JPWO2013061858A1 - 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、
前記所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、入射光束に発散角を付与して射出する発散角付与部材と、
前記所定面を含む所定空間または前記共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの一部の光束の偏光状態を変化させる偏光部材とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、
前記所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの少なくとも一部の光束に発散角を付与して発散角の異なる複数の光束を生成する発散角付与部材とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
第1面上の目標画像の光量分布情報を入力する入力装置と、
前記光源からの光をそれぞれ前記第1面の位置可変の局所領域に導くとともに、K個(Kは2以上の整数)の光学要素群に分けることが可能なN個(NはKより大きい整数)の光学要素を持つ空間光変調器と、
前記K個の光学要素群によって前記第1面に導かれるK個のグループの前記局所領域の状態に関する変数をグループ毎に制御するK個のフィルタ部と、
N個の前記局所領域を前記第1面上で配列して得られる第1画像と前記目標画像との誤差に応じて、前記局所領域の前記位置のN個の第1の値及び前記変数のN1個(N1はN以下でKより大きい整数)の値を求め、前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分け、前記K個のグループ毎の前記変数の値として共通の第2の値を求める演算装置と、
前記K個の光学要素毎に対応する前記局所領域の前記位置を前記第1の値に設定し、前記変数を前記第2の値に設定して前記第1面上に形成される第2画像の光量分布からの光で前記被照射面を照明するコンデンサー光学系と、
を備えることを特徴とする照明光学系を提供する。
第5形態の照明光学系を備え、
前記照明光学系によって前記露光光で前記パターンを照明することを特徴とする露光装置を提供する。
前記パターンが形成された前記基板を処理することと、
を含むデバイス製造方法を提供する。
第1面上の目標画像を設定することと、
それぞれ前記第1面上での位置が制御可能であって、グループ毎に状態に関する変数が制御可能なK個(Kは2以上の整数)のグループに分けることが可能なN個(NはKより大きい整数)の局所領域に関して、前記N個の局所領域を前記第1面上で配列して得られる第1画像と前記目標画像との誤差に応じて、前記局所領域の前記位置のN個の第1の値及び前記変数のN1個(N1はN以下でKより大きい整数)の値を求めることと、
前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分けることと、
前記K個のグループの前記局所領域の前記変数の値として共通の第2の値を求めることと、
を含むことを特徴とする画像形成方法を提供する。
第8形態の画像形成方法を用いて前記第1面に前記目標画像に基づいて前記光源からの光の光量分布を形成することと、
前記第1面からの光をコンデンサー光学系を介して前記被照射面に導くことと、
を含むことを特徴とする照明方法を提供する。
第9形態の照明方法によって前記露光光で前記パターンを照明することを特徴とする露光方法を提供する。
前記パターンが形成された前記基板を処理することと、
を含むデバイス製造方法を提供する。
図25は第2実施形態に係る露光装置EXの概略構成を示す。露光装置EXは、一例としてスキャニングステッパー(スキャナー)よりなる走査露光型の露光装置(投影露光装置)である。図25において、露光装置EXは、露光用の照明光(露光光)ILを発生する光源10と、光源10からの照明光ILでレチクルR(マスク)のパターン面であるレチクル面Ra(被照射面)を照明する照明光学系ILSとを備えている。さらに、露光装置EXは、レチクルRを移動するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターンの像をウエハW(感光基板)の表面に投影する投影光学系PLと、ウエハWを移動するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータよりなる主制御系35と、各種制御系等とを備えている。
d1<d2<d3<d4 (1)
ym=ya+mΔy、ただし m=0〜M1 (2A)
zn=za+nΔz、ただし n=0〜M2 (2B)
f=ΣΣ{TE(ym,zn)−D1E(ym,zn)}2 (3)
第2実施形態の露光装置EXは、SLM14が備える複数のミラー要素16(光学要素)を介してレチクル面Ra(被照射面)に光を照射する照明装置8を備えている。また、照明装置8によって、照明瞳面IPP(第1面)に画像としての光量分布を形成する方法は、画像形成方法ともみなすことができる。この光量分布形成方法(画像形成方法)は、照明瞳面IPP上の目標光量分布55(目標画像)を設定するステップ102と、それぞれ照明瞳面IPP上での位置が制御可能であって、グループ毎にドットパターンの状態の一例である直径が制御可能な3個(K=3の場合)のグループに分けられたN個(NはKより2桁以上大きい整数)のドットパターン53A等(局所領域)に関して、照明瞳面IPP上での位置(中心位置)のN個の値(yi,zi)及びその直径のN個の値Diを変化させて、そのN個のドットパターン53A等を照明瞳面IPP上で配列して得られる第1の設定光量分布56(第1画像)とその目標光量分布との誤差に対応する目的関数fの値が小さくなるように、その位置のN個の第1の値(yi,zi)及びその直径のN個の値Diを求めるステップ106〜112と、を有する。さらに、その光量分布形成方法(画像形成方法)は、その直径のN個の値Diからその3個のグループ毎の直径の第2の値Dj及びその位置の第2の値(yji,zji)を求めるステップ114,116と、を含む。
機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイス(電子デバイス)
の製造プロセスにも広く適用できる。
2 光強度均一化部材
3 回折光学素子(発散角付与部材)
4 再結像光学系
5 空間光変調器
6 1/2波長板(偏光部材)
7 リレー光学系
8A マイクロフライアイレンズ(オプティカルインテグレータ)
9 偏光変換ユニット
10A コンデンサー光学系
11A マスクブラインド
12A 結像光学系
LS 光源
DTr,DTw 瞳強度分布計測部
CR 制御系
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (66)
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、
前記所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、入射光束に発散角を付与して射出する発散角付与部材と、
前記所定面を含む所定空間または前記共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの一部の光束の偏光状態を変化させる偏光部材とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記偏光部材は、前記照明光学系の照明光路内の面である第1面に配置され、該第1面を通過する前記光源からの光が前記空間光変調器に入射することを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、前記照明光学系の照明光路内の面である第1面に配置され、該第1面を通過する前記光源からの光が前記発散角付与部材に入射することを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、前記所定面と光学的に共役な面に配置されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材は、光路を伝搬する伝搬光束のうちの少なくとも一部の光束が進行する第1光路のみに配置されて、平行光束が入射したときに所定の発散角を有する発散光束に変換して射出する特性を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材は、平行光束が入射したときに第1の発散角を有する第1発散光束に変換して射出する特性を有する第1領域と、平行光束が入射したときに前記第1の発散角よりも大きい第2の発散角を有する第2発散光束に変換して射出する特性を有する第2領域とを備えていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材の入射側の光路に配置されて、前記第1領域に入射する光強度よりも前記第2領域に入射する光強度が強い光強度分布にする光強度分布設定部を備えていることを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材からは互いに発散角の異なる複数の光束が射出され、該発散角の異なる複数の光束は前記照明光学系の光軸と横切る面において互いに異なる位置を通過することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材は、特性の異なる別の発散角付与部材と交換可能であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材に平行光束が入射したとき、前記発散角付与部材から射出される光束の発散角の、前記照明光学系の光軸と横切る面における分布を第1発散角分布とし、前記別の発散角付与部材に平行光束が入射したとき、前記別の発散角付与部材から射出される光束の発散角の、前記照明光学系の光軸と横切る面における分布を第2発散角分布とするとき、前記第1および第2発散角分布は互いに異なる分布であることを特徴とする請求項9に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、入射した第1光束を第1の偏光状態の光に変化させる第1偏光素子と、入射した第2光束を第2の偏光状態の光に変化させる第2偏光素子とを有し、
前記第2光束は前記第1光束と並列していることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記偏光部材は、入射した光束のうちの第1偏光成分と該第1偏光成分とは異なる偏光状態の第2偏光成分とに位相差を与えることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、前記伝搬光束のうちの一部の光束が進行する第1光路のみに配置された波長板を有することを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、前記伝搬光束のうちの一部の光束が進行する第1光路のみに配置された旋光子を有することを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の照明光学系。
- オプティカルインテグレータを備え、
前記偏光部材は、前記光源と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置されていることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
所定面に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に光強度分布を可変的に形成する空間光変調器と、
前記所定面と光学的に共役な面を含む共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの少なくとも一部の光束に発散角を付与して発散角の異なる複数の光束を生成する発散角付与部材とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記発散角付与部材からは互いに発散角の異なる複数の光束が射出され、該発散角の異なる複数の光束は前記照明光学系の光軸と横切る面において互いに異なる位置を通過することを特徴とする請求項16に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材は、前記伝搬光束のうちの一部の光束が進行する第1光路に配置されて、平行光束が入射したときに所定の発散角を有する発散光束に変換して射出する特性を有することを特徴とする請求項16または17に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材は、平行光束が入射したときに第1の発散角を有する第1発散光束に変換して射出する特性を有する第1領域と、平行光束が入射したときに前記第1の発散角よりも大きい第2の発散角を有する第2発散光束に変換して射出する特性を有する第2領域とを備えていることを特徴とする請求項16乃至18のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材の入射側の光路に配置されて、前記第1領域に入射する光強度よりも前記第2領域に入射する光強度が強い光強度分布にする光強度分布設定部を備えていることを特徴とする請求項19に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材は、特性の異なる別の発散角付与部材と交換可能であることを特徴とする請求項16乃至20のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記発散角付与部材に平行光束が入射したとき、前記発散角付与部材から射出される光束の発散角の、前記照明光学系の光軸と横切る面における分布を第1発散角分布とし、前記別の発散角付与部材に平行光束が入射したとき、前記別の発散角付与部材から射出される光束の発散角の、前記照明光学系の光軸と横切る面における分布を第2発散角分布とするとき、前記第1および第2発散角分布は互いに異なる分布であることを特徴とする請求項21に記載の照明光学系。
- 前記所定面を含む所定空間または前記共役空間に配置されて、光路を伝搬する伝搬光束のうちの一部の光束の偏光状態を変化させる偏光部材を備えていることを特徴とする請求項16乃至22のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、入射した第1光束を第1の偏光状態の光に変化させる第1偏光素子と、入射した第2光束を第2の偏光状態の光に変化させる第2偏光素子とを有し、
前記第2光束は前記第1光束と並列していることを特徴とする請求項23に記載の照明光学系。 - 前記偏光部材は、前記伝搬光束のうちの一部の光束が進行する第1光路のみに配置された波長板を有することを特徴とする請求項23または24に記載の照明光学系。
- 前記偏光部材は、前記伝搬光束のうちの一部の光束が進行する第1光路のみに配置された旋光子を有することを特徴とする請求項23乃至25のいずれか1項に記載の照明光学系。
- オプティカルインテグレータを備え、
前記偏光部材は、前記光源と前記オプティカルインテグレータとの間の光路中に配置されていることを特徴とする請求項23乃至26のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記空間光変調器の入射側の光路中の第2所定面に配置されて、前記所定面へ入射する光の強度分布の前記所定面内での均一性を前記第2所定面に入射する光の強度分布の前記第2所定面内での均一性よりも向上させる光強度均一化部材を備えていることを特徴とする請求項1乃至27のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記光強度均一化部材は、入射した光束を複数の光束に波面分割する波面分割素子と、該波面分割素子により波面分割された前記複数の光束を前記所定面において重畳させるリレー光学系とを有することを特徴とする請求項28に記載の照明光学系。
- 前記リレー光学系の前側焦点位置に前記波面分割素子が配置され、前記所定面に前記リレー光学系の後側焦点位置が位置決めされることを特徴とする請求項29に記載の照明光学系。
- 前記光強度均一化部材は、前記光源と前記空間光変調器との間の光路の中間位置よりも前記光源側に配置されていることを特徴とする請求項28乃至30のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記波面分割素子と前記空間光変調器との間の光路から取り出した光に基づいて、前記所定面へ入射する光の前記光路を横切る面内の位置と、前記所定面へ入射する光の前記所定面に対する角度との少なくとも一方を検出するビーム検出部を備えていることを特徴とする請求項29乃至31のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記照明瞳の近傍に配置されて、所定の方向に偏光方向を有する直線偏光の入射光を、前記照明光学系の光軸を中心とする円の接線方向に偏光方向を有する周方向偏光の射出光または該円の半径方向に偏光方向を有する径方向偏光の射出光に変換する偏光変換ユニットを備えていることを特徴とする請求項1乃至32のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記偏光変換ユニットは、旋光性を有する光学材料により形成されて前記光軸を中心とする円の周方向に沿って厚さが変化する形態の偏光変換部材を有することを特徴とする請求項33に記載の照明光学系。
- 前記偏光変換部材は、前記光軸を中心とする円の周方向に沿って厚さが連続的に変化する形状を有することを特徴とする請求項34に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調器は、前記所定面内で二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至35のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調器と前記照明瞳との間の光路中に配置されて、前記空間光変調器の前記複数の光学要素がファーフィールドに形成するファーフィールドパターンを、前記照明瞳に結像させる分布形成光学系を備えていることを特徴とする請求項1乃至36のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記分布形成光学系は、前記空間光変調器からの射出光束の角度方向の分布を、前記分布形成光学系からの射出光束の断面における位置分布に変換することを特徴とする請求項37に記載の照明光学系。
- 前記分布形成光学系の前側焦点位置は前記所定空間に位置し、前記分布形成光学系の後側焦点位置は前記照明光学系の瞳空間に位置することを特徴とする請求項37または38に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項1乃至39のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 第1面上の目標画像の光量分布情報を入力する入力装置を備え、
前記空間光変調器は、前記光源からの光をそれぞれ前記第1面の位置可変の局所領域に導くとともに、K個(Kは2以上の整数)の光学要素群に分けることが可能なN個(NはKより大きい整数)の光学要素を有し、
前記照明光学系はさらに、
前記K個の光学要素群によって前記第1面に導かれるK個のグループの前記局所領域の状態に関する変数をグループ毎に制御するK個のフィルタ部と、
N個の前記局所領域を前記第1面上で配列して得られる第1画像と前記目標画像との誤差に応じて、前記局所領域の前記位置のN個の第1の値及び前記変数のN1個(N1はN以下でKより大きい整数)の値を求め、前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分け、前記K個のグループ毎の前記変数の値として共通の第2の値を求める演算装置と、
前記K個の光学要素毎に対応する前記局所領域の前記位置を前記第1の値に設定し、前記変数を前記第2の値に設定して前記第1面上に形成される第2画像の光量分布からの光で前記被照射面を照明するコンデンサー光学系と、
を備えることを特徴とする請求項5乃至8および17乃至20のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記演算装置は、前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分けるために、前記N個の局所領域をそれぞれ前記変数の値のばらつきが小さいK個のグループにクラスタリングすることを特徴とする請求項41に記載の照明光学系。
- 前記K個のフィルタ部は、
前記光学要素の平均的な配置面と共役な第2面又はこの近傍の面で前記K個の光学要素群に対応する位置に配置されて、それぞれ互いに独立に光の発散角が複数段階に制御可能なK個のフィルタ部材群であることを特徴とする請求項41又は42に記載の照明光学系。 - 前記第1面上に形成される画像の光量分布を計測する計測装置を備え、
前記演算装置は、前記計測装置の計測結果に基づいて前記位置の前記第1の値及び前記変数の前記第2の値を補正することを特徴とする請求項41〜43のいずれか一項に記載の照明光学系。 - 前記変数のN1個の値はN個の値であることを特徴とする請求項41〜44のいずれか一項に記載の照明光学系。
- 前記光学要素は、交差する2つの軸の回りの傾斜角が制御可能な反射要素であることを特徴とする請求項41〜45のいずれか一項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項1乃至46のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項47に記載の露光装置。
- 請求項47または48に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 光源からの光で被照射面を照明する照明光学系において、
第1面上の目標画像の光量分布情報を入力する入力装置と、
前記光源からの光をそれぞれ前記第1面の位置可変の局所領域に導くとともに、K個(Kは2以上の整数)の光学要素群に分けることが可能なN個(NはKより大きい整数)の光学要素を持つ空間光変調器と、
前記K個の光学要素群によって前記第1面に導かれるK個のグループの前記局所領域の状態に関する変数をグループ毎に制御するK個のフィルタ部と、
N個の前記局所領域を前記第1面上で配列して得られる第1画像と前記目標画像との誤差に応じて、前記局所領域の前記位置のN個の第1の値及び前記変数のN1個(N1はN以下でKより大きい整数)の値を求め、前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分け、前記K個のグループ毎の前記変数の値として共通の第2の値を求める演算装置と、
前記K個の光学要素毎に対応する前記局所領域の前記位置を前記第1の値に設定し、前記変数を前記第2の値に設定して前記第1面上に形成される第2画像の光量分布からの光で前記被照射面を照明するコンデンサー光学系と、
を備えることを特徴とする照明光学系。 - 前記演算装置は、前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分けるために、前記N個の局所領域をそれぞれ前記変数の値のばらつきが小さいK個のグループにクラスタリングすることを特徴とする請求項50に記載の照明光学系。
- 前記K個のフィルタ部は、
前記光学要素の平均的な配置面と共役な第2面又はこの近傍の面で前記K個の光学要素群に対応する位置に配置されて、それぞれ互いに独立に光の発散角が複数段階に制御可能なK個のフィルタ部材群であることを特徴とする請求項50又は51に記載の照明光学系。 - 前記第1面上に形成される画像の光量分布を計測する計測装置を備え、
前記演算装置は、前記計測装置の計測結果に基づいて前記位置の前記第1の値及び前記変数の前記第2の値を補正することを特徴とする請求項50〜52のいずれか一項に記載の照明光学系。 - 前記変数のN1個の値はN個の値であることを特徴とする請求項50〜53のいずれか一項に記載の照明光学系。
- 前記光学要素は、交差する2つの軸の回りの傾斜角が制御可能な反射要素であることを特徴とする請求項50〜54のいずれか一項に記載の照明光学系。
- 露光光でパターンを照明し、前記露光光で前記パターン及び投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、
請求項50〜55のいずれか一項に記載の照明光学系を備え、
前記照明光学系によって前記露光光で前記パターンを照明することを特徴とする露光装置。 - 請求項56に記載の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、
前記パターンが形成された前記基板を処理することと、
を含むデバイス製造方法。 - 画像を形成する方法であって、
第1面上の目標画像を設定することと、
それぞれ前記第1面上での位置が制御可能であって、グループ毎に状態に関する変数が制御可能なK個(Kは2以上の整数)のグループに分けることが可能なN個(NはKより大きい整数)の局所領域に関して、前記N個の局所領域を前記第1面上で配列して得られる第1画像と前記目標画像との誤差に応じて、前記局所領域の前記位置のN個の第1の値及び前記変数のN1個(N1はN以下でKより大きい整数)の値を求めることと、
前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分けることと、
前記K個のグループの前記局所領域の前記変数の値として共通の第2の値を求めることと、
を含むことを特徴とする画像形成方法。 - 前記N個の局所領域を前記変数のN1個の値に応じて前記K個のグループに分けることは、前記N個の局所領域をそれぞれ前記変数の値のばらつきが小さいK個のグループにクラスタリングすることであることを特徴とする請求項58に記載の画像形成方法。
- 前記K個のグループの前記局所領域の前記位置の値及び前記変数の共通の値の少なくとも一方を前記第1の値及び前記第2の値に対して変化させて、前記N個の局所領域を前記第1面上で配列して得られる第2画像と前記目標画像との誤差が小さくなるように、前記位置のN個の値及び前記変数の前記K個のグループ毎の値を求めることと、
求められた前記位置のN個の値で前記第1の値を更新し、求められた前記変数の前記K個のグループ毎の値で前記第2の値を更新することと、
を含むことを特徴とする請求項58又は59に記載の画像形成方法。 - 前記変数のN1個の値はN個の値であることを特徴とする請求項58〜60のいずれか一項に記載の画像形成方法。
- 前記局所領域は大きさが可変の円形状又は正方形状のパターンであり、
前記局所領域の状態に関する前記変数は、前記パターンの大きさを示すことを特徴とする請求項58〜61のいずれか一項に記載の画像形成方法。 - 前記N個の局所領域を前記K個のグループに分けるために、
それぞれ光源からの光を前記第1面の前記局所領域に導くことが可能なN個の光学要素を持つ空間光変調器の前記光学要素に、前記複数の光学要素が配置される平均的な面と共役な第2面又はこの近傍の面に配置されたK個の互いに独立に光の発散角が制御可能なフィルタ部材群を介して前記光を照射することを含む請求項58〜62のいずれか一項に記載の画像形成方法。 - 光源からの光で被照射面を照明する照明方法において、
請求項58〜63のいずれか一項に記載の画像形成方法を用いて前記第1面に前記目標画像に基づいて前記光源からの光の光量分布を形成することと、
前記第1面からの光をコンデンサー光学系を介して前記被照射面に導くことと、
を含むことを特徴とする照明方法。 - 露光光でパターンを照明し、前記露光光で前記パターン及び前記投影光学系を介して基板を露光する露光方法において、
請求項64に記載の照明方法によって前記露光光で前記パターンを照明することを特徴とする露光方法。 - 請求項65に記載の露光方法を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、
前記パターンが形成された前記基板を処理することと、
を含むデバイス製造方法。
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