JPWO2017204143A1 - データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク - Google Patents
データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2017204143A1 JPWO2017204143A1 JP2018519527A JP2018519527A JPWO2017204143A1 JP WO2017204143 A1 JPWO2017204143 A1 JP WO2017204143A1 JP 2018519527 A JP2018519527 A JP 2018519527A JP 2018519527 A JP2018519527 A JP 2018519527A JP WO2017204143 A1 JPWO2017204143 A1 JP WO2017204143A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- less
- data storage
- storage medium
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 129
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 238000013500 data storage Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 15
- 239000012634 fragment Substances 0.000 abstract description 7
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 16
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 16
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 3
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- -1 SO 3 Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
Description
(1)溶融ガラスを冷却する際に、冷却速度について、ガラス転移点Tgに対し、Tg+50℃〜Tg+20℃の範囲では400℃/分以下とする。
厚さ0.5mmでの波長250nmでの透過率はガラス転移点付近の温度におけるガラスの冷却速度に依存する。すなわち、ガラスの冷却速度を小さくすることにより、ガラスの構造緩和が進んで該透過率が増加する傾向にあるため、また、冷却時に温度分布が発生し残留応力が残り、基板が反ることを防ぐため、Tg+50℃〜Tg+20℃の範囲では400℃/分以下とすることが好ましい。より好ましくは300℃/分以下、さらに好ましくは200℃/分以下、特に好ましくは100℃/分以下、一層好ましくは50℃/分以下、最も好ましくは10℃/分以下である。下限は製造時間を短くする観点から、0.2℃/分以上が好ましい。
例えば、波長250nmの吸収を小さくする観点から、Fe2O3などの着色成分の含有量を1モル%以下にすること、SnO2、TiO2、Nb2O5、ZrO2、Ta2O5、WO3、MoO3およびCeO2のうち少なくとも1種をその含有量の合計で1モル%以下含有すること、SiO2、B2O3またはP2O5などの含有量の合計を60モル%以上にすることのいずれかまたはこれらの組み合わせ等がある。
アルカリ土類金属の中でもMgO、CaOおよびB2O3は発光を阻害しやすい傾向があるため、MgO、CaOおよびB2O3の含有量はともに低い方が好ましい。
B2O3は、熱膨張を小さくするために、および溶解しやすくするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。また、ガラス転移点やヤング率を低下させないためには、2.5%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましい。
MgOは、UV照射による発光を強くするために5.5%以下がより好ましく、4.5%以下がさらに好ましく、4%以下が特に好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が最も好ましい。また、ヤング率を高くするためには、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは2%以上、一層好ましくは2.5%以上である。
CaOは、UV照射による発光を強くするためには、10%以下がより好ましく、8%以下がさらに好ましく、5%以下が特に好ましく、4.5%以下が一層好ましく、3.5%以下がより一層好ましく、3%以下が最も好ましい。溶解特性をよくするためには、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは1.5%以上、一層好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。
SrOは、比弾性率の低下や熱膨張の増加を抑えるためには6.5%以下がより好ましく、6%以下がさらに好ましく、5.5%以下が特に好ましく、5%以下が一層好ましく、4.5%以下が最も好ましい。また、溶解性を改善し、ヤング率を高くするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは1.5%以上、一層好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。
BaOは、溶解性改善のために、好ましくは0.5%以上、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。また、比重の増加、比弾性率の低下や熱膨張の増加、機械特性の増加を抑えるためには4.5%以下がより好ましく、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が特に好ましい。
ヤング率を高くするためには、MgOを6.5%以上とすることが好ましく、さらにSrOの含有量は高いことが好ましい。また比弾性率の低下を防ぐためには比重を小さくした方が良く、BaOを5%以下とすることが好ましい。ヤング率を高くするためにMgOおよびSrOの含有量を増やすのが好ましいが、多すぎると失透しやすくなるため、BaOの含有量を増やすことが好ましいためである。また、より好ましくはCaOを0〜4.5%含有する。
B2O3は、熱膨張を小さくするために、および溶解しやすくするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。また、ガラス転移点やヤング率を低下させないためには、2.5%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましい。
MgOは、ヤング率を高くするためには、より好ましくは7%以上、さらに好ましくは7.5%以上、特に好ましくは8%以上、一層好ましくは8.5%以上である。また、UV照射による発光強度の低下や、失透特性の悪化を防ぐために、12.5%以下がより好ましく、12%以下がさらに好ましく、11.5%以下が特に好ましく、11%以下が一層好ましく、10.5%以下が最も好ましい。
CaOは、溶解特性をよくするために、さらに好ましくは0.5%以上、特に好ましくは1%以上、一層好ましくは1.5%以上、最も好ましくは2.5%以上である。また、UV照射による発光を強くするためには、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が特に好ましく、3%以下が一層好ましい。
SrOは、溶解性を改善し、ヤング率を高くするために、より好ましくは2%以上、さらに好ましくは3.5%以上、特に好ましくは4%以上、一層好ましくは4.5%以上、最も好ましくは5%以上である。また、比重の増加、脆さの悪化、比弾性率の低下や熱膨張の増加を抑えるためには10%以下が好ましく、9%以下がより好ましく、8%以下がさらに好ましく、7%以下が特に好ましい。
BaOは、溶解性改善のために、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上、一層好ましくは2.5%以上、最も好ましくは3%以上である。また、比重の増加、比弾性率の低下や熱膨張の増加、機械特性の増加を抑えるためには4.5%以下がより好ましく、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が特に好ましい。
β−OH値=(1/X)log10(T1/T2)。
Claims (7)
- 酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を55〜80%、Al2O3を6〜18%、B2O3を0%以上12%未満含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で2〜26%、Li2O、Na2OおよびK2Oのうち少なくとも1種をその含有量の合計(R2O)で10%以下、発光元素であるSnO2、TiO2、Nb2O5、ZrO2、Ta2O5、WO3、MoO3およびCeO2のうち少なくとも1種をその含有量の合計で0.03%以上含有し、厚さ0.5mmでの波長450nmにおける透過率が80%以上、波長250nmにおける透過率が0.2%以上であるデータ記憶媒体基板用ガラス。
- 酸化物基準のモル百分率表示で、Fe2O3を1%以下含有し、且つ前記発光元素の含有量の合計をFe2O3の含有量で除した値が0.03〜500である請求項1に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。
- ヤング率が70Gpa以上、50〜350℃における熱膨張係数(CTE)が60×10−7/℃以下、Tgが600℃以上である請求項1または2に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。
- 酸化物基準のモル百分率表示で、B2O3を0%以上3%未満、MgOを0〜6.5%、CaOを0〜12%、SrOを0〜7%含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。
- 酸化物基準のモル百分率表示で、B2O3を0%以上3%未満、MgOを6.5〜13%、BaOを0.5〜5%、SrOを1〜10%含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のデータ記憶媒体基板用ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板。
- 請求項6に記載のデータ記憶媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016104476 | 2016-05-25 | ||
JP2016104476 | 2016-05-25 | ||
PCT/JP2017/018989 WO2017204143A1 (ja) | 2016-05-25 | 2017-05-22 | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017204143A1 true JPWO2017204143A1 (ja) | 2019-03-22 |
JP7056558B2 JP7056558B2 (ja) | 2022-04-19 |
Family
ID=60412846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018519527A Active JP7056558B2 (ja) | 2016-05-25 | 2017-05-22 | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7056558B2 (ja) |
WO (1) | WO2017204143A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6975862B2 (ja) | 2018-08-07 | 2021-12-01 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
JP7392909B2 (ja) * | 2019-11-25 | 2023-12-06 | 日本電気硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気記録装置 |
CN115699177A (zh) * | 2020-06-02 | 2023-02-03 | 日本电气硝子株式会社 | 磁存储介质用玻璃盘以及使用该磁存储介质用玻璃盘的磁存储装置 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0551234A (ja) * | 1991-08-22 | 1993-03-02 | Hoya Corp | アルミナ基板被覆用ガラス及びグレーズド基板 |
JP2002201040A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-07-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルミノホウケイ酸ガラス |
JP2010254549A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
WO2012053549A1 (ja) * | 2010-10-20 | 2012-04-26 | 旭硝子株式会社 | Cu-In-Ga-Se太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池 |
JP2012184146A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
US20120282450A1 (en) * | 2011-03-14 | 2012-11-08 | Takahiro Kawaguchi | Alkali-free glass |
JP2012236759A (ja) * | 2011-04-25 | 2012-12-06 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 液晶レンズ用ガラス基板 |
JP2013028512A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2013254555A (ja) * | 2008-01-28 | 2013-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
JP2015028827A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015028828A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015027931A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015027932A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
US20160122229A1 (en) * | 2014-10-31 | 2016-05-05 | Corning Incorporated | Dimensionally stable fast etching glasses |
-
2017
- 2017-05-22 JP JP2018519527A patent/JP7056558B2/ja active Active
- 2017-05-22 WO PCT/JP2017/018989 patent/WO2017204143A1/ja active Application Filing
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0551234A (ja) * | 1991-08-22 | 1993-03-02 | Hoya Corp | アルミナ基板被覆用ガラス及びグレーズド基板 |
JP2002201040A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-07-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルミノホウケイ酸ガラス |
JP2013254555A (ja) * | 2008-01-28 | 2013-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
JP2010254549A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
WO2012053549A1 (ja) * | 2010-10-20 | 2012-04-26 | 旭硝子株式会社 | Cu-In-Ga-Se太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池 |
JP2012184146A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
US20120282450A1 (en) * | 2011-03-14 | 2012-11-08 | Takahiro Kawaguchi | Alkali-free glass |
JP2012236759A (ja) * | 2011-04-25 | 2012-12-06 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 液晶レンズ用ガラス基板 |
JP2013028512A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2015028827A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015028828A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015027931A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2015027932A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
US20160122229A1 (en) * | 2014-10-31 | 2016-05-05 | Corning Incorporated | Dimensionally stable fast etching glasses |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7056558B2 (ja) | 2022-04-19 |
WO2017204143A1 (ja) | 2017-11-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9023421B2 (en) | Method for producing magnetic disk, and glass substrate for information recording medium | |
JP5375608B2 (ja) | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
JP5263152B2 (ja) | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 | |
KR20200117993A (ko) | 화학 강화용 유리 | |
TW202204280A (zh) | 結晶化玻璃 | |
JP4923556B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP7056558B2 (ja) | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
US10766806B2 (en) | Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium, and magnetic disk | |
WO2019021911A1 (ja) | 半導体パッケージ用支持ガラス | |
JP2015024954A (ja) | 基板用ガラスおよびガラス基板 | |
WO2018225725A1 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体基板、情報記録媒体および記録再生装置用ガラススペーサ | |
TWI759530B (zh) | 結晶化玻璃基板 | |
JP7103219B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
TWI787331B (zh) | 結晶化玻璃基板 | |
US20230162759A1 (en) | Glass disk for magnetic recording medium and magnetic recording device using the same | |
TWI759531B (zh) | 結晶化玻璃基板 | |
JP2021172547A (ja) | 結晶化ガラス | |
WO2024034492A1 (ja) | 無アルカリガラス板 | |
WO2023276608A1 (ja) | 無アルカリガラス板 | |
WO2024057890A1 (ja) | 無アルカリガラス板 | |
JP2023007383A (ja) | 無アルカリガラス板 | |
JP2018030742A (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
JP2017036177A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、および磁気記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210323 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210712 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220308 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220321 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7056558 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |