JPWO2012090914A1 - 質量分析方法、質量分析計及び質量分析システム - Google Patents
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Abstract
本発明の質量分析方法は、DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンを質量分析計に導入して質量分析する方法であって、前記質量分析計は、前記イオンを導入するイオン導入部を有し、前記イオン導入部を所定のタイミングで加熱する。
Description
本発明は、質量分析方法、質量分析計及び質量分析システムに関する。
大気圧イオン化法として、種々の方法が知られているが、近年、DART(Direct Analysis in Real Time)や、DESI(Desorption Electrospray Ionization)が注目されている(特許文献1参照)。
DARTは、電子励起状態の原子又は分子を大気中の水に衝突させてペニングイオン化させて生成したプロトンを試料に付加してイオン化させる方法である。例えば、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)を用いると、以下のようにして、試料Mをイオン化させることができる。
He(23S)+H2O→H2O+*+He(11S)+e−
H2O+*+H2O→H3O++OH*
H3O++nH2O→[(H2O)nH]+
[(H2O)nH]++M→MH++nH2O
DESIは、イオン化した溶媒を試料に付着させてイオンを脱離させる方法である。
H2O+*+H2O→H3O++OH*
H3O++nH2O→[(H2O)nH]+
[(H2O)nH]++M→MH++nH2O
DESIは、イオン化した溶媒を試料に付着させてイオンを脱離させる方法である。
しかしながら、DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンを質量分析すると、試料から生成したイオンにより質量分析計のイオン導入部が汚染されるという問題がある。
本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンを質量分析しても、試料から生成したイオンによるイオン導入部の汚染を抑制することが可能な質量分析方法、質量分析計及び質量分析システムを提供することを目的とする。
本発明の質量分析方法は、DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンを質量分析計に導入して質量分析する方法であって、前記質量分析計は、前記イオンを導入するイオン導入部を有し、前記イオン導入部を所定のタイミングで加熱する。
本発明の質量分析方法は、試料を加熱してガスを発生させ、DARTを用いて、該ガスから生成したイオンを質量分析計に導入して質量分析する方法であって、前記質量分析計は、前記イオンを導入するイオン導入部を有し、前記イオン導入部を所定のタイミングで加熱する。
本発明の質量分析方法は、DARTを用いると共に、試料を加熱して発生したガスから生成したイオンを質量分析計に導入して質量分析する方法であって、前記質量分析計は、前記イオンを導入するイオン導入部を有し、前記イオン導入部を所定のタイミングで加熱する。
本発明の質量分析計は、DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンの質量分析に用いられる質量分析計であって、前記イオンを導入するイオン導入部と、前記イオン導入部を加熱する加熱手段を有する。
本発明の質量分析システムは、DARTイオン源及び/又はDESIイオン源と、本発明の質量分析計を有する。
本発明によれば、DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンを質量分析しても、試料から生成したイオンによるイオン導入部の汚染を抑制することが可能な質量分析方法、質量分析計及び質量分析システムを提供することができる。
次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。
図1に、本発明の質量分析方法の一例を示す。
DARTイオン源10を用いて、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)を大気中の水に衝突させてペニングイオン化させて生成したプロトンを、ガラス棒Rに付着した試料Sに照射して生成したイオンを、質量分析計20に導入して質量分析する。このとき、質量分析計20のイオン導入管21は、抵抗発熱線21aが巻き付けられているため、電源(不図示)を用いて抵抗発熱線21aに電圧を印加することにより、イオン導入管21を加熱することができる。これにより、試料Sから生成したイオンによるイオン導入管21の汚染を抑制することができる。このとき、イオン導入管21内は、コンプレッサー(不図示)により減圧されている。
なお、イオン導入管21を加熱するタイミングは、特に限定されない。
例えば、試料Sから生成したイオンを質量分析した後、イオン導入管21を加熱してもよい。この場合、試料Sから生成したイオンを質量分析する際に、試料Sから生成したイオンがイオン導入管21に付着しても、試料Sから生成したイオンを質量分析した後に、イオン導入管21に付着したイオンを除去することができる。その結果、試料Sから生成したイオンによるイオン導入管21の汚染を抑制することができる。
また、イオン導入管21を加熱しながら、試料Sから生成したイオンを質量分析してもよい。これにより、試料Sから生成したイオンを質量分析する際に、試料Sから生成したイオンのイオン導入管21への付着を抑制することができる。その結果、試料Sから生成したイオンによるイオン導入管21の汚染を抑制することができる。この場合、試料Sから生成したイオンを質量分析した後も、イオン導入管21を加熱してもよい。
なお、試料Sから生成したイオンは、イオン導入管21のイオンが導入される側に付着しやすいため、通常、イオン導入管21のイオンが導入される側に抵抗発熱線21aを巻き付ける。
イオン導入管21を加熱したときのイオン導入管21の内壁の温度は、通常、50〜500℃であり、100〜300℃が好ましい。イオン導入管21の内壁の温度が50℃未満であると、イオン導入管21が試料Sから生成したイオンにより汚染されることがあり、500℃を超えると、質量分析計20に悪影響を及ぼすことがある。
イオン導入管21を構成する材料としては、耐熱性を有していれば、特に限定されないが、セラミックス、ガラス、テフロン(登録商標)、ステンレス鋼、ニオブ鋼、タンタル鋼等が挙げられる。
イオン導入管21の内面に、フッ素樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、シリコーン樹脂等がコーティングされていてもよい。これにより、試料Sから生成したイオンのイオン導入管21の内壁への付着をさらに抑制することができる。
また、イオン導入管21の周囲に、断熱シート22が設置されていてもよい(図2参照)。これにより、イオン導入管21由来の熱による試料Sの揮発を抑制することができる。その結果、試料Sの分析精度を向上させることができる。
断熱シート22を構成する材料としては、特に限定されないが、セラミックス、フッ素樹脂等が挙げられる。
抵抗発熱線21aを構成する材料としては、特に限定されないが、鉄−クロム−アルミ系合金、ニッケル−クロム系合金等の金属発熱体;白金、モリブデン、タンタル、タングステン等の高融点金属発熱体;炭化ケイ素、モリブデン−シリサイト、カーボン等の非金属発熱体等が挙げられる。
抵抗発熱線21aが巻き付けられているイオン導入管21の代わりに、ITO膜21a'が形成されているガラス管21'(図3参照)を用い、電源(不図示)を用いてITO膜21a'に電圧を印加することにより、ガラス管21'を加熱してもよい。これにより、ガラス管21'の内壁の温度を制御しやすくなると共に、試料Sから生成したイオンのガラス管21'への付着を確認しやすくなる。
なお、イオン導入管21を加熱する方法としては、特に限定されず、セラミックファイバーヒーターを用いて加熱する方法、マイクロ波を照射して加熱する方法、熱風器を用いて加熱する方法等が挙げられる。このとき、イオン導入管21を加熱する代わりに、イオン導入管21を外して、イオン導入口を直接加熱してもよい。
また、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)の代わりに、準安定励起状態のネオン、準安定励起状態のアルゴン、準安定励起状態の窒素等を用いてもよい。
試料Sとしては、DARTイオン源10を用いてイオンを生成させることが可能であれば、特に限定されず、有機化合物等が挙げられる。
なお、DARTイオン源10の代わりに、DESIイオン源を用いて、イオン化した溶媒を試料に付着させてイオンを脱離させてもよい。
イオン化させる溶媒としては、特に限定されないが、メタノール、メタノール水溶液、アセトニトリル、アセトニトリル水溶液等が挙げられる。
なお、イオン化させる溶媒は、酸性物質や塩基性物質を含んでいてもよい。
試料としては、DESIイオン源を用いてイオンを生成させることが可能であれば、特に限定されず、有機化合物等が挙げられる。
なお、DARTイオン源10を用いて、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)を大気中の水に衝突させてペニングイオン化させて生成したプロトンを、試料Sを加熱して発生したガスに照射して生成したイオンを、質量分析計20に導入して質量分析してもよい。
これにより、試料Sが高分子化合物を含む場合に、高分子化合物が熱分解して発生したガスから生成したイオンが質量分析計20に導入されるため、高分子化合物の構造を解析することができる。また、試料Sを加熱する温度を連続的又は段階的に変化させることにより、それぞれの温度で試料Sを加熱して発生したガスから生成したイオンを質量分析計20に導入することができる。
試料Sを加熱してガスを発生させる方法としては、特に限定されないが、抵抗発熱線に電流を流して試料Sを加熱してガスを発生させる方法、セラミックファイバーヒーターを用いて試料Sを加熱してガスを発生させる方法、マイクロ波を試料Sに照射して加熱してガスを発生させる方法、熱風器を用いて試料Sを加熱してガスを発生させる方法等が挙げられる。
図4に、抵抗発熱線に電流を流して試料Sを加熱してガスを発生させる方法の一例を示す。なお、図4中、加熱装置30のみを断面図として示す。
ポット31に試料Sを入れた後、ポット31をポット保持部材32に保持する。このとき、ポット保持部材32は、抵抗発熱線32aが巻き付けられているため、電源(不図示)を用いて抵抗発熱線32aに電圧を印加することにより、ポット保持部材32を加熱することができる。これにより、試料Sを加熱してガスを発生させることができる。また、ポット保持部材32の周囲には、断熱部材33が設置されている。
試料Sを加熱するときのポット保持部材32の温度は、通常、50〜1200℃であり、200〜1000℃が好ましい。ポット保持部材32の温度が50℃未満であると、高分子化合物を熱分解させることが困難になることがあり、1200℃を超えると、抵抗発熱線32aが切断することがある。
ポット31を構成する材料としては、耐熱性を有していれば、特に限定されないが、ガラス、石英等が挙げられる。
ポット保持部材32を構成する材料としては、耐熱性を有していれば、特に限定されないが、セラミックス、ガラス、ステンレス鋼、ニオブ鋼、タンタル鋼等が挙げられる。
抵抗発熱線32aを構成する材料としては、特に限定されないが、鉄−クロム−アルミ系合金、ニッケル−クロム系合金等の金属発熱体;白金、モリブデン、タンタル、タングステン等の高融点金属発熱体;炭化ケイ素、モリブデン−シリサイト、カーボン等の非金属発熱体等が挙げられる。
断熱部材33を構成する材料としては、耐熱性及び断熱性を有していれば、特に限定されないが、セラミックス、ガラス、ステンレス鋼、ニオブ鋼、タンタル鋼等が挙げられる。
なお、ポット保持部材32に抵抗発熱線32aを巻き付ける代わりに、ポット31に抵抗発熱線31aを巻き付けてもよい(図5参照)。なお、図5中、加熱装置30'のみを断面図として示す。
また、ポット保持部材32に抵抗発熱線32aを巻き付けずに、ポット31の下方に熱源を設置してもよい。
熱源としては、特に限定されないが、セラミックヒーター、カートリッジヒーターがプレートに埋め込まれている等が挙げられる。
プレートを構成する材料としては、熱伝導性が良好であれば、特に限定されないが、銅、アルミニウム等が挙げられる。
図6に、抵抗発熱線に電流を流して試料Sを加熱してガスを発生させる方法の他の例を示す。
試料Sを抵抗発熱線支持部材41により支持されている抵抗発熱線41aに付着させた後、電源(不図示)を用いて抵抗発熱線41aに電圧を印加することにより、試料Sを加熱してガスを発生させることができる。
試料Sを加熱するときの抵抗発熱線41aの温度は、通常、50〜1200℃であり、200〜1000℃が好ましい。抵抗発熱線41aの温度が50℃未満であると、高分子化合物を熱分解させることが困難になることがあり、1200℃を超えると、抵抗発熱線41aが切断することがある。
抵抗発熱線支持部材41としては、耐熱性及び絶縁性を有していれば、特に限定されないが、セラミックス、ガラス等が挙げられる。
抵抗発熱線41aを構成する材料としては、特に限定されないが、鉄−クロム−アルミ系合金、ニッケル−クロム系合金等の金属発熱体;白金、モリブデン、タンタル、タングステン等の高融点金属発熱体;炭化ケイ素、モリブデン−シリサイト、カーボン等の非金属発熱体等が挙げられる。
また、試料Sを加熱すると共に、DARTイオン源10を用いて、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)を大気中の水に衝突させてペニングイオン化させて生成したプロトンを試料Sに照射して生成したイオンを、質量分析計20に導入して質量分析してもよい。
これにより、試料Sが高分子化合物を含む場合に、高分子化合物が熱分解して発生したガスから生成したイオンが質量分析計20に導入されるため、高分子化合物の構造を解析することができる。
試料Sを加熱する方法としては、特に限定されないが、抵抗発熱線に電流を流して試料Sを加熱する方法、セラミックファイバーヒーターを用いて試料Sを加熱する方法、マイクロ波を試料Sに照射して加熱する方法、熱風器を用いて試料Sを加熱する方法等が挙げられる。
図7に、抵抗発熱線に電流を流して試料Sを加熱する方法の一例を示す。
試料Sを抵抗発熱線支持部材41により支持されている抵抗発熱線41aに付着させた後、電源(不図示)を用いて抵抗発熱線41aに電圧を印加することにより、試料Sを加熱することができる。
試料Sを加熱するときの抵抗発熱線41aの温度は、通常、50〜1200℃であり、200〜1000℃が好ましい。試料Sを加熱する温度が50℃未満であると、高分子化合物を熱分解させることが困難になることがあり、1200℃を超えると、抵抗発熱線41aが切断することがある。
[実施例1]
平均分子量が400のポリエチレングリコールの5質量%メタノール溶液にガラス棒を浸し、試料Sとして、ポリエチレングリコールをガラス棒Rに付着させた。
平均分子量が400のポリエチレングリコールの5質量%メタノール溶液にガラス棒を浸し、試料Sとして、ポリエチレングリコールをガラス棒Rに付着させた。
次に、図1の質量分析方法を用いて、ポリエチレングリコールから生成したイオンを質量分析した。具体的には、まず、DARTイオン源10を用いて、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)を大気中の水に衝突させてペニングイオン化させて生成したプロトンを、ガラス棒Rに付着したポリエチレングリコールに照射して生成したイオンを、質量分析計20に導入して質量分析した(1.5〜3min)。次に、DARTイオン源10を停止させた(3〜6min)。さらに、抵抗発熱線21aに4.5Aの電流を流すことにより、イオン導入管21を加熱した(5〜6min)。このとき、イオン導入管21の内壁の温度が19〜23℃から170〜270℃に上昇した。
なお、DARTイオン源10として、DART SVP(イオンセンス社製)を用い、ガスヒーターの設定温度を500℃とした。また、質量分析計20として、MicrOTOFQII(ブルカー ダルトニクス社製)を用い、測定モードをpositive ion modeとした。さらに、イオン導入管21として、外径が6.2mm、内径が4.7mm、長さが94mmのセラミックス製のチューブを用い、イオンが導入される側から35mmの領域に抵抗発熱線21aを巻き付けた。このとき、抵抗発熱線21aとして、直径が0.26mmのニクロム線を用いた。
図8に、m/z=371におけるマスクロマトグラムを示す。なお、m/z=371は、ポリエチレングリコールから生成したイオンの質量電荷比である。
図9(a)及び(b)に、それぞれ図7のマスクロマトグラムの2.0min及び5.2minにおけるマススペクトルを示す。
図9から、図8のマスクロマトグラムの2.0min及び5.2minにおけるマススペクトルには、ポリエチレングリコール由来のピークが存在していることがわかる。このため、図8から、ポリエチレングリコールから生成したイオンを質量分析する際に、イオン導入管21にポリエチレングリコールから生成したイオンが付着するが、ポリエチレングリコールから生成したイオンを質量分析した後に、イオン導入管21に付着したポリエチレングリコールから生成したイオンを除去できることがわかる。このことから、ポリエチレングリコールから生成したイオンを質量分析した後に、イオン導入管21を加熱することにより、ポリエチレングリコールから生成したイオンによるイオン導入管21の汚染を抑制できることがわかる。
[実施例2]
平均分子量が400のポリエチレングリコールの5質量%メタノール溶液にガラス棒Rを浸し、試料Sとして、ポリエチレングリコールをガラス棒Rに付着させた。
平均分子量が400のポリエチレングリコールの5質量%メタノール溶液にガラス棒Rを浸し、試料Sとして、ポリエチレングリコールをガラス棒Rに付着させた。
次に、図1の質量分析方法を用いて、ポリエチレングリコールから生成したイオンを質量分析した。具体的には、まず、DARTイオン源10を用いて、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)を大気中の水に衝突させてペニングイオン化させて生成したプロトンを、ガラス棒Rに付着したポリエチレングリコールに照射して生成したイオンを、質量分析計20に導入して質量分析した(1.5〜3.2min)。なお、抵抗発熱線21aに4.5Aの電流を流すことにより、イオン導入管21を加熱した(1〜4min)。このとき、イオン導入管21の内壁の温度が19〜23℃から170〜270℃に上昇した。次に、DARTイオン源10を停止させた(3.2〜6min)。また、抵抗発熱線21aに流す電流を0Aとした(4〜5min)。さらに、抵抗発熱線21aに4.5Aの電流を流すことにより、イオン導入管21を加熱した(5〜6min)。このとき、イオン導入管21の内壁の温度が170〜270℃に上昇した。
なお、DARTイオン源10として、DART SVP(イオンセンス社製)を用い、ガスヒーターの設定温度を500℃とした。また、質量分析計20として、MicrOTOFQII(ブルカー ダルトニクス社製)を用い、測定モードをpositive ion modeとした。さらに、イオン導入管21として、外径が6.2mm、内径が4.7mm、長さが94mmのセラミックス製のチューブを用い、イオンが導入される側から35mmの領域に抵抗発熱線21aを巻き付けた。このとき、抵抗発熱線21aとして、直径が0.26mmのニクロム線を用いた。
図10に、m/z=371におけるマスクロマトグラムを示す。
図11(a)及び(b)に、それぞれ図10のマスクロマトグラムの2.0min及び5.2minにおけるマススペクトルを示す。
図11から、図10のマスクロマトグラムの2.0minにおけるマススペクトルには、ポリエチレングリコール由来のピークが存在していることがわかる。一方、図10のマスクロマトグラムの5.2minにおけるマススペクトルには、ポリエチレングリコール由来のピークが存在していないことがわかる。このため、図10から、ポリエチレングリコールから生成したイオンを質量分析する際に、イオン導入管21へのポリエチレングリコールから生成したイオンの付着を抑制できることがわかる。このことから、ポリエチレングリコールから生成したイオンを質量分析する際に、イオン導入管21を加熱することにより、ポリエチレングリコールから生成したイオンによるイオン導入管21の汚染を抑制できることがわかる。
[実施例3]
試料Sとして、ポリプロピレンを耐熱ガラス製のポット31に入れた後、ポット31をポット保持部材32に保持した。
試料Sとして、ポリプロピレンを耐熱ガラス製のポット31に入れた後、ポット31をポット保持部材32に保持した。
次に、図4の抵抗発熱線を用いて試料Sを加熱してガスを発生させる方法を用いて、ポリプロピレンを加熱して発生したガスから生成したイオンを質量分析した。具体的には、まず、DARTイオン源10を用いて、準安定励起状態のヘリウムHe(23S)を大気中の水に衝突させてペニングイオン化させて生成したプロトンを、ポリプロピレンを加熱して発生したガスに照射して生成したイオンを、質量分析計20に導入して質量分析した(1〜3min)。このとき、抵抗発熱線32aに4.5Aの電流を流すことにより、ポット保持部材32を570℃に加熱した。次に、DARTイオン源10を停止させた(3〜7.8min)。さらに、抵抗発熱線21aに4.5Aの電流を流すことにより、イオン導入管21を加熱した(5.6〜7.8min)。このとき、イオン導入管21の内壁の温度が19〜23℃から170〜270℃に上昇した。
なお、DARTイオン源10として、DART SVP(イオンセンス社製)を用い、ガスヒーターの設定温度を500℃とした。また、質量分析計20として、MicrOTOFQII(ブルカー ダルトニクス社製)を用い、測定モードをpositive ion modeとした。さらに、イオン導入管21として、外径が6.2mm、内径が4.7mm、長さが94mmのセラミックス製のチューブを用い、イオンが導入される側から35mmの領域に抵抗発熱線21aを巻き付けた。このとき、抵抗発熱線21aとして、直径が0.26mmのニクロム線を用いた。また、セラミックス製のポット保持部材32を用い、抵抗発熱線32aとして、直径が0.32mmのニクロム線を用い、セラミックス製の断熱部材33を用いた。
図12に、m/z=479におけるマスクロマトグラムを示す。なお、m/z=479は、ポリプロピレンから生成したイオンの質量電荷比である。
図13に、図12のマスクロマトグラムの1.8min及び5.8minにおけるマススペクトルを示す。
図13から、図12のマスクロマトグラムの1.8min及び5.8minにおけるマススペクトルには、ポリプロピレン由来のピークが存在していることがわかる。このため、図12から、ポリプロピレンを加熱して発生したガスから生成したイオンを質量分析する際に、イオン導入管21にポリプロピレンを加熱して発生したガスから生成したイオンが付着するが、ポリプロピレンを加熱して発生したガスから生成したイオンを質量分析した後に、イオン導入管21に付着したポリプロピレンを加熱して発生したガスから生成したイオンを除去できることがわかる。このことから、ポリプロピレンを加熱して発生したガスから生成したイオンを質量分析した後に、イオン導入管21を加熱することにより、ポリプロピレンを加熱して発生したガスから生成したイオンによるイオン導入管21の汚染を抑制できることがわかる。
本国際出願は、2010年12月27日に出願された日本国特許出願2010−290743に基づく優先権を主張するものであり、日本国特許出願2010−290743の全内容を本国際出願に援用する。
10 DARTイオン源
20、20' 質量分析計
21 イオン導入管
21' ガラス管
21a 抵抗発熱線
21a' ITO膜
22 断熱シート
30、30' 加熱装置
31 ポット
31a 抵抗発熱線
32 ポット保持部材
32a 抵抗発熱線
33 断熱部材
41 抵抗発熱線支持部材
41a 抵抗発熱線
R ガラス棒
S 試料
20、20' 質量分析計
21 イオン導入管
21' ガラス管
21a 抵抗発熱線
21a' ITO膜
22 断熱シート
30、30' 加熱装置
31 ポット
31a 抵抗発熱線
32 ポット保持部材
32a 抵抗発熱線
33 断熱部材
41 抵抗発熱線支持部材
41a 抵抗発熱線
R ガラス棒
S 試料
Claims (16)
- DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンを質量分析計に導入して質量分析する方法であって、
前記質量分析計は、前記イオンを導入するイオン導入部を有し、
前記イオン導入部を所定のタイミングで加熱することを特徴とする質量分析方法。 - 前記質量分析した後に、前記イオン導入部を加熱することを特徴とする請求項1に記載の質量分析方法。
- 前記イオン導入部を加熱しながら、前記質量分析することを特徴とする請求項1に記載の質量分析方法。
- 前記イオン導入部は、抵抗発熱線が巻き付けられている管であり、
電圧印加手段を用いて前記抵抗発熱線に電圧を印加することにより、前記イオン導入部を加熱することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の質量分析方法。 - 前記管の周囲に、断熱シートが設置されていることを特徴とする請求項4に記載の質量分析方法。
- 前記イオン導入部は、ITO膜が形成されているガラス管であり、
電圧印加手段を用いて前記ITO膜に電圧を印加することにより、前記イオン導入部を加熱することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の質量分析方法。 - 前記ガラス管の周囲に、断熱シートが設置されていることを特徴とする請求項6に記載の質量分析方法。
- 試料を加熱してガスを発生させ、DARTを用いて、該ガスから生成したイオンを質量分析計に導入して質量分析する方法であって、
前記質量分析計は、前記イオンを導入するイオン導入部を有し、
前記イオン導入部を所定のタイミングで加熱することを特徴とする質量分析方法。 - DARTを用いると共に、試料を加熱して発生したガスから生成したイオンを質量分析計に導入して質量分析する方法であって、
前記質量分析計は、前記イオンを導入するイオン導入部を有し、
前記イオン導入部を所定のタイミングで加熱することを特徴とする質量分析方法。 - 電圧印加手段を用いて抵抗発熱線に電圧を印加することにより、前記試料を加熱することを特徴とする請求項8又は9に記載の質量分析方法。
- DART又はDESIを用いて、試料から生成したイオンの質量分析に用いられる質量分析計であって、
前記イオンを導入するイオン導入部と、
前記イオン導入部を加熱する加熱手段を有することを特徴とする質量分析計。 - 前記イオン導入部は、抵抗発熱線が巻き付けられている管であり、
前記抵抗発熱線に電圧を印加する電圧印加手段をさらに有することを特徴とする請求項11に記載の質量分析計。 - 前記管の周囲に、断熱シートが設置されていることを特徴とする請求項12に記載の質量分析計。
- 前記イオン導入部は、ITO膜が形成されているガラス管であり、
前記ITO膜に電圧を印加する電圧印加手段をさらに有することを特徴とする請求項11に記載の質量分析計。 - 前記ガラス管の周囲に、断熱シートが設置されていることを特徴とする請求項14に記載の質量分析計。
- DARTイオン源及び/又はDESIイオン源と、請求項11乃至15のいずれか一項に記載の質量分析計を有することを特徴とする質量分析システム。
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