以下、本発明にかかる実施の一形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において同一の符号を付した構成は、同一の構成であることを示し、適宜、その説明を省略する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態におけるフーリエ変換型分光計の構成を示すブロック図である。図2は、第1実施形態のフーリエ変換型分光計における主に干渉計の構成を示す図である。
第1実施形態にかかるフーリエ変換型分光計Daは、測定対象の被測定光のスペクトルを測定する装置であって、前記被測定光を干渉計で測定し、この測定した被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)をフーリエ変換することによって被測定光のスペクトルを求める装置である。そして、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daでは、SN比を改善し、良好な精度の結果を得るために、前記被測定光のスペクトルを求めるためにフーリエ変換される変換対象には、前記干渉計で生成された前記被測定光のインターフェログラムを複数積算することによって得られた積算インターフェログラムが用いられる。このようなフーリエ変換型分光計Daは、例えば、図1および図2に示すように、測定対象物体SMから放射された光(被測定光)が入射され、前記被測定光の干渉光を射出する干渉計11aと、干渉計11aで得られた被測定光の干渉光を受光して光電変換によって被測定光の干渉光の波形の電気信号(被測定光の干渉光における光強度変化を表す電気信号)を出力する受光処理部20と、干渉計11aの移動鏡115の位置を検出する位置検出処理部30aと、制御演算部41aと、入力部42と、出力部43とを備えている。測定対象物体SMは、自発光する光源であってよく、また、他の光源から放射された光が照射され、前記光を反射、透過または再放射(例えば蛍光発光等)することによって光を放射するものであってもよい。
干渉計11aは、測定対象の被測定光が入射され、この入射された被測定光を2個の第1および第2被測定光に分岐し、これら分岐した第1および第2被測定光のそれぞれを、互いに異なる2個の経路である第1および第2光路のそれぞれに進行(伝播)させ、再び合流させるものであり、この分岐点(分岐位置)から合流点(合流位置、干渉位置)までの間に第1および第2光路間に光路差があると、前記合流の際に位相差が生じているため、前記合流によって干渉縞を生じるものである。干渉計11aは、例えばマッハツェンダー干渉計等の種々のタイプの第1および第2光路を備える干渉計を利用することができるが、本実施形態では、図2に示すように、マイケルソン干渉計によって構成されている。
より具体的には、図2に示すように、干渉計11aは、複数の光学素子として半透鏡112、固定鏡114、および、光反射面が光軸方向に移動する移動鏡115を備え、固定鏡114と移動鏡115とは、各鏡面の各法線が互いに直交するようにそれぞれ配置され、半透鏡112は、その法線が前記固定鏡114および移動鏡115における各法線の直交点を通り、これら各法線に対し45度の角度で交差するように配置される。この干渉計11aにおいて、干渉計11aに入射された被測定光は、半透鏡112で2個の第1および第2被測定光に分岐する。この分岐した一方の第1被測定光は、半透鏡112で反射されて固定鏡114に入射する。この第1被測定光は、固定鏡114で反射し、来た光路を逆に辿って再び半透鏡112に戻る。一方、この分岐した他方の第2被測定光は、半透鏡112を通過して移動鏡115に入射する。この第2被測定光は、移動鏡115で反射し、来た光路を逆に辿って再び半透鏡112に戻る。これら固定鏡114で反射された第1被測定光および移動鏡115で反射された第2被測定光は、半透鏡112で互いに合流して干渉する。このような構成のマイケルソン干渉計11aでは、被測定光は、移動鏡115の鏡面における法線方向に沿って干渉計11aへ入射され、被測定光の干渉光は、固定鏡114の鏡面における法線方向に沿って干渉計11aから射出される。
そして、本実施形態では、干渉計11aは、被測定光を半透鏡112で2個の第1および第2被測定光に分岐する場合において、半透鏡112で反射した半透鏡112の反射側に配置される位相補償板CPをさらに備えている。すなわち、本実施形態では、半透鏡112で反射した第1被測定光は、位相補償板CPを介して固定鏡114へ入射され、固定鏡114で反射された第1被測定光は、位相補償板CPを介して再び半透鏡112へ入射される。位相補償板CPは、第1被測定光の半透鏡112の透過回数と第2被測定光の半透鏡112の透過回数の相違から生じる第1被測定光と第2被測定光との位相差を無くして前記位相差を補償するものである。このような位相補償板CPは、等方性の位相板であり、位相補償板CPの厚さと同じの距離を真空中または空気中で進行した光の位相に対し、位相補償板CP内を進行した光の位相にずれを生じさせるものである。この位相補償板CPについて、後に、さらに説明する。
第1被測定光は、このような被測定光の入射位置から、半透鏡112、位相補償板CP、固定鏡114および位相補償板CPをこの順に介して半透鏡112に再び至る第1光路を辿る。第2被測定光は、このような被測定光の入射位置から、半透鏡112および移動鏡115をこの順に介して半透鏡112に再び至る第2光路を辿る。
移動鏡115は、光路差形成光学素子の一例であり、共振振動を用いることによって2個の第1および第2光路間に光路差を生じさせる光学素子である。このような移動鏡115として、例えば、国際公開WO2010/122879号パンフレットに開示の光反射機構が挙げられる。この光反射機構は、反射面を表面に有する第1移動部と、前記第1移動部を支持する支持部と、前記第1移動部と前記支持部とを前記支持部の上下で片持梁形式で連結する第1の梁および平行移動梁と、前記第1移動部を移動させるための駆動部とを備え、前記第1移動部を前記反射面に垂直な方向に共振振動させるものであり、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術によって製造される。
また、移動鏡115は、好ましくは、図2に示すように、平行板バネを利用した、反射面が並進移動する構成であってよい。この平行板バネ構造の移動鏡115では、鏡面を移動する駆動力を外部から与える図略のアクチュエータを備えており、反射面(鏡面)が共振するような駆動信号が前記アクチュエータに与えられる。このような平行板バネ構造が有する並進性を利用した移動鏡115では、非駆動時(静止時)における移動鏡115の位置は、移動(振動)の中心となり、静止時の基準位置となるから、移動鏡115側に分岐された光路長の基準位置となる。したがって、平行板バネの静止時における反射面の位置は、「固定鏡114側の光路長と移動鏡115側の光路長とが、仮に同一の媒質で形成されている場合に、これら2個の光路差がゼロ(0)になるように光学素子を配置した場合」の、移動鏡115側の光路の基準となる。
さらに、本実施形態では、測定対象物体SMから放射された被測定光を平行光で半透鏡112へ入射させるために、測定対象物体SMと半透鏡112との間の適宜な位置に、入射光学系として例えば両凸のコリメータレンズ111が配置され、半透鏡112で第1および第2被測定光を合流して干渉させることによって生じた被測定光の干渉光を集光して第1受光部21へ入射させるために、半透鏡112と第1受光部21との間の適宜な位置に、射出光学系として例えば両凸の集光レンズ116が配置されている。
図1に戻って、受光処理部20は、例えば、第1受光部21と、増幅部22と、アナログ−ディジタル変換部(以下、「AD変換部」と呼称する。)23とを備えている。第1受光部21は、干渉計11aで得られた被測定光の干渉光を受光して光電変換することによって、被測定光の干渉光の光強度に応じた電気信号を出力する回路である。第1受光部21は、例えばInGaAsフォトダイオードおよびその周辺回路を備えて構成される赤外線センサ等である。増幅部22は、第1受光部21の出力を予め設定された所定の増幅率で増幅する増幅器である。AD変換部23は、増幅部22の出力をアナログ信号からディジタル信号へ変換(AD変換)する回路である。このAD変換のタイミング(サンプリングタイミング)は、後述のゼロクロス検出部37から入力されたゼロクロスタイミングで実行される。
また、位置検出処理部30aは、例えば、位置測定用光源31aと、第2受光部36と、ゼロクロス検出部37とを備えている。そして、位置検出処理部30aは、この位置測定用光源31aから放射されたレーザ光の干渉光を干渉計11aで得るために、図2に示すように、コリメータレンズ32と、ビームスプリッター33と、ビームスプリッター34と、集光レンズ35とをさらに備えている。
位置測定用光源31aは、単色レーザ光を放射する光源装置である。図2において、コリメータレンズ32およびビームスプリッター33は、位置測定用光源31から放射されたレーザ光を平行光で干渉計11aへ入射させるための入射光学系である。ビームスプリッター33は、その法線が移動鏡115の法線(光軸)に対し45度で交差するように、コリメータレンズ111と半透鏡112との間に配置される。コリメータレンズ32は、例えば両凸のレンズであり、このように配置されたビームスプリッター33に対し45度の入射角で位置測定用光源31aから放射されたレーザ光が入射されるように、適宜な位置に配置される。そして、ビームスプリッター34および集光レンズ35は、干渉計11aで生じた前記レーザ光の干渉光を干渉計11aから取り出すための射出光学系である。ビームスプリッター34は、その法線が固定鏡114の法線(光軸)に対し45度で交差するように、半透鏡112と集光レンズ116との間に配置される。集光レンズ35は、例えば両凸のレンズであり、このように配置されたビームスプリッター34において45度の射出角で射出されるレーザ光の干渉光を集光して第2受光部36へ入射させる。なお、ビームスプリッター33は、レーザ光を反射するとともに被測定光を透過するダイクロイックミラーであってもよく、ビームスプリッター34は、レーザ光の干渉光を反射するとともに被測定光の干渉光を透過するダイクロイックミラーであってもよい。
このようにコリメータレンズ32、ビームスプリッター33、34および集光レンズ35の各光学素子が配置されると、位置測定用光源31aから放射された単色のレーザ光は、コリメータレンズ32で平行光とされ、その光路がビームスプリッター33で約90度曲げられて、干渉計11aの光軸(移動鏡115の鏡面における法線方向)に沿って進行するようになる。したがって、このレーザ光は、被測定光と同様に、干渉計11a内を進行し、干渉計11aでその干渉光を生じさせる。このレーザ光の干渉光は、ビームスプリッター34で約90度曲げられて、干渉計11aから外部に取り出され、集光レンズ35で集光されて第2受光部36で受光される。
図1に戻って、第2受光部36は、干渉計11aで得られたレーザ光の干渉光を受光して光電変換することによって、レーザ光の干渉光の光強度に応じた電気信号を出力する回路である。第2受光部36は、例えばシリコンフォトダイオード(SPD)およびその周辺回路を備えて構成される受光センサ等である。第2受光部36は、レーザ光の干渉光の光強度に応じた電気信号をゼロクロス検出部37へ出力する。
ゼロクロス検出部37は、第2受光部36から入力された、レーザ光の干渉光の光強度に応じた電気信号がゼロとなるタイミングを検出する回路である。干渉計11aの移動鏡115が光軸方向に移動している場合に、半透鏡112から固定鏡114を介して再び半透鏡に戻ったレーザ光の位相に対し、半透鏡112から移動鏡115を介して再び半透鏡に戻ったレーザ光の位相がずれるので、レーザ光の干渉光は、その移動量に応じて正弦波状に強弱する。そして、干渉計11aの移動鏡115がレーザ光の波長の1/2の長さだけ移動すると、半透鏡112から移動鏡115を介して再び半透鏡に戻ったレーザ光の位相は、この移動の前後において、2πずれる。このため、レーザ光の干渉光は、移動鏡115の移動に従って正弦波状に強弱を繰り返すことになる。ゼロクロス検出部37は、この正弦波状に強弱を繰り返す前記電気信号のゼロクロスを検出している。ゼロクロス検出部37は、この検出したゼロクロスのタイミングをAD変換部23へ出力し、AD変換部23は、このゼロクロスのタイミングで、第1受光部21から入力された、被測定光の干渉光の光強度に応じた電気信号をサンプリングしてAD変換する。
制御演算部41aは、被測定光のスペクトルを求めるべく、フーリエ変換型分光計Daの各部を当該各部の機能に応じてそれぞれ制御するものである。制御演算部41aは、例えば、CPU(Central Processing Unit)、このCPUによって実行される種々のプログラムやその実行に必要なデータ等を予め記憶するROM(Read Only Memory)やEEPROM(Electrically
Erasable Programmable Read Only Memory)等の不揮発性記憶素子、このCPUのいわゆるワーキングメモリとなるRAM(Random Access Memory)等の揮発性記憶素子およびその周辺回路等を備えたマイクロコンピュータによって構成される。そして、制御演算部41aには、プログラムを実行することによって、機能的に、スペクトル演算部411aが構成される。
スペクトル演算部411aは、干渉計11aで生成された前記被測定光のインターフェログラムを複数積算することによって得られた積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって前記被測定光のスペクトルを求めるものである。本実施形態では、例えば、このスペクトル演算部411aには、プログラムを実行することによって、機能的に、取出部4111と、検索部4112と、積算部4113と、演算部4114aとが構成される。
取出部4111は、干渉計11aの出力から所定範囲の出力を取り出す場合に、今般の前記被測定光のインターフェログラムの測定よりも以前に測定された前記被測定光のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置合わせ情報に応じて前記取り出す所定範囲を設定し、干渉計11aの出力からこの設定した前記所定範囲の出力を取り出すものである。
取出部4111で取り出された所定範囲の出力は、該所定範囲における各サンプリング点での各測定データであり、測定データの集合となる。取出部4111で取り出された所定範囲の出力は、1個のデータであるサンプリング点(AD変換点、測定点)での測定データと区別するために、以下「測定データ集合」と適宜に呼称される。
前記位置合わせ情報は、積算部4113で被測定光のインターフェログラムを複数積算するために取出部4111で取り出された各測定データ集合間において、各測定データ集合について、互いにセンターバーストの位置を合わせるためのデータである。この位置合わせ情報を用いることによって、センターバーストの測定点から同じ数だけ離れた測定点の測定データ同士は、同じ光路差の測定データとなる。この位置合わせ情報として、例えば、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量が挙げられる。
本実施形態では、取出部4111は、より具体的には、例えば、干渉計11aの出力から所定範囲の出力を取り出す場合に、1回目の測定で取り出した所定範囲に対して測定回数に応じて今回(今般)取り出す所定範囲を広げつつ、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量に応じて前記今回取り出す所定範囲の開始位置をシフトすることによって、この今回(今般)取り出す所定範囲を設定し、干渉計11aの出力からこの設定した前記所定範囲の出力を取り出すものである。
検索部4112は、積算部4113で被測定光のインターフェログラムを複数積算するために取出部4111で取り出された各所定範囲の各出力において、同じ光路差の測定データを見つけ出すものである。
積算部4113は、被測定光のインターフェログラムを複数積算するために取出部4111で取り出された各所定範囲の各出力(各測定データ集合)において、検索部4112で見つけ出された同じ光路差の測定データ同士を足し合わせることによって積算インターフェログラムを生成するものである。
演算部4114aは、積算部4113で生成された積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって前記被測定光のスペクトルを求めるものである。
入力部42は、例えば、測定開始を指示するコマンド等の各種コマンド、および、例えば測定対象の光源SMにおける識別子の入力やフーリエ変換の際に用いられる窓関数の選択入力等のスペクトルを測定する上で必要な各種データをフーリエ変換型分光計Daに入力する機器であり、例えば、キーボードやマウス等である。出力部43は、入力部42から入力されたコマンドやデータ、および、フーリエ変換型分光計Daによって予測された被測定光のスペクトルを出力する機器であり、例えばCRTディスプレイ、LCD、有機ELディスプレイおよびプラズマディスプレイ等の表示装置やプリンタ等の印刷装置等である。
次に、本実施形態の動作について説明する。図3は、第1実施形態のフーリエ変換型分光計における干渉計の構成、位相補償板CPを備えない場合の干渉計、被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)および位置測定用光源のレーザ光の干渉光の波形を説明するための図である。図3(A)は、第1実施形態のフーリエ変換型分光計における干渉計の構成を示し、図3(B)は、位相補償のための位相補償板CPを備えない場合のマイケルソン干渉計、図3(C)は、模式的に描いた、被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)を示し、そして、図3(D)は、模式的に描いた、位置測定用光源のレーザ光の干渉光の波形を示す。図4は、第1実施形態のフーリエ変換型分光計において、一例として、実測した被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)を示す図である。図4(A)は、全体を示し、図4(B)は、ゼロレベル付近を示し、そして、図4(C)は、センターバースト付近を示す。図5は、第1実施形態のフーリエ変換型分光計において、一例として、実測した位置測定用光源のレーザ光の干渉波形を示す図である。図5(A)は、全体を示し、図5(B)は、端部付近を示し、そして、図5(C)は、極大値付近を示す。図6は、半透鏡で生じる位相ずれを示す図である。図7は、半透鏡で生じる位相ずれを位相補償した場合における位相を示す図である。図6および図7の横軸は、nm単位で表す波長を示し、それらの縦軸は、度単位で表す位相を示す。図8は、第1実施形態における取出部で取り出す所定範囲を説明するための図である。図8(A)、(B)および(C)のそれぞれは、1回目、(n−1)回目およびn回目(nは2以上の整数)の各測定における各測定結果を模式的に示す。図9は、インターフェログラムと窓関数との関係を示す図である。図9の横軸は、光路差を示し、その縦軸は、振幅を示す。
測定が開始されると、フーリエ変換型分光計Daは、測定対象物体SMから放射される被測定光を取り込む。被測定光は、干渉計11aに入射され、被測定光の干渉光となって第1受光部21で受光される。より具体的には、被測定光は、コリメータレンズ111で平行光とされ、ビームスプリッター33を介して半透鏡112で反射および透過することで第1および第2被測定光に分岐される。半透鏡112で反射することによって分岐した第1被測定光は、位相補償板CPを介して固定鏡114へ入射し、固定鏡114で反射し、来た光路を逆に辿って再び半透鏡112に戻る。一方、半透鏡112を通過することによって分岐した第2被測定光は、移動鏡115へ入射し、移動鏡115で反射し、来た光路を逆に辿って再び半透鏡112に戻る。これら固定鏡114で反射された第1被測定光および移動鏡115で反射された第2被測定光は、半透鏡112で互いに合流して干渉する。この被測定光の干渉光は、干渉計11aから第1受光部21へ射出される。第1受光部21は、この入射された被測定光の干渉光を光電変換し、前記被測定光の干渉光における光強度に応じた電気信号を増幅部22へ出力する。増幅部22は、所定の増幅率で前記被測定光の干渉光に応じた前記電気信号を増幅し、AD変換部23へ出力する。
一方、フーリエ変換型分光計Daは、位置測定用光源31aから放射された単色のレーザ光も取り込む。このレーザ光は、ビームスプリッター33を介して干渉計11aに入射され、上述と同様に干渉計11aで干渉し、レーザ光の干渉光となってビームスプリッター34を介して第2受光部36で受光される。第2受光部36は、この入射されたレーザ光の干渉光を光電変換し、前記レーザ光の干渉光における光強度に応じた電気信号をゼロクロス検出部37へ出力する。ゼロクロス検出部37は、前記レーザ光の干渉光に応じた前記電気信号がゼロとなるタイミングをゼロクロスタイミングとして検出し、このゼロクロスタイミングをサンプリングタイミング(AD変換タイミング)としてAD変換部23へ出力する。
このような被測定光およびレーザ光がそれぞれ干渉計11aに取り込まれている間に、干渉計11aの移動鏡115は、制御演算部41の制御に従って光軸方向に沿って移動される。
AD変換部23は、増幅部22から出力された、前記被測定光の干渉光における光強度に応じた電気信号を、ゼロクロス検出部37から入力されたゼロクロスタイミングでサンプリングしてアナログ信号からディジタル信号へAD変換し、このAD変換したディジタル信号の前記電気信号を制御演算部41のスペクトル演算部411へ出力する。一例を挙げると図3(D)や図5に示すように、単色レーザ光の干渉光における光強度は、移動鏡115の移動に応じて正弦波状に強弱を繰り返すので、フーリエ変換型分光計Daは、このゼロクロスタイミングを検出することでAD変換のサンプリングタイミングを得ている。
このように動作することによって、図3(C)および図4に示すようなインターフェログラムがAD変換部23から制御演算部41のスペクトル演算部411に入力される。
ここで、まず、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daにおける位相補償について説明する。
前記位相補償のための位相補償板CPを備えない場合のマイケルソン干渉計は、図3(B)に示すように、半透鏡112と、固定鏡114と、光軸方向に移動する移動鏡115とを備え、固定鏡114および移動鏡115は、互いに光軸が直交するように配置され、半透鏡112は、これら各光軸と45度の角度でそれぞれ交差するとともにこれら各光軸の交差位置に半透鏡面が位置するように、配置される。このようなマイケルソン干渉計では、被測定光は、半透鏡112で反射して固定鏡114へ入射し、固定鏡114で反射して再び半透鏡112に戻り、半透鏡112を透過する第1光路(ここでは半透鏡112→固定鏡114→半透鏡112)と、半透鏡112を透過して移動鏡115へ入射し、移動鏡115で反射して再び半透鏡112に戻り、半透鏡112で反射する第2光路(ここでは半透鏡112→移動鏡115→半透鏡112)との2個の光路が形成される。
ここで、このような2個の第1および第2光路のそれぞれが仮に同一の媒質で形成されている場合に、これら2個の第1および第2光路間の光路差がゼロとなるように、これら半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115のそれぞれが配置された配置状態では、合流位置(干渉位置)において、半透鏡112で分岐して第1光路を進行(伝播)した第1被測定光と半透鏡112で分岐して第2光路を進行した第2被測定光との間には、位相差が生じない。これら2個の第1および第2光路のそれぞれが仮に同一の媒質で形成されている場合とは、例えば、半透鏡112の透明基板と同一の材料によって第1および第2光路が形成される場合や、また例えば、これら半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115のそれぞれが真空中または気体中に配置され、半透鏡112が半透鏡面のみで形成される場合等である。なお、半透鏡の112の半透面鏡は、通常、無視できる厚さである。
現実には、図3(B)に示すように、半透鏡112は、被測定光やレーザ光の波長に対して透明な材料、例えばガラス等によって形成された透明基板と、前記透明基板の一方主面に形成された、例えば金属薄膜や誘電体多層膜等の半透鏡面とを備えて構成される。このため、図3(B)に示すように、合流(干渉)の際に、第1光路の第1被測定光は、半透鏡112の前記透明基板を通過しないが、第2光路の第2被測定光は、半透鏡112の前記透明基板を2回通過することになる。したがって、被測定光の入射位置から干渉位置までの間に、これら半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115によって形成される2個の第1および第2光路のそれぞれが仮に同一の媒質で形成されている場合に前記2個の光路間の光路差がゼロとなるようにこれら半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115が配置された前記配置状態であっても、第1光路と第2光路との位相差は、前記透明基板の屈折率に起因してゼロにならない。そして、半透鏡112の前記透明基板によって生じる位相のずれ量は、屈折率が波長依存性を有しているために、一例を挙げると、例えば、図6に示すように、波長依存性を有している。
このため、本実施形態の干渉計11aでは、図3(A)や図2に示すように、このような2個の第1および第2光路のそれぞれが仮に同一の媒質で形成されている場合に、これら2個の第1および第2光路間の光路差がゼロとなるように、これら半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115のそれぞれが配置された前記配置状態において、合流位置(干渉位置)で、半透鏡112で分岐して第1光路を進行(伝播)した第1被測定光と半透鏡112で分岐して第2光路を進行した第2被測定光との間に実際には生じる上述の位相差を補償するために、半透鏡112と固定鏡114との間に、半透鏡112の前記透明基板と同一の位相特性(屈折率特性)を有する位相補償板CPが配置される。例えば、このような位相補償板CPは、半透鏡112の前記透明基板そのものである(もちろん、半透鏡面はない)。このような位相補償板CPを配置することによって、これら第1および第2光路間における位相差は、図7に示すように無くなる。このような位相補償された干渉計11aを用いると、被測定光の干渉光におけるインターフェログラムは、被測定光の各波長成分の初期位相差がゼロとなり、図3(C)に示すように、センターバーストが大きく、そして、サイドローブが小さいプロファイルとなる。このようなインターフェログラムの一例が図4に示されている。このような被測定光の各波長成分の初期位相差がゼロである場合のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置は、比較的明瞭である。なお、初期位相は、光路差0の位置(センターバーストの位置)での位相である。また、ここでは、前記位相補償するために位相補償板CPが用いられたが、例えば、MertzやForman等によって考案された位相補償演算によって位相補償が行われてもよい。
このようなセンターバーストが比較的明瞭なインターフェログラムを含むディジタル信号が受光処理部20のAD変換部23から制御演算部41aのスペクトル演算部411aへ出力される。そして、スペクトル演算部411aは、SN比を改善し、良好な精度の結果を得るために、干渉計11aで生成された、このような被測定光のインターフェログラムを複数積算することによって積算インターフェログラムを生成する。
ここで、この積算インターフェログラムを求める際に、複数の測定のそれぞれにおいて、測定開始時にサンプリングカウント数が0にリセットされ、移動鏡115が常に同じように移動していれば、サンプリングカウント数の常に同じ数値(同じ測定点番号)でセンターバーストが現れ、サンプリングカウント数の同じ数値(同じ測定点番号)の測定データは、同じ光路差の測定データとなる。この場合には、光路差0の位置(センターバーストの位置)を中心とした範囲iが取出部4111で取り出される所定の範囲として設定され、各測定において、干渉計11aの出力から、この範囲iで毎回、各サンプリング点での測定データが取り出される。この範囲iは、光路差0の位置(センターバーストの位置)をI
0とし、取り出す測定点数をnhとすると、例えば、式1で表される。
この場合では、これら取り出された範囲iの各測定データ集合には、インターフェログラム全体が完全に含まれることになり、そして、サンプリングカウント数の同じ数値(同じ測定点番号)の測定データは、同じ光路差の測定データとなる。このため、このように取出部4111で取り出した各測定データ集合について、同じサンプリングカウント数の各測定データ同士を足し合わせることによって、積算インターフェログラムが生成できる。
一方、外部の振動等のノイズの影響を受けると、本実施形態では移動鏡115が共振振動を用いることによって第1および第2光路間に光路差を生じさせる素子であることから、反射面の振幅が変動してしまう。このため、図8(A)、(B)および(C)に示すように、サンプリングカウント数の常に同じ数値でセンターバーストが現れるとは限らない。このため、各測定において、干渉計11aの出力から、毎回同じ範囲iで、各サンプリング点での測定データが取り出されると、これら取り出された範囲iの各測定データ集合には、センターバーストのうちの一部しか含まないものや、センターバーストを全く含まないものが含まれる場合がある。
このため、本実施形態の取出部4111は、干渉計11aの出力から所定範囲iの測定データを取り出す場合に、今般の被測定光のインターフェログラムの測定よりも以前に測定された被測定光のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置合わせ情報に応じて、この取り出す所定の範囲iを設定し、干渉計11aの出力からこの設定した所定範囲iの測定データを取り出している。より具体的には、本実施形態の取出部4111は、干渉計11aの出力から所定範囲iの測定データを取り出す場合に、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量に応じて前記今回取り出す所定の範囲iの開始位置をシフトすることによって、この今回(今般)取り出す所定範囲iを設定し、干渉計11aの出力からこの設定した所定範囲iの測定データを取り出している。すなわち、1回目の測定における光路差0の位置および取り出すデータ点数をそれぞれI
0およびnhとし、n回目の測定における取り出すデータ点数を(nh+nr)とし、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定((n−1)回目の測定)におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量k
0(n−1)とする場合には、1回目の測定では、前記所定範囲iは、上記式1で表され(図8(A)参照)、(n−1)回目の測定では、前記所定範囲iは、次式の式2で表され(図8(B)参照)、そして、n回目の測定では、前記所定の範囲iは、次式の式3で表される(図8(C)参照)。
このように取出部4111で各測定データ集合が取り出されると、検索部4112は、これら取出部4111で取り出された各測定データ集合において、同じ光路差の測定データを見つけ出す。
本実施形態では、例えば、検索部4112は、1回目の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合とn回目(nは2以上の整数)の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合とにおいて、相互相関の最大値を求めることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出している。より具体的には、検索部4112は、まず、サンプリングカウント数(測定点番号)をiとし、1回目の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合をInterferogram
1(i)とし、n回目(nは2以上の整数)の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
n(i)とする場合に、kの値を0≦k≦(nr−1)の範囲で順次にずらしながら、次式4−1によってnh点の相互相関関数φ(k)を求める。次に、検索部4112は、相互相関関数φ(k)の最大値kを見つける。そして、検索部4112は、次式4−2によって求められるシフト量k
0(n)だけ、n回目(nは2以上の整数)の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
n(i)の測定点番号をシフトすることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出す。すなわち、1回目の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
1(i)における測定点番号j(j∈i)の測定データと、n回目の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
n(i)における測定点番号j+k
0(n)の測定データとが、同じ光路差の測定データである。
また例えば、検索部4112は、1回目の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
1(i)とn回目(nは2以上の整数)の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
n(i)とにおいて、測定点についての差の2乗の和における最小値を求めることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出してもよい。より具体的には、検索部4112は、まず、kの値を0≦k≦(nr−1)の範囲で順次にずらしながら、次式5−1によってnh点の差の2乗和△
2(k)を求め、この差の2乗和△
2(k)の最小値kを見つける。そして、検索部4112は、次式5−2によって求められるシフト量k
0(n)だけ、n回目(nは2以上の整数)の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
n(i)の測定点番号をシフトすることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出す。
また例えば、検索部4112は、1回目の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
1(i)とn回目(nは2以上の整数)の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
n(i)とにおいて、測定点についての差の絶対値の和における最小値を求めることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出してもよい。より具体的には、検索部4112は、まず、kの値を0≦k≦(nr−1)の範囲で順次にずらしながら、次式6−1によってnh点の差の絶対値の和△
A(k)を求め、この差の絶対値の和△
A(k)の最小値kを見つける。そして、検索部4112は、次式6−2によって求められるシフト量k
0(n)だけ、n回目(nは2以上の整数)の測定で取出部4111で取り出された測定データ集合Interferogram
n(i)の測定点番号をシフトすることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出す。
なお、1つ前のシフト量k0(n−1)に応じて検索範囲が広げられてもよい。例えば、k0(n−1)<0の場合にはn回目の測定データ集合Interferogramn(i)において位置合わせで用いるデータとして、[(I0+k0(n−1)−(nh+nr)/2)≦i≦(I0+(nh+nr)/2)]の範囲の(nh+nr−k0(n−1))点のデータが用いられ、k0(n−1)>0の場合にはn回目の測定データ集合Interferogramn(i)において位置合わせで用いるデータとして、[(I0−(nh+nr)/2)≦i≦(I0+k0(n−1)−(nh+nr)/2)]の範囲の(nh+nr−k0(n−1))点のデータが用いられる。
このように検索部4112で各測定データ集合における同じ光路差のデータが見つけ出されると、積算部4113は、取出部4111で取り出された各測定データ集合において、検索部4112で見つけ出された同じ光路差の測定データ同士を足し合わせることによって積算インターフェログラムを生成する。
より具体的には、まず、m回目の測定でのインターフェログラムF
m(x
i)は、光路差をx
iとし、波数をν
jとし、波数ν
jのスペクトル振幅をB(ν
j)とし、光路差0の位置をX
0とし、波数ν
jの光路差0の位置における位相をφ(ν
j)とする場合に、式7で表される。なお、mは、m番目の測定による測定結果であることを表す。
したがって、積算インターフェログラムF(x
i)は、式8で表される。
このように積算インターフェログラムが積算部4113で求められると、演算部4114aは、積算部4113で生成された積算インターフェログラムを例えば高速フーリエ変換(FFT)することによって被測定光のスペクトルを求める。
より具体的には、高速フーリエ変換する場合には、サイドローブの発生を低減するために、図9に示すように、光路差0の位置(センターバーストの位置)を中心に左右対称な窓関数A
window(x
i)が掛け合わされてから(式9)、高速フーリエ変換が行われ、被測定光のスペクトルの振幅|B
window(ν
j)|が求められる(式10)。
上記窓関数A
window(x
i)は、適宜な種々の関数を挙げることができるが、例えば、式11−1ないし式11−3で表される関数である。式11−1および式11−2は、Hamming Window(ハミング窓)関数と呼ばれ、式11−3は、Blackman Window(ブラックマン窓)関数と呼ばれる。
このような取り出し範囲の適正化によってスペクトル演算部411aは、干渉計11aによって得られた被測定光のインターフェログラムを複数積算することによって積算インターフェログラムを生成し、この生成した積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって被測定光のスペクトルを求めている。そして、この求めた被測定光のスペクトルは、出力部43に出力される。
以上、説明したように、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法では、干渉計11aの出力から所定範囲iの出力を取り出す場合に、この取り出す所定範囲iは、今般の被測定光のインターフェログラムの測定よりも以前に測定された被測定光のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置合わせ情報に応じて設定される。このため、本実施形態のフーリエ変換型分光計およびフーリエ変換型分光方法は、以前の位置合わせ情報が参酌されるから、インターフェログラム全体を完全に含む範囲の測定データをより適切に取り出すことができ、したがって、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法では、前記位置合わせ情報として、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量k0(n−1)が用いられている。このため、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法は、今回より1つ前に測定されたインターフェログラムと今回測定されたインターフェログラムとではズレ量k0(n−1)が小さい場合に好適に対応することができ、インターフェログラム全体を完全に含む範囲の測定データをより適切に取り出すことができ、したがって、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法において、相互相関によって同じ光路差の測定データを見つけ出す場合には、より正確に同じ光路差の測定データを見つけ出すことができる。このため、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法は、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法において、差の2乗の和によって同じ光路差の測定データを見つけ出す場合には、より正確に同じ光路差の測定データを見つけ出すことができる。このため、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法は、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、本実施形態のフーリエ変換型分光計Daおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法において、差の絶対値の和によって同じ光路差の測定データを見つけ出す場合には、より簡易な情報処理で同じ光路差の測定データを見つけ出すことができる。
次に、別の実施形態について説明する。
(第2実施形態)
第1実施形態におけるフーリエ変換型分光計Daでは、第1および第2光路間における半透鏡112で生じる位相差を位相補償板CPで補償しているので、センターバーストは、比較的明瞭であり、そして、その振幅は、比較的大きい。このセンターバーストでAD変換部23を飽和させないために、AD変換部23のダイナミックレンジ全体をセンターバーストに設定すると、インターフェログラムのゼロレベル付近における微小な信号が高分解能で検出することが難しくなる。そのため、インターフェログラムのセンターバースト付近における比較的大きな信号をAD変換するAD変換部と、インターフェログラムのゼロレベル付近における微小な信号をAD変換するAD変換部とで、インターフェログラムをAD変換する手法が考えられるが、この手法では、2個のAD変換部が必要であり、そして、各出力を合成する手間も必要となる。そこで、第2実施形態におけるフーリエ変換型分光計Dbは、1個のAD変換部でもインターフェログラムのゼロレベル付近における微小な信号もより高分解能で検出することができる装置およびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法である。
図10は、第2実施形態におけるフーリエ変換型分光計の構成を示すブロック図である。図11は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における主に干渉計の構成を示す図である。図12は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における位置測定用光源から放射されるレーザ光のスペクトルを示す図である。図12の横軸は、波数(1/波長)であり、その縦軸は、振幅の大きさである。図13は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における包絡線検波部の構成を示す回路図である。
第2実施形態にかかるフーリエ変換型分光計Dbは、第1実施形態かかるフーリエ変換型干渉計Daと同様に、測定対象の被測定光を干渉計で測定し、この測定した被測定光の積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって被測定光のスペクトルを求める装置である。このようなフーリエ変換型分光計Dbは、例えば、図10および図11に示すように、測定対象物体SMから放射された光(被測定光)が入射され、前記被測定光の干渉光を射出する干渉計11bと、干渉計11bで得られた被測定光の干渉光を受光して光電変換によって被測定光の干渉光の波形の電気信号(被測定光の干渉光における光強度変化を表す電気信号)を出力する受光処理部20と、干渉計11bの移動鏡115の位置を検出する位置検出処理部30bと、制御演算部41bと、入力部42と、出力部43とを備えている。
これら第2実施形態における受光処理部20、入力部42および出力部43は、それぞれ、第1実施形態における受光処理部20、入力部42および出力部43と同様であるので、その説明を省略する。
干渉計11bは、第1実施形態における干渉計11aと同様に、測定対象の被測定光が入射され、この入射された被測定光を2個の第1および第2被測定光に分岐し、これら分岐した第1および第2被測定光のそれぞれを、互いに異なる2個の経路である第1および第2光路のそれぞれに進行(伝播)させ、再び合流させるものであり、この分岐点(分岐位置)から合流点(合流位置、干渉位置)までの間に第1および第2光路間に光路差があると、前記合流の際に位相差が生じているため、前記合流によって干渉縞を生じるものである。そして、第2実施形態では、干渉計11bは、2個の第1および第2光路のそれぞれが仮に同一の媒質で形成されている場合にこれら2個の第1および第2光路間の光路差がゼロとなるように、これら2個の第1および第2光路を形成する複数の光学素子を配置した場合において実際には前記第1および第2光路間に位相差を持つ有位相差干渉計である。このような干渉計11bは、例えばマイケルソン干渉計で説明すると、例えば、図11に示すように、図2に示す上述の干渉計11aの場合と同様に配置される、半透鏡112、固定鏡114、および、光反射面が光軸方向に移動する移動鏡115を備え、そして、被測定光を半透鏡112で2個の第1および第2被測定光に分岐する場合において、半透鏡112を透過した半透鏡112の透過側に配置される第1位相差板113をさらに備えている。すなわち、本実施形態では、半透鏡112を透過した第2被測定光は、第1位相差板113を介して移動鏡115へ入射され、移動鏡115で反射された第2被測定光は、第1位相差板113を介して再び半透鏡112へ入射される。
これら第2実施形態の干渉計11bにおける半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115は、それぞれ、第1実施形態の干渉計11aにおける半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115と同様であるので、その説明を省略する。
第1位相差板113は、等方性の位相板であり、第1位相差板113の厚さと同じの距離を真空中または空気中で進行した光の位相に対し、第1位相差板113内を進行した光の位相にずれを生じさせるものである。このように第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daの干渉計11aのように位相補償板CPを備えることなく、第1位相差板113を備えている。
さらに、本実施形態のフーリエ変換型分光計Dbでも入射光学系として例えばコリメータレンズ111および射出光学系として例えば集光レンズ116を備えており、これらは、それぞれ、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daにおけるコリメータレンズ111および集光レンズ116と同様であるので、その説明を省略する。
また、位置検出処理部30bは、例えば、位置測定用光源31bと、第2受光部36と、ゼロクロス検出部37と、包絡線検波部38とを備えている。そして、位置検出処理部30bは、この位置測定用光源31bから放射されたレーザ光の干渉光を干渉計11bで得るために、図11に示すように、コリメータレンズ32と、ビームスプリッター33と、ビームスプリッター34と、集光レンズ35とをさらに備えている。すなわち、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daに対し、位置測定用光源31aに代え位置測定用光源31bを備え、さらに、包絡線検波部38を備えている。このため、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbにおける第2受光部36、ゼロクロス検出部37、コリメータレンズ32、ビームスプリッター33、ビームスプリッター34および集光レンズ35は、それぞれ、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daにおける第2受光部36、ゼロクロス検出部37、コリメータレンズ32、ビームスプリッター33、ビームスプリッター34および集光レンズ35と同様であるので、その説明を省略する。なお、これらコリメータレンズ32、ビームスプリッター33、ビームスプリッター34および集光レンズ35は、図2に示す上述の干渉計11aの場合と同様に配置される。
この位置測定用光源31bは、予め設定された所定の線幅を持つレーザ光を放射する光源装置である。位置測定用光源31bは、例えば、所定の線幅を持つレーザ光を放射する半導体レーザを備えて構成される。また例えば、位置測定用光源31bは、単色レーザ光を放射するレーザ装置と、前記レーザ装置から放射された単色レーザ光を高周波重畳する高周波重畳装置とを備え、単色レーザ光を高周波重畳ことによって前記所定の線幅を持つレーザ光を放射するものである。前記所定の線幅は、干渉計11bによって得られたレーザ光の干渉光における振幅の大きさが干渉計11bの移動鏡115の移動に従って変化する程度の波長幅(周波数幅)である。なお、レーザ光が輝線である場合には、第1実施形態の説明で用いた図3(D)や図5に示すように、このレーザ光の干渉光における振幅の大きさが干渉計11aの移動鏡115の移動によって変化しない。このような所定の線幅を持つレーザ光は、一例を挙げると、図12に示すように、中心波数15151.52/cmに対し半値幅(FWHM)2.3/cmであるガウス型のプロファイルを持つ。
この位置測定用光源11bから射出されたレーザ光は、干渉計11bへ入射され、このレーザ光の干渉光は、第2受光部36で受光される。第2受光部36は、レーザ光の干渉光の光強度に応じた電気信号をゼロクロス検出部37および包絡線検波部38のそれぞれへ出力する。
包絡線検波部38は、第2受光部36から入力された、レーザ光の干渉光の光強度に応じた電気信号の包絡線を検出する回路である。包絡線検波部38は、種々の回路構成を採用することができるが、一例を挙げると、図13に示すように、ダイオードDと、ダイオードDのカソード端子と接続されることでダイオードDに直列に接続される抵抗素子Rと、抵抗素子Rに並列に接続されるコンデンサCとを備えて構成され、直列接続のダイオードDおよび抵抗素子Rの両端が入力端とされ、抵抗素子Rの両端が出力端とされる。包絡線検波部38は、このような簡易な回路構成で包絡線を検波することができる。包絡線検波部38は、この検出したレーザ光の干渉光の光強度に応じた電気信号の包絡線を制御演算部41へ出力する。
制御演算部41bは、被測定光のスペクトルを求めるべく、フーリエ変換型分光計Dbの各部を当該各部の機能に応じてそれぞれ制御するものである。そして、制御演算部41bには、プログラムを実行することによって、機能的に、スペクトル演算部411bと、センターバースト位置演算部412とが構成される。
スペクトル演算部411bは、干渉計11bで生成された前記被測定光のインターフェログラムを複数積算することによって得られた積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって前記被測定光のスペクトルを求めるものである。本実施形態では、例えば、このスペクトル演算部411bには、プログラムを実行することによって、機能的に、取出部4111と、検索部4112と、積算部4113と、演算部4114bが構成される。すなわち、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbにおけるスペクトル演算部411bは、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daにおけるスペクトル演算部411aに対し、演算部4114aに代え、演算部4114bが機能的に構成される。したがって、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbにおけるスペクトル演算部411bの取出部4111、検索部4112および積算部4113は、それぞれ、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daにおけるスペクトル演算部411bの取出部4111、検索部4112および積算部4113と同様であるので、その説明を省略する。
演算部4114bは、積算部4113で生成された積算インターフェログラムを、センターバースト位置演算部412によって検出されたセンターバーストの位置に基づいてフーリエ変換を行うことによって被測定光のスペクトルを求めるものである。
センターバースト位置演算部412は、被測定光の各波長成分の初期位相差がゼロである場合のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置を検出するものである。より具体的には、センターバースト位置演算部412は、本実施形態では、包絡線検波部38で検波された包絡線の極大値を与える位置をセンターバーストの位置として検出するものである。このように本実施形態では、センターバーストの位置は、所定の線幅を持つレーザ光を干渉計11bに入射させることによって得られた前記レーザ光の干渉光における光強度の包絡線を検波し、この検波された包絡線の極大値を与える位置を検出することによって求められる。
次に、本実施形態の動作について説明する。図14は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における干渉計の構成、被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)および位置測定用光源のレーザ光の干渉光の波形を説明するための図である。図14(A)は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における干渉計の構成を示し、図14(B)は、模式的に描いた、被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)を示し、そして、図14(C)は、模式的に描いた、位置測定用光源のレーザ光の干渉光の波形を示す。図15は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計において、一例として、実測した被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)を示す図である。図15(A)は、全体を示し、図15(B)は、ゼロレベル付近を示し、そして、図15(C)は、センターバースト付近を示す。図16は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計において、一例として、実測した位置測定用光源のレーザ光の干渉波形を示す図である。図16(A)は、全体を示し、図16(B)は、端部付近を示し、そして、図16(C)は、極大値付近を示す。図17は、第2実施形態における取出部で取り出す所定範囲を説明するための図である。図17(A)、(B)および(C)のそれぞれは、1回目、(n−1)回目およびn回目(nは2以上の整数)の各測定における各測定結果を模式的に示す。
測定が開始されると、フーリエ変換型分光計Dbは、測定対象物体SMから放射される被測定光を取り込む。被測定光は、干渉計11bに入射され、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daの干渉計11aの場合と同様に、被測定光の干渉光となって第1受光部21で受光される。なお、第2実施形態のフーリエ型分光計Dbにおける干渉計11bでは、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daにおける干渉計11aのように、第1被測定光は、位相補償板CPを介することがない一方、第2被測定光は、第1位相差板113を介する。このように、フーリエ変換型分光計Dbは、2個の第1および第2光路を通過する光の屈折の回数がそれぞれ異なるように、少なくとも一方の光路中に例えば透明基板から成る光学素子である第1位相差板113を備えている(図11参照)。第1受光部21は、この入射された被測定光の干渉光を光電変換してその出力の電気信号を増幅部22へ出力し、そして、増幅部22は、前記電気信号を増幅し、AD変換部23へ出力する。一方、フーリエ変換型分光計Dbは、位置測定用光源31bから放射された所定の半幅を持つレーザ光も取り込む。このレーザ光は、ビームスプリッター33を介して干渉計11bに入射され、上述と同様に干渉計11bで干渉し、レーザ光の干渉光となってビームスプリッター34を介して第2受光部36で受光される。第2受光部36は、この入射されたレーザ光の干渉光を光電変換してその出力の電気信号をゼロクロス検出部37および包絡線検波部38のそれぞれへ出力する。ゼロクロス検出部37は、前記電気信号のゼロクロスタイミングを検出してAD変換部23へ出力する。
このような被測定光およびレーザ光がそれぞれ干渉計11bに取り込まれている間に、干渉計11bの移動鏡115は、制御演算部41bの制御に従って光軸方向に沿って移動される。
AD変換部23は、増幅部22からの前記電気信号を、ゼロクロス検出部37からのゼロクロスタイミングでサンプリングしてアナログ信号からディジタル信号へAD変換し、このAD変換したディジタル信号の前記電気信号を制御演算部41bのスペクトル演算部411bへ出力する。
このように動作することによって、図14(B)および図15に示すようなインターフェログラムがAD変換部23から制御演算部41bのスペクトル演算部411bに入力される。
ここで、第2実施形態におけるフーリエ変換型分光計Dbによって生成されるインターフェログラムについて、位相補償板CPによって位相補償された第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daによって生成されるインターフェログラムと対比して説明する。
第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daは、上述したように、位相補償板CPを備えているので、位相補償されるから、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daでは、被測定光の干渉光におけるインターフェログラムは、被測定光の各波長成分の初期位相差がゼロとなり、図3(C)や図4に示すように、センターバーストが比較的明瞭で大きく、そして、サイドローブが小さいプロファイルとなる。
これに対し、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、この位相補償板CPを備えず、さらに、第2光路のみに位相差板113を備えている。すなわち、第2実施形態における干渉計11bは、被測定光の入射位置から干渉位置までの間に、複数の光学素子(図10に示す例では半透鏡112、固定鏡114および移動鏡115)によって形成される2個の第1および第2光路を備え、これら2個の第1および第2光路のそれぞれが仮に同一の媒質で形成されている場合にこれら2個の第1および第2光路間の光路差がゼロとなるように前記複数の光学素子を配置した前記配置状態において前記光路間に位相差を持つ有位相差干渉計である。言い換えれば、有位相差干渉計は、位相補償板CPを備えた干渉計11aのように仮に位相補償された場合において移動鏡114がセンターバーストの位置にある配置状態で、実際には、これら2個の第1および第2光路間に位相差を持つものである。このように第2実施形態では、干渉計11bは、有位相差干渉計であるので、一例として、図4と図15とを比較すると分かるように、位相補償板CPを備えた干渉計11aによるインターフェログラムに較べて、その振幅の大きさ(レベル)が小さくなる。例えば、位相補償板CPを備えた干渉計11aによるインターフェログラムにおける最大振幅の大きさYは、図4(C)に示すように、約3200であるが、第2実施形態の干渉計11bによるインターフェログラムにおける最大振幅の大きさXは、図15(C)に示すように、約1400である(X<Y)。
したがって、同じビット数ZのAD変換器によってこれらインターフェログラムをAD変換した場合に、一単位振幅レベルに割り当てられるA/Dカウントは、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbの方が第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daより多くなる。すなわち、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbにおけるインターフェログラムの1または複数のピークにおける最大の振幅をXとし、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daにおけるインターフェログラムの1または複数のピークにおける最大の振幅をYとする場合に、X<Yであり、AD変換器のビット数をZとする場合では、一単位振幅レベルに割り当てられるA/Dカウントは、2Z/X>2Z/Yとなり、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dの方が第1実施形態のフーリエ変換型分光計より多くなる。したがって、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbの方が第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daに較べて、ゼロレベル付近の電気信号に対して相対的により多くのA/Dカウントが割り当てられる(2Z/X>2Z/Y)。このため、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、1個のAD変換器でもインターフェログラムのゼロレベル付近における微小な信号もより高分解能で検出することができる。
一方、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbでは、上述したように、干渉計11bとして有位相差干渉計が用いられているので、例えば、一例として図15(B)に示すように、センターバーストの位置が不明瞭である。そこで、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、このセンターバーストの位置を、所定の線幅を持つレーザ光の干渉光における包絡線から求めている。
第1実施形態と比較すると、第1実施形態のフーリエ変換型分光計Daでは、干渉計11aにおける移動鏡115の移動位置を検出してAD変換のサンプリングタイミングを得るために、単色のレーザ光が用いられている。この単色レーザ光の干渉光における光強度は、図5(A)、(B)および(C)に示すように、光路差0の位置でもサイドバンドの位置でも略一定の振幅である。この光路差0の位置は、被測定光の各波長成分の初期位相差がゼロである場合のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置に対応する。
一方、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbでは、前記単色レーザ光に代えて、所定の線幅を持つレーザ光が用いられている。このような所定の線幅を持つレーザ光の干渉光は、図16に示すように、ゼロクロスタイミングは、単色レーザ光の場合と同様であるが、図16(A)、(B)および(C)に示すように、光路差0の位置でその振幅が最も大きく、サイドバンドの位置へ近づくに従ってその振幅が徐々に小さくなるプロファイルを持つ。したがって、所定の線幅を持つレーザ光の干渉光における光強度の包絡線を検波することによってセンターバーストの位置が検出可能である。より具体的には、包絡線検波部38は、第2受光部36から入力された、前記レーザ光の干渉光における光強度に応じた電気信号を包絡線検波し、その結果を制御演算部41bのセンターバースト位置演算部412へ出力する。センターバースト位置演算部412は、包絡線検波部38から入力された包絡線の極大値を検出し、この極大値を与える位置をセンターバーストの位置として求める。そして、センターバースト位置演算部412は、この求めたセンターバーストの位置をスペクトル演算部411へ出力する。
以上の動作によって、スペクトル演算部411bには、被測定光のインターフェログラムがAD変換部23から入力され、センターバースト位置がセンターバースト位置演算部412から入力される。
そして、スペクトル演算部411bは、第1実施形態と同様の動作によって取出部4111、検索部4112および積算部4113で積算インターフェログラムを生成し、この被測定光の積算インターフェログラムを、この検出されたセンターバーストの位置に基づいてフーリエ変換、例えば高速フーリエ変換を行い、被測定光のスペクトルを求める。より具体的には、取出部4111は、干渉計11bの出力から所定範囲iの測定データを取り出す場合に、例えば、1回目の測定では前記所定範囲iが上記式1で表され(図17(A)参照)、(n−1)回目の測定では前記所定範囲iが上記式2で表され(図17(B)参照)、そして、n回目の測定では前記所定の範囲iが上記式3で表されるように(図17(C)参照)、1回目の測定で取り出した範囲に対して測定回数に応じて今回(今般)取り出す所定範囲iを広げつつ、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量に応じて前記今回取り出す所定の範囲iの開始位置をシフトすることによって、この今回(今般)取り出す所定範囲iを設定し、干渉計11bの出力からこの設定した所定範囲iの測定データを取り出す。次に、検索部4112は、これら取出部4111で取り出された各測定データ集合において、例えば上記式4(式4−1、式4−2)ないし式6(式6-1、式6−2)のいずれかを用いた上述の手法によって、同じ光路差の測定データを見つけ出す。次に、積算部4113は、取出部4111で取り出された各測定データ集合において、検索部4112で見つけ出された同じ光路差の測定データ同士を足し合わせることによって積算インターフェログラムを生成する。次に、演算部4114bは、上記式8ないし式10によって、前記被測定光の積算インターフェログラムを、前記検出されたセンターバーストの位置に基づいて高速フーリエ変換を行い、被測定光のスペクトルを求める。そして、この求めた被測定光のスペクトルは、出力部43に出力される。
以上、説明したように、第2実施形態におけるフーリエ変換型分光計Dbおよびこれに実装されたフーリエ変換型分光方法は、干渉計11bを構成する光学素子が仮想的な光路差ゼロの配置位置であっても位相差を有する有位相差干渉計である干渉計11bによって被測定光の干渉光が生成されているので、そのインターフェログラムの1または複数のピークにおける最大の振幅Xは、前記位相補償した干渉計11aによって生成された被測定光の干渉光に対応するインターフェログラムの1または複数のピークにおける最大の振幅Yよりも小さくなる(X<Y)。このため、干渉光を受光して得られた電気信号をZビットのAD変換器でAD変換する場合に、ゼロレベル付近の電気信号に対して相対的により多くのA/Dカウントが割り当てられる(2Z/X>2Z/Y)。したがって、第2実施形態におけるフーリエ変換型分光計Dbおよびこれに実装されるフーリエ変換型分光方法は、AD変換器が用いられる場合に、1個のAD変換器でもインターフェログラムのゼロレベル付近における微小な信号もより高分解能で検出することができる。
また、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、上述のように、X<Yであるので、増幅部22の増幅器として、スルーレートの比較的低いオペアンプ(入力信号に対する追従性の比較的遅いオペアンプ)を用いることができ、低ノイズアンプを用いることができる。増幅部22の増幅器として低ノイズアンプ(LNA)を用いることによって、本実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、いわゆるSN比の向上を図ることができる。
また、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、半透鏡112の透過側に第1位相差板113をさらに備えるので、干渉計11における第1および第2光路間の位相差をさらに大きくすることができる。この結果、本実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、インターフェログラムの1または複数のピークにおける最大の振幅Xを、後述の図18(A)に示す第1位相差板113を備えないで半透鏡112の透明基板で生じる位相差だけの有位相差干渉計によるインターフェログラムに較べて、より小さくすることができる。
また、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、所定の線幅を持つレーザ光の干渉光における光強度の包絡線を検波することによってセンターバーストの位置を検出するので、例えば、図13に示すような、より簡易な回路構成で検波回路を構成することができる。
また、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、レーザ光が所定の線幅を持つレーザ光とされ、センターバーストの位置を検出するための構成として、移動鏡112の位置を検出するための一部の構成が流用されている。より具体的には、位置測定用光源31bから第2受光部36までの構成が共用され、第2受光部36の出力がゼロクロス検出部37および包絡線検波部38のそれぞれに出力される。このため、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbは、より少ない回路構成でセンターバーストの位置を検出することができる。
また、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbでは、位置測定用光源31bとして、単色レーザ光を高周波重畳することによって所定の線幅を持つレーザ光を放射するレーザ装置、あるいは、所定の線幅を持つレーザ光を放射する半導体レーザが用いられる。このため、第2実施形態では、より簡易に前記所定の線幅を持つレーザ光を放射する位置測定用光源31bが構成され得る。
図18は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における第2態様の干渉計の構成、被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)および位置測定用光源のレーザ光の干渉光の波形を説明するための図である。図18(A)は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における第2態様の干渉計の構成を示し、図18(B)は、模式的に描いた、被測定光の干渉光の波形(インターフェログラム)を示し、そして、図18(C)は、模式的に描いた、位置測定用光源のレーザ光の干渉光の波形を示す。図19は、第2実施形態のフーリエ変換型分光計における第3態様の干渉計の構成を示す図である。
なお、上述の第2実施形態では、有位相差干渉計として、図11や図14(A)に示すように、半透鏡112と移動鏡115との間に位相差板113を有する干渉計11b(第2実施形態における第1態様の干渉計11b)が用いられたが、これに限定されるものではなく、例えば、図18に示す構成の第2実施形態における第2態様の干渉計11cや、図19に示す構成の第2実施形態における第3態様の干渉計11dであってもよい。
より具体的には、前記第2態様の干渉計11cは、上述したように、半透鏡112が透明基板を備えるために半透鏡112自身が位相差を生じさせるので、図18(A)に示すように、前記第1態様の干渉計11bにおける位相差板113を除いた構成である。このように、半透鏡面を一方主面に形成した透明基板を備える通常の半透鏡112を用いたごく一般的な構成のマイケルソン干渉計において、図3(A)を用いて上述した位相補償を行うための位相補償板CPを備えないことで、前記有位相差干渉計を簡単に構成することができる。すなわち、この第2態様の干渉計11cは、図18に示すように、半透鏡112と、固定鏡114と、光軸方向に移動する移動鏡115とを備え、被測定光を半透鏡112で2個の第1および第2被測定光に分岐して固定鏡114および移動鏡115にそれぞれ入射させ、固定鏡114で反射された第1被測定光および移動鏡115で反射された第2被測定光を半透鏡112で互いに干渉させるマイケルソン干渉計であって、半透鏡112は、透明基板と、前記透明基板の一方主面に形成された半透鏡面とを備えて構成されるものである。
このような前記第2態様の干渉計11cによっても前記第1態様の干渉計11bと同様の作用効果を奏するが、図14(B)および(C)と図18(B)および(C)とを対比すると分かるように、位相差板113をさらに備えるために、前記第1態様の干渉計11bの方が前記第2態様の干渉計11cよりも、被測定光の干渉光における最大振幅が小さく、また、レーザ光の干渉光における包絡線の振幅変化が大きい。このため、前記第1態様の干渉計11bと前記第2態様の干渉計11cとを比較する場合では、前記第1態様の干渉計11bの方が有利である。
また、前記第3態様の干渉計11dは、図19に示すように、半透鏡112と、固定鏡114と、光軸方向に移動する移動鏡115とを備え、被測定光を半透鏡112で2個の第1および第2被測定光に分岐して固定鏡114および移動鏡115にそれぞれ入射させ、固定鏡114で反射された第1被測定光および移動鏡115で反射された第2被測定光を半透鏡112で互いに干渉させるマイケルソン干渉計であって、半透鏡112は、透明基板と、前記透明基板の一方主面に形成された半透鏡面とを備える。そして、この第3態様の干渉計11dは、前記被測定光を半透鏡112で2個の第1および第2被測定光に分岐する場合において、半透鏡112で反射された半透鏡112の反射側に配置される第2位相差板117をさらに備えており、この第2位相差板117は、半透鏡112で生じる位相差と異なる位相差を生じさせるものである。このような第2位相差板117は、例えば、半透鏡112の前記透明基板と同一の厚さであって半透鏡112の前記透明基板と異なる屈折率(屈折率特性)を持つ材料によって形成される。また例えば、第2位相差板117は、例えば、半透鏡112の前記透明基板と同一の屈折率(屈折率特性)を持つ材料(例えば同一の材料)によって半透鏡112の前記透明基板と異なる厚さで形成される。
このような前記第3態様の干渉計11dは、半透鏡112の反射側に第2位相差板117をさらに備えるので、図18(A)に示す構成の前記第2態様の干渉計11cに較べて、第1および第2光路間の位相差をさらに大きくすることができる。
なお、図11および図14(A)に示す構成の前記第1態様の干渉計11bにおいて、第2位相差板117をさらに備えて第2実施形態における第4態様の干渉計11e(図略)が構成されてもよい。
図20は、レーザ光の干渉光における包絡線に基づいてセンターバーストの位置を求める第2態様の方法を説明するための図である。図20(A)は、前記包絡線を示し、図20(B)は、前記包絡線の差分波形を示す。図21は、レーザ光の干渉光における包絡線に基づいてセンターバーストの位置を求める第3態様の方法を説明するための図である。図20および図21の横軸は、光路差(移動鏡115の位置)を示し、これらの縦軸は、レベルを示す。
また、上述の第2実施形態において、センターバースト位置演算部412は、包絡線検波部38から入力された包絡線の極大値を、移動鏡112の移動(光路差の変化)に従って前記包絡線の振幅値(レベル)が増加から減少に転じた点で検出してもよいが、一例として、図20(A)に示すように前記包絡線が前記極大値付近では移動鏡112の移動(光路差の変化)に従って比較的緩やかに変化する場合には、前記点を精度よく検出することは容易ではない。このため、センターバースト位置演算部412は、包絡線検波部38で検波された包絡線の差分情報に基づいて包絡線検波部38で検波された包絡線の極大値を与える位置をセンターバーストの位置として検出してもよい。
より具体的には、センターバースト位置演算部412は、適宜な間隔で、包絡線上の2点間の差分を求める。例えば、図20(A)に示す包絡線に対し、この包絡線上の2点間の差分を求めて行くと、前記差分情報として、図20(B)に示す差分のグラフが得られる。この差分のグラフにおいて、差分値が正値から負値へ転じるゼロクロス点が前記極大値を与える位置に対応するので、センターバースト位置演算部412は、この差分のグラフにおいて、差分値が正値から負値へ転じるゼロクロス点を求め、ゼロクロス点をセンターバーストの位置とすればよい。
ここで、差分を求める前記間隔が大きいほど、差分値が大きくなり、より精度よくゼロクロス点が検出可能となり、この結果、より精度よくセンターバーストの位置が検出可能となる。
また、このような差分を求める場合において、包絡線の測定結果を格納する記憶素子の記憶容量が制約されて前記間隔があまり大きく取れない場合や、AD変換部23のビット数Zが少なくて分解能があまり大きくない場合では、前記差分は、ゼロクロス点付近では図21に示すように、階段状になってしまう場合がある。このような場合では、ゼロクロス点付近の差分のグラフを最小2乗法によって直線近似し、この近似直線のゼロクロス点を求めることによって、センターバーストの位置が求められてもよい。
このような包絡線の差分情報を用いることによって、第2実施形態のフーリエ変換型分光計Dbにおけるセンターバースト位置演算部412は、前記包絡線の極大値を与える位置をより精度よく検出することができ、仮に前記包絡線の変化が緩やかであるために前記包絡線の極大値が見分け難い場合であっても、前記包絡線の極大値を与える位置を検出することができる。
本明細書は、上記のように様々な態様の技術を開示しているが、そのうち主な技術を以下に纏める。
一態様にかかるフーリエ変換型分光計は、測定対象の被測定光が入射され、前記被測定光の入射位置から干渉位置までの間に2個の光路を形成する複数の光学素子を備え、前記複数の光学素子には、前記2個の光路間に光路差を生じさせる光路差形成光学素子が含まれる干渉計と、前記干渉計で生成された前記被測定光のインターフェログラムを複数積算することによって得られた積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって前記被測定光のスペクトルを求めるスペクトル演算部とを備え、前記スペクトル演算部は、前記干渉計の出力から所定範囲の出力を取り出す場合に、今般の前記被測定光のインターフェログラムの測定よりも以前に測定された前記被測定光のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置合わせ情報に応じて前記取り出す所定範囲を設定し、前記干渉計の出力からこの設定した前記所定範囲の出力を取り出す取出部と、前記被測定光のインターフェログラムを複数積算するために前記取出部で取り出された各所定範囲の各出力において、同じ光路差の測定データを見つけ出す検索部と、前記被測定光のインターフェログラムを複数積算するために前記取出部で取り出された各所定範囲の各出力において、前記検索部で見つけ出された同じ光路差の測定データ同士を足し合わせることによって前記積算インターフェログラムを生成する積算部と、前記積算部で生成された前記積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって前記被測定光のスペクトルを求める演算部とを備える。
そして、他の一態様にかかるフーリエ変換型分光方法は、測定対象の被測定光が入射され、前記被測定光の入射位置から干渉位置までの間に2個の光路を形成する複数の光学素子を備え、前記複数の光学素子には、前記2個の光路間に光路差を生じさせる光路差形成光学素子が含まれる干渉計と、前記干渉計で生成された前記被測定光のインターフェログラムを複数積算することによって得られた積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって前記被測定光のスペクトルを求めるスペクトル演算部とを備えるフーリエ変換型分光計に用いられるフーリエ変換型分光方法であって、前記被測定光のスペクトルを求める際に、前記干渉計の出力から所定範囲の出力を取り出す場合に、今般の前記被測定光のインターフェログラムの測定よりも以前に測定された前記被測定光のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置合わせ情報に応じて前記取り出す所定範囲を設定し、前記干渉計の出力からこの設定した前記所定範囲の出力を取り出す取出工程と、前記被測定光のインターフェログラムを複数積算するために前記取出工程で取り出された各所定範囲の各出力において、同じ光路差の測定データを見つけ出す検索工程と、前記被測定光のインターフェログラムを複数積算するために前記取出工程で取り出された各所定範囲の各出力において、前記検索工程で見つけ出された同じ光路差の測定データ同士を足し合わせることによって前記積算インターフェログラムを生成する積算工程と、前記積算工程で生成された前記積算インターフェログラムをフーリエ変換することによって前記被測定光のスペクトルを求める演算工程とを備える。
このようなフーリエ変換型分光計およびフーリエ変換型分光方法では、前記干渉計の出力から所定範囲の出力を取り出す場合に、この取り出す所定範囲は、今般の前記被測定光のインターフェログラムの測定よりも以前に測定された前記被測定光のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置合わせ情報に応じて設定される。このため、このような構成のフーリエ変換型分光計およびフーリエ変換型分光方法は、以前の位置合わせ情報が参酌されるから、インターフェログラム全体を完全に含む範囲の測定データをより適切に取り出すことができ、したがって、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、他の一態様では、上述のフーリエ変換型分光計において、前記取出部で用いられる前記位置合わせ情報は、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量である。
このようなフーリエ変換型分光計では、前記位置合わせ情報として、1回目の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置と前回の測定におけるインターフェログラムのセンターバースト位置とのズレ量が用いられる。このため、このフーリエ変換型分光計は、今回より1つ前に測定されたインターフェログラムと今回測定されたインターフェログラムとではズレ量が小さい場合に好適に対応することができ、インターフェログラム全体を完全に含む範囲の測定データをより適切に取り出すことができ、したがって、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、他の一態様では、これら上述のフーリエ変換型分光計において、前記検索部は、1回目の測定で前記取出部で取り出された所定範囲の出力とn回目(nは2以上の整数)の測定で前記取出部で取り出された所定範囲の出力とにおいて、相互相関の最大値を求めることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出す。
このようなフーリエ変換型分光計では、相互相関によって同じ光路差の測定データが見つけ出されるので、より正確に同じ光路差の測定データを見つけ出すことができる。このため、このような構成のフーリエ変換型分光計は、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、他の一態様では、これら上述のフーリエ変換型分光計において、前記検索部は、1回目の測定で前記取出部で取り出された所定範囲の出力とn回目(nは2以上の整数)の測定で前記取出部で取り出された所定範囲の出力とにおいて、測定点についての差の2乗の和における最小値を求めることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出す。
このようなフーリエ変換型分光計では、差の2乗の和によって同じ光路差の測定データが見つけ出されるので、より正確に同じ光路差の測定データを見つけ出すことができる。このため、このフーリエ変換型分光計は、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
また、他の一態様では、これら上述のフーリエ変換型分光計において、前記検索部は、1回目の測定で前記取出部で取り出された所定範囲の出力とn回目(nは2以上の整数)の測定で前記取出部で取り出された所定範囲の出力とにおいて、測定点についての差の絶対値の和における最小値を求めることによって、同じ光路差の測定データを見つけ出す。
このようなフーリエ変換型分光計では、差の絶対値の和によって同じ光路差の測定データが見つけ出されるので、より簡易な情報処理で同じ光路差の測定データを見つけ出すことができる。
また、他の一態様では、これら上述のフーリエ変換型分光計において、前記被測定光の各波長成分の初期位相差がゼロである場合のインターフェログラムにおけるセンターバーストの位置を検出するセンターバースト位置検出部をさらに備え、前記干渉計は、前記2個の光路のそれぞれが仮に同一の媒質で形成されている場合に前記2個の光路間の光路差がゼロとなるように前記複数の光学素子を配置した場合において実際には前記光路間に位相差を持つ有位相差干渉計であり、前記スペクトル演算部の前記演算部は、前記積算インターフェログラムを、前記センターバースト位置検出部によって検出されたセンターバーストの位置に基づいてフーリエ変換を行うことによって前記被測定光のスペクトルを求める。
このようなフーリエ変換型分光計では、有位相差干渉計によって被測定光の干渉光が生成されているので、そのインターフェログラムの1または複数のピークにおける最大の振幅Xは、前記位相差を補償した通常の干渉計によって生成された被測定光の干渉光に対応するインターフェログラムの1または複数のピークにおける最大の振幅Yよりも小さくなる(X<Y)。このため、干渉光を受光して得られた電気信号をアナログ信号からディジタル信号へ変換するZビットのアナログ−ディジタル変換器(AD変換器)を用いる場合に、ゼロレベル付近の電気信号に対して相対的により多くのA/Dカウントが割り当てられる(2Z/X>2Z/Y)。したがって、このようなフーリエ変換型分光計は、AD変換器が用いられる場合に、1個のAD変換器でもインターフェログラムのゼロレベル付近における微小な信号もより高分解能で検出することができる。このため、このフーリエ変換型分光計は、より正確に同じ光路差の測定データを見つけ出すことができ、したがって、好適に複数のインターフェログラムを積算することができる。
この出願は、2011年4月5日に出願された日本国特許出願特願2011−83769を基礎とするものであり、その内容は、本願に含まれるものである。
本発明を表現するために、上述において図面を参照しながら実施形態を通して本発明を適切且つ十分に説明したが、当業者であれば上述の実施形態を変更および/または改良することは容易に為し得ることであると認識すべきである。したがって、当業者が実施する変更形態または改良形態が、請求の範囲に記載された請求項の権利範囲を離脱するレベルのものでない限り、当該変更形態または当該改良形態は、当該請求項の権利範囲に包括されると解釈される。