここでいう液面安定領域は、液面が全く揺れていない領域には限られず、液面センサによる検出精度が従来よりも向上できる程度であれば液面が揺れていても構わない。In the vaporizer configured as described above, the vaporization region and the liquid level stable region are formed when the inside of the container is viewed from above, and the liquid level sensor detects the liquid level in the liquid level stable region. Therefore, the liquid level of the liquid material in the container can be accurately detected.
Here, the liquid level stable region is not limited to a region where the liquid level does not sway at all, and the liquid level may sway as long as the detection accuracy of the liquid level sensor can be improved as compared with the conventional case.

より具体的な実施態様としては、前記ヒータが、前記容器の側壁の一部又はその近傍に設けられている構成が挙げられる。
このような構成であれば、容器内においてヒータが配置されている側を積極的に加熱することができ、ヒータ側に気化領域を形成するとともに、ヒータの反対側に液面安定領域を形成することができる。その結果、気化領域の液面で生じた揺れを液面安定領域に到達するまでに低減させることができたり、気化領域の液面から飛散した液体材料を液面センサに到達させないようにすることができたりするので、液体材料の液面を精度良く検出することが可能になる。As a more specific embodiment, there is a configuration in which the heater is provided at a part of the side wall of the container or in the vicinity thereof.
With such a configuration, it is possible to positively heat the side where the heater is disposed in the container, and to form a vaporization region on the heater side and a liquid level stable region on the opposite side of the heater. be able to. As a result, it is possible to reduce the fluctuation generated at the liquid level in the vaporization area before reaching the liquid level stable area or to prevent the liquid material scattered from the liquid level in the vaporization area from reaching the liquid level sensor. Therefore, the liquid level of the liquid material can be accurately detected.

前記気化領域及び前記液面安定領域を、これらの領域間で前記液体材料を流通可能に仕切る仕切部材をさらに具備することが好ましい。
このような構成であれば、気化領域の液面の揺れや気化領域の液面から飛散した液体材料が液面安定領域に到達してしまうことを仕切部材によってより確実に防ぐことができる。It is preferable to further include a partition member that divides the liquid material between the vaporization region and the liquid level stable region so that the liquid material can flow between the regions.
With such a configuration, the partition member can more reliably prevent the fluctuation of the liquid level in the vaporizing region and the liquid material scattered from the liquid level in the vaporizing region from reaching the liquid level stable region.

気化領域及び液面安定領域の液面を同じ高さに保つためには、前記仕切部材が、前記気化領域及び前記液面安定領域を、これらの領域間で前記液体材料が気化されてなる材料ガスを流通可能に仕切ることが好ましい。  In order to keep the liquid level of the vaporization region and the liquid surface stable region at the same height, the partition member is a material formed by evaporating the liquid material between the vaporization region and the liquid surface stable region. Preferably, the gas is partitioned so that it can flow.

容器内に気化領域と液面安定領域とを形成するための具体的な実施態様としては、単位体積当たりの単位時間当たりに与えられる熱量が、前記気化領域よりも前記液面安定領域の方が少ないように構成されたものが挙げられる。  As a specific embodiment for forming the vaporization region and the liquid level stable region in the container, the amount of heat given per unit time per unit volume is higher in the liquid level stable region than in the vaporization region. Some are configured so as to be less.

ところで、液体材料が気化されてなる材料ガスが容器内で凝縮して液化すると、液体材料が材料ガスとともに容器から導出されてしまい、例えば材料ガスの流量などを精度良く制御することができなくなる恐れがある。
そこで、材料ガスの液化を抑えるためには、前記容器の上部に設けられて、前記液体材料が気化されてなる材料ガスを加熱するヒータを具備することが好ましい。By the way, when the material gas obtained by vaporizing the liquid material is condensed and liquefied in the container, the liquid material is led out of the container together with the material gas, and for example, the flow rate of the material gas may not be accurately controlled. There is.
Therefore, in order to suppress the liquefaction of the material gas, it is preferable to include a heater provided at the upper part of the container and heating the material gas obtained by vaporizing the liquid material.

仮に材料ガスが容器内で液化したとしても、その液化した液体材料が材料ガスとともに容器から導出されることを防ぐためには、前記液体材料が気化されてなる材料ガスを前記容器から導出する導出口が、前記容器の前記気化領域側に設けられていることが好ましい。  Even if the material gas is liquefied in the container, in order to prevent the liquefied liquid material from being drawn out of the container together with the material gas, an outlet for drawing out the material gas obtained by vaporizing the liquid material from the container. Is preferably provided on the vaporization region side of the container.

気化領域に液体材料を導入する構成であると、導入された液体材料が一挙に気化されて容器内の圧力が急激に上昇してしまい、例えば材料ガスの流量を精度良く制御することができなくなる恐れがある。
そこで、容器内の急激な圧力上昇を避けるためには、前記液体材料を前記容器内に導入する導入口が、前記容器の前記液面安定領域側に形成されていることが好ましい。If the configuration is such that the liquid material is introduced into the vaporization region, the introduced liquid material is vaporized at once and the pressure in the container rises rapidly, and for example, the flow rate of the material gas cannot be accurately controlled. There is fear.
Therefore, in order to avoid a rapid rise in pressure in the container, it is preferable that an inlet for introducing the liquid material into the container is formed on the liquid surface stable region side of the container.

また、本発明に係る気化システムは、上述した気化装置と、前記気化装置に前記液体材料を供給する液体材料供給装置と、前記液面センサの検出信号に基づいて、前記液体材料の供給量を制御する制御装置とを具備することを特徴とするものである。
このような気化システムであれば、液面センサによって液体材料の液面を精度良く検出することができるので、制御装置による液体材料の供給量の制御を向上させることができる。In addition, the vaporization system according to the present invention includes the vaporizer described above, a liquid material supply device that supplies the liquid material to the vaporizer, and a supply amount of the liquid material based on a detection signal of the liquid level sensor. And a control device for controlling.
With such a vaporization system, the liquid level of the liquid material can be accurately detected by the liquid level sensor, so that the control of the supply amount of the liquid material by the control device can be improved.

このように構成した本発明によれば、仮に小型な装置であってとしても、容器内の液体材料の液面を精度良く検出することができる。  According to the present invention configured as described above, it is possible to accurately detect the liquid level of the liquid material in the container even if the apparatus is small.

本発明の一実施形態の気化システムの構成を模式的に示す図。The figure which shows typically the structure of the vaporization system of one Embodiment of this invention. 同実施形態の気化装置の構成を模式的に示す図。The figure which shows typically the structure of the vaporizer of the embodiment. 同実施形態の気化装置を液面の面方向から視た図。The figure which looked at the vaporizer of the embodiment from the surface direction of the liquid level. その他の実施形態の気化装置を液面の面方向から視た図。The figure which looked at the vaporizer of other embodiments from the surface direction of the liquid level. その他の実施形態における気化装置の構成を模式的に示す図。The figure which shows typically the structure of the vaporizer in other embodiments. その他の実施形態における気化装置の構成を模式的に示す図。The figure which shows typically the structure of the vaporizer in other embodiments. その他の実施形態における気化装置の構成を模式的に示す図。The figure which shows typically the structure of the vaporizer in other embodiments.

１００・・・気化装置
Ｘ ・・・液体材料
１０ ・・・容器
２０ ・・・液面センサ
３０ ・・・ヒータ
Ｐ１ ・・・導入口
Ｐ２ ・・・導出口
１１ ・・・側壁
Ｓ１ ・・・気化領域
Ｓ２ ・・・液面安定領域
４０ ・・・仕切部材100 Vaporizer X Liquid material 10 Container 20 Liquid level sensor 30 Heater P1 Inlet P2 Outlet 11 Side wall S1 Vaporization region S2 Liquid level stabilization region 40 Partition member

以下に、本発明に係る気化装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。  Hereinafter, an embodiment of a vaporization device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施形態の気化装置１００は、例えば半導体等の製造工程に用いられる気化システムＺの一部を構成するものであり、図１に示すように、液体材料供給装置２００からの液体材料Ｘが導入路Ｌ１を介して供給され、その液体材料Ｘを気化して材料ガスを生成する。気化装置１００によって生成された材料ガスは、図１に示すように、導出路Ｌ２を介して対象機器へ送られる。  The vaporizer 100 according to the present embodiment constitutes a part of a vaporizer system Z used in, for example, a manufacturing process of a semiconductor or the like. As shown in FIG. 1, a liquid material X from a liquid material supply device 200 is introduced. The liquid material X is supplied through a passage L1 and is vaporized to generate a material gas. The material gas generated by the vaporizer 100 is sent to the target device via the outlet L2 as shown in FIG.

導入路Ｌ１及び導出路Ｌ２には、それぞれ開閉弁Ｖ１、Ｖ２が設けられており、これらの開閉弁Ｖ１、Ｖ２を適宜状況に合わせて開閉することで、例えば気化装置１００に液体材料Ｘを導入するか、又は、気化装置１００から材料ガスを導出するかのいずれか一方に切り替えられるようにしてある。なお、開閉弁V１、Ｖ２の両方を開くこともできるし、両方を閉じることもできる。
具体的には、気化装置１００内の液体材料Ｘの液面を後述する液面センサ２０が検出して、その検出信号に基づいて図示しない制御装置が導入路Ｌ１に設けられた開閉弁Ｖ１の開度を調整することで、液体材料Ｘの供給量を制御できるようにしてある。
また、導出路Ｌ２には、例えば差圧式又は熱式のマスフローコントローラ等の流量制御装置ＭＦＣが設けられており、導出路Ｌ２を流れる材料ガスの流量を例えば予め設定した目標流量に制御できるようにしてある。なお、流量制御装置ＭＦＣを構成する制御弁に上述した開閉弁Ｖ２としての機能を備えさせることができ、その場合は必ずしも開閉弁Ｖ２を設ける必要はない。Opening / closing valves V1 and V2 are provided in the introduction path L1 and the lead-out path L2, respectively. By opening and closing these on-off valves V1 and V2 as appropriate, for example, the liquid material X is introduced into the vaporizer 100. , Or the material gas is led out from the vaporizer 100. In addition, both the on-off valves V1 and V2 can be opened, or both can be closed.
Specifically, a liquid level sensor 20 described later detects the liquid level of the liquid material X in the vaporizer 100, and based on the detection signal, a control device (not shown) of the on-off valve V1 provided in the introduction path L1. The supply amount of the liquid material X can be controlled by adjusting the opening degree.
In addition, a flow control device MFC such as a differential pressure type or a thermal type mass flow controller is provided in the lead-out path L2 so that the flow rate of the material gas flowing through the lead-out path L2 can be controlled to, for example, a preset target flow rate. It is. It should be noted that the control valve constituting the flow control device MFC can be provided with the function as the above-described on-off valve V2, and in that case, it is not always necessary to provide the on-off valve V2.

本実施形態の気化装置１００は、図２に示すように、液体材料Ｘを収容する容器１０と、容器１０内の液体材料Ｘの液面を検出する液面センサ２０と、容器１０内の液体材料Ｘを加熱するヒータ３０とを具備している。  As shown in FIG. 2, the vaporizer 100 of the present embodiment includes a container 10 that stores a liquid material X, a liquid level sensor 20 that detects a liquid level of the liquid material X in the container 10, and a liquid in the container 10. And a heater 30 for heating the material X.

容器１０は、内部が液体材料Ｘを気化する気化室Ｓとして形成された例えば筐体形状をなすものである。ここでの容器１０は、縦長の縦置きタイプのものであり、上述した導入路Ｌ１が接続される導入口Ｐ１と、上述した導出路Ｌ２が接続される導出口Ｐ２とが形成されている。  The container 10 has, for example, a housing shape in which the inside is formed as a vaporization chamber S for vaporizing the liquid material X. The container 10 here is of a vertically long vertical type, and has an inlet P1 to which the above-described introduction path L1 is connected, and an outlet P2 to which the above-described outlet path L2 is connected.

導入口Ｐ１は、容器１０の下部に位置しており、具体的には容器１０の側壁１１の下端部に形成されている。なお、導入口Ｐ１は容器１０の底壁１２に形成されていても良いし、容器１０の上部に設けられていても良い。  The inlet P1 is located at a lower portion of the container 10, and is specifically formed at a lower end of the side wall 11 of the container 10. In addition, the inlet P1 may be formed in the bottom wall 12 of the container 10 or may be provided at the upper part of the container 10.

導出口Ｐ２は、容器１０の上部に位置しており、具体的には容器１０の側壁１１の上端部に形成されている。なお、導出口Ｐ２は容器１０の上壁１３に形成されていても良い。  The outlet P2 is located at the upper part of the container 10, and is specifically formed at the upper end of the side wall 11 of the container 10. The outlet P2 may be formed in the upper wall 13 of the container 10.

液面センサ２０は、センサ部（不図示）が液体材料Ｘと接触した状態で液面を検出する接触式のものや、センサ部が液体材料Ｘと非接触な状態で液面を検出する非接触式のもの、或いは、フロート式のように可動部を有するものや、電極式のように可動部を有していないものなど、種々のものを用いることができる。ただし、可動部を有していると、容器１０内でパーティクルが生じる恐れがあることから、ここでは可動部を有していない液面センサ２０を用いている。
具体的にこの液面センサ２０は、容器１０の上壁１３に設けられた挿通孔から容器１０内に挿通された接触式のものであり、サーミスタ等の測温抵抗体（不図示）を備え、液相と気相とで熱放散定数が異なることを利用して液面を検出できるように構成されている。The liquid level sensor 20 is of a contact type that detects a liquid level when a sensor unit (not shown) is in contact with the liquid material X, or is a non-contact type that detects a liquid level when the sensor unit is not in contact with the liquid material X. Various types such as a contact type, a type having a movable portion such as a float type, and a type having no movable portion such as an electrode type can be used. However, if there is a movable part, particles may be generated in the container 10, so the liquid level sensor 20 having no movable part is used here.
Specifically, the liquid level sensor 20 is of a contact type inserted into the container 10 through an insertion hole provided in the upper wall 13 of the container 10 and includes a temperature measuring resistor (not shown) such as a thermistor. The liquid level can be detected by utilizing the difference in heat dissipation constant between the liquid phase and the gas phase.

ヒータ３０は、カートリッジヒータや電熱線ヒータを利用したものなど、種々のものを用いることができ、ここでは例えばシリコン等で構成されたラバーヒータである。なお、ヒータ３０の詳細な配置については、後述する。  Various heaters such as those using a cartridge heater or a heating wire heater can be used as the heater 30, and here, for example, a rubber heater made of silicon or the like. The detailed arrangement of the heater 30 will be described later.

然して、本実施形態の気化装置１００は、図３に示すように、容器１０内を上方（図２の矢印Ｒの方向）から視て（すなわち、容器１０内で安定している液面の面方向から視て）、容器１０内に液体材料Ｘが気化する気化領域Ｓ１と、前記気化領域Ｓ１とは異なり液面が安定的な液面安定領域Ｓ２とが形成されるように構成されており、上述した液面センサ２０が液面安定領域Ｓ２における液面を検出するように配置されている。なお、気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２は、厳密に区別される領域である必要はなく、これらの領域Ｓ１、Ｓ２が連続して形成されている場合など、境界部分において気化領域Ｓ１と液面安定領域Ｓ２との一部が重なり合っていても構わない。  However, as shown in FIG. 3, the vaporizer 100 according to the present embodiment is configured such that the inside of the container 10 is viewed from above (in the direction of the arrow R in FIG. 2) (that is, the surface of the liquid surface that is stable in the container 10). (Viewed from the direction), the container 10 is configured such that a vaporized region S1 in which the liquid material X is vaporized and a liquid surface stable region S2 in which the liquid surface is stable and different from the vaporized region S1 are formed. The liquid level sensor 20 described above is disposed so as to detect the liquid level in the liquid level stable area S2. The vaporized region S1 and the liquid level stable region S2 do not need to be strictly distinguished regions. For example, when these regions S1 and S2 are continuously formed, the vaporized region S1 and the liquid level stable region S2 are separated from each other. Part of the surface stable region S2 may be overlapped.

気化領域Ｓ１は、容器１０内において上述したヒータ３０が設けられている側の領域であり、液体材料Ｘを積極的に加熱する領域である。ここでの気化領域Ｓ１は、液面安定領域Ｓ２よりも単位体積当たりの単位時間当たりに与えられる熱量が多い領域であり、大小様々な気泡が発生している。  The vaporization region S1 is a region on the side where the above-described heater 30 is provided in the container 10, and is a region for actively heating the liquid material X. Here, the vaporization region S1 is a region where the amount of heat given per unit time per unit volume is larger than that of the liquid level stabilization region S2, and various sizes of bubbles are generated.

一方、液面安定領域Ｓ２は、容器１０内において上述した液面センサ２０が設けられている側の領域であり、気化領域Ｓ１よりも液面の変動が小さい領域である。ここでの液面安定領域Ｓ２は、気化領域Ｓ１よりも低温な領域であるが、容器１０が小型な場合などは液面安定領域Ｓ２と気化領域Ｓ１との温度がほぼ同じになることもある。なお、液面安定領域Ｓ２は、液面が全く揺れていない領域である必要はなく、液面センサ２０の検出精度を従来よりも向上させることができる程度であれば、液面が揺れていても良いし、気泡が発生していても良いし、液体材料Ｘが気化されていても良い。  On the other hand, the liquid level stable area S2 is an area on the side where the above-mentioned liquid level sensor 20 is provided in the container 10, and is an area where the fluctuation of the liquid level is smaller than that of the vaporization area S1. The liquid level stable region S2 here is a region at a lower temperature than the vaporizing region S1, but when the container 10 is small, the temperature of the liquid level stable region S2 and the temperature of the vaporizing region S1 may be almost the same. . The liquid level stable area S2 does not need to be an area in which the liquid level does not fluctuate at all, and the liquid level fluctuates as long as the detection accuracy of the liquid level sensor 20 can be improved as compared with the related art. Alternatively, bubbles may be generated, or the liquid material X may be vaporized.

本実施形態の気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２は、図２及び図３に示すように、上述したヒータ３０の配置によって形成されており、ここではさらに気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２を仕切る仕切部材４０を気化装置１００に備えさせている。  As shown in FIGS. 2 and 3, the vaporizing region S1 and the liquid level stable region S2 of the present embodiment are formed by the above-described arrangement of the heater 30, and here, the vaporizing region S1 and the liquid level stable region S2 are further formed. The partitioning member 40 is provided in the vaporizer 100.

より具体的に説明すると、ヒータ３０は、気化室Ｓの全体を取り囲むことなく、気化室Ｓの一部の周囲に設けられている。これにより、気化室Ｓにおいてヒータ３０から近く伝熱量が多い領域が気化領域Ｓ１となり、ヒータ３０から遠く伝熱量が少ない領域が液面安定領域Ｓ２となる。
ここでのヒータ３０は、容器１０の側壁１１の一部に設けられており、液体材料Ｘを部分的に加熱するように配置されている。なおヒータ３０は、必ずしも側壁１１に設けられている必要はなく、側壁１１の近傍に設けられていても構わないし、液体材料Ｘを気化できる程度であれば側壁１１から離れていても構わない。すなわち、ヒータ３０は、側壁１１と一体的に設けられていても良いし、側壁１１とは別体として形成されて側壁１１から離れて設けられていても良い。More specifically, the heater 30 is provided around a part of the vaporization chamber S without surrounding the entire vaporization chamber S. Thus, a region in the vaporization chamber S that is close to the heater 30 and has a large amount of heat transfer is the vaporization region S1, and a region that is far from the heater 30 and has a small amount of heat transfer is a liquid level stable region S2.
The heater 30 is provided on a part of the side wall 11 of the container 10 and is arranged so as to partially heat the liquid material X. Note that the heater 30 does not necessarily need to be provided on the side wall 11, and may be provided near the side wall 11 or may be provided away from the side wall 11 as long as the liquid material X can be vaporized. That is, the heater 30 may be provided integrally with the side wall 11, or may be formed separately from the side wall 11 and provided separately from the side wall 11.

本実施形態の容器１０は、直方体形状をなし、図３に示すように、互いに対向する第１の側壁１１１及び第２の側壁１１２と、これらの間に介在して互いに対向する第３の側壁１１３を第４の側壁１１４とを有している。そこで本実施形態では、ヒータ３０を第１の側壁１１１に設けることなく、第２の側壁１１２に設けてある。ヒータ３０を第３の側壁１１３や第４の側壁１１４に設けるか否かは適宜選択して構わないが、設ける場合には、第３の側壁１１３や第４の側壁１１４の少なくとも第１の側壁１１１側には設けることなく、第２の側壁１１２側に設けておくことが好ましい。  The container 10 of the present embodiment has a rectangular parallelepiped shape, and as shown in FIG. 3, a first side wall 111 and a second side wall 112 facing each other, and a third side wall interposed therebetween and facing each other. 113 has a fourth side wall 114. Therefore, in the present embodiment, the heater 30 is provided on the second side wall 112 without being provided on the first side wall 111. Whether or not the heater 30 is provided on the third side wall 113 or the fourth side wall 114 may be appropriately selected, but when provided, at least the first side wall of the third side wall 113 or the fourth side wall 114 is provided. It is preferable to provide it on the second side wall 112 side without providing it on the 111 side.

本実施形態では、図２に示すように、上述のヒータ３０（以下、第１ヒータ３１ともいう）に加えて、液体材料Ｘが気化した材料ガスを加熱する第２ヒータ３２を容器１０の上部に設けてあり、液体材料Ｘの気化の高効率化を図るための第３ヒータ３３を容器１０の下部に設けてある。
なお、第１ヒータ３１、第２ヒータ３２及び第３ヒータ３３は、それぞれ別体のものであっても良いし、一部又は全部が一体に形成されたものであっても良い。In the present embodiment, as shown in FIG. 2, in addition to the above-described heater 30 (hereinafter, also referred to as a first heater 31), a second heater 32 for heating a material gas obtained by evaporating the liquid material X is provided at an upper portion of the container 10. And a third heater 33 for improving the efficiency of vaporization of the liquid material X is provided at a lower portion of the container 10.
The first heater 31, the second heater 32, and the third heater 33 may be separate bodies, or may be a part or the whole formed integrally.

第２ヒータ３２は、材料ガスの液化を抑えるものであり、容器１０の上壁１３における少なくとも気化領域Ｓ１側に設けられている。なお、第２ヒータ３２は、上壁１３における気化領域Ｓ１側から液面安定領域Ｓ２側に亘って設けられていても良いし、上壁１３から第１の側壁１１１の上部に亘って設けられていても良い。また、第２ヒータ３２は、必ずしも上壁１３に設けられている必要はなく、上壁１３の近傍に設けられていても構わないし、材料ガスの液化を抑えることができる程度であれば上壁１３から離れていても構わない。  The second heater 32 suppresses liquefaction of the material gas, and is provided at least on the vaporization region S1 side of the upper wall 13 of the container 10. The second heater 32 may be provided from the vaporization region S1 side of the upper wall 13 to the liquid level stabilization region S2 side, or may be provided from the upper wall 13 to an upper portion of the first side wall 111. May be. Further, the second heater 32 does not necessarily need to be provided on the upper wall 13 and may be provided in the vicinity of the upper wall 13, as long as the liquefaction of the material gas can be suppressed. You may be away from 13.

第３ヒータ３３は、液体材料Ｘを加熱するものであり、容器１０の底壁１２における気化領域Ｓ１側に設けられている。なお第３ヒータ３３は、必ずしも底壁１２に設けられている必要はなく、底壁１２の近傍に設けられていても構わないし、液体材料Ｘを加熱できる程度であれば底壁１２から離れていても構わない。  The third heater 33 heats the liquid material X, and is provided on the bottom wall 12 of the container 10 on the side of the vaporization region S1. The third heater 33 does not necessarily need to be provided on the bottom wall 12, and may be provided near the bottom wall 12, and may be located away from the bottom wall 12 as long as the liquid material X can be heated. It does not matter.

仕切部材４０は、図２及び図３に示すように、容器１０内において気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の間に介在するものであり、気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の間で液体材料Ｘを流通可能にするとともに、ここでは材料ガスをも気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の間で流通可能にしている。  As shown in FIGS. 2 and 3, the partition member 40 is interposed between the vaporizing region S1 and the liquid-level stable region S2 in the container 10, and is provided between the vaporizing region S1 and the liquid-level stable region S2. The material X is allowed to flow, and the material gas is also allowed to flow between the vaporizing region S1 and the liquid level stable region S2.

具体的に仕切部材４０は、第１の側壁１１１や第２の側壁１１２と略平行に設けられたものであり、ここでは第３の側壁１１３と第４の側壁１１４との間に亘って設けられた例えば矩形状の平板である。この仕切部材４０は、気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の容積が互いに略同じになるようにこれらの領域Ｓ１、Ｓ２を仕切っている。なお、仕切部材４０の形状や配置、仕切部材４０によって仕切られる気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の容積比等は適宜変更して構わない。  Specifically, the partition member 40 is provided substantially in parallel with the first side wall 111 and the second side wall 112, and is provided here between the third side wall 113 and the fourth side wall 114. For example, a rectangular flat plate. This partitioning member 40 partitions these regions S1 and S2 such that the volumes of the vaporizing region S1 and the liquid level stabilizing region S2 are substantially equal to each other. The shape and arrangement of the partition member 40, the volume ratio of the vaporized region S1 and the liquid level stable region S2 partitioned by the partition member 40, and the like may be appropriately changed.

本実施形態では、仕切部材４０の下端を底壁１２から離間させて、この隙間を介して液体材料Ｘを流通可能にするとともに、仕切部材４０の上端を上壁１３から離間させて、この隙間を介して材料ガスを連通可能にしている。言い換えると、仕切部材４０の下端及び底壁１２の隙間によって気化領域Ｓ１の液相及び液面安定領域Ｓ２の液相が連通するとともに、仕切部材４０の上端及び上壁１３の隙間によって気化領域Ｓ１の気相及び液面安定領域Ｓ２の気相が連通している。なお、ここでいう液相とは液体が存在する領域のことであり、気相とは気体が存在する領域のことである。  In the present embodiment, the lower end of the partition member 40 is separated from the bottom wall 12 so that the liquid material X can flow through the gap, and the upper end of the partition member 40 is separated from the upper wall 13 so that The material gas can be communicated via the. In other words, the liquid phase in the vaporizing region S1 and the liquid phase in the liquid level stable region S2 communicate with each other through the gap between the lower end of the partition member 40 and the bottom wall 12, and the vaporizing region S1 due to the gap between the upper end of the partition member 40 and the upper wall 13. And the gas phase of the liquid level stable region S2 communicate with each other. Here, the liquid phase means a region where a liquid exists, and the gas phase means a region where a gas exists.

ここでは液面安定領域Ｓ２に上述した液面センサ２０が設けられており、具体的には液面センサ２０の下端が仕切部材４０の上端よりも下方に位置するように配置されている。また、液面安定領域Ｓ２には、上述した導入口Ｐ１が設けられており、ここでは第１ヒータ３１と対向した位置、すなわち第１の側壁１１１に導入口Ｐ１を形成してある。
一方、気化領域Ｓ１には、上述した導出口Ｐ２が設けられており、ここでは第２の側壁１１２における第１ヒータ３１の上方に形成されている。Here, the above-described liquid level sensor 20 is provided in the liquid level stabilization region S2. Specifically, the liquid level sensor 20 is disposed so that the lower end thereof is positioned lower than the upper end of the partition member 40. In addition, the above-described introduction port P1 is provided in the liquid level stable region S2. Here, the introduction port P1 is formed at a position facing the first heater 31, that is, at the first side wall 111.
On the other hand, the above-described outlet P2 is provided in the vaporization region S1, and is formed above the first heater 31 on the second side wall 112 here.

このように構成された本実施形態に係る気化装置１００によれば、ヒータ３０の配置や仕切部材４０によって、気化室Ｓを気化領域Ｓ１と液面安定領域Ｓ２とに仕切るとともに、液面センサ２０が液面安定領域Ｓ２における液面を検出するように構成してあるので、気化領域Ｓ１で生じたバブリングによる液面の揺れが液面安定領域Ｓ２に到達してしまうことや、気化領域Ｓ１における液面から飛散した液体材料Ｘを液面センサ２０に付着してしまうことを防ぐことができる。
その結果、液面センサ２０によって液体材料Ｘの液面を精度良く検出することが可能となり、検出された液面高さに基づいて例えば液体材料Ｘの供給量を精度良く制御することができたり、容器１０内の液体材料Ｘの残量を精度良く把握することができたりするようになる。かかる作用効果は、気化装置１００が小型化するほどより顕著に発揮されるが、大型の気化装置１００であっても同様の作用効果が得られることはいうまでもない。According to the vaporization apparatus 100 according to the present embodiment having the above-described configuration, the vaporization chamber S is divided into the vaporization area S1 and the liquid level stable area S2 by the arrangement of the heater 30 and the partition member 40, and the liquid level sensor 20 is used. Is configured to detect the liquid level in the liquid level stable area S2, so that the fluctuation of the liquid level due to the bubbling generated in the vaporization area S1 reaches the liquid level stable area S2, It is possible to prevent the liquid material X scattered from the liquid level from adhering to the liquid level sensor 20.
As a result, the liquid level of the liquid material X can be accurately detected by the liquid level sensor 20, and for example, the supply amount of the liquid material X can be accurately controlled based on the detected liquid level. Thus, the remaining amount of the liquid material X in the container 10 can be accurately grasped. Such operational effects are more remarkably exhibited as the vaporizer 100 is reduced in size, but it goes without saying that the same operational effects can be obtained even with a large vaporizer 100.

また、材料ガスが気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の間で通過可能であるので、気化領域Ｓ１における気相と液面安定領域Ｓ２における気相との圧力はほぼ同じになり、気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の液面をほぼ同じ高さに保つことができる。  Further, since the material gas can pass between the vaporizing region S1 and the liquid level stable region S2, the pressure of the gas phase in the vaporizing region S1 and the pressure of the gas phase in the liquid level stable region S2 become substantially the same, and the vaporizing region S1 In addition, the liquid level in the liquid level stable region S2 can be maintained at substantially the same height.

さらに、第２ヒータ３２によって材料ガスを加熱しているので、材料ガスの液化を抑えることができる。そのうえ、導出口Ｐ２を気化領域Ｓ１に形成しているので、仮に材料ガスが液化したとしても、液化した液体材料Ｘが容器１０から導出されてしまうことを防ぐことができ、例えばマスフローコントローラ等による流量制御の精度を担保できる。  Further, since the material gas is heated by the second heater 32, liquefaction of the material gas can be suppressed. In addition, since the outlet P2 is formed in the vaporization region S1, even if the material gas is liquefied, it is possible to prevent the liquefied liquid material X from being drawn out of the container 10, for example, by a mass flow controller or the like. Accuracy of flow control can be secured.

加えて、導入口Ｐ１が液面安定領域Ｓ２に形成されているので、導入口Ｐ１から容器１０内に導入された液体材料Ｘが一挙に気化されてしまうことを防ぐことができ、容器１０内の急激な圧力上昇を防ぐことができる。  In addition, since the introduction port P1 is formed in the liquid level stable region S2, it is possible to prevent the liquid material X introduced into the container 10 from the introduction port P1 from being vaporized at once, and the inside of the container 10 can be prevented. Abrupt pressure rise can be prevented.

なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。  Note that the present invention is not limited to the above embodiment.

例えば、前記実施形態では、第２の側壁１１２にヒータ３０を設けていたが、ヒータ３０は第２の側壁１１２に設けられることなく、底壁１２における気化領域Ｓ１側、すなわち底壁１２における仕切部材４０よりも第１の側壁１１１側（第１の側壁１１１の近傍）に設けられていても良い。つまり、第１実施形態における第１ヒータ３１を設けることなく、第３ヒータ３３を設けた構成であっても良い。  For example, in the above-described embodiment, the heater 30 is provided on the second side wall 112. However, the heater 30 is not provided on the second side wall 112, and the heater 30 is not provided on the bottom wall 12 side, that is, the partition on the bottom wall 12 is provided. It may be provided closer to the first side wall 111 than the member 40 (near the first side wall 111). That is, the third heater 33 may be provided without providing the first heater 31 in the first embodiment.

さらに気化装置１００としては、容器１０の側壁１１の全周（つまり、第１の側壁１１１、第２の側壁１１２、第３の側壁１１３、及び第４の側壁１１４）にヒータ３０を設ける、或いは、容器１０の底壁１２の全体にヒータ３０を設ける構成であっても、気化領域Ｓ１よりも液面安定領域Ｓ２が低温になるように構成されていれば良い。
具体的には、ヒータ３０が、気化領域Ｓ１に対する加熱能力よりも、液面安定領域Ｓ２に対する加熱能力の方が低くなるように構成されたものや、液面安定領域Ｓ２に冷却機構を設ける構成などが挙げられる。Further, as the vaporizer 100, the heater 30 is provided on the entire circumference of the side wall 11 of the container 10 (that is, the first side wall 111, the second side wall 112, the third side wall 113, and the fourth side wall 114), or Even if the heater 30 is provided on the entire bottom wall 12 of the container 10, the liquid level stable region S2 may be configured to be lower in temperature than the vaporization region S1.
Specifically, the heater 30 is configured such that the heating capability for the liquid level stable region S2 is lower than the heating capability for the vaporization region S1, or a configuration in which a cooling mechanism is provided in the liquid level stable region S2. And the like.

また、仕切部材４０は、第３の側壁１１３及び第４の側壁１１４に亘っている必要はなく、図４に示すように、第３の側壁１１３と第４の側壁１１４の一方又は両方から離間するように例えば底壁１２に取り付けられていても良い。  Further, the partition member 40 does not need to extend over the third side wall 113 and the fourth side wall 114, and is separated from one or both of the third side wall 113 and the fourth side wall 114 as shown in FIG. For example, it may be attached to the bottom wall 12.

さらに、前記実施形態の仕切部材４０は、気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の間で材料ガスを流通可能にしつつ、気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２を仕切っていたが、例えば液面安定領域Ｓ２の気相を大気開放するなどすれば、材料ガスが気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２の間で流通不能であっても良い。  Furthermore, the partition member 40 of the above embodiment partitions the vaporization region S1 and the liquid level stable region S2 while allowing the material gas to flow between the vaporization region S1 and the liquid level stable region S2. If the gas phase in the region S2 is opened to the atmosphere, the material gas may not be able to flow between the vaporization region S1 and the liquid level stable region S2.

さらに、導入口Ｐ１は、図４に示すように、気化領域Ｓ１側に形成されていても良く、例えば第２の側壁１１２や、第３の側壁１１３又は第４の側壁１１４における気化領域Ｓ１側に形成されていても良い。
このような構成であれば、液体材料Ｘが液面安定領域Ｓ２に直接導入されないので、液体材料Ｘの導入によって液面安定領域Ｓ２の液面が揺れてしまうことを抑えることができる。Further, as shown in FIG. 4, the inlet P1 may be formed on the side of the vaporization region S1, and for example, on the side of the vaporization region S1 on the second side wall 112, the third side wall 113, or the fourth side wall 114. May be formed.
With such a configuration, since the liquid material X is not directly introduced into the liquid surface stable region S2, it is possible to suppress the liquid surface of the liquid surface stable region S2 from being shaken by the introduction of the liquid material X.

一方、導出口Ｐ２は、図４に示すように、液面安定領域Ｓ２側に形成されていても良く、例えば第１の側壁１１１の上端部や、第３の側壁１１３又は第４の側壁１１４における液面安定領域Ｓ２側の上端部に形成されていても良い。
このような構成であれば、導出口Ｐ２を気化領域Ｓ１の液面から遠ざけることができ、気化領域Ｓ１における液面で液体材料Ｘが飛散したとしても、飛散した液体材料Ｘが導出口Ｐ２に到達してしまうことを抑えることができる。On the other hand, as shown in FIG. 4, the outlet P2 may be formed on the liquid level stable region S2 side, for example, the upper end of the first side wall 111, the third side wall 113 or the fourth side wall 114. May be formed at the upper end on the liquid level stable region S2 side.
With such a configuration, the outlet P2 can be kept away from the liquid surface of the vaporization region S1, and even if the liquid material X scatters on the liquid surface in the vaporization region S1, the scattered liquid material X is supplied to the outlet P2. Reaching can be suppressed.

加えて、気化装置１００としては、図５に示すように、内部に気化領域Ｓ１が形成された第１容器１０Ａと、内部に液面安定領域Ｓ２が形成されるとともに第１容器１０Ａと連通する第２容器１０Ｂとを具備し、第２容器１０Ｂに液面センサ２０が設けられた構成であっても良い。  In addition, as shown in FIG. 5, the vaporizer 100 has a first container 10A having a vaporized region S1 formed therein and a liquid level stable region S2 formed therein and communicates with the first container 10A. The second container 10B may be provided, and the liquid level sensor 20 may be provided in the second container 10B.

より具体的に説明すると、第１容器１０Ａ及び第２容器１０Ｂは、空間Ｓ３を介して互いに離間して配置されており、ここでは管軸方向が互いに平行になるように設けられた管状部材である。
第１容器１０Ａは、その外周部にヒータ３０（ラバーヒータや巻線ヒータ）が設けられており、その上端部が材料ガスを導出する導出口Ｐ２に連通している。
第２容器１０Ｂは、その内部に液面センサ２０が挿通されており、その下端部が液体材料Ｘを導入する導入口Ｐ１に連通している。More specifically, the first container 10A and the second container 10B are spaced apart from each other via a space S3, and here are tubular members provided so that the tube axis directions are parallel to each other. is there.
The outer periphery of the first container 10A is provided with a heater 30 (rubber heater or wire-wound heater), and the upper end thereof communicates with a discharge port P2 for discharging a material gas.
The liquid level sensor 20 is inserted through the inside of the second container 10B, and the lower end of the second container 10B communicates with the introduction port P1 for introducing the liquid material X.

これらの第１容器１０Ａ及び第２容器１０Ｂは、互いの上端部同士が連通するとともに、互いの下端部同士が連通しており、第１容器１０Ａの気相及び第２容器１０Ｂの気相が連通するとともに、第１容器１０Ａの液相及び第２容器１０Ｂの液相が連通するように構成されている。  The first container 10A and the second container 10B have their upper ends communicating with each other and their lower ends communicating with each other, and the gas phase of the first container 10A and the gas phase of the second container 10B The liquid phase of the first container 10A and the liquid phase of the second container 10B are configured to communicate with each other.

このような構成であれば、第１容器１０Ａと第２容器１０Ｂとの間に介在する空間Ｓ３が仕切部材４０として機能するので、仕切部材４０を各容器１０Ａ、１０Ｂとは別に設けることなく、前記第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。  With such a configuration, since the space S3 interposed between the first container 10A and the second container 10B functions as the partition member 40, the partition member 40 is not provided separately from the containers 10A and 10B. The same operation and effects as those of the first embodiment can be obtained.

さらに別の実施態様として、図６に示すように、仕切部材４０が第１の側壁１１１や第２の側壁１１２に対して傾斜していても良い。具体的にこの仕切部材４０は、液面センサ２０の下方に設けられており、気化領域Ｓ１で生じた気泡が仕切部材４０に沿って浮き上がることで、液面センサ２０から離れるように配置されている。言い換えると、この気化装置１００は、底壁１２の第２の側壁１１２側にヒータ３０が設けられており、仕切部材４０が第１の側壁１１１から第２の側壁１１２に向かって徐々に高くなるように傾斜している。
このような構成であっても、水面の面方方向から視て、容器１０内に気化領域Ｓ１及び液面安定領域Ｓ２を形成することができるので、液面センサ２０によって液面安定領域Ｓ２における液面を精度良く検出することが可能となる。As still another embodiment, as shown in FIG. 6, the partition member 40 may be inclined with respect to the first side wall 111 and the second side wall 112. Specifically, the partition member 40 is provided below the liquid level sensor 20, and is arranged so as to be separated from the liquid level sensor 20 by bubbles generated in the vaporization region S 1 floating along the partition member 40. I have. In other words, in the vaporizer 100, the heater 30 is provided on the bottom wall 12 on the second side wall 112 side, and the partition member 40 gradually increases from the first side wall 111 toward the second side wall 112. So inclined.
Even with such a configuration, the vaporization region S1 and the liquid level stable region S2 can be formed in the container 10 when viewed from the surface direction of the water surface. The liquid level can be detected with high accuracy.

そのうえ、気化装置１００としては、仕切部材４０を備えていないものであっても良い。
具体的にこのような気化装置１００としては、図７に示すように、容器１０が横長のものであって、その長手方向一端部にヒータ３０が設けられるとともに、長手方向他端部に液面センサ２０が設けられている構成が挙げられる。かかる構成により、容器１０の気化室Ｓは、長手方向一端部側が気化領域Ｓ１として形成されるとともに、長手方向他端部側が液面安定領域Ｓ２として形成され、液面センサ２０が液面安定領域Ｓ２の液面を検出するように配置されている。
このような構成であれば、気化領域Ｓ１における液面から飛散した液体材料Ｘが、液面センサ２０に到達してしまうことを防ぐことができ、液体材料Ｘの液面を精度良く検出することが可能になる。In addition, the vaporizer 100 may not include the partition member 40.
Specifically, as shown in FIG. 7, the vaporizer 100 has a horizontally long container 10 having a heater 30 at one longitudinal end and a liquid level at the other longitudinal end. There is a configuration in which the sensor 20 is provided. With such a configuration, the vaporization chamber S of the container 10 has one end portion in the longitudinal direction formed as the vaporization region S1 and the other end portion in the longitudinal direction formed as the liquid level stable region S2. It is arranged to detect the liquid level of S2.
With such a configuration, it is possible to prevent the liquid material X scattered from the liquid level in the vaporization region S1 from reaching the liquid level sensor 20, and to accurately detect the liquid level of the liquid material X. Becomes possible.

その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。  In addition, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified without departing from the gist thereof.

本発明によれば、容器内の液体材料の液面を精度良く検出することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the liquid level of the liquid material in a container can be detected accurately.

Claims (9)

液体材料を収容する容器と、
前記容器内の前記液体材料を加熱するヒータと、
前記容器内の前記液体材料の液面を検出する液面センサとを具備し、
前記容器内を上方から視て、前記液体材料が気化される気化領域と、液面安定領域とが形成されており、
前記液面センサが、前記液面安定領域における前記液体材料の液面を検出する気化装置。A container for containing the liquid material;
A heater for heating the liquid material in the container,
A liquid level sensor for detecting a liquid level of the liquid material in the container,
When the inside of the container is viewed from above, a vaporizing region in which the liquid material is vaporized and a liquid level stable region are formed,
A vaporizer in which the liquid level sensor detects a liquid level of the liquid material in the liquid level stable region. 前記ヒータが、前記容器の前記気化領域側の側壁又はその近傍に設けられている請求項１記載の気化装置。  The vaporizer according to claim 1, wherein the heater is provided on a side wall of the container on the vaporization region side or in the vicinity thereof. 前記気化領域及び前記液面安定領域を、これらの領域間で前記液体材料を流通可能に仕切る仕切部材をさらに具備する請求項１記載の気化装置。  The vaporizer according to claim 1, further comprising a partition member that divides the liquid material between the vaporization region and the liquid level stable region so that the liquid material can flow between the regions. 前記仕切部材が、前記気化領域及び前記液面安定領域を、これらの領域間で前記液体材料が気化されてなる材料ガスを流通可能に仕切る請求項３記載の気化装置。  4. The vaporizer according to claim 3, wherein the partition member partitions the vaporization region and the liquid level stable region so that a material gas obtained by vaporizing the liquid material flows between these regions. 5. 単位体積当たりの単位時間当たりに与えられる熱量が、前記気化領域よりも前記液面安定領域の方が少ないように構成されている請求項１記載の気化装置。  The vaporizer according to claim 1, wherein the amount of heat applied per unit time per unit volume is configured to be smaller in the liquid level stable region than in the vaporization region. 前記容器の上部に設けられて、前記液体材料が気化されてなる材料ガスを加熱するヒータを具備する請求項１記載の気化装置。  The vaporizer according to claim 1, further comprising a heater provided on an upper portion of the container and heating a material gas obtained by vaporizing the liquid material. 前記液体材料が気化されてなる材料ガスを前記容器から導出する導出口が、前記容器の前記気化領域側に設けられている請求項１記載の気化装置。  The vaporizer according to claim 1, wherein a discharge port for discharging a material gas obtained by vaporizing the liquid material from the container is provided on the vaporization region side of the container. 前記液体材料を前記容器内に導入する導入口が、前記容器の前記液面安定領域側に形成されている請求項１記載の気化装置。  2. The vaporizer according to claim 1, wherein an introduction port for introducing the liquid material into the container is formed on the liquid surface stable region side of the container. 請求項１記載の気化装置と、
前記気化装置に前記液体材料を供給する液体材料供給装置と、
前記液面センサの検出信号に基づいて、前記液体材料の供給量を制御する制御装置とを具備する気化システム。A vaporizer according to claim 1,
A liquid material supply device for supplying the liquid material to the vaporizer,
A controller for controlling a supply amount of the liquid material based on a detection signal of the liquid level sensor.
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