JPWO2013027413A1 - 保護素子及びこれを用いた発光装置 - Google Patents

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Abstract

保護素子10は、半導体基板24と、接続電極21と、裏面電極22と、保護回路とを備えている。接続電極21は、半導体基板24の、フリップチップ実装型の発光素子10を搭載する搭載面241に設けられ、発光素子10の電極と接続される。保護回路は、半導体基板24に設けられ、接続電極21を介して発光素子10と接続される。裏面電極22は、半導体基板24の搭載面241と反対側の面242に設けられ、対応する接続電極21と接続されており、実装用基体2の電極と接続される。

Description

本発明は、発光素子が搭載されると共に、この発光素子と並列接続されることで発光素子を静電気などの高電圧から保護する保護素子及びこれを用いた発光装置に関する。
発光素子は、電球や蛍光灯と比べて消費電流が小さく、長寿であり、小型であることから、電球や蛍光灯に代わる光源として、需要が増大している。
発光素子に逆極性で高電圧が印加されると破壊を起こすことから、発光素子には保護素子が接続されることがある。
例えば、従来の発光装置は、プリント配線基板の素子搭載面の上に、発光素子と保護素子の一例であるツェナーダイオードとを横方向に並べて搭載し、封止樹脂により発光素子とツェナーダイオードとを封止している。この発光装置では、プリント配線基板に発光素子とツェナーダイオードとを並列接続する配線パターンが設けられている。
また、特許文献1に記載された保護素子が知られている。特許文献1には、フリップチップ型の発光素子が、保護素子であるサブマウント素子(Siダイオード素子)上に、Auマイクロバンプを介して導通搭載され、発光素子の周りを、蛍光物質を含有した樹脂で覆った複合発光素子が記載されている。このSiダイオード素子のp型半導体領域には、発光素子と接続し、ワイヤが接続されるボンディングパッド部が形成されたp電極が設けられている。Siダイオード素子のn型半導体領域には、発光素子と接続するn電極が設けられている。また、n型半導体領域に接続する裏面電極が形成されている。
この複合発光素子は、絶縁性基板にリードが設けられた外部部材などに、複合発光素子を搭載することで裏面電極を介して接続され、ワイヤとボンディングパッド部を介在させて接続される。
特開2001−15817号公報
しかし、発光素子と保護素子とをプリント配線基板の上に並べて配置した従来の発光装置では、発光素子の光の進行を保護素子が邪魔をしてしまうため、発光素子からの光を周囲に均一に照射させることができない。
また、特許文献1に記載の発光装置では、ワイヤを介在させて外部部材と接続されるため、ワイヤが発光素子からの光の進行を邪魔するため、発光素子からの光を周囲に均一に照射させることができない。また、ワイヤを保護するためにさらに樹脂にて封止する必要があり、小型化の阻害要因となるだけでなく、製造に手間を要し、コストが増大する。
そこで本開示は、発光素子を保護しつつ、発光素子からの光を周囲に均一に照射させることができ、小型化を図ることができる保護素子及びこれを用いた発光装置を提供できるようにする。
本開示に係る保護素子の一態様は、半導体基板と、半導体基板における、フリップチップ実装型の発光素子を搭載する搭載面に設けられ、発光素子の電極と接続される接続電極と、半導体基板に設けられ、接続電極を介して発光素子と接続される保護回路と、半導体基板の搭載面と反対側の面に設けられ、対応する接続電極と接続されており、実装用基体の電極と接続される裏面電極とを備えている。
本開示の保護素子によれば、ワイヤによる配線が必要ないので、配線した後に半導体基板や保護素子を含めた配線先全体を封止する必要がなく、発光素子を搭載した保護素子を1個の発光装置として扱うことができる。したがって、本開示の保護素子は、発光素子を保護しつつ、発光素子からの光を周囲に均一に照射させることができ、小型化を図ることができる。
図1は一実施形態に係る発光装置を示す断面図 図2は図1に示す発光装置の保護素子を示す平面図 図3は図2に示す保護素子を示す底面図 図4は図1に示す発光装置の回路構成を示す図
例示の保護素子は、半導体基板と、半導体基板における、フリップチップ実装型の発光素子を搭載する搭載面に設けられ、発光素子の電極と接続される接続電極と、半導体基板に設けられ、接続電極を介して発光素子と接続される保護回路と、半導体基板の搭載面と反対側の面に設けられ、対応する接続電極と接続されており、実装用基体の電極と接続される裏面電極とを備えている。
例示の保護素子によれば、発光素子は搭載面に設けられた接続電極により、保護回路が形成された半導体基板に搭載されるので、保護回路が発光素子からの光の進行を邪魔することを防止することができる。また、底面電極により実装用基体に導通接続することができるため、ワイヤが発光素子からの光の進行を邪魔することを防止することができる。また、ワイヤによる配線が必要ないので、配線した後に配線先を含めて全体を封止する必要がないため、発光素子を搭載した保護素子を1個の発光装置として扱うことができる。
例示の保護素子は、接続電極と、底面電極とを接続するスルーホール電極をさらに備えていてもよい。
接続電極と底面電極とをスルーホール電極を介して接続する構成とすることにより、ウェハに複数の保護回路を形成した後、各保護回路に対応する接続電極、底面電極及びスルーホール電極をウェハ状態において形成して、ダイシングすることにより、保護素子を多数個取りすることができる。
例示の保護素子において、半導体基板は、シリコン基板であってもよい。
シリコン基板は、例えばセラミック基板よりも平坦性を高くすることが容易であり、発光素子を搭載したときに、光軸のずれが発生しにくい。
例示の保護素子において、保護回路は、ツェナーダイオード、ダイオード又はバリスタを含む構成とすることができる。
このようにすれば、発光素子を適切に保護することができる。
例示の発光装置は、例示の保護素子と、保護素子に搭載された発光素子と、発光素子からの光に励起されて発光する蛍光体が含有され、発光素子を封止する樹脂封止部とを備えている。
例示の発光装置によれば、発光素子からの光に励起されて発光する蛍光体を含有した樹脂封止部により発光素子を封止した発光装置とすることにより、発光素子を保護することができると共に、発光素子の発光色と蛍光体の発光色とが混色することにより様々な色の発光装置とすることができる。
(一実施形態)
一実施形態に係る保護素子及び発光装置について、図面に基づいて説明する。発光装置1は、例えば、図1に示すように、携帯電話のストロボ用の照明装置として用いることができる。発光装置1は、例えば携帯電話に内蔵される実装基板(実装用基体)2の電源供給用の配線パターン2a,2bに半田などの導電性接着材を介在させて導通搭載される。
図1から図3に示すように、発光装置1は、発光素子10と、保護素子20とを備えている。
発光素子10は、光透過性を有する基板に半導体層が積層され、電源を供給する電極が形成されたフリップチップ実装型の発光ダイオード(LED)である。例えば、発光素子10は青色光を発光するLEDとすることができる。
本実施形態では、基板としてGaN基板が設けられている。GaN基板上には、半導体層として、n型層であるN−GaN層と、発光層と、p型層であるP−GaN層とが積層されている。GaN基板とN−GaN層との間にバッファ層を設けてもよい。N−GaN層へのn型ドーパントとしては、Si又はGe等を好適に用いることができる。発光層は、少なくともGaとNとを含み、必要に応じて適量のInを含ませることで、所望の発光波長を得ることができる。また、発光層としては、1層構造とすることもできるが、例えば、InGaN層とGaN層を交互に少なくとも一対積層した多量子井戸構造とすることも可能である。発光層を多量子井戸構造とすることで、さらに輝度を向上させることができる。本実施形態の発光素子10は、光導波路を有していないLEDであるが、光導波路を有するレーザダイオード又はスーパールミネッセントダイオード等であってもよい。
P−GaN層は、発光層の上に直接あるいは少なくともGaとNを含んだ半導体層を介して積層されたものである。また、P−GaN層へのp型ドーパントとしては、Mg等が好適に用いられる。
半導体層には、カソード電極11とアノード電極12とが形成されている。カソード電極11は、P−GaN層と発光層とN−GaN層の一部とをエッチングしたN−GaN層上の領域に設けられている、n電極である。カソード電極11は、Al層とTi層とAu層とが積層されて形成されている。
アノード電極12は、エッチングされた残余のP−GaN層上に積層されている、p電極である。アノード電極12は、Ni層とAg層とを積層することで形成されている。アノード電極12は、反射率が高いAg層を含むことで反射電極として機能する。
発光素子10は、バンプBを介して保護素子20に搭載されている。例えば、バンプBはメッキバンプとすることができる。
保護素子20は、保護回路243が形成された半導体基板24を有している。半導体基板24は、発光素子10側の面に設けられ、発光素子10と導通させる一対の接続電極21と、実装用の基体側の面に設けられ、基体と導通させる一対の底面電極22と、接続電極21と底面電極22とを接続するための一対のスルーホール電極23とを有している。保護素子20は、樹脂封止部25により封止されている。保護素子20は例えばツェナーダイオードである。
接続電極21は、半導体基板24の搭載面241に設けられ、発光素子10のカソード電極11と接続されるカソード側電極211とアノード電極12と接続されるアノード側電極212とから構成されている。接続電極21は、発光素子10のカソード電極11とアノード電極12とに対応する位置に設けられており、発光素子10を所定位置に搭載することにより、発光素子と導通接続することができる。
図2に示すように、カソード側電極211は、半導体基板24の周縁に沿ってコ字状に形成されている。アノード側電極212は、コ字状に形成されたカソード側電極211によって空いた中央領域と周縁領域とに設けられている。カソード側電極211及びアノード側電極212の位置及び形状は、搭載する発光素子10のカソード電極11及びアノード電極12の位置及び形状に応じて適宜変更すればよい。
図3に示すように、底面電極22は、半導体基板24の搭載面241とは反対側となる裏面242に設けられ、負極側電極221と正極側電極222とから構成されている。負極側電極221と正極側電極222とは、それぞれ長方形状に形成され、半導体基板24の裏面242の一方側と他方側とに配置されている。底面電極22の位置及び形状は、搭載される実装基板2の電極の位置及び形状に応じて適宜変更すればよい。
スルーホール電極23は、半導体基板24の四隅のそれぞれの角部に配置され、搭載面241に設けられた接続電極21と裏面242に設けられた底面電極22とを接続する。スルーホール電極23は、カソード側電極211と負極側電極221を接続する負極側スルーホール電極231と、アノード側電極212と正極側電極222を接続する正極側スルーホール電極232とから構成されている。
半導体基板24は、矩形状のシリコン基板により形成されている。半導体基板24には、p型半導体領域2432とn型半導体領域2431とが形成されており、ツェナーダイオード等を含む保護回路が構成されている。半導体基板24は、ウェハ状態のシリコン基板に、複数のp型半導体領域2432とn型半導体領域2431とを形成して、ダイサーにより分割して個片化することにより形成すればよい。
樹脂封止部25は、樹脂により形成され、半導体基板24の搭載面241上に形成されている。樹脂封止部25は、第1の封止部251と第2の封止部252とにより構成されている。
第1の封止部251は、発光素子10全体を覆うように形成されている。第1の封止部251は、例えば、シリコン樹脂又はエポキシ樹脂等の光透過性樹脂により形成することができる。第1の封止部251には、発光素子10からの光に励起されて波長変換した光を発光する蛍光体が含有されていてもよい。
蛍光体としては、イットリウムアルミニウムガーネット(YAG)蛍光体及び珪酸塩蛍光体等を用いことができる。蛍光体を、青色の補色となる黄色に発光するものとすれば、第1の封止部251を、青色と黄色とが混色した白色に発光させることができる。また白色光の演色性を高めるため、赤色蛍光体と緑色蛍光体の組み合わせ、あるいは赤色蛍光体と黄色蛍光体の組み合わせを使用することも可能である。
第2の封止部252は、第1の封止部251全体を覆うように形成されている。第2の封止部252は、第1の封止部251と同様に、例えば、シリコン樹脂又はエポキシ樹脂等の光透過性樹脂により形成することができる。
第1の封止部251は、例えば、スクリーン印刷法により形成することができる。スクリーン印刷法により形成する場合には、あらかじめ保護回路及び各電極(接続電極21,底面電極22,スルーホール電極23)を形成し、発光素子10を搭載したウェハ状態の半導体基板24上に、発光素子10に対応する位置が開口した印刷版を配置して、蛍光体を含有した樹脂材を開口へ充填して成形すればよい。このようにして第1の封止部251を成形することにより厚さが均一な蛍光体樹脂層を形成することができる。
第1の封止部251を含むウェハ状態の半導体基板24全体にコーティングを行った後、個片化することにより、第1の封止部251を覆う外形が略矩形状の第2の封止部252を形成することができる。
以上のように構成された一実施形態に係る発光装置は、発光素子10が保護素子20に搭載されているため、図4に示すように、発光素子10が保護素子20であるツェナーダイオードZDに並列接続された構成となっている。
本実施形態では、保護素子20をn型半導体領域2431とp型半導体領域2432とにより形成したツェナーダイオードとした。しかし、保護回路はダイオード又はバリスタ等としてもよい。また、本実施形態では、保護素子20は発光素子10を搭載することで、発光素子10とツェナーダイオードZDとが並列接続された回路となる例を示した。しかし、ツェナーダイオードと抵抗素子とを有し、発光素子10を搭載すると、抵抗素子が発光素子10に抵抗直列接続され、直列接続された発光素子10と抵抗素子とに対してツェナーダイオードが並列に接続される構成の保護素子としてもよい。
このように実装基板2に実装される発光装置1は、保護素子20からワイヤを配線する必要がない。このため、発光素子10を搭載した保護素子20を発光装置1を実装基板2に実装した後、全体を樹脂封止することなく使用することができる。したがって、ワイヤを保護するための樹脂封止が不要なため、例えば、製品の組み立て工程にて封止工程が削減できるので、工数の削減ができると共に、コストの抑制を図ることができる。
発光装置1は、保護素子20の搭載面241上に発光素子10を搭載しているので、発光素子10からの光の進行を阻害するワイヤや他の電気部品が無い。このため、発光素子10からの光を周囲に均一に照射させることができるので、発光装置1を小型化することができ、点光源として機能させることができる。
半導体基板24がシリコン基板である例を示したが、半導体基板24はシリコン基板に限らない。しかし、シリコン基板は、例えば、セラミック基板等に比べて湾曲しにくく、平坦性に優れているため、第1の封止部251が湾曲しにくく、第1の封止部251の厚さを均一にしやすい。このため、蛍光体の濃度を均一にでき、イエローリングと称する円形状の色ムラの発生を抑える効果が得られる。したがって、第1の封止部251における色度のばらつきを抑制することができる。
また、シリコンは、セラミック(Al23,LTCC(Low Temperature Co-fired Ceramics))等と比較して熱伝導率が高い。したがって、半導体基板24をシリコン基板とすることにより、発光素子10からの熱を半導体基板24を介して底面電極22から実装基板2に効率良く伝熱させることができる。これにより、発光素子10の劣化を抑制する効果も得られる。
一対の接続電極21と一対の底面電極22とは、半導体基板24の側面に側面電極を形成して接続することも可能である。しかし、スルーホール電極23は、個片化する前のウェハ状態で形成することができる。このため、半導体基板24を個片化した後にメッキ処理を行う等の工程が必要なく、製造が容易となるという利点がある。
なお、本実施の形態では、携帯電話のストロボ用の照明装置を示したが、他の照明装置にも同様に用いることができる。また、実装用基体を実装基板としたが、実装基板に代えて発光装置をリードフレーム等に搭載してもよい。
本開示は、発光素子を保護しつつ、発光素子からの光を周囲に均一に照射させることができ、小型化を図ることができるので、発光素子が搭載されると共に、この発光素子と並列接続されることで発光素子を静電気などの高電圧から保護する保護素子及びこれを用いた発光装置に好適である。
1 発光装置
2 実装基板
2a,2b 配線パターン
10 発光素子
11 カソード電極
12 アノード電極
20 保護素子
21 接続電極
22 底面電極
23 スルーホール電極
24 半導体基板
25 樹脂封止部
211 カソード側電極
212 アノード側電極
221 負極側電極
222 正極側電極
231 負極側スルーホール電極
232 正極側スルーホール電極
241 搭載面
242 裏面
243 保護回路
251 第1の封止部
252 第2の封止部
2431 n型半導体領域
2432 p型半導体領域
B バンプ
ZD ツェナーダイオード

Claims (5)

  1. 半導体基板と、
    前記半導体基板における、フリップチップ実装型の発光素子を搭載する搭載面に設けられ、前記発光素子の電極と接続される接続電極と、
    前記半導体基板に設けられ、前記接続電極を介して前記発光素子と接続される保護回路と、
    前記半導体基板の前記搭載面と反対側の面に設けられ、対応する前記接続電極と接続されており、実装用基体の電極と接続される裏面電極とを備えている、保護素子。
  2. 前記接続電極と、前記底面電極とを接続するスルーホール電極をさらに備えている、請求項1に記載の保護素子。
  3. 前記半導体基板は、シリコン基板である、請求項1又は2に記載の保護素子。
  4. 前記保護回路は、ツェナーダイオード、ダイオード又はバリスタを含む、請求項1から3のいずれか1項に記載の保護素子。
  5. 前記請求項1から4のいずれかの項に記載の保護素子と、
    前記保護素子に搭載された発光素子と、
    前記発光素子からの光に励起されて発光する蛍光体が含有され、前記発光素子を封止する樹脂封止部とを備えている、発光装置。
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