JPWO2016104218A1 - 感光性樹脂組成物及び接着剤組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物及び接着剤組成物 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2016104218A1
JPWO2016104218A1 JP2016566125A JP2016566125A JPWO2016104218A1 JP WO2016104218 A1 JPWO2016104218 A1 JP WO2016104218A1 JP 2016566125 A JP2016566125 A JP 2016566125A JP 2016566125 A JP2016566125 A JP 2016566125A JP WO2016104218 A1 JPWO2016104218 A1 JP WO2016104218A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
photosensitive resin
resin composition
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016566125A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6421953B2 (ja
Inventor
拓矢 大橋
拓矢 大橋
佐藤 哲夫
哲夫 佐藤
護 田村
護 田村
榎本 智之
榎本  智之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Publication of JPWO2016104218A1 publication Critical patent/JPWO2016104218A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6421953B2 publication Critical patent/JP6421953B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J175/00Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04Polyurethanes
    • C09J175/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J175/16Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/62Polymers of compounds having carbon-to-carbon double bonds
    • C08G18/6204Polymers of olefins
    • C08G18/6208Hydrogenated polymers of conjugated dienes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/09Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10Esters; Ether-esters
    • C08K5/101Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
    • C08K5/103Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids with polyalcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L75/00Compositions of polyureas or polyurethanes; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L75/04Polyurethanes
    • C08L75/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C08L75/16Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • C09J4/06Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09J159/00 - C09J187/00
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/035Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

【課題】新規な感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される繰り返しの構造単位を有し(メタ)アクリロイル基を両末端に有する重合体、二官能(メタ)アクリレート化合物、多官能チオール化合物、光ラジカル発生剤、及び有機溶剤を含み、前記重合体の含有量に対し、前記二官能(メタ)アクリレート化合物を5質量%乃至50質量%含有し、前記多官能チオール化合物を0.1質量%乃至10質量%含有する、感光性樹脂組成物。【化1】(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に単結合、メチレン基又はエチレン基を表し、Yは上記式(2)で表されるアルキレン基を表すか又は該式(2)で表されるアルキレン基及び上記式(3)で表されるアルキレン基の組み合わせを表し、nは1乃至110の整数を表し、Xは二価の、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。)【選択図】なし

Description

本発明は、例えば、CMOSイメージセンサーなどの固体撮像素子用の透湿防止膜を形成するための感光性樹脂組成物に関する。本発明はまた、露光前は粘着性を有し、露光後に硬化し粘着性が弱まる性質を備えた接着剤組成物に関する。
ビデオカメラ、デジタルスチルカメラなどに利用される安価で小型な固体撮像素子が知られている。例えば、特許文献1の図1にその固体撮像素子の断面図が開示されている。その図1には、光透過性基板2の周囲を撥水性樹脂等の不透湿性樹脂6で封止することが描かれている。同文献には“固体撮像素子に用いられるカラーフィルターは、染料又は顔料をゼラチンやポリビニルアルコールなどに混ぜて塗布したものが多く用いられるが、湿度と温度により分光特性が劣化しやすいため、特に水分の浸入を阻止することが求められる”と記載され、さらに“透湿度が数十g/m・24Hr以下の不透湿性樹脂で封止することで、素子の寿命を延ばすことができる”とも記載されている。
紫外線を照射することにより、短時間で硬化する粘着剤組成物が特許文献2及び特許文献3に開示されている。特許文献2に開示されている粘着剤組成物は、ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂[A]と、脂肪族又は脂環族アルキル(メタ)アクリレート[B]とを含み、さらに光重合開始剤が添加されている。特許文献3に開示されている粘着剤組成物は、ウレタン(メタ)アクリレート系樹脂[A]と、エチレン性不飽和単量体[B]とを含み、さらに光重合開始剤が添加されている。そして、上記粘着剤組成物から得られた粘着剤シートを、SUS研磨板に貼り付け、2kgローラーにて2往復し、30分後の180度剥離試験を行い、粘着性を評価したことが記載されている。
特開2000−323692号公報 特開2002−309185号公報 特開2004−143233号公報
露光後に粘着剤として使用される粘着性を有する膜は、硬化が不十分と考えられ、有機溶剤に対する耐性も不十分である。また、当該膜は現像時にその一部が溶解するため、現像後に形成されるパターン上部が丸みを帯び、矩形とならない。本発明は、硬化性を向上させることで露光後の粘着性を低下させ、有機溶剤耐性を発現する感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
本発明は、下記式(1)で表される繰り返しの構造単位を有し(メタ)アクリロイル基を両末端に有する重合体、下記式(4)で表される化合物、下記式(5)で表される化合物、光ラジカル発生剤、及び有機溶剤を含み、前記重合体の含有量に対し、前記式(4)で表される化合物を5質量%乃至50質量%含有し、前記式(5)で表される化合物を0.1質量%乃至10質量%含有する、感光性樹脂組成物である。
Figure 2016104218




(式中、R及びRはそれぞれ独立に単結合、メチレン基又はエチレン基を表し、Yは上記式(2)で表されるアルキレン基を表すか又は該式(2)で表されるアルキレン基及び上記式(3)で表されるアルキレン基の組み合わせを表し、nは1乃至110の整数を表し、Xは二価の、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。)
Figure 2016104218




(式中、Aは二価の脂環式炭化水素基を表し、R及びRはそれぞれ独立に単結合、メチレン基又はエチレン基を表し、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。)
Figure 2016104218




(式中、Rはメチレン基、エチレン基、プロピレン基又はトリメチレン基を表し、mは2乃至4の整数を表し、Zは炭素原子数4乃至9の有機基を表す。)
本発明の感光性樹脂組成物は、透湿防止膜形成用の組成物又は接着剤組成物として有用である。
本発明の感光性樹脂組成物から形成される膜は、固体撮像素子の透湿防止膜として満足できる透湿性を備えている。さらに前記膜は、露光前は粘着性を有し、露光後に硬化し粘着性が弱まる性質を備えている。
[重合体]
本発明の組成物は、式(1)で表される繰り返しの構造単位を有し(メタ)アクリロイル基を両末端に有する重合体を含む。前記重合体として、水添ポリブタジエン系ウレタンアクリレート樹脂が好ましく用いられ、例えば、UV−3630ID80、UV−3635ID80(以上、日本合成化学工業(株)製)が挙げられる。
上記重合体は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
上記重合体の重量平均分子量は、例えば10,000乃至100,000である。
[式(4)で表される化合物]
本発明の組成物は、式(4)で表される、二官能(メタ)アクリレート化合物を含む。その化合物として、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジエタノールジアクリレート、トリシクロデカンジエタノールジメタクリレートが挙げられる。
上記式(4)で表される化合物は、市販品として入手が可能であり、例えば、A−DCP、DCP(以上、新中村化学工業(株)製)が挙げられる。
上記式(4)で表される化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の組成物における式(4)で表される化合物の含有量は、上記重合体の含有量に対して、5質量%乃至50質量%、好ましくは10質量%乃至30質量%である。
[式(5)で表される化合物]
本発明の組成物は、式(5)で表される、多官能チオール化合物を含む。その化合物として、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチリルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3−メルカプトブチレート)が挙げられる。
上記式(5)で表される化合物は、市販品として入手が可能であり、例えば、カレンズMT(登録商標)PE1、同BD1、同NR1(以上、昭和電工(株)製)が挙げられる。
本発明の組成物における式(5)で表される化合物の含有量は、上記重合体の含有量に対して、0.1質量%乃至10質量%、好ましくは1質量%乃至5質量%である。
[光ラジカル発生剤]
本発明の組成物は光ラジカル発生剤を含む。その光ラジカル発生剤として、光硬化時に使用する光源に吸収をもつ化合物であれば特に限定されないが、例えば、tert−ブチルペルオキシ−iso−ブチレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルジオキシ)ヘキサン、1,4−ビス[α−(tert−ブチルジオキシ)−iso−プロポキシ]ベンゼン、ジ−tert−ブチルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(tert−ブチルジオキシ)ヘキセンヒドロペルオキシド、α−(iso−プロピルフェニル)−iso−プロピルヒドロペルオキシド、tert−ブチルヒドロペルオキシド、1,1−ビス(tert−ブチルジオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルジオキシ)バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、2,2’,5,5’−テトラ(tert−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−アミルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ヘキシルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ビス(tert−ブチルペルオキシカルボニル)−4,4’−ジカルボキシベンゾフェノン、tert−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−tert−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物;9,10−アントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン等のキノン類;ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体;2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−[4−{4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)ベンジル}−フェニル]−2−メチル−プロパン−1−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−1−ブタノン、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチル−ベンジル)−1−(4−モリホリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン等のアルキルフェノン系化合物;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物;1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン2−(O−ベンゾイルオキシム)、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノンO−アセチルオキシム等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
上記光ラジカル発生剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、IRGACURE(登録商標)651、同184、同500、同2959、同127、同754、同907、同369、同379、同379EG、同819、同819DW、同1800、同1870、同784、同OXE01、同OXE02、同250、同1173、同MBF、同TPO、同4265(以上、BASFジャパン(株)製)、KAYACURE(登録商標)DETX、同MBP、同DMBI、同EPA、同OA(以上、日本化薬(株)製)、VICURE−10、同55(以上、STAUFFER Co.LTD製)、ESACURE KIP150、同TZT、同1001、同KTO46、同KB1、同KL200、同KS300、同EB3、トリアジン−PMS、トリアジンA、トリアジンB(以上、日本シイベルヘグナー(株)製)、アデカオプトマーN−1717、同N−1414、同N−1606(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
上記光ラジカル発生剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の組成物における光ラジカル発生剤の含有量は、上記重合体の含有量に対して、例えば0.1phr乃至30phr、好ましくは1phr乃至20phrである。この含有量の割合が下限値に満たない場合には、十分な硬化性が得られない。ここで、phrとは、重合体の質量100gに対する、光重合開始剤の質量を表す。
[有機溶剤]
本発明の組成物は有機溶剤を含む。その有機溶剤として、本発明の組成物に含まれる各成分を溶解するものであれば特に限定されないが、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン、2−ブタノン、2−ヘプタノン等のケトン類;エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール又はジプロピレングリコールモノアセテート、並びにこれらのモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル、モノフェニルエーテル等の多価アルコール類及びその誘導体;ジオキサン等の環式エーテル類;γ−ブチロラクトン等のラクトン類;及び乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステル類が挙げられる。
上記有機溶剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
上記各成分、及び後述するその他添加剤を含む全成分から有機溶剤を除いたものとして定義される固形分は、本発明の組成物に対して、例えば0.5質量%乃至95質量%、好ましくは1質量%乃至90質量%含有することができる。
[その他の添加剤]
本発明の組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、単官能(メタ)アクリレート、界面活性剤などの添加剤を含有してもよい。
上記単官能(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリロイル基を1つ有する単量体であり、例えば、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレート、イソステアリルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルサクシネート、イソステアリルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、2−メタクリロイルオキシエチルサクシネートが挙げられる。
上記単官能(メタ)アクリレートは、市販品として入手が可能であり、例えばNKエステルAM−90G、同A−SA、同S−1800A、同M−90G、同S、同SA(以上、新中村化学工業(株)製)が挙げられる。
上記界面活性剤として、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。
上記界面活性剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、エフトップ(登録商標)EF301、同EF303、同EF352(三菱マテリアル電子化成(株)製)、メガファック(登録商標)F−553、同F−554、同F−556、同F−477、同F171、同F173、同R−08、同R−30、同R−30N、同R−40、同R−40−LM(DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431(住友スリーエム(株)製)、商品名アサヒガード(登録商標)AG710、サーフロン(登録商標)S−382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106(旭硝子(株)製)等のフッ素系界面活性剤;及びオルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)が挙げられる。
本発明の組成物は、例えば、式(1)で表される繰り返しの構造単位を有し、(メタ)アクリロイル基を両末端に有する重合体、式(4)で表される二官能(メタ)アクリレート化合物、式(5)で表される多官能チオール化合物、及びラジカル発生剤を、有機溶剤に溶解させて調製することができる。
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
以下に記載する合成例で得られたポリマーのGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)分析は、下記の装置を用い、測定条件は下記のとおりである。
装置:一体型高速GPCシステム HLC−8220GPC 東ソー(株)製
カラム:KF−G,KF804L
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
流量:1.0mL/分
標準試料:ポリスチレン
ディテクター:RI
<比較合成例1>
2,2−ビス(4−グリシジルオキシシクロヘキサン)プロパン55.00g、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸24.97g、及びベンジルトリエチルアンモニウムクロリド1.40gをシクロヘキサノン189.88gに溶解させた後、160℃で4時間反応させ、室温に冷却後、追加でメタクリル酸グリシジル30.32g、及びベンジルトリエチルアンモニウムクロリド1.21gを溶解させ、160℃で3時間反応させポリマーを含む溶液を得た。得られたポリマーのGPC分析を行ったところ、標準ポリスチレン換算にて重量平均分子量は4,100であった。なお、得られたポリマーは、下記式で表される構造単位を有し且つポリマー末端にメタクリル基を有するポリマーであると考えられる。
Figure 2016104218



<実施例1>
水添ポリブタジエン系ウレタンアクリレート樹脂であるUV−3630ID80(日本合成化学工業(株)製)38.00g、水添ポリブタジエン系ウレタンアクリレート樹脂であるUV−3635ID80(日本合成化学工業(株)製)38.00g、IRGACURE184(BASF社製)3.80g、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(新中村化学工業(株)製)11.40g、及びペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)(昭和電工(株)製)0.76gを、シクロヘキサノン15.16gに溶解させ組成物を調製した。
<実施例2>
水添ポリブタジエン系ウレタンアクリレート樹脂であるUV−3635ID80(日本合成化学工業(株)製)23.00g、IRGACURE184(BASF社製)1.15g、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(新中村化学工業(株)製)2.30g、及びペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)(昭和電工(株)製)0.46gを、シクロヘキサノン6.44gに溶解させ組成物を調製した。
<比較例1>
比較合成例1で得られたポリマー溶液(固形分65.91質量%)50.00g、IRGACURE184(BASF社製)1.65g、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(新中村化学工業(株)製)4.94g、及びペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)(昭和電工(株)製)0.82gを、シクロヘキサノン0.26gに溶解させ組成物を調製した。
<比較例2>
水添ポリブタジエン系ウレタンアクリレート樹脂であるUV−3630ID80(日本合成化学工業(株)製)90.00g、IRGACURE184(BASF社製)1.65g、シクロヘキサノン16.12gに溶解させ組成物を調製した。
[透湿度試験]
JIS Z 0208(カップ法)
実施例1及び比較例1で調製した組成物をそれぞれカプトンフィルム(東レデュポン社製)上に成膜し、120℃でプリベーク、アライナー(PLA−501、キヤノン(株)製)を用い露光(ghi線ブロードバンド、露光量:3000mJ/cm)、さらに150℃でベーク後、シクロヘキサノン及び2−プロパノール混合溶液にて現像し、目的の膜を得た。前記露光の際は、透湿度測定カップに塩化カルシウムを入れ、フィルム径が6cmとなるように得られた膜を設置した。初期の全体質量を測定し、40℃/60%の恒温恒湿槽に設置し、24時間後の全体質量を測定し水の質量増加量を算出して、膜の透湿度を評価した。実施例1の組成物から得られた膜の透湿度は35.2g/m・day、比較例1の組成物から得られた膜の透湿度は59.4g/m・dayであり、前者の膜の方が透湿防止性に優れることを示している。
[タック性試験1]
JIS Z 0237(プローブタック法)
実施例1及び比較例2で調製した組成物をそれぞれシリコンウェハ上に成膜し、120℃でプリベークして目的の膜を得た。そのプリベークした膜を、アライナー(PLA−501、キヤノン(株)製)を用い露光(ghi線ブロードバンド、露光量:3000mJ/cm)、さらに150℃でベーク後、シクロヘキサノン及び2−プロパノール混合溶液にて現像し、目的の膜を得た。得られた4種の膜に円筒形状の圧子を押し付け、引き剥がす際の粘着応力を測定する、タック性試験を実施した。試験条件は試験温度23℃、圧子形状直径2mm、試験速度50mm/min、初期圧力1MPaとした。試験に用いた装置は、デジタル材料試験機(55R−5867、INSTRON社製)である。実施例1の組成物から得られた膜の粘着応力は、未露光の膜が3.5MPaで、露光及び現像後の膜が1.0MPaであった。一方、比較例2の組成物から得られた膜の粘着応力は、未露光の膜が4.2MPaで、露光及び現像後の膜が2.4MPaであった。この結果は、実施例1の組成物から得られた膜と比較例2の組成物から得られた膜の粘着応力は、いずれも露光及び現像後に低下したが、前者の膜の方が露光及び現像による粘着応力の低下率が高く、最も粘着性が弱くなったことを示している。
[タック性試験2]
JIS Z 0237(180°剥離試験)
実施例1及び比較例2で調製した組成物をそれぞれシリコンウェハ上に成膜し、120℃でプリベークした膜を、アライナー(PLA−501、キヤノン(株)製)を用い露光(ghi線ブロードバンド、露光量:3000mJ/cm)、さらに150℃でベーク後、シクロヘキサノン及び2−プロパノール混合溶液にて現像し、目的の膜を得た。得られた2種の膜を、幅10mm及び長さ10cmのテープ状に加工し、試料とした。表面が研磨されたステンレス板に、前記テープ状に加工した試料を、圧着ローラーを用いて1kg荷重にて貼り付けた後、当該試料を180°方向に引き剥がすのに要する力を測定した。実施例1の組成物から得られた膜をテープ状に加工した試料の粘着応力は、0.12N/10cmであった。一方、比較例2の組成物から得られた膜をテープ状に加工した試料の粘着応力は、0.44N/10cmであった。この結果は、実施例1の組成物から得られた露光及び現像後の膜をテープ状に加工した試料の粘着性は、比較例2の組成物から得られた露光及び現像後の膜をテープ状に加工した試料の粘着性よりも弱いことを示している。
本発明の感光性樹脂組成物から形成される膜は、例えばCMOSイメージセンサーなどの固体撮像素子の透湿防止膜において満足される高い透湿性を備えており、従って、本発明の感光性樹脂組成物は固体撮像素子の透湿防止膜を形成するための組成物として有用である。また本発明の感光性樹脂組成物は露光後の粘着性がより低いものとなるため、この点ですぐれた接着剤組成物としても有用である。

Claims (10)

  1. 下記式(1)で表される繰り返しの構造単位を有し(メタ)アクリロイル基を両末端に有する重合体、下記式(4)で表される化合物、下記式(5)で表される化合物、光ラジカル発生剤、及び有機溶剤を含み、
    前記重合体の含有量に対し、前記式(4)で表される化合物を5質量%乃至50質量%含有し、前記式(5)で表される化合物を0.1質量%乃至10質量%含有する、
    感光性樹脂組成物。
    Figure 2016104218




    (式中、R及びRはそれぞれ独立に単結合、メチレン基又はエチレン基を表し、Yは上記式(2)で表されるアルキレン基を表すか又は該式(2)で表されるアルキレン基及び上記式(3)で表されるアルキレン基の組み合わせを表し、nは1乃至110の整数を表し、Xは二価の、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。)
    Figure 2016104218




    (式中、Aは二価の脂環式炭化水素基を表し、R及びRはそれぞれ独立に単結合、メチレン基又はエチレン基を表し、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。)
    Figure 2016104218




    (式中、Rはメチレン基、エチレン基、プロピレン基又はトリメチレン基を表し、mは2乃至4の整数を表し、Zは炭素原子数4乃至9の有機基を表す。)
  2. 前記重合体の重量平均分子量は10,000乃至100,000である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 前記重合体を少なくとも2種含み、前記2種の重合体は重量平均分子量が互いに異なるものである、請求項2に記載の感光性樹脂組成物。
  4. 前記式(4)で表される化合物はトリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレートである、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
  5. 前記重合体の含有量に対し前記式(4)で表される化合物を10質量%乃至30質量%含有する、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
  6. 前記式(5)で表される化合物はペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)である、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
  7. (メタ)アクリロイル基を1つ有する単量体をさらに含む請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
  8. 前記単量体はイソデシル(メタ)アクリレートである、請求項7に記載の感光性樹脂組成物。
  9. 透湿防止膜形成用である請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
  10. 接着剤組成物である請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
JP2016566125A 2014-12-22 2015-12-14 感光性樹脂組成物及び接着剤組成物 Expired - Fee Related JP6421953B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014258798 2014-12-22
JP2014258798 2014-12-22
PCT/JP2015/084930 WO2016104218A1 (ja) 2014-12-22 2015-12-14 感光性樹脂組成物及び接着剤組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2016104218A1 true JPWO2016104218A1 (ja) 2017-10-19
JP6421953B2 JP6421953B2 (ja) 2018-11-14

Family

ID=56150246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016566125A Expired - Fee Related JP6421953B2 (ja) 2014-12-22 2015-12-14 感光性樹脂組成物及び接着剤組成物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10208184B2 (ja)
JP (1) JP6421953B2 (ja)
KR (1) KR20170098221A (ja)
CN (1) CN107111231B (ja)
SG (1) SG11201704956UA (ja)
TW (1) TWI656170B (ja)
WO (1) WO2016104218A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018119849A1 (en) * 2016-12-29 2018-07-05 Henkel Ag & Co. Kgaa Photo-curable adhesive composition, cured product and use thereof
CN111263777B (zh) * 2017-10-31 2023-03-28 阿科玛法国公司 含有硫醇化合物的可固化组合物
WO2019093157A1 (ja) * 2017-11-13 2019-05-16 日本化薬株式会社 紫外線硬化型接着剤組成物、その硬化物および紫外線硬化型接着剤組成物を用いた光学部材の製造方法
JPWO2019208517A1 (ja) * 2018-04-23 2021-05-20 日本化薬株式会社 紫外線硬化型の接着剤組成物、その硬化物及び光学部材の製造方法
CN112789341B (zh) * 2018-10-05 2024-03-08 日本曹达株式会社 粘接性组合物
JP7302333B2 (ja) * 2019-06-27 2023-07-04 株式会社レゾナック 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007206600A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性平版印刷版材料及びその製版方法
WO2013031678A1 (ja) * 2011-08-26 2013-03-07 電気化学工業株式会社 硬化性樹脂組成物
JP2014080497A (ja) * 2012-10-16 2014-05-08 Bridgestone Corp 光硬化性エラストマー組成物、シール材、及び装置
WO2014196415A1 (ja) * 2013-06-06 2014-12-11 横浜ゴム株式会社 光硬化性樹脂および光硬化性樹脂組成物
JP2014237734A (ja) * 2013-06-06 2014-12-18 昭和電工株式会社 光硬化性樹脂組成物及びタッチパネル付き表示装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000250212A (ja) * 1999-03-02 2000-09-14 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 感光性樹脂組成物
JP2000323692A (ja) 1999-05-07 2000-11-24 Canon Inc 固体撮像装置
JP4868654B2 (ja) * 2001-04-13 2012-02-01 日本合成化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物、および該組成物の製造方法
JP4404183B2 (ja) 2002-10-23 2010-01-27 日本合成化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物
JP5051365B2 (ja) * 2006-08-24 2012-10-17 Jsr株式会社 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル
WO2010098183A1 (ja) * 2009-02-26 2010-09-02 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
KR101099336B1 (ko) * 2009-12-28 2011-12-26 도레이 카부시키가이샤 포지티브형 감광성 수지 조성물
JP5741017B2 (ja) * 2011-01-28 2015-07-01 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007206600A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性平版印刷版材料及びその製版方法
WO2013031678A1 (ja) * 2011-08-26 2013-03-07 電気化学工業株式会社 硬化性樹脂組成物
JP2014080497A (ja) * 2012-10-16 2014-05-08 Bridgestone Corp 光硬化性エラストマー組成物、シール材、及び装置
WO2014196415A1 (ja) * 2013-06-06 2014-12-11 横浜ゴム株式会社 光硬化性樹脂および光硬化性樹脂組成物
JP2014237734A (ja) * 2013-06-06 2014-12-18 昭和電工株式会社 光硬化性樹脂組成物及びタッチパネル付き表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN107111231B (zh) 2020-06-09
US10208184B2 (en) 2019-02-19
TW201638215A (zh) 2016-11-01
WO2016104218A1 (ja) 2016-06-30
JP6421953B2 (ja) 2018-11-14
US20170342238A1 (en) 2017-11-30
SG11201704956UA (en) 2017-07-28
TWI656170B (zh) 2019-04-11
CN107111231A (zh) 2017-08-29
KR20170098221A (ko) 2017-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6421953B2 (ja) 感光性樹脂組成物及び接着剤組成物
JP6379390B2 (ja) 無溶剤型光硬化性樹脂組成物
JP6319596B2 (ja) 高耐擦傷性インプリント材料
JP6404557B2 (ja) 硬化性樹脂組成物
KR102226670B1 (ko) 실세스퀴옥산 화합물 및 변성 실리콘 화합물을 포함하는 임프린트 재료
JP6569875B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物
JP5884988B2 (ja) ウレタン化合物を含む高耐擦傷性インプリント材料
JP6605053B2 (ja) 光硬化性組成物及びそれから形成された光硬化膜
JP2013095833A (ja) 高屈折率インプリント材料
CN113677722A (zh) 防护膜组件
CN108329423B (zh) 光固化性组合物及由该光固化性组合物形成的光固化膜
JP6508488B2 (ja) インプリント材料
JP6118747B2 (ja) 硬化性組成物、光学部品、および、化合物
JP6764134B2 (ja) 感光性接着剤組成物
JP2022135427A (ja) ネガ型感光性樹脂組成物およびその用途
KR20130136735A (ko) 알칼리 가용성 수지를 함유하는 감광성 수지 조성물
JPWO2019031360A1 (ja) インプリント用レプリカモールド材料

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180919

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181002

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6421953

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees