JPWO2016163550A1 - 自己修復材料及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
項1.自己修復材料であって、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)に由来する単量体単位(a)、
式(B):
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)に由来する単量体単位(b)、及び
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)に由来する単量体単位(c)
を含む重合体であって、
式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体と、
水系媒体とを含み、
前記単量体単位(a)、(b)及び(c)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下のゲルである、自己修復材料。
項2.自己修復材料であって、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)に由来する単量体単位(a)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)に由来する単量体単位(b)、及び
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)に由来する単量体単位(c)
を含む重合体であって、
式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体と、
水系媒体とを含み、
前記単量体単位(a)、(b)及び(c)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下のゲルを乾燥させて得られるキセロゲルである、自己修復材料。
項3.前記自己修復材料中における、単量体単位の総量に対する前記単量体単位(a)及び(b)の割合が、それぞれ1〜10モル%及び1〜10モル%の範囲に含まれる、請求項1又は2に記載の自己修復材料。
項4.前記単量体(A)が式(A-1):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R4は、酸素原子又は-NR5-を表し、
R5は、水素原子又は1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基を表し、
RAは前記と同意義を表す。]
で表される1種以上の単量体である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の自己修復材料。
項5.前記式(B)において、前記R2が、アルキル基、アルデヒド基、カルボキシル基及びアミド基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の自己修復材料。
項6.前記式(B)において、前記R2及びRBが一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよいアダマンチルアミド基を形成している、請求項1〜5のいずれか一項に記載の自己修復材料。
項7.前記単量体(B)がアクリルアミドアダマンタンである、請求項1〜6のいずれか一項に記載の自己修復材料。
項8.前記単量体(A)が式(A-2):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、RAは前記と同意義を表す。]
で表される1種以上の単量体である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の自己修復材料。
項9.前記RAが、β-シクロデキストリンである、請求項1〜8のいずれか一項に記載の自己修復材料。
項10.式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)、
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)、
重合開始剤、及び
水系溶媒を含み、
前記単量体単位(a)、(b)及び(c)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下である、
請求項1又は2に記載の自己修復材料を製造するための液状組成物。
項11.自己修復材料の製造方法であって、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)及び、式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)を水系溶媒中で混合し、溶解し、前記単量体(A)、(B)及び(C)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下である単量体混合溶液Aを得る工程Aと、
前記単量体混合溶液Aに重合開始剤を加えて式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体を含むゲルを得る工程Bとを含む、
製造方法。
項12.前記工程Bで得られたゲルを乾燥させてキセロゲルを得る工程Cをさらに含む、請求項11に記載の製造方法。
項13.前記単量体混合溶液Aにおける単量体(A)、(B)及び(C)の総量に対する前記単量体(A)及び前記単量体(B)のモル比が、それぞれ1〜10モル%及び1〜10モル%の範囲に含まれる、請求項11又は12に記載の製造方法。
項14.前記重合開始剤が、光重合開始剤である、請求項11〜13のいずれか一項に記載の製造方法。
項15.前記重合開始剤が、過硫酸アンモニウム(APS)又はN,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン(TEMED)である、請求項11〜14のいずれか一項に記載の製造方法。
本発明の一実施形態である自己修復材料は、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)に由来する単量体単位(a)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)に由来する単量体単位(b)、及び
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基又はアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)に由来する単量体単位(c)
を含む重合体であって、
式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体と、
水とを含み、
前記単量体単位の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下のゲルである自己修復材料であることができる。
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)に由来する単量体単位(a)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)に由来する単量体単位(b)、及び
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基又はアミド基を表す。]
で表される1種以上の化合物(C)に由来する単量体単位(c)
を含む重合体であって、
式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体と、
水系媒体とを含み、
前記単量体単位(a)、(b)及び(c)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下のゲルの乾燥体であるキセロゲルである。
本発明における単量体(A)は、式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体である。前記単量体(A)としては、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R4は、酸素原子又は-NR5-を表し、
R5は、水素原子又は1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基を表し、
RAは前記と同意義を表す。]
で表される1種以上の単量体が好ましい。 これらのうち、特に式(A-2):
本発明における単量体(B)は、式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体である。前記単量体(B)としては、1種のみ用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
本発明における単量体(C)は、式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体である。前記単量体(C)としては、1種のみ用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
本発明の自己修復材料は、例えば以下に示す方法によって製造することができる。すなわち、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、アルデヒド基、カルボキシル基、アミド基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)及び、式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)を水系溶媒中で混合し、密封容器内で加熱攪拌し、溶解し、前記単量体(A)、(B)及び(C)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下である単量体混合溶液Aを得る工程Aと、
前記単量体混合溶液Aに重合開始剤を加えて式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体を含むゲルを得る工程Bとを含む製造方法によって製造することができる。
工程Aでは、式(A):
RM、R3は前記と同意義を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)を水系溶媒中で混合し、溶解し、前記単量体(A)、(B)及び(C)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下である単量体混合溶液Aを得る。
単量体(A)及び単量体(B)を溶媒に加えて混合し、密封容器内で加熱撹拌し、単量体(A)及び単量体(B)を溶解する。得られた溶液を放冷し、これに単量体(C)を加えて溶解させることにより行うことができる。単量体(A)、単量体(B)及び単量体(C)は、それぞれ1種のみ使用してもよく、それぞれ2種以上を使用してもよい。
工程Bでは、前記単量体混合溶液A中の単量体を重合させることにより、式(1-1):
実施例及び比較例において、各種物性測定は以下のとおり測定した。
圧縮試験
測定機器:YAMADEN製 RE-33005B
測定条件:テフロン(登録商標)製の円柱型プランジャー(直径 5 mm)を用いて、水平に設置したサンプルに上から押し込み、与えたひずみに対する応力を計測した。得られた応力-ひずみ曲線の初期勾配をひずみ100% に補外した値からサンプルの弾性率を算出した。
測定機器:SHIMADZU製 AUTOGRAPH AG-X plus
測定条件:適切なサイズに成形したサンプルを測定用クリップに上下から固定し、上下方向に引っ張り、与えたひずみに対する応力を計測した。得られた応力-ひずみ曲線からサンプルの力学特性を評価した。
膜厚測定
測定機器:KEYENCE製 VK-X150
測定条件:フィルム状に成形したサンプルを水平に設置し上方からレーザー顕微鏡で観察し、フィルムの上面と下面に相当する高さを計測し、それらの差から膜厚を算出した。
測定機器:JEOL製 ECA-500
測定温度:30℃
溶媒 :DMSO-d6 <ゲル>
単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位及びAd-AAm由来単位のモル比がいずれも2モル%であることを除き、実施例1と同様にしてゲル(HG2)を得た。
単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位及びAd-AAm由来単位のモル比がいずれも3モル%であることを除き、実施例1と同様にしてゲル(HG3)を得た。
単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位及びAd-AAm由来単位のモル比がいずれも4モル%であることを除き、実施例1と同様にしてゲル(HG4)を得た。
単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位及びAd-AAm由来単位のモル比がいずれも5モル%であることを除き、実施例1と同様にしてゲル(HG5)を得た。
単量体の総濃度を2.5 mol/kgとしたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG6)を得た。
単量体の総濃度を3.0 mol/kgとしたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG7)を得た。
単量体(B)として、1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に替えてアダマンテートM-104(登録商標、大阪有機化学工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG8)を得た。
単量体(B)として、1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に替えてアダマンテートM-105(登録商標、大阪有機化学工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG9)を得た。
単量体(B)として、1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に替えてアダマンテートM-109(登録商標、大阪有機化学工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG10)を得た。
単量体(B)として、1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に替えてアダマンテートHM(登録商標、大阪有機化学工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG11)を得た。
単量体(B)として、1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に替えてMADMA(登録商標、大阪有機化学工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG12)を得た。
単量体(B)として、1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に替えてEAMA(P)(登録商標、大阪有機化学工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG13)を得た。
単量体(C)として、アクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)に替えてN,N-ジメチルアクリルアミド(DMA)(シグマアルドリッチ社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG14)を得た。
単量体(C)として、アクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)に替えてN-イソプロピルアクリルアミド(NIPAAm)(和光純薬工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG15)を得た。
単量体(C)として、アクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)に替えてヒドロキシエチルアクリレート(HEA)(東京化成工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG16)を得た。
単量体(C)として、アクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)に替えてヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)(東京化成工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG17)を得た。
単量体(C)として、アクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)に替えてヒドロキシメチルアクリルアミド(HMAAm)(和光純薬工業株式会社製)を用いたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG18)を得た。
サンプル瓶 (3 mL) に、単量体(A)として6-アクリルアミド-β-シクロデキストリン(βCD-AAm)、及び単量体(B)として1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に水を加えて混合し、密封して90℃にて3時間加熱攪拌した。得られた溶液を室温まで放冷し、そこに単量体(C)としてアクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)、及び化学架橋剤としてN,N’-メチレンビスアクリルアミド(MBAAm)(ナカライテスク株式会社製)を加えて溶解した。得られた溶液におけるβCD-AAm、Ad-AAm、AAm、MBAAmの濃度並びにこれらの単量体の総濃度をそれぞれそれぞれ20 mmol/kg、20 mmol/kg、10 mmol/kg、1.94 mol/kg及び2 mol/kgとした。その後、過硫酸アンモニウム(APS)20 mmol/kg及び[2-(ジメチルアミノ)エチル]ジメチルアミン(TEMED)20 mmol/kgをこの順に加え、室温で1時間放置して重合させ、洗浄し、単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位、Ad-AAm由来単位及びMBAAm由来単位のモル比がそれぞれ2モル%、2モル%、2モル%及び1モル%であるゲル(HG19)を得た。
実施例20
実施例2と同様にして得たゲルを乾燥し、キセロゲル(XG1)を得た。
実施例14と同様にして得たゲルを乾燥し、キセロゲル(XG2)を得た。
実施例15と同様にして得たゲルを乾燥し、キセロゲル(XG3)を得た。
実施例16と同様にして得たゲルを乾燥し、キセロゲル(XG4)を得た。
実施例17と同様にして得たゲルを乾燥し、キセロゲル(XG5)を得た。
実施例18と同様にして得たゲルを乾燥し、キセロゲル(XG6)を得た。
サンプル瓶 (3 mL) に、単量体(A)として6-アクリルアミド-β-シクロデキストリン(βCD-AAm)、及び単量体(B)として1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に水を加えて混合し、密封して90℃にて3時間加熱攪拌した。得られた溶液を室温まで放冷し、そこに単量体(C)としてアクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)を加えて溶解した。得られた溶液におけるβCD-AAm、Ad-AAm及びAAmの濃度並びにこれらの単量体の総濃度をそれぞれ20 mmol/kg、20 mmol/kg、1.96 mol/kg及び2 mol/kgとした。この液に光重合開始剤(イルガキュア(登録商標))を加えた溶液をテフロン(登録商標)とガラスで挟み、UV光を照射することによってフィルム状のゲルを得た。
サンプル瓶 (3 mL) に、単量体(A)として6-アクリルアミド-β-シクロデキストリン(βCD-AAm)、及び単量体(B)として1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に水を加えて混合し、密封して90℃にて3時間加熱攪拌した。得られた溶液を室温まで放冷し、そこに単量体(C)としてアクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)を加えて溶解した。得られた溶液におけるβCD-AAm、Ad-AAm及びAAmの濃度並びにこれらの単量体の総濃度をそれぞれ20 mmol/kg、20 mmol/kg、1.96 mol/kg及び2 mol/kgとした。この液に光重合開始剤(イルガキュア(登録商標))を加えた溶液を2枚のガラスで挟み、UV光を照射することによってフィルム状のゲルを得た。
サンプル瓶 (3 mL) に、単量体(A)として6-アクリルアミド-β-シクロデキストリン(βCD-AAm)、及び単量体(B)として1-アクリルアミドアダマンタン(Ad-AAm)に水を加えて混合し、密封して90℃にて3時間加熱攪拌した。得られた溶液を室温まで放冷し、そこに単量体(C)としてアクリルアミド(AAm)(和光純薬工業株式会社製)を加えて溶解した。得られた溶液におけるβCD-AAm、Ad-AAm及びAAmの濃度並びにこれらの単量体の総濃度をそれぞれ20 mmol/kg、20 mmol/kg、1.96 mol/kg及び2 mol/kgとした。この液に光重合開始剤(イルガキュア(登録商標))を加えた溶液をエアブラシを用いてガラスの表面に塗布し、UV光を照射することによってフィルム状のゲルを得た。
単量体の総濃度を1 mol/kgとしたことを除き、実施例1と同様にしてゲル(HG20)を得た。
単量体の総濃度を1 mol/kgとしたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG21)を得た。
単量体の総濃度を1 mol/kgとしたことを除き、実施例3と同様にしてゲル(HG22)を得た。
単量体の総濃度を1.5 mol/kgとしたことを除き、実施例2と同様にしてゲル(HG23)を得た。
ポリウレタン製耐震用ゴム(輸入販売元:コーナン商事株式会社)
比較例6
サンプル瓶 (3 mL) に、単量体(C)としてヒドロキシエチルアクリレート(HEA)(東京化成工業株式会社製)、及び化学架橋剤としてN,N-メチレンビスアクリルアミド(MBAAm)(ナカライテスク株式会社製)を加えて溶解した。得られた溶液における、HEA、MBAAmの濃度並びにこれらの単量体の総濃度をそれぞれ1.98 mol/kg、20 mmol/kg、及び2 mol/kgとした。その後、過硫酸アンモニウム(APS)20 mmol/kg及び[2-(ジメチルアミノ)エチル]ジメチルアミン(TEMED)20 mmol/kgをこの順に加え、室温で1時間放置して重合させ、洗浄しゲルを得、該ゲルを乾燥し、キセロゲル(XG7)を得た。
試験例1−1(圧縮試験)
上記の試験法により得られた応力-ひずみ曲線の初期傾きからゲルのヤング率(E)を測定した。実施例1〜7及び比較例1〜4のゲルにおける圧縮試験の結果を図1〜3に示す。
上記の試験法により得られた応力-ひずみ曲線を図4〜9に示す。
比較例1、実施例2及び実施例7のゲルを用いて、繰返し引張り試験を行った。引張り速度は1 mm/sとした。ゲルに対し、ひずみを以下のように繰返し加えてその応力を測定した。加えたひずみと時間との関係及び得られた応力-ひずみ曲線を図10に示す。
(2)0%→400%→0%
(3)0%→600%→0%
(4)0%→800%→0%
(5)0%→1000%→0%
試験例2−1(切断試験)
図11に示す通り、単量体の総濃度が2 mol/kgであって、単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位及びAd-AAm由来単位のモル比がいずれも3モル%であるゲル(実施例3)は、カッターにより切断を試みた場合であっても、容易に切断されなかった。
図11に示す通り、単量体の総濃度が2 mol/kgであって、単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位及びAd-AAm由来単位のモル比がいずれも2モル%であるゲル(実施例2)は、尖った鉛筆の先端又はカッター刃の先端による貫通を試みた場合であっても、容易に貫通されなかった。
試験例3−1(切断片再接着試験)
単量体の総濃度が2 mol/kgであって、単量体の総量に対してβCD-AAm由来単位及びAd-AAm由来単位のモル比がいずれも3モル%であるゲル(実施例3)をカッターを用いて高い力をかけて切断した切断片を、その切断面で接触させたところ、再接着した。ゲルを切断し、接触させ、再接着する工程を図12に示す。
実施例26〜28で得られたフィルム状のゲルを室温で静置し乾燥させた。得られたフィルム状のキセロゲルの表面に、剃刀で傷を付した。キセロゲル表面の前記傷部に、少量の水を添加することによって、該傷は修復した。
Claims (15)
- 自己修復材料であって、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)に由来する単量体単位(a)、
式(B):
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)に由来する単量体単位(b)、及び
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)に由来する単量体単位(c)
を含む重合体であって、
式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体と、
水系媒体とを含み、
前記単量体単位(a)、(b)及び(c)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下のゲルである、自己修復材料。 - 自己修復材料であって、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)に由来する単量体単位(a)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)に由来する単量体単位(b)、及び
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)に由来する単量体単位(c)
を含む重合体であって、
式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体と、
水系媒体とを含み、
前記単量体単位(a)、(b)及び(c)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下のゲルを乾燥させて得られるキセロゲルである、自己修復材料。 - 前記自己修復材料中における、単量体単位の総量に対する前記単量体単位(a)及び(b)の割合が、それぞれ1〜10モル%及び1〜10モル%の範囲に含まれる、請求項1又は2に記載の自己修復材料。
- 前記式(B)において、前記R2が、アルキル基、アルデヒド基、カルボキシル基及びアミド基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の自己修復材料。
- 前記式(B)において、前記R2及びRBが一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよいアダマンチルアミド基を形成している、請求項1〜5のいずれか一項に記載の自己修復材料。
- 前記単量体(B)がアクリルアミドアダマンタンである、請求項1〜6のいずれか一項に記載の自己修復材料。
- 前記RAが、β-シクロデキストリンである、請求項1〜8のいずれか一項に記載の自己修復材料。
- 式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよい炭素数1〜30のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)、
式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)、
重合開始剤、及び
水系溶媒を含み、
前記単量体単位(a)、(b)及び(c)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下である、
請求項1又は2に記載の自己修復材料を製造するための液状組成物。 - 自己修復材料の製造方法であって、
式(A):
RMは水素、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基からなる群より選択され、R1はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個以上の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RAはα-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン又はγ-シクロデキストリンを表す。]
で表される1種以上の単量体(A)、
式(B):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R2はヒドロキシル基、チオール基、1個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される1価の基から1個の水素原子を除去することにより形成される2価の基を表し、
RBはそれぞれ1個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体から水素原子を1個除去することにより形成される1価の基からなる群より選択される1種を表し、
R2とRBとは一緒になって、1個以上の置換基を有していてもよい1価の基を形成していてもよい。]
で表される1種以上の単量体(B)及び、式(C):
RMは上記式(A)のRMと同義であり、R3はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、1個の置換基を有していてもよいアミノ基、1個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又は1個の置換基を有していてもよいアミド基を表す。]
で表される1種以上の単量体(C)を水系溶媒中で混合し、溶解し、前記単量体(A)、(B)及び(C)の総濃度が2.0 mol/kg以上5.0 mol/kg以下である単量体混合溶液Aを得る工程Aと、
前記単量体混合溶液Aに重合開始剤を加えて式(1-1):
a、b及びcはそれぞれ前記単量体単位(a)、(b)及び(c)を表し、
nは繰り返し数であって、2以上の整数。]
で表される重合体を含むゲルを得る工程Bとを含む、
製造方法。 - 前記工程Bで得られたゲルを乾燥させてキセロゲルを得る工程Cをさらに含む、請求項11に記載の製造方法。
- 前記単量体混合溶液Aにおける単量体(A)、(B)及び(C)の総量に対する前記単量体(A)及び前記単量体(B)のモル比が、それぞれ1〜10モル%及び1〜10モル%の範囲に含まれる、請求項11又は12に記載の製造方法。
- 前記重合開始剤が、光重合開始剤である、請求項11〜13のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記重合開始剤が、過硫酸アンモニウム(APS)又はN,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン(TEMED)である、請求項11〜14のいずれか一項に記載の製造方法。
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