JP6605053B2 - 光硬化性組成物及びそれから形成された光硬化膜 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 112
- -1 allyl ether compound Chemical class 0.000 claims description 162
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 49
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 49
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 40
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 36
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 24
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 24
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005725 cyclohexenylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 3
- HUWSZNZAROKDRZ-RRLWZMAJSA-N (3r,4r)-3-azaniumyl-5-[[(2s,3r)-1-[(2s)-2,3-dicarboxypyrrolidin-1-yl]-3-methyl-1-oxopentan-2-yl]amino]-5-oxo-4-sulfanylpentane-1-sulfonate Chemical compound OS(=O)(=O)CC[C@@H](N)[C@@H](S)C(=O)N[C@@H]([C@H](C)CC)C(=O)N1CCC(C(O)=O)[C@H]1C(O)=O HUWSZNZAROKDRZ-RRLWZMAJSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 83
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 33
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 23
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 20
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 17
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYWKXBAMJYTKP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(3-sulfanylpropanoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)CCS BXYWKXBAMJYTKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXWFZIRWWNPPOV-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzaldehyde Chemical compound NC1=CC=CC=C1C=O FXWFZIRWWNPPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 4-(3-sulfanylbutanoyloxy)butyl 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCCCCOC(=O)CC(C)S LABQKWYHWCYABU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEWLHMQYEZXSBH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)CCC(O)=O ZEWLHMQYEZXSBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100027123 55 kDa erythrocyte membrane protein Human genes 0.000 description 1
- 101001057956 Homo sapiens 55 kDa erythrocyte membrane protein Proteins 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylbutanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylbutanoate Chemical compound CC(S)CC(=O)OCC(COC(=O)CC(C)S)(COC(=O)CC(C)S)COC(=O)CC(C)S VTLHIRNKQSFSJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-[[3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000002744 anti-aggregatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 1
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- JFZUABNDWZQLIJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-chloroacetyl)amino]benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1NC(=O)CCl JFZUABNDWZQLIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003335 steric effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
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Description
アリルエーテル(allyl ether)化合物
本発明の実施形態に係る光硬化性組成物に含まれるアリルエーテル化合物は、実質的に組成物の粘度を下げる役割を果たすものであり、希釈剤として機能することができる。前記アリルエーテル化合物は、一般の感光性有機膜を形成するための組成物に含まれる溶剤を代替することができる。したがって、例示的な実施形態によると、前記光硬化性組成物は、実質的に無溶剤(solvent−freeまたはnon−solvent)タイプで製造及び活用することができる。
本発明の実施形態に係る光硬化性組成物は、反応性単量体または重合性単量体として、多環(multi−cyclic)炭化水素含有(メタ)アクリレート化合物を含むことができる。前記多環炭化水素含有(メタ)アクリレート化合物は、例えば、紫外線露光工程によりラジカル重合反応に参加し、所望の硬度又は硬化度を確保する主成分として含むことができる。
本発明の実施形態に係る光硬化性組成物は、カルボン酸含有単量体を含み、これにより、硬化膜のコーティング性及び密着性を向上することができる。一部の実施形態では、前記カルボン酸含有単量体は、カルボン酸含有(メタ)アクリレート単量体を含むことができる。
例示的な実施形態によると、光開始剤は、露光工程によりラジカルを発生し、前述したアリルエーテル化合物と多環炭化水素含有(メタ)アクリレート化合物との架橋反応または重合反応を誘導できるものであれば、特に制限されることなく用いることができる。例えば、前記光開始剤は、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ビイミダゾール系化合物、チオキサントン系化合物、及びオキシムエステル系化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を用いることができ、好ましくは、オキシムエステル系化合物を用いることができる。
前記光硬化性組成物から形成された硬化膜の重合特性、硬化度および表面特性などを向上させるために、追加の製剤をさらに含むことができる。例えば、本発明の実施形態に係る光硬化性組成物の低粘度特性及び硬化特性を阻害しない範囲内でさらに添加剤を含んでもよい。
本発明は、前述した光硬化性組成物から製造される光硬化膜、及び該光硬化膜を備える画像表示装置を提供するものである。
下記表1、表2に示す成分と含量で実施例及び比較例に係る光硬化性組成物を製造した。
A−2:水酸基を含む3官能アリルエーテル化合物
A−3:水酸基を含む2官能アリルエーテル化合物
A−4:単官能アリルエーテル化合物(アリルエチルエーテル)
A’:3官能ビニルエーテル化合物
B−1:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(NK ESTER A−DCP:(株)新中村化学工業製)
B−2:イソボルニルアクリレート(NK ESTER A−IB:(株)新中村化学工業製)
B’−1:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(NK ESTER A−HD−N:(株)新中村化学工業製)
B’−2:単環炭化水素含有ジアクリレート
B’−3:ラウリルアクリレート(NK ESTER LA:(株)新中村化学工業製)
B’−4:シクロヘキシルアクリレート(Viscoat#155:(株)大阪有機化学製)
C:メタクリロイルオキシエチルスクシネート(NK ESTER A−SA:(株)新中村化学工業製)
D:オキシムエステル系化合物
E:ペンタエリスリトールテトラキス[3−メルカプトプロピオネート](PEMP:(株)SC化学製)
F:SH8400 Fluid(Dow−Corning−Toray製)
後述する評価方法により、表1及び表2の組成物またはそれから形成されたコーティング膜、光硬化膜の粘度、コーティング性、鉛筆硬度および酸素阻害を評価した。評価結果を下記の表3に示す。
実施例及び比較例に係る各組成物の粘度を粘度測定器(DV3T、Brookfield社製)を用いて測定した(測定条件:回転数20rpm/25℃)。
50mmX50mmに切断したシリコン(Si)ウエハ上に、実施例及び比較例に係る各組成物をスピンコートして3.0μm厚さになるようにコーティング膜を形成した。スピンコートを進行した後、5分間放置してコーティング膜の形状を観察し、下記のようにコーティング性を評価した。
○:コーティング膜が均一に広がり、表面が均一である(図4参照)
△:組成物が広がるが、表面不均一が肉眼で観察される(図5参照)
×:表面がウェッティングされず、液の乾きが発生し、コーティング膜が実質的に形成されていない(図6参照)
コーティング性を評価する際に形成されたコーティング膜に紫外線硬化を行い、光硬化膜を形成した。具体的には、UV硬化装置(Lichtzen社、Model No.LZ−UVC−F402−CMD)を用いて150mW/cm2の照度(UV−A領域320〜400nm基準)で120秒間紫外線を照射した。形成された光硬化膜に対し、鉛筆硬度測定器を用いて鉛筆硬度を測定した。具体的には、鉛筆(三菱社製)を光硬化膜に接触させた後、1kg荷重及び50mm/秒の速度で表面を引っ掻き、表面硬度を測定した。
実施例及び比較例の組成物をスピンコートして3.0μm厚さになるようにコーティング膜を形成した。スピンコートを進行して5分間放置後、UV硬化装置(Lichtzen社、Model No.LZ−UVC−F402−CMD)を用いて150mW/cm2の照度(UV−A領域320〜400nm基準)で60秒間紫外線を照射した(窒素置換を行わない。)。
×:表面硬化により、何ら跡がつかない(図7参照)
○:酸素阻害により、柔らかい表面に跡がつく(図8参照)
110:画素定義膜
120:有機発光素子
130:第1のエンキャプセレーション層
140,143:エンキャプセレーション層
145:第2のエンキャプセレーション層
Claims (15)
- 組成物の全重量に対して、
2官能以上のアリルエーテル化合物10〜50重量%と、
1官能または2官能の多環炭化水素含有(メタ)アクリレート化合物40〜80重量%と、
カルボン酸含有単量体1〜5重量%と、
光開始剤1〜10重量%とを含む、光硬化性組成物。 - 前記2官能以上のアリルエーテル化合物は、下記の化学式1−1〜1−3で表される化合物から選択される少なくとも一つを含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 前記1官能または2官能の多環炭化水素含有(メタ)アクリレート化合物は、下記の化学式2−1〜2−4で表される化合物から選択される少なくとも一つを含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 1〜3官能の多環炭化水素非含有(メタ)アクリレート化合物をさらに含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 前記1〜3官能の多環炭化水素非含有(メタ)アクリレート化合物は、下記の化学式3−1〜3−5で表される化合物から選択される少なくとも一つを含む、請求項4に記載の光硬化性組成物。
mは1〜10の整数であり、nはそれぞれ独立して1〜5の整数である。) - 1官能多環炭化水素含有(メタ)アクリレート化合物を用いる場合は、2官能以上の多環炭化水素非含有(メタ)アクリレート化合物を用いる、請求項4に記載の光硬化性組成物。
- 前記カルボン酸含有単量体は、単官能カルボン酸含有(メタ)アクリレート単量体を含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 前記カルボン酸含有単量体は、下記化学式4で表される単量体を含む、請求項7に記載の光硬化性組成物。
Ra及びRbは、それぞれ独立して水素または炭素数1〜3のアルキル基である。) - 多官能チオール化合物をさらに含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 無溶剤タイプで製造される、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- ポリマーまたは樹脂成分を含まない、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 常温で20cp以下の粘度を有する、請求項1に記載の光硬化性組成物。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の光硬化性組成物から形成された光硬化膜。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の光硬化性組成物から形成された光硬化膜を含む、画像表示装置。
- ベース基板と、
該ベース基板上に配置された有機発光素子とをさらに含み、
前記光硬化膜は、前記有機発光素子のエンキャプセレーション層で提供される、請求項14に記載の画像表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170008502A KR101814098B1 (ko) | 2017-01-18 | 2017-01-18 | 광경화성 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 막 |
KR10-2017-0008502 | 2017-01-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018163330A JP2018163330A (ja) | 2018-10-18 |
JP6605053B2 true JP6605053B2 (ja) | 2019-11-13 |
Family
ID=61004624
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018002985A Active JP6605053B2 (ja) | 2017-01-18 | 2018-01-11 | 光硬化性組成物及びそれから形成された光硬化膜 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6605053B2 (ja) |
KR (1) | KR101814098B1 (ja) |
CN (1) | CN108333874B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7479785B2 (ja) * | 2017-08-02 | 2024-05-09 | 積水化学工業株式会社 | 有機el表示素子用封止剤 |
JP6573089B1 (ja) * | 2018-05-31 | 2019-09-11 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 紫外線硬化性樹脂組成物、発光装置の製造方法及び発光装置 |
JP7236672B2 (ja) * | 2018-12-25 | 2023-03-10 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 封止材の製造方法、及び発光装置の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5925719A (en) * | 1997-06-19 | 1999-07-20 | Macdermid, Incorporated | Photoresist developable in aqueous base made from acid-functional β-hydroxy thiol resin |
JP4314838B2 (ja) * | 2003-02-07 | 2009-08-19 | Dic株式会社 | 硬化性接着剤及びそれを用いた接着方法 |
JP2006078602A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
KR101002763B1 (ko) * | 2007-03-06 | 2010-12-21 | 주식회사 엘지화학 | 고리형 올레핀계 화합물, 이를 포함하는 중합체, 및 상기중합체를 포함하는 액정배향막 |
JP2010282682A (ja) * | 2009-06-03 | 2010-12-16 | Nippon Shokubai Co Ltd | 光ディスク用硬化性樹脂組成物、その硬化物及び光ディスク |
JP5765059B2 (ja) * | 2010-08-16 | 2015-08-19 | Jsr株式会社 | 着色組成物、着色組成物の製造方法、着色パターン、カラーフィルタ、カラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法 |
JP2012073595A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
JP5980223B2 (ja) | 2011-10-21 | 2016-08-31 | 日本化薬株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び物品 |
JP6274639B2 (ja) * | 2013-05-23 | 2018-02-07 | 日本化薬株式会社 | エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物 |
JP6184003B2 (ja) | 2013-08-30 | 2017-08-23 | 昭和電工株式会社 | 遮光性導電樹脂組成物及び硬化物 |
JP6495769B2 (ja) * | 2014-07-18 | 2019-04-03 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂組成物及びその用途 |
JP6284913B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2018-02-28 | 富士フイルム株式会社 | タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、積層体、タッチパネル用電極の保護膜及びその形成方法、静電容量型入力装置、並びに、画像表示装置 |
-
2017
- 2017-01-18 KR KR1020170008502A patent/KR101814098B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-01-11 JP JP2018002985A patent/JP6605053B2/ja active Active
- 2018-01-16 CN CN201810041648.1A patent/CN108333874B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108333874B (zh) | 2021-10-26 |
JP2018163330A (ja) | 2018-10-18 |
CN108333874A (zh) | 2018-07-27 |
KR101814098B1 (ko) | 2018-01-02 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180402 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190320 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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