JPWO2013054832A1 - Method for manufacturing roll-shaped mold for optical sheet manufacturing, optical sheet manufacturing method, electronic display device, and mirror finishing method for aluminum base material - Google Patents

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Abstract

切削痕に起因する筋状の凹凸が反射防止フィルムに転写されたとしても、干渉模様を抑制することができる光学シート製造用ロール状金型等を提供すること。
本発明によれば、外周面に微細凹凸形状が形成され該外周面に長尺状シートを当接させながら微細凹凸形状を長尺状シートに転写し長尺状の光学シート材とする光学シート製造用ロール状金型１であって、外周面１ａに、微細凹凸形状に加え、配列周期Ｐが５〜５０μｍで並列して伸びる複数の筋状の凹凸形状１ｂが形成されている光学シート製造用ロール状金型が提供される。To provide a roll mold for manufacturing an optical sheet or the like that can suppress an interference pattern even when streaky irregularities resulting from cutting marks are transferred to an antireflection film.
According to the present invention, an optical sheet having a fine concavo-convex shape formed on the outer peripheral surface and transferring the fine concavo-convex shape to the long sheet while the long sheet is in contact with the outer peripheral surface is used as a long optical sheet material. Manufacturing roll-shaped mold 1, wherein an optical sheet is manufactured in which a plurality of streaky uneven shapes 1 b extending in parallel at an arrangement period P of 5 to 50 μm are formed on the outer peripheral surface 1 a in addition to a fine uneven shape. A roll mold is provided.

Description

本発明は、光学シート製造用ロール状金型の製造方法、光学シート製造方法、電子表示装置、及びアルミニウム母材の鏡面加工方法によるに関し、詳細には、外周面に形成された微細凹凸構造を長尺状のシート材に転写する光学シート製造用ロール状金型の製造方法、この方法により製造された光学シート製造用ロール状金型を使用した光学シート製造方法、この製造方法により製造された光学シートを備える電子表示装置、及び、アルミニウム母材の鏡面加工方法に関する。   The present invention relates to a manufacturing method of a roll mold for manufacturing an optical sheet, an optical sheet manufacturing method, an electronic display device, and a mirror finishing method of an aluminum base material, and more specifically, a fine uneven structure formed on an outer peripheral surface. A manufacturing method of a roll mold for manufacturing an optical sheet to be transferred to a long sheet material, an optical sheet manufacturing method using a roll mold for manufacturing an optical sheet manufactured by this method, and a manufacturing method manufactured by this manufacturing method The present invention relates to an electronic display device including an optical sheet and a mirror surface processing method for an aluminum base material.

近年、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られてきた。特に、微細な略円錐形状の凸部を並べられたモスアイ構造と呼ばれる微細凹凸構造を表面に有する物品は、屈折率が空気の屈折率から当該物品の屈折率へと連続的に増大していくため、有効な反射防止の手段となることが知られている。   In recent years, it has been known that an article having a fine concavo-convex structure with a period equal to or shorter than the wavelength of visible light on the surface exhibits an antireflection effect, a lotus effect, and the like. In particular, an article having a fine concavo-convex structure called a moth-eye structure on which fine convex portions having a substantially conical shape are arranged on the surface has a refractive index that continuously increases from the refractive index of air to the refractive index of the article. Therefore, it is known to be an effective antireflection means.

このような微細凹凸構造を物品の表面に形成する方法として、微細凹凸構造を表面に有するロール状金型と長尺状の基材（シート材）との間に液状の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟み、活性エネルギー線の照射によって活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、金型の微細凹凸構造と相補的な形状の微細凹凸構造を有する硬化樹脂層を基材の表面に形成し光学シートとする方法が知られている。   As a method of forming such a fine concavo-convex structure on the surface of an article, a liquid active energy ray-curable resin is formed between a roll-shaped mold having a fine concavo-convex structure on the surface and a long substrate (sheet material). By sandwiching the composition and curing the active energy ray-curable resin composition by irradiation with active energy rays, a cured resin layer having a fine concavo-convex structure complementary to the mold fine concavo-convex structure is formed on the surface of the substrate. There is known a method of forming an optical sheet.

この方法では、加工の簡便性等の理由によって、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナが円筒状アルミニウム母材の表面に設けられた光学シート製造用ロール状金型として使用されている（特許文献１）。   In this method, anodized alumina having a plurality of pores is used as a roll-shaped mold for manufacturing an optical sheet provided on the surface of a cylindrical aluminum base material for reasons such as simplicity of processing (Patent Document) 1).

特開２００５−１５６６９５号公報JP 2005-156695 A

上述のようにアルミニウム母材を使用して光学シート製造用ロール状金型を製造する際には、先ず、ロール状のアルミニウム母材の表面を切削により、所定平滑度に鏡面加工し、鏡面加工された母材表面を陽極酸化して微細凹凸形状を付与している。
この鏡面加工は、ロール状アルミニウム母材を、長手方向軸線を中心に回転させながら、工具（バイト）を母材の外周面に沿ってロール状アルミニウム母材の軸線に沿って移動させることによって行われる。このため、ロール状母材の表面には、工具（バイト）による切削痕として、周期的な筋状の凹凸形状（畝）が残留してしまう。When manufacturing a roll mold for optical sheet manufacturing using an aluminum base material as described above, first, the surface of the roll-shaped aluminum base material is mirror-finished to a predetermined smoothness by cutting, and is mirror-finished. The formed base material surface is anodized to give a fine uneven shape.
This mirror finish is performed by moving the tool (bite) along the axis of the roll aluminum base along the outer peripheral surface of the base while rotating the roll base of aluminum around the longitudinal axis. Is called. For this reason, a periodic streak-like uneven shape (畝) remains on the surface of the roll-shaped base material as a cutting mark by a tool (bite).

このような筋状の凹凸形状（畝）が残留したロール状母材に陽極酸化によって微細凹凸形状を付与することによって製造したロール状金型から、微細凹凸形状を基材に転写して光学シートを製造すると、微細凹凸構造に加えて、周期的な筋状の凹凸形状（畝）も転写されることになる。   An optical sheet obtained by transferring a fine concavo-convex shape to a base material from a roll-shaped mold manufactured by imparting a fine concavo-convex shape by anodic oxidation to a roll-shaped base material in which such streaky concavo-convex shape (形状) remains. In addition to the fine concavo-convex structure, a periodic streak-like concavo-convex shape (さ れ る) is also transferred.

モスアイ構造を有する光学シートでは、反射防止性能に優れ透明性が高いために、このような筋状の凹凸形状が視認される場合がある。   Since the optical sheet having the moth-eye structure has excellent antireflection performance and high transparency, such a streak-like uneven shape may be visually recognized.

即ち、このような光学シートを一般的な反射防止用途に用いた場合には、筋状の凹凸形状が視認されることは希であるが、本件発明の発明者らは、このような筋状の凹凸形状が転写された光学シートを液晶表示装置などの電子表示装置の反射防止フィルムとして使用した場合に、周期的な筋状の周期的な凹凸と、電子表示装置の画素との干渉により、干渉模様（モアレ）が観察されることを見出した。   That is, when such an optical sheet is used for a general antireflection application, it is rare that a streak-like uneven shape is visually recognized. When the optical sheet having the concavo-convex shape transferred thereon is used as an antireflection film for an electronic display device such as a liquid crystal display device, due to interference between periodic streaky periodic concavo-convex and pixels of the electronic display device, It was found that an interference pattern (moire) was observed.

また、モスアイ構造のような微細凹凸構造が表面に形成された反射防止フィルムは、反射防止特性が非常に優れているために、モアレが発生すると、他の光学フィルムの場合と比較してより鮮明に干渉模様が視認される傾向にあることを見出した。   In addition, the antireflection film with a fine concavo-convex structure formed on the surface, such as a moth-eye structure, has excellent antireflection characteristics, so when moire occurs, it is clearer than other optical films. It was found that the interference pattern tends to be visually recognized.

このような干渉模様の発生を防止するためには、切削痕である筋状の凹凸が形成されないようロール状のアルミニウム母材を加工すれば良いが、切削痕を全く発生させずに、ロール状のアルミニウム母材の表面の切削加工を実施することは実質的に困難である。   In order to prevent the occurrence of such interference patterns, the roll-shaped aluminum base material may be processed so as not to form the streak-like irregularities that are the cutting traces. It is substantially difficult to carry out the cutting of the surface of the aluminum base material.

本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、切削痕に起因する筋状の凹凸が反射防止フィルムに転写されたとしても、干渉模様を抑制することができる光学シート製造用ロール状金型の製造方法、およびそのような光学シート製造用金型を使用する光学シート製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and even when streaky irregularities resulting from cutting marks are transferred to an antireflection film, a roll-shaped gold for manufacturing an optical sheet capable of suppressing interference patterns. It aims at providing the manufacturing method of a type | mold, and the optical sheet manufacturing method using such a metal mold | die for optical sheet manufacture.

本発明によれば、
表面に微細凹凸構造を有し、表面の前記微細凹凸構造をシート材に転写して光学シート材とする光学シート製造用金型の製造方法であって、
アルミニウム母材の表面を所定の送りピッチで切削して、アルミニウム母材の表面を鏡面加工するステップと、
アルミニウム母材の表面に陽極酸化を施し微細凹凸構造を形成するステップと、を備え、
鏡面加工するステップにおいて、切削バイトの送りピッチをＦ、切削バイトの先端の曲率半径をＲとした場合に、下記式（１）で表わされるＲｙの値が１．５ｎｍ以上、かつ、１００ｎｍ以下となるように、アルミニウム母材の切削を行うことを特徴とする、光学シート製造用金型の製造方法が提供される。
Ｒｙ＝Ｆ2／８Ｒ （１）According to the present invention,
A method for producing a mold for producing an optical sheet having a fine uneven structure on a surface and transferring the fine uneven structure on the surface to a sheet material to form an optical sheet material,
Cutting the surface of the aluminum base material at a predetermined feed pitch and mirror-finishing the surface of the aluminum base material;
And anodizing the surface of the aluminum base material to form a fine relief structure,
In the step of mirror finishing, when the feed pitch of the cutting tool is F and the radius of curvature of the tip of the cutting tool is R, the value of Ry represented by the following formula (1) is 1.5 nm or more and 100 nm or less. Thus, there is provided a method for producing a mold for producing an optical sheet, characterized by cutting an aluminum base material.
Ry = F 2 / 8R (1)

このような構成によれば、アルミニウム母材の表面を干渉縞や白化現象などの外観異常のない良好な状態に鏡面加工することができ、このようなアルミニウム母材を用いて製造した金型を用いて光学シートを製造することにより、光学シートに干渉模様が転写されるのを防止できる。   According to such a configuration, the surface of the aluminum base material can be mirror-finished in a good state without appearance abnormalities such as interference fringes and whitening phenomenon, and a mold manufactured using such an aluminum base material can be obtained. By using the optical sheet to produce the interference pattern, it is possible to prevent the interference pattern from being transferred to the optical sheet.

本発明の他の好ましい態様によれば、
上記光学シートの製造用金型の製造方法であって、
切削バイトの送りピッチは、５μｍ以上、かつ、５０μｍ以下である光学シートの製造用金型の製造方法が提供される。According to another preferred embodiment of the invention,
A manufacturing method of a mold for manufacturing the optical sheet,
A method for manufacturing a mold for manufacturing an optical sheet, in which the feed pitch of the cutting tool is 5 μm or more and 50 μm or less, is provided.

本発明の他の態様によれば、
上記の製造方法により製造された金型を使用した光学シート製造方法であって、
金型の表面にシートを当接させ、表面の形状をシートに転写して、光学シート材とする転写ステップを備えていることを特徴とする光学シート製造方法が提供される。According to another aspect of the invention,
An optical sheet manufacturing method using a mold manufactured by the above manufacturing method,
There is provided an optical sheet manufacturing method comprising a transfer step of bringing a sheet into contact with the surface of a mold and transferring the shape of the surface to the sheet to obtain an optical sheet material.

本発明の他の態様によれば、
上記の製造方法により製造された光学シートを備える電子表示装置が提供される。According to another aspect of the invention,
An electronic display device including an optical sheet manufactured by the above manufacturing method is provided.

本発明の他の態様によれば、
表面に微細凹凸構造が形成され、該微細凹凸構造をシート材に転写して光学シート材を製造するための光学シート製造用金型の母材として用いられるアルミニウム母材の鏡面加工方法であって、
前記アルミニウム母材の表面を所定の送りピッチで切削するステップを備え、
前記ステップにおいて、前記切削バイトの送りピッチをＦ、前記切削バイトの先端の曲率半径をＲとした場合に、下記式（１）で表わされるＲｙの値が１．５ｎｍ以上、かつ、１００ｎｍ以下となるように、前記アルミニウム母材の切削を行うことを特徴とする、鏡面加工方法、鏡面加工方法が提供される。
Ｒｙ＝Ｆ２／８Ｒ （１）According to another aspect of the invention,
A method of mirror-finishing an aluminum base material used as a base material of an optical sheet manufacturing mold for forming an optical sheet material by forming a fine uneven structure on a surface and transferring the fine uneven structure to a sheet material. ,
Cutting the surface of the aluminum base material at a predetermined feed pitch,
In the step, when the feed pitch of the cutting tool is F and the radius of curvature of the tip of the cutting tool is R, the value of Ry represented by the following formula (1) is 1.5 nm or more and 100 nm or less. Thus, there is provided a mirror surface processing method and a mirror surface processing method, wherein the aluminum base material is cut.
Ry = F2 / 8R (1)

このような構成を備えた本発明によれば、切削痕に起因する筋状の凹凸が反射防止フィルムに転写されたとしても、干渉模様を抑制することができる光学シート製造用ロール状金型、そのような光学シート製造用ロール状金型の製造方法、およびそのような光学シート製造用を使用する光学シート製造方法が提供される。   According to the present invention having such a configuration, a roll-shaped mold for manufacturing an optical sheet capable of suppressing an interference pattern even if streaky irregularities resulting from cutting marks are transferred to an antireflection film, A method for producing such a roll-shaped mold for producing an optical sheet, and an optical sheet producing method using such an optical sheet producing method are provided.

本発明の好ましい実施形態の光学シート製造用ロール状金型を作製する際のアルミニウム母材の切削加工を説明する図面である。It is drawing explaining the cutting process of the aluminum base material at the time of producing the roll-shaped metal mold | die for optical sheet manufacture of preferable embodiment of this invention. 本発明の他の好ましい態様の光学シート製造用ロール状金型の構成を模式的に示す図面である。It is drawing which shows typically the structure of the roll-shaped metal mold | die for optical sheet manufacture of the other preferable aspect of this invention. ロール状金型の表面に微細凹凸構造を有する陽極酸化アルミナを製造する工程を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the process of manufacturing the anodic oxidation alumina which has a fine uneven structure on the surface of a roll-shaped metal mold | die. 微細凹凸構造を表面に有する光学シート片を製造する製造装置の一例の構成を模式的に示す構成図である。It is a block diagram which shows typically the structure of an example of the manufacturing apparatus which manufactures the optical sheet piece which has a fine concavo-convex structure on the surface. 微細凹凸構造を表面に有する光学シート片の断面構造を模式的に示す図面である。It is drawing which shows typically the cross-sectional structure of the optical sheet piece which has a fine concavo-convex structure on the surface.

以下、図面を参照して、本発明の好ましい実施形態の光学シート製造用ロール状の製造方法、およびそのような光学シート製造用を使用する光学シート製造方法について説明する。   Hereinafter, with reference to drawings, the manufacturing method of the roll-form for optical sheet manufacture of preferable embodiment of this invention and the optical sheet manufacturing method using such an optical sheet manufacture are demonstrated.

なお、本明細書において、「微細凹凸構造」または「微細凹凸形状」とは、凸部または凹部の平均間隔（周期）が可視光波長以下、つまり４００ｎｍ以下の構造または形状を意味する。   In the present specification, the “fine concavo-convex structure” or “fine concavo-convex shape” means a structure or shape in which the average interval (period) between the convex portions or the concave portions is not more than the visible light wavelength, that is, 400 nm or less.

また、「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。また、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物は、オキシアルキレン基を１つ有するオキシアルキレンアルキルリン酸化合物またはオキシアルキレン基を２つ以上有するポリオキシアルキレンアルキルリン酸化合物を意味する。   The “active energy ray” means visible light, ultraviolet ray, electron beam, plasma, heat ray (infrared ray, etc.) and the like. The (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound means an oxyalkylene alkyl phosphate compound having one oxyalkylene group or a polyoxyalkylene alkyl phosphate compound having two or more oxyalkylene groups.

さらに、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
「矩形」とは、略矩形をも包含し、例えば、四辺の一部に切り欠き等が設けられたり、面取りが行われている場合であっても、全体としてほぼ矩形であれば、これらも「矩形」に含まれる。Furthermore, “(meth) acrylate” means acrylate or methacrylate.
“Rectangle” also includes a substantially rectangular shape. For example, even when a cutout or the like is provided on a part of the four sides or chamfering is performed, these are also generally rectangular if they are almost rectangular. Included in “rectangle”.

先ず、本実施形態の光学シート製造用ロール状金型（以下、「ロール状金型」とする。）について説明する。
本実施形態のロール状金型は、下記の工程（ａ）〜（ｇ）を有する方法によって作製される。
（ａ）アルミニウム母材の表面状態を平滑化（鏡面化）にするために、切削加工を行う工程。
（ｂ）アルミニウム母材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム母材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
（ｃ）酸化皮膜の一部または全てを除去し、アルミニウム母材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。First, a roll mold for manufacturing an optical sheet of the present embodiment (hereinafter referred to as “roll mold”) will be described.
The roll mold of this embodiment is produced by a method having the following steps (a) to (g).
(A) The process of cutting in order to make the surface state of an aluminum base material smooth (mirror-finishing).
(B) A step of anodizing the aluminum base material in an electrolytic solution under a constant voltage to form an oxide film on the surface of the aluminum base material.
(C) A step of removing a part or all of the oxide film to form anodic oxidation pore generation points on the surface of the aluminum base material.

（ｄ）アルミニウム母材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
（ｅ）細孔の径を拡大させる工程。
（ｆ）工程（ｅ）の後、電解液中、再度陽極酸化する工程。
（ｇ）工程（ｅ）と工程（ｆ）を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウムの表面に形成されたモールドを得る工程。(D) A step of anodizing the aluminum base material again in the electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.
(E) A step of enlarging the diameter of the pores.
(F) A step of anodizing again in the electrolytic solution after the step (e).
(G) A step of repeatedly performing steps (e) and (f) to obtain a mold in which anodized alumina having a plurality of pores is formed on the surface of aluminum.

工程（ａ）
まず、ロール状金型の材料であるアルミニウム母材の表面を必要とされる平滑度にするため、工具を用いた切削加工を行う。アルミニウム母材として、連続的に光学シートを製造する観点から、ロール状のものを用いることが好ましい。Step (a)
First, in order to make the surface of the aluminum base material, which is a material for the roll-shaped mold, the required smoothness, cutting using a tool is performed. From the viewpoint of continuously producing an optical sheet, it is preferable to use a roll-shaped aluminum base material.

成型の際には温調機能が必要とされることが多く、ロール内部に冷熱媒を通過させるためにスリーブ状構造などの中空もしくは数箇所に分けられた貫通穴加工が施されているものが主に用いられる。アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。   A temperature control function is often required during molding, and a sleeve or a hollow hole such as a sleeve-like structure is provided to allow the cooling medium to pass inside the roll. Used mainly. The purity of aluminum is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more, and particularly preferably 99.8% or more. When the purity of aluminum is low, when anodized, an uneven structure having a size to scatter visible light may be formed due to segregation of impurities, or the regularity of pores obtained by anodization may be lowered.

次に、使用される工具としてはバイトと呼ばれる刃物工具が多く使用される。アルミニウム材料を切削するバイトの先端には、形状の安定性に優れる単結晶ダイヤモンドを用いることが望ましい。   Next, as a tool to be used, a blade tool called a bite is often used. It is desirable to use single crystal diamond having excellent shape stability at the tip of the cutting tool for cutting the aluminum material.

バイトの形状として、先端が、Ｒ形状のＲバイトと、フラットなフラットバイトとがある。
Ｒバイトはロール直径の変化や加工方向に制約がないため、容易に使用することができる。一方、表面粗度をより向上させるため、大きなＲ形状を用いようとした場合、バイトを製作する際に加工機台や製造技術に高い精度が求められ、バイト本体が高価になることがある。As the shape of the cutting tool, there are an R cutting tool whose tip is an R shape and a flat cutting tool.
The R bite can be easily used because there is no restriction on the roll diameter change and the processing direction. On the other hand, when a large R shape is used in order to further improve the surface roughness, high precision is required for the processing machine base and manufacturing technique when manufacturing the tool, and the tool body may be expensive.

また、先端形状が平坦なフラットバイトは形状がシンプルなため、製作自体は容易であるが、ロール状のアルミニウム母材の直径が変更される際には取り付け調整が必要となり、高い取り付け精度が要求される。   In addition, a flat cutting tool with a flat tip shape is simple in shape and easy to manufacture. However, when the diameter of the roll-shaped aluminum base material is changed, mounting adjustment is required, and high mounting accuracy is required. Is done.

これらの点を総合的に考慮し、本実施形態ではＲバイトが用いられるが、フラットバイトを使用することも可能である。   Considering these points comprehensively, the R byte is used in this embodiment, but it is also possible to use a flat byte.

本実施形態で用いられるＲバイトの先端形状は、半径１〜１０００mmのＲ形状であることが好ましく、半径２〜２００mmのＲ形状であることがさらに好ましい。   The tip shape of the R cutting tool used in the present embodiment is preferably an R shape having a radius of 1 to 1000 mm, and more preferably an R shape having a radius of 2 to 200 mm.

図１に沿って、アルミニウム母材の切削加工について詳細に説明する。ロール状ワークの加工においては、ロールを回転させた状態で工具となるバイトに所定の切り込みを与えて加工する旋盤を用いることが一般的である。   The cutting of the aluminum base material will be described in detail with reference to FIG. In the processing of a roll-shaped workpiece, it is common to use a lathe that performs processing by giving a predetermined notch to a cutting tool as a tool while the roll is rotated.

円筒状のアルミニウム母材１を、回転機構２を用いて、長手方向軸線を中心に所定の回転数で回転させながら、バイト４が固定されたテーブル６をＸ軸（アルミニウム母材の径方向）に移動させてバイト４をアルミニウム母材１の外周面に所定の深さで切り込ませ、さらにテーブル６およびバイト４をＺ軸(アルミニウム母材１の軸線)方向に所定の速度で移動させ、円筒状のアルミニウム母材１の外周面１ａの全体を鏡面化する（図２）。   While rotating the cylindrical aluminum base material 1 at a predetermined rotational speed around the longitudinal axis using the rotation mechanism 2, the table 6 on which the cutting tool 4 is fixed is X-axis (the radial direction of the aluminum base material). The cutting tool 4 is cut into the outer peripheral surface of the aluminum base material 1 at a predetermined depth, and the table 6 and the cutting tool 4 are moved at a predetermined speed in the Z axis direction (the axis of the aluminum base material 1). The entire outer peripheral surface 1a of the cylindrical aluminum base material 1 is mirror-finished (FIG. 2).

本実施形態においては、アルミニウム母材１が軸方向中心軸を中心に一周回転する間に、切削バイト４が軸方向（図１中のＺ軸方向）に沿って５〜５０μｍ移動する速度で、切削バイト４およびテーブル６を円筒状のアルミニウム母材１の軸方向に沿って移動させながら切削による鏡面加工が行われる。   In this embodiment, while the aluminum base material 1 rotates around the axial center axis, the cutting tool 4 moves at a speed of 5 to 50 μm along the axial direction (Z-axis direction in FIG. 1). Mirror surface machining by cutting is performed while moving the cutting tool 4 and the table 6 along the axial direction of the cylindrical aluminum base material 1.

なお、本明細書では、アルミニウム母材がロール状の場合、アルミニウム母材１が一回転する間に移動する切削バイト４がアルミニウム母材１の軸線方向に沿って移動する距離を、切削のピッチ（送りピッチ）とする。
また、アルミニウム母材が平板状の場合、所定の方向（Ｘ方向）に沿って切削加工を行い、切削バイト４を所定の方向と直交する方向（Ｙ方向）に所定距離移動させ、さらに所定の方向に沿って切削加工行う。この動作を繰り返し行うことで、アルミニウム母材の表面を加工するが、この際のＹ方向への切削バイト４の移動距離を切削のピッチ（送りピッチ）とする。
この切削のピッチを５〜５０μｍとすることで、アルミニウム母材１上に残留する筋状の凹凸（畝）の間隔（ピッチ）が５〜５０μｍとなり、その結果、後述の方法により製造されたアルミニウム母材から製作されたロール状金型を用いて光学シートを製造した場合に、光学シートに転写される筋状の凹凸構造の配列周期（ピッチ）を５〜５０μｍとすることができる。In the present specification, when the aluminum base material is in the form of a roll, the distance by which the cutting tool 4 that moves while the aluminum base material 1 makes one rotation moves along the axial direction of the aluminum base material 1 is the cutting pitch. (Feed pitch).
Further, when the aluminum base material is flat, cutting is performed along a predetermined direction (X direction), the cutting tool 4 is moved a predetermined distance in a direction (Y direction) orthogonal to the predetermined direction, Cutting along the direction. By repeating this operation, the surface of the aluminum base material is processed, and the moving distance of the cutting tool 4 in the Y direction at this time is defined as a cutting pitch (feeding pitch).
By setting the cutting pitch to 5 to 50 μm, the interval (pitch) between the streaky irregularities (creases) remaining on the aluminum base material 1 becomes 5 to 50 μm. As a result, the aluminum manufactured by the method described later is used. When an optical sheet is manufactured using a roll-shaped mold manufactured from a base material, the arrangement period (pitch) of the streaky uneven structure transferred to the optical sheet can be set to 5 to 50 μm.

切削のピッチは、５〜５０μｍに設定されることが好ましい。
切削のピッチが５μｍ以下の場合、アルミニウム母材１の切削に長時間が必要となってしまうという問題、またアルミニウム母材１の切削工程の途中でバイトが摩耗してしまい、バイトを交換しなければならないという問題がある。
切削のピッチが５０μｍを超えると、液晶パネルとの間に発生する干渉縞の発生を低減することが困難となる。
現在、液晶パネル等の電子表示装置の画素の一般的な配列周期（画素ピッチ）は、最小でも８０μｍ程度であるため、上記切削ピッチを５〜４０μｍとすれば、液晶パネル等の電子表示装置の画素の一般的な画素ピッチの半分以下となる。The cutting pitch is preferably set to 5 to 50 μm.
When the cutting pitch is 5 μm or less, it takes a long time to cut the aluminum base material 1, and the tool wears out during the cutting process of the aluminum base material 1, so the tool must be replaced. There is a problem that must be.
When the pitch of cutting exceeds 50 μm, it is difficult to reduce the generation of interference fringes generated between the liquid crystal panel.
At present, the general arrangement period (pixel pitch) of pixels of an electronic display device such as a liquid crystal panel is about 80 μm at the minimum, so if the cutting pitch is 5 to 40 μm, This is less than half the general pixel pitch of the pixel.

例えば、先端Ｒが１０ｍｍのバイト４を用いる場合、送りピッチＦは１０〜５０μｍの間で設定されることが好ましく、より好ましくは２０〜５０μｍの間で設定される。
更に先端Ｒが５ｍｍのバイト４を用いる場合、送りピッチＦは１０〜５０μｍの間で設定されることが好ましく、より好ましくは１５〜４０μｍの間で設定される。
切削バイトの先端半径Ｒと送りピッチＦは、理論表面粗さＲｙが１．５〜１００ｎｍの範囲に入るように決定されることが望ましく、更に好ましくは理論表面粗さＲｙが５〜６０μの範囲に入るように決定される。For example, when a cutting tool 4 having a tip R of 10 mm is used, the feed pitch F is preferably set between 10 and 50 μm, more preferably between 20 and 50 μm.
Further, when a cutting tool 4 having a tip R of 5 mm is used, the feed pitch F is preferably set between 10 and 50 μm, more preferably between 15 and 40 μm.
The tip radius R and the feed pitch F of the cutting tool are desirably determined so that the theoretical surface roughness Ry falls within the range of 1.5 to 100 nm, and more preferably the theoretical surface roughness Ry ranges from 5 to 60 μm. Decided to enter.

なお、理論表面粗さＲｙは、以下の式（１）により算出される。
Ｒｙ＝Ｆ2／８Ｒ （１）
（式中、Ｆは前記切削バイトの送りピッチを表し、Ｒは前記切削バイトの先端の曲率半径を表す）The theoretical surface roughness Ry is calculated by the following formula (1).
Ry = F 2 / 8R (1)
(Where F represents the feed pitch of the cutting tool, and R represents the radius of curvature of the tip of the cutting tool)

この理論表面粗さＲｙが１．５ｎｍより小さい値になるような切削バイトの先端半径Ｒと送りピッチＦを採用した場合、バイトの寿命を縮めるばかりか金型外観が白化する現象が発生し、外観品位が大幅に低下する。一方、理論表面粗さＲｙが１００ｎｍを超える値になるような切削バイトの先端半径Ｒと送りピッチＦを採用した場合、アルミ切削における重要な刃先でのバニシング効果を十分に得ることが出来ず表面粗さの悪化と共に虹状のスジ欠陥が全面に発生し外観品位の悪化が確認される。   When the cutting tool tip radius R and the feed pitch F are employed such that the theoretical surface roughness Ry is less than 1.5 nm, not only the tool life is shortened, but the die appearance is whitened. Appearance quality is greatly reduced. On the other hand, if the cutting tool tip radius R and feed pitch F are used so that the theoretical surface roughness Ry exceeds 100 nm, the burnishing effect at the important cutting edge in aluminum cutting cannot be obtained sufficiently. As the roughness deteriorates, rainbow-like streak defects appear on the entire surface, and deterioration of the appearance quality is confirmed.

本実施形態においては、切り込み量（図１中のｘ軸方向）は０．５〜１００μｍの範囲で設定される。より好ましくは１〜５０μｍの間で設定され、更に好ましくは１〜２０μｍの間で設定される。   In the present embodiment, the cutting amount (x-axis direction in FIG. 1) is set in the range of 0.5 to 100 μm. More preferably, it sets between 1-50 micrometers, More preferably, it sets between 1-20 micrometers.

切削工程を行うと、アルミニウム母材の表面に送りピッチ分の引き目と呼ばれる、バイト軌跡に対応した筋状の凹凸（切削痕）が必ず発生する。このため、この切削痕の凹凸を軽減するために、切削加工に加えて、羽布研磨、化学的研磨、電解研磨処理（エッチング処理）等の研磨を併用しても構わない。   When the cutting process is performed, streaky irregularities (cutting traces) corresponding to the bite trajectory, which are called feed pitches, are always generated on the surface of the aluminum base material. For this reason, in order to reduce the unevenness of the cutting trace, in addition to the cutting process, polishing such as feather polishing, chemical polishing, electrolytic polishing (etching) or the like may be used in combination.

しかしながら、上述の研磨処理を行っても、切削痕を完全に除去することは困難であり、切削または切削と研磨とによる鏡面加工が終了したアルミニウム母材１の外周面１ａには、図２に模式的に示されているように、円筒状のアルミニウム母材１の軸線に略直交する方向すなわち円周方向に延びる畝１ｂの部分を有する筋状の凹凸構造が残る。
円筒状のアルミニウム母材１の軸線方向における畝１ｂの周期（ピッチＰ）は、切削のピッチ（送りピッチ）に対応し、５〜５０μｍとなる。However, even if the above-described polishing treatment is performed, it is difficult to completely remove the cutting trace, and the outer peripheral surface 1a of the aluminum base material 1 that has been subjected to mirror processing by cutting or cutting and polishing is shown in FIG. As schematically shown, a streak-like concavo-convex structure having a portion of the ridge 1b extending in a direction substantially orthogonal to the axis of the cylindrical aluminum base material 1, that is, in the circumferential direction remains.
The period (pitch P) of the ridges 1b in the axial direction of the cylindrical aluminum base material 1 corresponds to the cutting pitch (feed pitch) and is 5 to 50 μm.

なお、上述したように、現在、液晶パネル等の電子表示装置の画素の一般的な配列周期（画素ピッチ）は、最小でも８０μｍ程度であるので、上記円筒状のアルミニウム母材１の軸線方向における畝１ｂの周期（ピッチＰ）も、液晶パネル等の電子表示装置の画素の一般的な画素ピッチの半分以下とすることが好ましい。   As described above, since the general arrangement period (pixel pitch) of pixels of an electronic display device such as a liquid crystal panel is currently about 80 μm at the minimum, the cylindrical aluminum base material 1 in the axial direction is the minimum. It is preferable that the period (pitch P) of the ridge 1b is set to be equal to or less than half of a general pixel pitch of a pixel of an electronic display device such as a liquid crystal panel.

また、アルミニウム母材は、切削加工する際に用いた油が付着していることがあるため、陽極酸化の前にあらかじめ脱脂処理されることが好ましい。   Moreover, since the oil used at the time of cutting may adhere to the aluminum base material, it is preferable to degrease in advance before anodizing.

円筒状アルミニウム母材に替えて平板状のアルミニウム母材を用いる場合、アルミニウム母材をワーク上に固定し、切削バイトをＸ方向、Ｘ方向と略直交するＹ方向とに移動可能な平板加工機を利用し、切削バイトでＸ方向に筋状にアルミニウム基材を切削する工程と、Ｙ方向に５〜５０μｍのピッチで切削バイトを移動させる工程と、を繰り返し行うことで、平板状のアルミニウム母材の表面全体を鏡面加工する。
また、切削バイトをＸ方向に動かし筋状に切削し、ワークをＹ方向に所定ピッチずつ移動させる方法でもよい。When a flat aluminum base material is used instead of the cylindrical aluminum base material, the aluminum base material is fixed on the workpiece and the cutting tool can be moved in the X direction and the Y direction substantially orthogonal to the X direction. Is used, and the step of cutting the aluminum base material in the X direction with the cutting bite and the step of moving the cutting bite at a pitch of 5 to 50 μm in the Y direction are repeated to obtain a flat aluminum mother Mirror finish the entire surface of the material.
Alternatively, a method may be used in which the cutting tool is moved in the X direction to cut in a streak shape, and the workpiece is moved by a predetermined pitch in the Y direction.

工程（ｂ）：
図３（ｂ）に示すように、アルミニウム母材１の表面部分１０（図３（ａ））を陽極酸化すると、細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成される。
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。Step (b):
As shown in FIG. 3B, when the surface portion 10 (FIG. 3A) of the aluminum base material 1 is anodized, an oxide film 14 having pores 12 is formed.
Examples of the electrolytic solution include sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid.

シュウ酸を電解液として用いる場合：
以下に硫酸を電解液として用いる場合の具体例を説明する。シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が３０〜６０Ｖの時、周期が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。When using oxalic acid as electrolyte:
A specific example in the case of using sulfuric acid as an electrolytic solution will be described below. The concentration of oxalic acid is preferably 0.7 M or less. When the concentration of oxalic acid exceeds 0.7M, the current value becomes too high, and the surface of the oxide film may become rough.
When the formation voltage is 30 to 60 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 100 nm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease.

電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。   The temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or lower, and more preferably 45 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 60 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken, or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

硫酸を電解液として用いる場合：
以下に硫酸を電解液として用いる場合の具体例を説明する。硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が２５〜３０Ｖの時、周期が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。When using sulfuric acid as the electrolyte:
A specific example in the case of using sulfuric acid as an electrolytic solution will be described below. The concentration of sulfuric acid is preferably 0.7M or less. If the concentration of sulfuric acid exceeds 0.7M, the current value may become too high to maintain a constant voltage.
When the formation voltage is 25 to 30 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 63 nm can be obtained. The regularity tends to decrease whether the formation voltage is higher or lower than this range.

電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。   The temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or less, and more preferably 20 ° C. or less. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 30 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

工程（ｃ）：
図３（ｃ）に示すように、酸化皮膜１４の一部または全てを一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点１６にすることで細孔の規則性を向上することができる。酸化皮膜１４は全てを除去せずに一部が残るような状態でも、酸化皮膜１４のうち、すでに規則性が十分に高められた部分が残っているのであれば、酸化皮膜除去の目的を果たすことができる。Step (c):
As shown in FIG. 3C, the regularity of the pores can be improved by temporarily removing a part or all of the oxide film 14 and using the oxide film 14 as the pore generation points 16 of anodic oxidation. Even if the oxide film 14 remains in a state where all of the oxide film 14 remains without being removed, if the oxide film 14 still has a portion with sufficiently high regularity, the purpose of removing the oxide film is achieved. be able to.

酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。   Examples of the method for removing the oxide film include a method in which aluminum is not dissolved but is dissolved in a solution that selectively dissolves the oxide film and removed. Examples of such a solution include a chromic acid / phosphoric acid mixed solution.

工程（ｄ）：
図３（ｄ）に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム母材１０を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成される。Step (d):
As shown in FIG. 3D, when the aluminum base material 10 from which the oxide film has been removed is anodized again, an oxide film 14 having cylindrical pores 12 is formed.

陽極酸化は、工程（ｂ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。ただし、工程（ｃ）の効果が失われない範囲であれば、工程（ｄ）での陽極酸化の電圧、電解液の種類、温度等を適宜調整することが可能である。   Anodization may be performed under the same conditions as in step (b). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened. However, as long as the effect of the step (c) is not lost, the voltage of the anodization in the step (d), the type of the electrolytic solution, the temperature, and the like can be adjusted as appropriate.

工程（ｅ）：
図３（ｅ）に示すように、細孔１２の径を拡大させる処理（以下、細孔径拡大処理と記す。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。Step (e):
As shown in FIG. 3E, a process for expanding the diameter of the pores 12 (hereinafter referred to as a pore diameter expansion process) is performed. The pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the diameter of the pores obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving the oxide film. Examples of such a solution include a phosphoric acid aqueous solution of about 5% by mass.
The longer the pore diameter expansion processing time, the larger the pore diameter.

工程（ｆ）：
図３（ｆ）に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔１２の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔１２’がさらに形成される。
陽極酸化は、工程（ｂ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。Step (f):
As shown in FIG. 3 (f), when anodization is performed again, cylindrical pores 12 'having a small diameter and extending downward from the bottom of the cylindrical pores 12 are further formed.
Anodization may be performed under the same conditions as in step (b). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened.

工程（ｇ）：
工程（ｅ）の細孔径拡大処理と工程（ｆ）の陽極酸化とを繰り返すと、図３（ｇ）に示すように、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成され、アルミニウム母材１の表面１０に陽極酸化アルミナ（アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト））を有するモールド１８が得られる。最後は工程（ｅ）で終わることが好ましい。Step (g):
When the pore diameter enlargement process in step (e) and the anodic oxidation in step (f) are repeated, pores having a shape in which the diameter continuously decreases in the depth direction from the opening as shown in FIG. As a result, a mold 18 having anodized alumina (aluminum porous oxide film (alumite)) on the surface 10 of the aluminum base material 1 is obtained. It is preferable that the last end is step (e).

繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が２回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成されたモスアイ構造の反射率低減効果は不十分である。   The total number of repetitions is preferably 3 times or more, and more preferably 5 times or more. When the number of repetitions is 2 times or less, the diameter of the pores decreases discontinuously, so that the effect of reducing the reflectance of the moth-eye structure formed using anodized alumina having such pores is insufficient.

細孔１２の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。   Examples of the shape of the pore 12 include a substantially conical shape, a pyramid shape, a cylindrical shape, and the like, and a cross-sectional area of the pore in a direction orthogonal to the depth direction such as a conical shape and a pyramid shape has a depth from the outermost surface. A shape that continuously decreases in the direction is preferred.

細孔１２間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。細孔１２間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
細孔１２間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔１２間の間隔（細孔１２の中心から隣接する細孔１２の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。The average interval between the pores 12 is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. The average interval between the pores 12 is preferably 20 nm or more.
The average interval between the pores 12 was measured by measuring the distance between adjacent pores 12 (distance from the center of the pore 12 to the center of the adjacent pore 12) by electron microscope observation, and averaging these values. It is a thing.

細孔１２の深さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。
細孔１２の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときにおける、細孔１２の最底部と、細孔１２間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
細孔１２のアスペクト比（細孔の深さ／細孔間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。When the average interval is 100 nm, the depth of the pores 12 is preferably 80 to 500 nm, more preferably 120 to 400 nm, and particularly preferably 150 to 300 nm.
The depth of the pore 12 is a value obtained by measuring the distance between the bottom of the pore 12 and the top of the convex portion existing between the pores 12 when observed with an electron microscope at a magnification of 30000 times. It is.
The aspect ratio of the pores 12 (depth of pores / average interval between pores) is preferably 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, and 1.5 to 3.0. Is particularly preferred.

このようにして、外周面に微細凹凸構造と筋状の凹凸形状が形成された、ロール状金型を得る。このロール状金型を使用して、表面に微細凹凸構造と筋状の凹凸形状が転写された長尺状の光学シートが製造される。   In this way, a roll-shaped mold having a fine concavo-convex structure and streaky concavo-convex shape formed on the outer peripheral surface is obtained. Using this roll-shaped mold, a long optical sheet having a fine concavo-convex structure and streaky concavo-convex shape transferred on the surface is produced.

（製造装置）
本実施形態の光学シート製造方法では、図４に示す製造装置２０が用いられる。
製造装置２０は、上述したように外周面に微細凹凸構造が形成され回転駆動されるロール状金型２２と、光学シートの基材となる長尺状の基材２４をロール状金型２２に連続的に供給する機構と、ロール状金型２２の外周面に長尺状の基材２４を押圧するニップロール２６と、活性エネルギ線硬化性樹脂組成物２８をロール状金型２２と長尺状の基材２４の間に供給するノズル３０と、ニップロール２６の下流側位置で活性エネルギ線を活性エネルギ線硬化性組成物２８に向けて照射する活性エネルギ線源３２等を備えている。(manufacturing device)
In the optical sheet manufacturing method of the present embodiment, a manufacturing apparatus 20 shown in FIG. 4 is used.
As described above, the manufacturing apparatus 20 uses a roll-shaped mold 22 in which a fine concavo-convex structure is formed on the outer peripheral surface and is driven to rotate, and a long-sized base material 24 serving as a base material for an optical sheet. A continuous supply mechanism, a nip roll 26 that presses the long base material 24 against the outer peripheral surface of the roll-shaped mold 22, and an active energy ray-curable resin composition 28 with the roll-shaped mold 22 and the long shape. A nozzle 30 that is supplied between the substrate 24 and an active energy ray source 32 that irradiates the active energy ray toward the active energy ray curable composition 28 at a position downstream of the nip roll 26.

ニップロール２６は、ロール状金型２２の回転方向上流側位置で、空気圧シリンダ３４によって駆動され、長尺状の基材２４をロール状金型２２の外周面に押圧するよう構成されている。そして、長尺状の基材２４がロール状金型２２の外周面に押しつけられる領域で、タンク３６に収容されている活性エネルギ線硬化性組成物２８が、ノズル３０から長尺状の基材２４とロール状金型２２の間に供給される。   The nip roll 26 is driven by a pneumatic cylinder 34 at a position upstream of the roll mold 22 in the rotation direction, and is configured to press the long base material 24 against the outer peripheral surface of the roll mold 22. The active energy ray-curable composition 28 accommodated in the tank 36 is fed from the nozzle 30 to the long base material in the region where the long base material 24 is pressed against the outer peripheral surface of the roll mold 22. 24 and the roll-shaped mold 22 are supplied.

ロール状金型２２の下方に設置された活性エネルギー線照射装置２８は、基材２４を通して、基材２４とロール状金型２２の間に配置された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２８に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２８を硬化させることによって、ロール状金型２２の微細凹凸構造と相補的な形状を有する硬化樹脂層３８を基材２４上に形成する。   The active energy ray irradiating device 28 installed below the roll-shaped mold 22 is activated through the base material 24 to the active energy ray-curable resin composition 28 disposed between the base material 24 and the roll-shaped mold 22. By irradiating energy rays and curing the active energy ray-curable resin composition 28, a cured resin layer 38 having a shape complementary to the fine concavo-convex structure of the roll-shaped mold 22 is formed on the substrate 24.

基材２４の表面に硬化樹脂層３８が形成された光学シート材４０（図５）は、剥離ロール４０によってロール状金型２２から剥離される。
なお、本実施形態の説明においては、ロール状金型２２と基材２４との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２８が配置されているが、説明の簡便性から、このような状態もロール状金型２２と基材２４とが当接された状態と称する。また、ロール状金型２２と基材２４との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２８を配置せず、ロール状金型２２に対して基材２４を押圧しながら熱を加え、基材２４の表面に直接微細凹凸構造と相補的な形状を形成しても構わない。The optical sheet material 40 (FIG. 5) on which the cured resin layer 38 is formed on the surface of the base material 24 is peeled from the roll-shaped mold 22 by the peeling roll 40.
In the description of the present embodiment, the active energy ray-curable resin composition 28 is disposed between the roll-shaped mold 22 and the base material 24. However, for simplicity of explanation, such a state is also used. This is referred to as a state where the roll-shaped mold 22 and the substrate 24 are in contact with each other. Further, the active energy ray-curable resin composition 28 is not disposed between the roll-shaped mold 22 and the base material 24, and heat is applied while pressing the base material 24 against the roll-shaped mold 22. A shape complementary to the fine concavo-convex structure may be directly formed on the surface of 24.

基材２４は、射出成形、プレス成形等によるフィルム、シートが好ましい。基材２４の材質としては、光透過性の材質であり、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエーテルケトン、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース等）、ポリオレフィン、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン、ガラス等が挙げられる。   The substrate 24 is preferably a film or sheet formed by injection molding or press molding. The material of the substrate 24 is a light transmissive material, for example, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyester resin, polyurethane resin, acrylic resin, polyether sulfone, polysulfone, polyether ketone, cellulose. Resin, triacetyl cellulose, polyolefin, polyolefin, alicyclic polyolefin, glass and the like.

（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２８は、重合性化合物と、重合開始剤と、内部離型剤とを含む組成物である。(Active energy ray-curable resin composition)
The active energy ray-curable resin composition 28 is a composition containing a polymerizable compound, a polymerization initiator, and an internal mold release agent.

組成物の２５℃における粘度は、１００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、５０００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。組成物の２５℃における粘度が１００００ｍＰａ・ｓ以下であれば、微細凹凸構造への組成物の追随性が良好となり、微細凹凸構造を精度よく転写できる。組成物の粘度は、回転式Ｅ型粘度計を用い、２５℃で測定する。   The viscosity at 25 ° C. of the composition is preferably 10,000 mPa · s or less, more preferably 5000 mPa · s or less, and even more preferably 2000 mPa · s or less. When the viscosity at 25 ° C. of the composition is 10,000 mPa · s or less, the composition can follow the fine concavo-convex structure, and the fine concavo-convex structure can be accurately transferred. The viscosity of the composition is measured at 25 ° C. using a rotary E-type viscometer.

（重合性化合物）
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。(Polymerizable compound)
Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cationic polymerizable bond in the molecule.
Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.

単官能モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート誘導体；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル；スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。   Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( )) (Meth) acrylate derivatives such as acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile; styrene, α -Styrene derivatives such as methylstyrene; (meth) acrylamide derivatives such as (meth) acrylamide, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の四官能以上のモノマー；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。   Polyfunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (Meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- ( Ta) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ) Butane, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, propylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, neopentyl glycol di (meth) hydroxypivalate Bifunctional monomers such as acrylate, divinylbenzene, and methylenebisacrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide Functional tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate and other trifunctional monomers; succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid 4 or more functional monomers such as dipentaerystol hexa (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate; bifunctional or more Urethane acrylates, bifunctional or higher functional polyester acrylates, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。   Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like, and a monomer having an epoxy group is particularly preferable.

オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。   Examples of the oligomer or reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylates, urethane (meth) acrylates, cationic polymerization type epoxy compounds, homopolymers of the above-described monomers having a radical polymerizable bond in the side chain, and copolymerized polymers.

（重合開始剤）
光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。(Polymerization initiator)
When utilizing a photocuring reaction, examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxy. Acetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- Carbonyl compounds such as 1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoyl Examples include diethoxyphosphine oxide. These may be used alone or in combination of two or more.

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。   When using an electron beam curing reaction, examples of the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t- Thioxanthone such as butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl Dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholy Phenyl) -butanone and other acetophenones; benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and other benzoin ethers; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxides such as 2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; methylbenzoylformate, 1,7-bisacridinylheptane, 9-phenyl Examples include acridine. These may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；前記有機過酸化物にＮ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。   When utilizing a thermosetting reaction, examples of the thermal polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxy octoate, organic peroxides such as t-butylperoxybenzoate and lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; N, N-dimethylaniline, N, N-dimethyl-p- Examples thereof include a redox polymerization initiator combined with an amine such as toluidine.

重合開始剤の量は、重合性化合物１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。重合開始剤の量が０．１質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が１０質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。   As for the quantity of a polymerization initiator, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. When the amount of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization is difficult to proceed. When the amount of the polymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the cured film may be colored or the mechanical strength may be lowered.

（内部離型剤）
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が内部離型剤を含むことによって、連続転写性を高めることができる。
内部離型剤は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物と、モールド表面との離型性を向上するものであり、かつ活性エネルギー線硬化性樹脂組成物との相溶性があれば、特にその組成は制限されない。(Internal release agent)
When the active energy ray-curable resin composition contains an internal release agent, continuous transferability can be improved.
If the internal mold release agent is to improve the mold releasability between the cured product of the active energy ray curable resin composition and the mold surface, and is compatible with the active energy ray curable resin composition, In particular, the composition is not limited.

内部離型剤としては、例えば、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物、フッ素含有化合物、シリコーン系化合物、長鎖アルキル基を有する化合物、ポリアルキレンワックス、アミドワックス、テフロンパウダー（テフロンは登録商標）等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。これらの中でも、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物を主成分とするものが好ましい。   Examples of the internal release agent include (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compounds, fluorine-containing compounds, silicone compounds, compounds having a long chain alkyl group, polyalkylene wax, amide wax, and Teflon powder (Teflon is a registered trademark). Etc. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, those containing a (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound as a main component are preferable.

内部離型剤としてモールド離型剤と同じ（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物を含むことによって、その硬化物である硬化樹脂層とモールドとの離型性が特に良好となる。また、離型時の負荷が極めて低いため、微細凹凸構造の破損が少なく、その結果、モールドの微細凹凸構造を効率よく、かつ精度よく転写できる。   By including the same (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound as the mold release agent as the internal release agent, the release property between the cured resin layer, which is the cured product, and the mold becomes particularly good. Further, since the load at the time of releasing is extremely low, the fine concavo-convex structure is hardly damaged, and as a result, the fine concavo-convex structure of the mold can be transferred efficiently and accurately.

（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物としては、離型性の点から、下記式（１）で表わされる化合物が好ましい。
（ＨＯ）３−ｎ（Ｏ＝）Ｐ［−Ｏ−（Ｒ２Ｏ）ｍ−Ｒ１］ｎ ・・・（１）
Ｒ１は、アルキル基であり、Ｒ２は、アルキレン基であり、ｍは１〜２０の整数であり、ｎは１〜３の整数である。As the (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound, a compound represented by the following formula (1) is preferable from the viewpoint of releasability.
(HO) 3-n (O =) P [-O- (R2O) m-R1] n (1)
R1 is an alkyl group, R2 is an alkylene group, m is an integer of 1 to 20, and n is an integer of 1 to 3.

Ｒ１としては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数３〜１８のアルキル基がより好ましい。
Ｒ２としては、炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜３のアルキレン基がより好ましい。
ｍは、１〜１０の整数が好ましい。As R1, a C1-C20 alkyl group is preferable and a C3-C18 alkyl group is more preferable.
R2 is preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms.
m is preferably an integer of 1 to 10.

（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物は、モノエステル体（ｎ＝１）、ジエステル体（ｎ＝２）、トリエステル体（ｎ＝３）のいずれであってもよい。また、ジエステル体またはトリエステル体の場合、１分子中の複数の（ポリ）オキシアルキレンアルキル基はそれぞれ異なっていてもよい。   The (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound may be a monoester (n = 1), a diester (n = 2), or a triester (n = 3). In the case of a diester or triester, a plurality of (poly) oxyalkylene alkyl groups in one molecule may be different from each other.

（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物の市販品としては、例えば、下記のものが挙げられる。
城北化学社製：ＪＰ−５０６Ｈ（ｎ≒１〜２，ｍ≒１，Ｒ１＝ブチル，Ｒ２＝エチレン）、
アクセル社製：モールドウイズＩＮＴ−１８５６（構造非公開）、
日光ケミカルズ社製：ＴＤＰ−１０（ｎ≒３，ｍ≒１０，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＴＤＰ−８（ｎ≒３，ｍ≒８，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＴＤＰ−６（ｎ≒３，ｍ≒６，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＴＤＰ−２（ｎ≒３，ｍ≒２，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＤＤＰ−１０（ｎ≒２，ｍ≒１０，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＤＤＰ−８（ｎ≒２，ｍ≒８，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＤＤＰ−６（ｎ≒２，ｍ≒６，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＤＤＰ−４（ｎ≒２，ｍ≒４，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＤＤＰ−２（ｎ≒２，ｍ≒２，Ｒ１＝Ｃ１２〜１５，Ｒ２＝エチレン）、ＴＬＰ−４（ｎ≒３，ｍ≒４，Ｒ１＝ラウリル，Ｒ２＝エチレン）、ＴＣＰ−５（ｎ≒３，ｍ≒５，Ｒ１＝セチル，Ｒ２＝エチレン）、ＤＬＰ−１０（ｎ≒３，ｍ≒１０，Ｒ１＝ラウリル，Ｒ２＝エチレン）。
（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。Examples of commercially available (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compounds include the following.
Johoku Chemical Co., Ltd .: JP-506H (n≈1-2, m≈1, R1 = butyl, R2 = ethylene),
Accelerator manufactured: Mold with INT-1856 (structure not disclosed),
Nikko Chemicals: TDP-10 (n≈3, m≈10, R1 = C12-15, R2 = ethylene), TDP-8 (n≈3, m≈8, R1 = C12-15, R2 = ethylene) TDP-6 (n≈3, m≈6, R1 = C12-15, R2 = ethylene), TDP-2 (n≈3, m≈2, R1 = C12-15, R2 = ethylene), DDP-10 (N≈2, m≈10, R1 = C12-15, R2 = ethylene), DDP-8 (n≈2, m≈8, R1 = C12-15, R2 = ethylene), DDP-6 (n≈2 , M≈6, R1 = C12-15, R2 = ethylene), DDP-4 (n≈2, m≈4, R1 = C12-15, R2 = ethylene), DDP-2 (n≈2, m≈2) , R1 = C12-15, R2 = ethylene), TLP-4 (n≈3, m≈4, R1 = lauryl, 2 = ethylene), TCP-5 (n ≒ 3, m ≒ 5, R1 = cetyl, R2 = ethylene), DLP-10 (n ≒ 3, m ≒ 10, R1 = lauryl, R2 = ethylene).
A (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物の量は、重合性化合物の１００質量％に対して、０．０１〜１質量％が好ましく、０．０５〜０．５質量％がより好ましく、０．０５〜０．１質量％がさらに好ましい。（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物の量が１質量％以下であれば、硬化樹脂層の性能の低下が抑えられる。また、基材との密着性の低下が抑えられ、その結果、モールドへの樹脂残り（離型不良）や物品からの硬化樹脂層の剥がれが抑えられる。（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物の量が０．０１質量％以上であれば、モールドからの離型性が十分となり、モールドへの樹脂残り（離型不良）が抑えられる。   The amount of the (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound is preferably 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass, with respect to 100% by mass of the polymerizable compound. -0.1 mass% is further more preferable. When the amount of the (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound is 1% by mass or less, a decrease in the performance of the cured resin layer can be suppressed. Moreover, the fall of adhesiveness with a base material is suppressed, As a result, the resin residue (molding defect) to a mold and peeling of the cured resin layer from articles | goods are suppressed. If the amount of the (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound is 0.01% by mass or more, the releasability from the mold is sufficient, and the resin residue (unsatisfactory release) on the mold is suppressed.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、離型性をさらに向上する目的で、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物以外の離型性を向上させる成分を含んでいてもよい。該成分としては、例えば、フッ素含有化合物、シリコーン系化合物、リン酸エステル系化合物、長鎖アルキル基を有する化合物、固形ワックス（ポリアルキレンワックス、アミドワックス、テフロンパウダー（テフロンは登録商標）等）等を含む化合物、等が挙げられる。   The active energy ray-curable resin composition may contain a component for improving the release property other than the (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound for the purpose of further improving the release property. Examples of the component include a fluorine-containing compound, a silicone compound, a phosphate ester compound, a compound having a long-chain alkyl group, a solid wax (polyalkylene wax, amide wax, Teflon powder (Teflon is a registered trademark), etc.), etc. And the like, and the like.

（他の成分）
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物、帯電防止剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、少量の溶媒を含んでいてもよい。(Other ingredients)
The active energy ray-curable resin composition is made of a non-reactive polymer, an active energy ray sol-gel reactive composition, an antistatic agent, an additive such as a fluorine compound for improving antifouling properties, and fine particles as necessary. A small amount of a solvent may be contained.

非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。Examples of non-reactive polymers include acrylic resins, styrene resins, polyurethanes, cellulose resins, polyvinyl butyral, polyesters, thermoplastic elastomers, and the like.
Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include alkoxysilane compounds and alkyl silicate compounds.

アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-t-butoxysilane, methyltriethoxysilane, Examples include methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane.

アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｎ−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。   Examples of the alkyl silicate compound include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like.

活性エネルギー線照射装置３２としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、フュージョンランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。   As the active energy ray irradiation device 32, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a fusion lamp or the like is preferable. In this case, the amount of light irradiation energy is preferably 100 to 10,000 mJ / cm 2.

（光学シート材）
図５は、製造装置２０によって製造され、微細凹凸構造を表面に有する長尺状の光学シート材４０の構成を概略的に示す断面図である。(Optical sheet material)
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a long optical sheet material 40 manufactured by the manufacturing apparatus 20 and having a fine concavo-convex structure on the surface.

基材２４上に形成された硬化樹脂層３８は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２８の硬化物からなる層であり、ロール状金型２２が外周面に形成せれた微細凹凸形状と相補的な形状を構成する凸部４４を備えている。なお、凸部４４の形状は、ロール状金型２２の外周面に形成された微細凹凸構造の凹部の形状と相補的なものである。また、微細凹凸構造は、可視光の波長以下の間隔で多数の微細な凸部４４が並んだ所謂モスアイ構造である。   The cured resin layer 38 formed on the base material 24 is a layer made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition 28 and is complementary to the fine uneven shape formed on the outer peripheral surface of the roll-shaped mold 22. The convex part 44 which comprises various shapes is provided. The shape of the convex portion 44 is complementary to the shape of the concave portion of the fine concavo-convex structure formed on the outer peripheral surface of the roll-shaped mold 22. The fine concavo-convex structure is a so-called moth-eye structure in which a large number of fine convex portions 44 are arranged at intervals equal to or shorter than the wavelength of visible light.

凸部４４の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。   The shape of the convex portion 44 is such that the convex sectional area in the direction orthogonal to the height direction continuously increases from the outermost surface in the depth direction, that is, the sectional shape in the height direction of the convex portion is a triangle or trapezoid. A shape such as a bell shape is preferable.

凸部４４間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均間隔は１００から２００ｎｍ程度となることから、２５０ｎｍ以下が特に好ましい。   The average interval between the convex portions 44 is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. When the convex portions are formed using an anodized alumina mold, the average distance between the convex portions is about 100 to 200 nm, and is particularly preferably 250 nm or less.

凸部４４の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、２０ｎｍ以上が好ましい。
凸部４４の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部４４の間隔（凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。The average interval between the convex portions 44 is preferably 20 nm or more from the viewpoint of easy formation of the convex portions.
The average interval between the convex portions 44 is obtained by measuring 50 intervals between the adjacent convex portions 44 (distance from the center of the convex portion to the center of the adjacent convex portion) by electron microscope observation, and averaging these values. .

凸部４４の高さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。凸部の高さが８０ｎｍ以上であれば、反射率が十分低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが５００ｎｍ以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。   When the average interval is 100 nm, the height of the convex portion 44 is preferably 80 to 500 nm, more preferably 120 to 400 nm, and particularly preferably 150 to 300 nm. If the height of the convex portion is 80 nm or more, the reflectance is sufficiently low and the wavelength dependency of the reflectance is small. If the height of a convex part is 500 nm or less, the scratch resistance of a convex part will become favorable.

凸部４４の高さは、電子顕微鏡によって倍率３００００倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。   The height of the convex portion 44 is a value obtained by measuring the distance between the top of the convex portion and the bottom of the concave portion existing between the convex portions when observed with an electron microscope at a magnification of 30000 times.

凸部４４のアスペクト比（凸部の高さ／凸部間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。凸部のアスペクト比が１．０以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が５．０以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。   The aspect ratio of the convex portion 44 (height of the convex portion / average interval between the convex portions) is preferably 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, and 1.5 to 3.0. Is particularly preferred. If the aspect ratio of the convex portion is 1.0 or more, the reflectance is sufficiently low. If the aspect ratio of the convex portion is 5.0 or less, the scratch resistance of the convex portion is good.

硬化樹脂層３８の屈折率と基材２４の屈折率との差は、０．２以下が好ましく、０．１以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。屈折率差が０．２以下であれば、硬化樹脂層３８と基材２４との界面における反射が抑えられる。   The difference between the refractive index of the cured resin layer 38 and the refractive index of the substrate 24 is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, and particularly preferably 0.05 or less. If the refractive index difference is 0.2 or less, reflection at the interface between the cured resin layer 38 and the base material 24 is suppressed.

表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。   When the surface has a fine concavo-convex structure, if the surface is made of a hydrophobic material, super water repellency can be obtained by the lotus effect, and if the surface is made of a hydrophilic material, super hydrophilicity can be obtained. It is known that

硬化樹脂層３８の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、９０゜以上が好ましく、１１０゜以上がより好ましく、１２０゜以上が特に好ましい。水接触角が９０゜以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。   When the material of the cured resin layer 38 is hydrophobic, the water contact angle on the surface of the fine uneven structure is preferably 90 ° or more, more preferably 110 ° or more, and particularly preferably 120 ° or more. If the water contact angle is 90 ° or more, water stains are less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. Moreover, since water does not adhere easily, anti-icing can be expected.

硬化樹脂層３８の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、２５゜以下が好ましく、２３゜以下がより好ましく、２１゜以下が特に好ましい。水接触角が２５゜以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。該水接触角は、硬化樹脂層３８の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、３゜以上が好ましい。   When the material of the cured resin layer 38 is hydrophilic, the water contact angle on the surface of the fine concavo-convex structure is preferably 25 ° or less, more preferably 23 ° or less, and particularly preferably 21 ° or less. If the water contact angle is 25 ° or less, the dirt attached to the surface is washed away with water, and oil dirt is less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. The water contact angle is preferably 3 ° or more from the viewpoint of suppressing the deformation of the fine uneven structure due to water absorption of the cured resin layer 38 and the accompanying increase in reflectance.

上述したように、ロール状金型２２の外周面には、切削痕である畝状の部分を有する筋状の凹凸が残留しているため、この畝状の部分を含む筋状の凹凸形状も、硬化樹脂層３８に反転転写されている。そして、この筋状の凹凸は、通常では視認されないが、光学シート材４０の裏面より指向性の高いＬＥＤ光源を使用して透過光による観察を行うと、かすかに視認される。   As described above, since the streak-like unevenness having the scissors-like portion that is the cutting trace remains on the outer peripheral surface of the roll-shaped mold 22, the streaky unevenness shape including this scissor-like portion is also present. Inverted and transferred to the cured resin layer 38. The streak-like irregularities are not normally visually recognized, but are faintly visible when observation is performed with transmitted light using an LED light source having higher directivity than the back surface of the optical sheet material 40.

しかしながら、ロール状金型２２の外周面の畝１ｂのピッチが５〜５０μｍであるので、硬化樹脂層３８上に反転転写され筋状の凹凸のピッチも５〜５０μｍとなる。   However, since the pitch of the ridges 1b on the outer peripheral surface of the roll-shaped mold 22 is 5 to 50 [mu] m, the pitch of the streak-like unevenness transferred to the cured resin layer 38 is also 5 to 50 [mu] m.

上述したように、現在、液晶パネル等の電子表示装置の画素の一般的な配列周期（画素ピッチ）は、最小でも８０μｍ程度であるので、上記硬化樹脂層３８上に反転転写され筋状の凹凸のピッチも５〜５０μｍも、液晶パネル等の電子表示装置の画素の一般的な画素ピッチの半分以下となる。   As described above, at present, the general arrangement period (pixel pitch) of pixels of an electronic display device such as a liquid crystal panel is about 80 μm at the minimum. The pitch of 5 to 50 μm is less than half the general pixel pitch of the pixels of an electronic display device such as a liquid crystal panel.

一般的に、電子表示装置では約１００μｍ〜３００μｍの所定のドットピッチで画素ドットが縦横に規則正しく配置されており、この上に画素ドットの配列と平行なパターンを有する光学シート等を配置すると、干渉模様が発生しやすくなる。   In general, in an electronic display device, pixel dots are regularly arranged at a predetermined dot pitch of about 100 μm to 300 μm, and if an optical sheet or the like having a pattern parallel to the arrangement of pixel dots is placed thereon, interference is caused. Patterns are likely to occur.

しかしながら、本実施形態に基づく光学シートでは、筋状の凹凸形状の配列ピッチが５〜５０μｍの範囲内であり、表示装置等のドットピッチと比較して非常に小さいため、電子表示装置に本発明の光学シートを利用した場合に、干渉模様の発生が抑制される又は発生しても非常に小さく視認されにくい。したがって、本発明に係る光学シートは、液晶表示装置や有機ＥＬなどの電子表示装置の表面に配置する電子表示装置用反射防止フィルムとして好適に用いることができる。   However, in the optical sheet based on the present embodiment, the arrangement pitch of the streaky irregularities is in the range of 5 to 50 μm, which is very small compared to the dot pitch of the display device or the like. When the optical sheet is used, the occurrence of interference patterns is suppressed or even very small and hardly visible. Therefore, the optical sheet according to the present invention can be suitably used as an antireflection film for an electronic display device disposed on the surface of an electronic display device such as a liquid crystal display device or an organic EL device.

また、電子表示装置の画素ドットの周期は、電子表示装置によって種々異なるが、ロール状金型２２の外周面の畝１ｂのピッチが、電子表示装置のドットピッチの半分以下であれば、干渉模様が発生することを抑制することができる。上述の説明においては、ロール状金型２２の外周面の畝１ｂのピッチが５〜５０μｍ以下の場合を説明したが、上述したように、現在、液晶パネル等の電子表示装置の画素の一般的な配列周期（画素ピッチ）は、最小でも８０μｍ程度であるので、畝１ｂのピッチは電子表示装置の画素ドットの周期の半分以下となるよう。   The period of the pixel dots of the electronic display device varies depending on the electronic display device. However, if the pitch of the ridges 1b on the outer peripheral surface of the roll mold 22 is less than half the dot pitch of the electronic display device, the interference pattern Can be prevented from occurring. In the above description, the case where the pitch of the ridges 1b on the outer peripheral surface of the roll-shaped mold 22 is 5 to 50 μm or less has been described. However, as described above, the general pixel of an electronic display device such as a liquid crystal panel is currently used. Since the minimum arrangement period (pixel pitch) is about 80 μm at the minimum, the pitch of 畝 1b is set to be half or less of the period of the pixel dots of the electronic display device.

しかしながら、電子表示装置の画素ドットの周期は、電子表示装置によって種々に異なるために、畝１ｂのピッチを十分に小さくしておけば、多くの電子表示装置に適用可能な、電子表示装置用反射防止フィルムを製造することができる。このような観点からも、ロール状金型２２の外周面の畝１ｂのピッチは、５μｍ以上であって、５０μｍ以下とされることが好ましく、４０μｍ以下とされることがより好ましく、３０μｍ以下とされることがさらに好ましい。   However, since the pixel dot period of the electronic display device varies depending on the electronic display device, the reflection for electronic display device can be applied to many electronic display devices if the pitch of the ridges 1b is sufficiently small. A prevention film can be produced. Also from such a viewpoint, the pitch of the ridges 1b on the outer peripheral surface of the roll-shaped mold 22 is 5 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less, and 30 μm or less. More preferably.

さらに、電子表示装置の画素ドットの周期は、現状の数値に限定されるものではないので、本実施形態は、畝１ｂのピッチが電子表示装置の画素ドットの周期の半分以下となるように、上記切削ピッチが適宜、変更される。   Furthermore, since the period of the pixel dots of the electronic display device is not limited to the current numerical value, in the present embodiment, the pitch of 畝 1b is less than half of the period of the pixel dots of the electronic display device. The cutting pitch is appropriately changed.

また、本発明に基づく電子表示装置用反射防止フィルムは、表示装置の保護板や前面板の片面または両面や、表示装置の上に配置されるタッチパネルなどの部材の片面または両面に配置して用いることができる。しかしながら、表示装置から離れて配置される部材では、表示装置の画素との干渉模様が発生しにくいことから、本発明に基づく光学シートを電子表示装置用反射防止フィルムとして用いる場合、表示装置の表面に張り付けて用いられることが好ましい。   Moreover, the antireflection film for an electronic display device according to the present invention is used by being disposed on one or both surfaces of a protective plate or a front plate of a display device, or a member such as a touch panel disposed on the display device. be able to. However, in a member arranged away from the display device, an interference pattern with a pixel of the display device hardly occurs. Therefore, when the optical sheet according to the present invention is used as an antireflection film for an electronic display device, the surface of the display device It is preferable to be used by sticking to.

（実施例１）
ロール状金型の製作として、直径２００ｍｍ、幅３２０mmのアルミニウム母材を準備した。ロール状アルミニウム母材は、両端にチャック用の軸加工が施されており、旋盤加工による変形が発生しない加工がされているものを用いた。
次に基準となるロール状アルミニウム母材の軸部の触れが５μｍ以下になるように精密旋盤にセットした。(Example 1)
As a roll mold, an aluminum base material having a diameter of 200 mm and a width of 320 mm was prepared. As the roll-shaped aluminum base material, one having a shaft processing for chucks at both ends and processed so as not to be deformed by lathe processing was used.
Next, it was set on a precision lathe so that the shaft portion of the roll-shaped aluminum base material serving as a reference was 5 μm or less.

次に、先端Ｒ５ｍｍの単結晶ダイヤモンドバイトを準備し、バイト先端に異常がないことを顕微鏡により確認後、精密旋盤に取り付けた。ロールを毎分１０００回転で回転させた状態で、１０μｍの切込みを行い、毎回転１０μｍの送り切削ピッチでアルミニウム母材の表面の鏡面切削を行った。   Next, a single crystal diamond cutting tool having a tip R of 5 mm was prepared, and after confirming with a microscope that there was no abnormality at the tip of the cutting tool, it was attached to a precision lathe. With the roll rotated at 1000 revolutions per minute, a 10 μm cut was made, and the surface of the aluminum base material was mirror-cut at a feed cutting pitch of 10 μm per revolution.

加工部の冷却と潤滑を向上させるため、ダイヤモンドバイトのすくい面と逃げ面に切削油をミスト状に供給し、加工を実施した。更に発生する切りくずを鏡面加工の未加工側に配置し、発生する切りくずの排出を平行して実施した。   In order to improve the cooling and lubrication of the machined part, cutting oil was supplied to the rake face and flank face of the diamond tool in the form of a mist for processing. Further, the generated chips were arranged on the unprocessed side of the mirror finish, and the generated chips were discharged in parallel.

鏡面加工を施したアルミニウム母材を、暗室内でラインライトを使用して金型自体の外観検査を実施した結果、外観上きれいな鏡面加工ロールが完成した。この時の理論表面粗さＲｙは２．５ｎｍであった。   As a result of inspecting the appearance of the mold itself using a line light in the dark room, a mirror finish roll with a clean appearance was completed. The theoretical surface roughness Ry at this time was 2.5 nm.

次いで、鏡面加工が施されたアルミニウム母材に以下の処理を施し、表面に微細凹凸形状を形成した。   Next, the following treatment was applied to the mirror-finished aluminum base material to form a fine uneven shape on the surface.

（ａ）工程：
このアルミニウム板を、０.３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０分間陽極酸化を行った。
（ｂ）工程：
上記工程で酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、６質量％リン酸／１.８質量％クロム酸混合水溶液に６時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
（ｃ）工程：
このアルミニウム板を、０.３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒陽極酸化を行った。(A) Process:
This aluminum plate was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 minutes under conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(B) Process:
The aluminum plate on which the oxide film was formed in the above step was immersed in a 6% by mass phosphoric acid / 1.8% by mass chromic acid mixed aqueous solution for 6 hours to remove the oxide film.
(C) Process:
This aluminum plate was anodized for 30 seconds in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.

（ｄ）工程：
上記工程で酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、３２℃の５質量％リン酸に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
（ｅ）工程：
前記（ｃ）工程及び（ｄ）工程を合計で５回繰り返し、周期１００ｎｍ、深さ１８０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
得られた陽極酸化ポーラスアルミナを脱イオン水で洗浄し、次いで表面の水分をエアーブローで除去し、フッ素系剥離材（ダイキン工業社製、商品名オプツールＤＳＸ）を固形分０.１質量％になるように希釈剤（ハーベス社製、商品名ＨＤ−ＺＶ）で希釈した溶液に１０分間浸漬し、２０時間風乾して、表面上に細孔が形成されたロール状金型を得た。(D) Process:
The aluminum plate on which the oxide film was formed in the above step was immersed in 5% by mass phosphoric acid at 32 ° C. for 8 minutes to carry out pore diameter expansion treatment.
(E) Process:
The steps (c) and (d) were repeated 5 times in total to obtain anodized porous alumina having substantially conical pores with a period of 100 nm and a depth of 180 nm.
The obtained anodized porous alumina was washed with deionized water, and then water on the surface was removed by air blow, and the fluorine-based release material (trade name Optool DSX, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was adjusted to a solid content of 0.1% by mass. Thus, it was immersed in a solution diluted with a diluent (trade name HD-ZV, manufactured by Harves Co., Ltd.) for 10 minutes and air-dried for 20 hours to obtain a roll-shaped mold having pores formed on the surface.

得られたロール状金型に指向性の高いＬＥＤ光源からの光を当てて観察すると、かすかに２０μｍピッチの筋状の凹凸構造が確認された。   When the obtained roll-shaped mold was observed by applying light from a highly directional LED light source, a faint concavo-convex structure with a pitch of 20 μm was confirmed.

ロール状金型の細孔面上に紫外線硬化性樹脂組成物を流し込み、その上に基材フィルムを押し広げながら被覆した。この基材フィルム側から高圧水銀灯を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーで紫外線を照射し、樹脂組成物を硬化した。その後、ロール状金型から基材フィルムと硬化した樹脂組成物を剥離して、微細凹凸構造を表面に有する光学シートを得た。   The ultraviolet curable resin composition was poured onto the pore surface of the roll-shaped mold, and the base film was spread and coated thereon. The resin composition was cured by irradiating ultraviolet rays with an energy of 2000 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp from the base film side. Then, the base film and the cured resin composition were peeled from the roll-shaped mold to obtain an optical sheet having a fine concavo-convex structure on the surface.

この光学シートの表面には、ロール状金型の筋状の凹凸構造と、微細凹凸構造とが転写されており、図５に示すような、１０μｍピッチの筋状の凹凸構造と、隣り合う凸部４６の間隔が１００ｎｍ、凸部４６の高さが１８０ｎｍである略円錐形状のナノ凹凸構造とが形成されていた。   On the surface of this optical sheet, a rugged rugged structure of a roll-shaped mold and a fine rugged structure are transferred. As shown in FIG. A substantially conical nano concavo-convex structure in which the interval between the portions 46 was 100 nm and the height of the convex portions 46 was 180 nm was formed.

この光学シートを、矩形にカットし矩形状の光学フィルムを得た。この際、筋状の凹凸構造と矩形形状の少なくとも一辺とが平行となるようにして、光学シートをカットした。   This optical sheet was cut into a rectangular shape to obtain a rectangular optical film. At this time, the optical sheet was cut so that the streaky uneven structure and at least one side of the rectangular shape were parallel to each other.

次に矩形状光学フィルムをセルピッチ１８０μｍ液晶セルの上にセットし、バックライトユニットに組み込み点灯させた結果、モアレの見えない良好な外観を得ることができた。   Next, a rectangular optical film was set on a liquid crystal cell having a cell pitch of 180 μm, and incorporated into a backlight unit to be lit. As a result, a good appearance with no visible moire could be obtained.

（実施例２）
実施例１と同様のロール状金型を精密旋盤にセットし、加工に使用する単結晶ダイヤモンドバイトに先端Ｒ１５ｍｍのものを準備した。バイト先端に異常がないことを顕微鏡により確認後、精密旋盤に取り付けた。ロールを毎分１０００回転で回転させた状態で、１０μｍの切込みを行い、毎回転５０μｍの送り切削ピッチでアルミニウム母材の表面の鏡面切削を行った。この時の理論表面粗さＲｙは２０．８ｎｍであった。
鏡面加工後、暗室内でラインライトを使用して金型自体の外観検査を実施した結果、外観上きれいな鏡面加工ロールが完成した。(Example 2)
A roll-shaped mold similar to that in Example 1 was set on a precision lathe, and a single crystal diamond tool used for processing with a tip of R15 mm was prepared. After confirming that there was no abnormality at the tip of the tool, it was attached to a precision lathe. With the roll rotated at 1000 revolutions per minute, a 10 μm cut was made, and the surface of the aluminum base material was mirror-cut at a feed cutting pitch of 50 μm per revolution. The theoretical surface roughness Ry at this time was 20.8 nm.
After the mirror finish, the appearance of the mold itself was inspected using a line light in the dark room. As a result, a mirror finish roll with a clean appearance was completed.

また、実施例１と同様に陽極酸化処理及び賦型作業を実施し、光学シート原反を得た。この光学シートを、筋状の凹凸構造と矩形形状の少なくとも一辺とが平行となるようにして、光学シートをカットし、矩形状光学フィルムをセルピッチ１８０μｍ液晶セルの上にセットし、バックライトユニットに組み込み点灯させた結果、モアレの見えない良好な外観を得ることができた。   Moreover, the anodic oxidation process and the shaping | molding operation | work were implemented similarly to Example 1, and the optical sheet original fabric was obtained. The optical sheet is cut so that the streaky concavo-convex structure and at least one side of the rectangular shape are parallel, the rectangular optical film is set on a liquid crystal cell with a cell pitch of 180 μm, and the backlight unit is mounted. As a result of the built-in lighting, a good appearance with no visible moire could be obtained.

（実施例３）
実施例１と同様のロール状金型を精密旋盤にセットし、加工に使用する単結晶ダイヤモンドバイトに先端Ｒ２ｍｍのものを準備した。バイト先端に異常がないことを顕微鏡により確認後、精密旋盤に取り付けた。ロールを毎分１０００回転で回転させた状態で、１０μｍの切込みを行い、毎回転３０μｍの送り切削ピッチでアルミニウム母材の表面の鏡面切削を行った。この時の理論表面粗さＲｙは５６．２５ｎｍであった。
鏡面加工後、暗室内でラインライトを使用して金型自体の外観検査を実施した結果、外観上きれいな鏡面加工ロールが完成した。(Example 3)
A roll-shaped mold similar to that in Example 1 was set on a precision lathe, and a single crystal diamond tool used for processing was prepared with a tip of R2 mm. After confirming that there was no abnormality at the tip of the tool, it was attached to a precision lathe. With the roll rotated at 1000 revolutions per minute, a 10 μm cut was made, and the surface of the aluminum base material was mirror-cut at a feed cutting pitch of 30 μm per revolution. The theoretical surface roughness Ry at this time was 56.25 nm.
After the mirror finish, the appearance of the mold itself was inspected using a line light in the dark room. As a result, a mirror finish roll with a clean appearance was completed.

また、実施例１と同様に陽極酸化処理及び賦型作業を実施し、光学シート原反を得た。この光学シートを、筋状の凹凸構造と矩形形状の少なくとも一辺とが平行となるようにして、光学シートをカットし、矩形状光学フィルムをセルピッチ１８０μｍ液晶セルの上にセットし、バックライトユニットに組み込み点灯させた結果、モアレの見えない良好な外観を得ることができた。   Moreover, the anodic oxidation process and the shaping | molding operation | work were implemented similarly to Example 1, and the optical sheet original fabric was obtained. The optical sheet is cut so that the streaky concavo-convex structure and at least one side of the rectangular shape are parallel, the rectangular optical film is set on a liquid crystal cell with a cell pitch of 180 μm, and the backlight unit is mounted. As a result of the built-in lighting, a good appearance with no visible moire could be obtained.

（実施例４）
実施例１と同様のロール状金型を精密旋盤にセットし、加工に使用する単結晶ダイヤモンドバイトに先端Ｒ１００ｍｍのものを準備した。バイト先端に異常がないことを顕微鏡により確認後、精密旋盤に取り付けた。ロールを毎分１０００回転で回転させた状態で、１０μｍの切込みを行い、毎回転１００μｍの送り切削ピッチでアルミニウム母材の表面の鏡面切削を行った。この時の理論表面粗さＲｙは１２．５ｎｍであった。
鏡面加工後、暗室内でラインライトを使用して金型自体の外観検査を実施した結果、外観上きれいな鏡面加工ロールが完成した。Example 4
A roll-shaped mold similar to that in Example 1 was set on a precision lathe, and a single crystal diamond tool used for processing with a tip of R100 mm was prepared. After confirming that there was no abnormality at the tip of the tool, it was attached to a precision lathe. With the roll rotated at 1000 revolutions per minute, a 10 μm cut was made, and the surface of the aluminum base material was mirror-cut at a feed cutting pitch of 100 μm per revolution. The theoretical surface roughness Ry at this time was 12.5 nm.
After the mirror finish, the appearance of the mold itself was inspected using a line light in the dark room. As a result, a mirror finish roll with a clean appearance was completed.

また、実施例１と同様に陽極酸化処理及び賦型作業を実施し、光学シート原反を得た。この光学シートを、筋状の凹凸構造と矩形形状の少なくとも一辺とが平行となるようにして、光学シートをカットし、矩形状光学フィルムをセルピッチ１８０μｍ液晶セルの上にセットし、バックライトユニットに組み込み点灯させた結果、明確なモアレが確認された以外は外観の異常は確認されなかった。   Moreover, the anodic oxidation process and the shaping | molding operation | work were implemented similarly to Example 1, and the optical sheet original fabric was obtained. The optical sheet is cut so that the streaky concavo-convex structure and at least one side of the rectangular shape are parallel, the rectangular optical film is set on a liquid crystal cell with a cell pitch of 180 μm, and the backlight unit is mounted. As a result of the built-in lighting, no abnormal appearance was confirmed except for clear moire.

（比較例１）
切削ピッチを２００μｍとした以外は、実施例１と同様の作業を行った。
得られた矩形状光学シートをセルピッチ１８０μｍ液晶セルの上にセットし、バックライトユニットに組み込み点灯させた結果、明確な干渉縞が確認された。この時の理論表面粗さＲｙは、３３３．３ｎｍであった。(Comparative Example 1)
The same operation as in Example 1 was performed except that the cutting pitch was 200 μm.
The obtained rectangular optical sheet was set on a liquid crystal cell with a cell pitch of 180 μm and incorporated into a backlight unit to light it. As a result, clear interference fringes were confirmed. The theoretical surface roughness Ry at this time was 333.3 nm.

（比較例２）
切削ピッチを５μｍとした以外は、実施例２と同様の作業を行った。その結果、金型外観が全面白化し、金型として使用することが出来ない状態となった。この時の理論表面粗さＲｙは０．２１ｎｍであった。(Comparative Example 2)
The same operation as in Example 2 was performed except that the cutting pitch was 5 μm. As a result, the outer appearance of the mold was completely whitened so that it could not be used as a mold. The theoretical surface roughness Ry at this time was 0.21 nm.

（比較例３）
実施例１と同様のロール状金型を精密旋盤にセットし、加工に使用する単結晶ダイヤモンドバイトに先端Ｒ２ｍｍのものを準備した。バイト先端に異常がないことを顕微鏡により確認後、精密旋盤に取り付けた。ロールを毎分１０００回転で回転させた状態で、１０μｍの切込みを行い、毎回転５０μｍの送り切削ピッチでアルミニウム母材の表面の鏡面切削を行った。この時の理論表面粗さＲｙは１５６．３ｎｍであった。(Comparative Example 3)
A roll-shaped mold similar to that in Example 1 was set on a precision lathe, and a single crystal diamond tool used for processing was prepared with a tip of R2 mm. After confirming that there was no abnormality at the tip of the tool, it was attached to a precision lathe. With the roll rotated at 1000 revolutions per minute, a 10 μm cut was made, and the surface of the aluminum base material was mirror-cut at a feed cutting pitch of 50 μm per revolution. The theoretical surface roughness Ry at this time was 156.3 nm.

鏡面加工後、暗室内でラインライトを使用して金型自体の外観検査を実施した結果、モアレは確認されなかったものの。全面に虹状のスジが発生し、鏡面加工ロールとして使用できない状態となった。   After the mirror finish, moiré was not confirmed as a result of visual inspection of the mold itself using a line light in the dark room. A rainbow-like streak occurred on the entire surface, making it impossible to use as a mirror finish roll.

１：円筒状のアルミニウム母材
１ａ：（円筒状のアルミニウム母材）の外周面
１ｂ：畝
４：バイト
６：テーブル1: Cylindrical aluminum base material 1a: outer peripheral surface 1b of (cylindrical aluminum base material): 畝 4: bite 6: table

Claims (5)

表面に微細凹凸構造を有し、該表面の前記微細凹凸構造をシート材に転写して光学シート材とする光学シート製造用金型の製造方法であって、
アルミニウム母材の表面を所定の送りピッチで切削して、前記アルミニウム母材の表面を鏡面加工するステップと、
前記アルミニウム母材の前記表面に陽極酸化を施し微細凹凸構造を形成するステップと、を備え、
前記鏡面加工するステップにおいて、前記切削バイトの送りピッチをＦ、前記切削バイトの先端の曲率半径をＲとした場合に、下記式（１）で表わされるＲｙの値が１．５ｎｍ以上、かつ、１００ｎｍ以下となるように、前記アルミニウム母材の切削を行うことを特徴とする、光学シート製造用金型の製造方法。
Ｒｙ＝Ｆ2／８Ｒ （１）A method for producing a mold for producing an optical sheet having a fine concavo-convex structure on a surface, and transferring the fine concavo-convex structure on the surface to a sheet material to obtain an optical sheet material,
Cutting the surface of the aluminum base material at a predetermined feed pitch, and mirror-finishing the surface of the aluminum base material;
And anodizing the surface of the aluminum base material to form a fine relief structure,
In the step of mirror finishing, when the feed pitch of the cutting tool is F and the radius of curvature of the tip of the cutting tool is R, the value of Ry represented by the following formula (1) is 1.5 nm or more, and The method for producing a mold for producing an optical sheet, wherein the aluminum base material is cut so as to be 100 nm or less.
Ry = F 2 / 8R (1) 前記切削バイトの送りピッチは、５μｍ以上、かつ、５０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の光学シート製造用金型の製造方法。   The method for manufacturing a mold for manufacturing an optical sheet according to claim 1, wherein a feed pitch of the cutting tool is 5 µm or more and 50 µm or less. 請求項１に記載の製造方法により製造された金型を使用した光学シート製造方法であって、
前記金型の表面にシートを当接させ、前記表面の形状を前記シートに転写して、光学シート材とする転写ステップを備えていることを特徴とする光学シート製造方法。An optical sheet manufacturing method using a mold manufactured by the manufacturing method according to claim 1,
An optical sheet manufacturing method comprising a transfer step of bringing a sheet into contact with the surface of the mold and transferring the shape of the surface to the sheet to obtain an optical sheet material. 請求項３に記載の製造方法により製造された光学シートを備える電子表示装置。   An electronic display device comprising an optical sheet manufactured by the manufacturing method according to claim 3. 表面に微細凹凸構造が形成され、該微細凹凸構造をシート材に転写して光学シート材を製造するための光学シート製造用金型の母材として用いられるアルミニウム母材の鏡面加工方法であって、
前記アルミニウム母材の表面を所定の送りピッチで切削するステップを備え、
前記ステップにおいて、前記切削バイトの送りピッチをＦ、前記切削バイトの先端の曲率半径をＲとした場合に、下記式（１）で表わされるＲｙの値が１．５ｎｍ以上、かつ、１００ｎｍ以下となるように、前記アルミニウム母材の切削を行うことを特徴とする、鏡面加工方法。
Ｒｙ＝Ｆ2／８Ｒ （１）A method of mirror-finishing an aluminum base material used as a base material of an optical sheet manufacturing mold for forming an optical sheet material by forming a fine uneven structure on a surface and transferring the fine uneven structure to a sheet material. ,
Cutting the surface of the aluminum base material at a predetermined feed pitch,
In the step, when the feed pitch of the cutting tool is F and the radius of curvature of the tip of the cutting tool is R, the value of Ry represented by the following formula (1) is 1.5 nm or more and 100 nm or less. As described above, the mirror surface processing method is characterized in that the aluminum base material is cut.
Ry = F 2 / 8R (1)
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