JPWO2016063317A1 - 方向性電磁鋼板 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明は、上記方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。
また、本発明は、上記BFが極めて低い方向性電磁鋼板の製造方法を提供することを目的とする。
(1)鋼板と、
前記鋼板の表面上に形成された張力被膜とを有する方向性電磁鋼板であって、
層間抵抗試験で測定される層間電流が0.15A以下であり、
前記鋼板に、圧延方向と交差する方向に伸びる複数の直線状の歪が形成されており、
前記複数の直線状の歪の、圧延方向における線間隔が15mm以下であり、
前記歪部分に、板厚方向の長さdが65μm以上、圧延方向の長さwが250μm以下である還流磁区が形成されている方向性電磁鋼板。
前記鋼板の表面上に形成された張力被膜とを有する方向性電磁鋼板であって、
層間抵抗試験で測定される層間電流が0.15A以下であり、
前記鋼板に、圧延方向と交差する方向に伸びる複数の直線状の歪が、電子ビームを照射することによって形成されており、
前記複数の直線状の歪の、圧延方向における線間隔が15mm以下であり、
前記歪部分に、板厚方向の長さdが50μm以上、圧延方向の長さwが250μm以下である還流磁区が形成されている方向性電磁鋼板。
前記張力被膜を備えた鋼板の一方の面へ、圧延方向と交差する方向に走査しながら、収束された電子ビームを照射する工程とを備える方向性電磁鋼板の製造方法であって、
前記電子ビームの照射によって、鋼板の少なくとも表面部分に、圧延方向と直交する方向に伸びる複数の直線状の歪が形成され、
前記電子ビームの加速電圧が60kV以上、300kV以下であり、
前記電子ビームの、走査方向と直交する方向におけるビーム径が300μm以下であり、
前記電子ビームの、走査方向におけるビーム径が、走査方向と直交する方向におけるビーム径の1.2倍以上である方向性電磁鋼板の製造方法。
・ 方向性電磁鋼板
本発明では、張力被膜を備えた方向性電磁鋼板の表面に、エネルギービームを照射することによって複数の直線状の歪を形成する。母材として使用される方向性電磁鋼板の種類は特に限定されず、各種公知の方向性電磁鋼板を使用することができる。
本発明で使用される方向性電磁鋼板は、表面に張力被膜を備えている。張力被膜の種類は特に限定されず、例えば、仕上焼鈍において形成されたMg2SiO4を主成分とするフォルステライト被膜と、さらにその上に形成されたリン酸塩系張力被膜からなる2層被膜を、張力被膜として使用することができる。また、フォルステライト被膜を有していない鋼板の表面に、リン酸塩系の張力付与型絶縁被膜を直接形成することもできる。前記リン酸塩系の張力付与型絶縁被膜は、例えば、金属リン酸塩とシリカを主成分とする水溶液を、鋼板の表面に塗布し、焼付けることによって形成することができる。
本発明では、JIS−C2550で定められた層間抵抗試験の測定方法(表面絶縁抵抗の測定方法)の1つであるA法に基づいて測定を行った際に、接触子に流れる全電流値を「層間電流」と定義する。この層間電流が低いほど、鋼板が良好な絶縁特性を有することを示している。本発明では、ビーム照射によって張力被膜が損傷を受けないため、ビーム照射後に補修のための再コートを行わなくても、0.15A以下という低い層間電流を得ることができる。なお、層間電流は0.05A以下であることが好ましい。
本発明の方向性電磁鋼板には、圧延方向と交差する方向に伸びる複数の直線状の歪が形成される。この歪は、磁区を細分化して、鉄損を低減する作用を有している。前記複数の直線状の歪は互いに平行であり、後述する所定の間隔で設けられている。
上記複数の直線状の歪は、張力被膜を備える鋼板の表面へ、収束された高エネルギービームを照射することによって形成することができる。高エネルギービームの種類は特に限定されないが、電子ビームは、高加速電圧化による被膜損傷の抑制効果や、高速でビーム制御ができるなどの特徴があるため、電子ビームを用いることが好ましい。
前記複数の直線状の歪は、圧延方向に一定の間隔をあけて形成され、この間隔を照射線間隔または線間隔と呼ぶ。発明者らは、BFと変圧器鉄損を低減するために最適な線間隔を決定するために、以下の実験を行った。
電子ビームが照射された部分には、主磁区とは異なる還流磁区が形成される。この板厚方向における還流磁区の長さd(還流磁区深さ、とも呼ぶ)が、鉄損に影響をおよぼすと考えられている。そこで、発明者らは、以下の実験を行って、dと変圧器鉄損との関係を調査した。
BFを改善するためには、還流磁区の体積を大きくすることが好ましい。しかし、圧延方向における還流磁区の長さw(還流磁区幅、とも呼ぶ)を大きくすると、還流磁区の体積が大きくなってBFが低下する一方で、ヒステリシス損が増加してしまう。そのため、本発明では、dを大きくして還流磁区の体積を増加させる一方で、wを250μm以下とすることが重要である。なお、wの下限は特に限定されないが、160μm以上とすることが好ましく、180μm以上とすることがより好ましい。ここで、wは鋼板上のビーム照射表面から、ビッター法などによる磁区観察によって測定する。
・ 加速電圧Va:60kV以上、300kV以下
電子ビームの加速電圧は高い方が好ましい。これは、加速電圧が高いほど、電子ビームの物質透過性が高まるためである。加速電圧を十分に大きくすることによって、電子ビームが張力被膜を透過しやすくなり、被膜の損傷が抑制される。また、加速電圧が高いと、地鉄中での発熱中心が板厚表面からより離れた(深い)位置となるため、板厚方向における還流磁区長さdを大きくすることができる。さらに、加速電圧が高いと、ビーム径を小さくしやすい。以上の効果を得るために、本発明では加速電圧を60kV以上とする。なお、加速電圧は90kV以上とすることが好ましく、120kV以上とすることがより好ましい。
ビームの走査方向と直交する方向におけるビーム径は、小さいほど単板鉄損の向上に有利である。したがって、本発明では、走査方向と直交する方向におけるビーム径を300μm以下とする。ここで、ビーム径とは、スリット法(幅0.03mmのスリットを使用)によって測定したビームプロファイルの半値幅と定義する。なお、走査方向と直交する方向におけるビーム径は、280μm以下とすることが好ましく、260μm以下とすることがより好ましい。
ビーム電流は、ビーム径縮小の観点からは小さい方が好ましい。ビーム電流が大きすぎると、電子同士のクーロン反発力によって、ビームを収束させることが困難となる。そのため、本発明では、ビーム電流を30mA以下とすることが好ましい。なお、ビーム電流は20mA以下とすることがより好ましい。一方、ビーム電流が小さすぎると、十分な磁区細分化効果を得るために必要な歪を形成することができない。そのため、本発明では、ビーム電流を0.5mA以上とすることが好ましい。なお、ビーム電流は1mA以上とすることがより好ましく、2mA以上とすることがさらに好ましい。
電子ビームは、気体分子によって散乱され、その径が大きくなってしまう。この散乱を抑制するために、ビーム照射領域内の圧力を、3Pa以下とすることが好ましい。一方、圧力の下限については特に限定されないが、過度に低くすると、真空ポンプなどの真空系にかかるコストが増大する。そのため、実用上、圧力は10-5Pa以上とすることが好ましい。
電子線を収束させるために用いるコイルと鋼板表面との間の距離をワーキングディスタンス(WD)と呼ぶ。WDは、ビーム径に著しい影響をおよぼすことが知られている。WDを小さくすれば、ビームの行路長が短くなって、ビームが収束しやすくなる。そのため、本発明では、WDを1000mm以下とすることが好ましい。さらに、100μm以下の小径ビームを用いる場合には、WDを500mm以下とすることが好ましい。一方、WDの下限は特に限定されないが、300mm以上とすることが好ましく、400mm以上とすることがより好ましい。
ビームの走査速度は30m/s以上とすることが好ましい。ここで、走査速度とは、鋼板の幅端部から、もう一方の幅端部へビームを走査しながら照射する間の、平均走査速度とする。走査速度が30m/sより小さいと、処理時間が長くなり、生産性が低下する。走査速度は、60m/s以上とすることがより好ましい。
板厚方向における還流磁区の長さdは、Kerr効果顕微鏡を使用して板厚断面を観察することにより測定した。圧延方向における還流磁区の長さwは、磁性コロイド溶液を含んだマグネットビュアーを、電子ビームを照射した側の鋼板表面に載せ、マグネットビュアーに転写された磁区パターンを観察することによって測定した。
JIS−C2550で定められた層間抵抗試験の測定方法の1つであるA法に基づいて、層間電流を測定した。層間抵抗の測定において、接触子に流れる全電流値を層間電流とした。
単板鉄損、変圧器鉄損、およびBFは、先に述べた方法により測定した。変圧器鉄損の測定に用いた鉄心は、図4に示した通りである。
鋼板の表面に張力被膜を形成する工程と、
前記張力被膜を備えた鋼板の一方の面へ、圧延方向と交差する方向に走査しながら、収束された電子ビームを照射する工程とを備える方向性電磁鋼板の製造方法であって、
前記電子ビームの照射によって、鋼板の少なくとも表面部分に、圧延方向と直交する方向に伸びる複数の直線状の歪が形成され、
前記電子ビームの加速電圧が60kV以上、300kV以下であり、
前記電子ビームの、走査方向と直交する方向におけるビーム径が300μm以下であり、
前記電子ビームの、走査方向におけるビーム径が、走査方向と直交する方向におけるビーム径の1.2倍以上である方向性電磁鋼板の製造方法。
Claims (5)
- 鋼板と、
前記鋼板の表面上に形成された張力被膜とを有する方向性電磁鋼板であって、
層間抵抗試験で測定される層間電流が0.15A以下であり、
前記鋼板に、圧延方向と交差する方向に伸びる複数の直線状の歪が形成されており、
前記複数の直線状の歪の、圧延方向における線間隔が15mm以下であり、
前記歪部分に、板厚方向の長さdが65μm以上、圧延方向の長さwが250μm以下である還流磁区が形成されている方向性電磁鋼板。 - 鋼板と、
前記鋼板の表面上に形成された張力被膜とを有する方向性電磁鋼板であって、
層間抵抗試験で測定される層間電流が0.15A以下であり、
前記鋼板に、圧延方向と交差する方向に伸びる複数の直線状の歪が、電子ビームを照射することによって形成されており、
前記複数の直線状の歪の、圧延方向における線間隔が15mm以下であり、
前記歪部分に、板厚方向の長さdが65μm以上、圧延方向の長さwが250μm以下である還流磁区が形成されている方向性電磁鋼板。 - 前記複数の直線状の歪の、圧延方向における線間隔が4mm以上である、請求項1または2に記載の方向性電磁鋼板。
- 鋼板の表面に張力被膜を形成する工程と、
前記張力被膜を備えた鋼板の一方の面へ、圧延方向と交差する方向に走査しながら、収束された電子ビームを前記鋼板の幅方向に連続的に照射する工程とを備える方向性電磁鋼板の製造方法であって、
前記電子ビームの照射によって、鋼板の少なくとも表面部分に、圧延方向と直交する方向に伸びる複数の直線状の歪が形成され、
前記電子ビームの加速電圧が60kV以上、300kV以下であり、
前記電子ビームの、走査方向と直交する方向におけるビーム径が300μm以下であり、
前記電子ビームの、走査方向におけるビーム径が、走査方向と直交する方向におけるビーム径の1.2倍以上である方向性電磁鋼板の製造方法。 - 前記電子ビームの加速電圧が120kV以上である、請求項4に記載の電磁鋼板の製造方法。
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