JPWO2007021001A1 - ２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及びその製法 - Google Patents
２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及びその製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2007021001A1 JPWO2007021001A1 JP2007531038A JP2007531038A JPWO2007021001A1 JP WO2007021001 A1 JPWO2007021001 A1 JP WO2007021001A1 JP 2007531038 A JP2007531038 A JP 2007531038A JP 2007531038 A JP2007531038 A JP 2007531038A JP WO2007021001 A1 JPWO2007021001 A1 JP WO2007021001A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atom
- trifluoro
- benzoic acid
- substituted benzoic
- acid compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- LQZDLWIPIVCIDB-UHFFFAOYSA-N Cc(c(F)c1F)cc(C(O)=O)c1F Chemical compound Cc(c(F)c1F)cc(C(O)=O)c1F LQZDLWIPIVCIDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 Cc(cc(*)c(F)c1F)c1F Chemical compound Cc(cc(*)c(F)c1F)c1F 0.000 description 2
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/68—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings containing halogen
- C07C63/70—Monocarboxylic acids
Abstract
本発明は、一般式（１）： 式中、Ｙはヨウ素原子、ホルミル基又は求電子種を表し、Ｍは水素原子又は金属原子を表す、で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及びその製法並びに一般式（３ａ）又は（３ｂ）： 式中、Ｍ１は金属原子を表す、で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸及びその製法を提供する。
Description
本発明は、新規な２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及びその新規な製法に関する。２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である（例えば、特許文献１及び２参照）。
２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物としては、例えば、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸化合物等が知られている。
従来、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸化合物を製造する方法としては、例えば、２，３，４−トリフルオロ安息香酸を濃硫酸中で発煙硝酸と反応させて２，３，４−トリフルオロ−５−ニトロ安息香酸とし、次いで、これを水素還元して２，３，４−トリフルオロ−５−アミノ安息香酸を得、更に、これに、ヨウ化銅（Ｉ）及び亜硝酸ナトリウムの存在下、５７％ヨウ化水素酸水溶液を反応させて、合計収率５８％で２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸を合成する方法が開示されている（例えば、特許文献３参照）。しかしながら、この方法では、反応工程数が多い上に、収率が低いという問題があった。
一方、本発明の２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸化合物及び２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物の存在及びその製法については、全く知られていない。
国際特許公開ＷＯ０１／６８６１９号公報 国際特許公開ＷＯ２００５／６２８４２６号公報 特開平１１−８００７６号公報
従来、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸化合物を製造する方法としては、例えば、２，３，４−トリフルオロ安息香酸を濃硫酸中で発煙硝酸と反応させて２，３，４−トリフルオロ−５−ニトロ安息香酸とし、次いで、これを水素還元して２，３，４−トリフルオロ−５−アミノ安息香酸を得、更に、これに、ヨウ化銅（Ｉ）及び亜硝酸ナトリウムの存在下、５７％ヨウ化水素酸水溶液を反応させて、合計収率５８％で２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸を合成する方法が開示されている（例えば、特許文献３参照）。しかしながら、この方法では、反応工程数が多い上に、収率が低いという問題があった。
一方、本発明の２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸化合物及び２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物の存在及びその製法については、全く知られていない。
本発明の課題は、新規な２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及び、簡便な方法にて、高収率で目的化合物を合成可能であり、工業的に好適な２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法を提供することにある。
本発明の第１の発明は、一般式（１）：
式中、Ｙはヨウ素原子、ホルミル基又は求電子種を表し、Ｍは、水素原子又は金属原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物に関する。
本発明の第２の発明は、塩基の存在下、有機溶媒中にて、一般式（２）：
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物に関する。
本発明の第２の発明は、塩基の存在下、有機溶媒中にて、一般式（２）：
式中、Ｍは、前記と同義である、
で示される２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とヨウ素化剤又はホルミル化剤とを反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）：
式中、Ｙ１はヨウ素原子又はホルミル基を表し、Ｍは、前記と同義である、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法に関する。
で示される２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とヨウ素化剤又はホルミル化剤とを反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）：
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法に関する。
本発明の第３の発明は、一般式（３ａ）又は（３ｂ）：
式中、Ｍ１は金属原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸に関する。
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸に関する。
本発明の第４の発明は、一般式（４ａ）又は（４ｂ）：
式中、Ｍ１は前記と同義である、
で示される２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とリチウム化合物とを反応させることを特徴とする前記一般式（３ａ）又は（３ｂ）で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸の製造方法に関する。
で示される２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とリチウム化合物とを反応させることを特徴とする前記一般式（３ａ）又は（３ｂ）で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸の製造方法に関する。
本発明の第５の発明は、前記一般式（３ａ）又は（３ｂ）で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸と、求電子種を発生させ得る化合物とを反応させることを特徴とする、一般式（１ｂ）：
式中、Ｙ２は求電子種を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法に関する。
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法に関する。
本発明により、新規な２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物、及び簡便な方法にて、高収率で２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物を合成出来る、工業的に好適な２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸の製法を提供することが出来る。
また、本発明により、新規な２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物及びその製法を提供することが出来る。
また、本発明により、新規な２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物及びその製法を提供することが出来る。
本発明の新規な２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物は、前記一般式（１）で示される。式（１）において、Ｍは、水素原子又は金属原子を表す。金属原子としては、例えば、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子等のアルカリ金属原子、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子、バリウム原子等のアルカリ土類金属原子、及び銅原子等が挙げられる。本発明においては、これらの中でも、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子及び銅原子が好ましく、更に好ましくは、リチウム原子又はナトリウム原子である。
式（１）において、Ｙはヨウ素原子、ホルミル基又は求電子種を表す。式（１）で示される化合物としては、具体的には、下記一般式（１ａ−１）、（１ａ−２）又は（１ｂ−１）：
式中、Ｍは前記と同義であり、Ｘは求電子種を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸化合物、２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸化合物又は２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸が挙げられる。
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸化合物、２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸化合物又は２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸が挙げられる。
また、求電子種（Ｘ＋）としては、例えば、ジューテリオイオン；クロロカチオン、ブロモカチオン、ヨードカチオン等のハロゲンカチオン；メチルカチオン等のアルキルカチオン；ホルミルカチオン、アセチルカチオン等のアシルカチオン；トリメチルシリルカチオン、トリエチルシリルカチオン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルカチオン等のアルキルシリルカチオン；ジメトキシボロニウムカチオン、ジエトキシボロニウムカチオン、ジイソプロポキシボロニウムカチオン等のアルコキシボロニウムカチオン；トリメチルスタニウムカチオン、トリｎ−ブチルスタニウムカチオン、トリｎ−ブチルスタニウムカチオン等のトリアルキルスタニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、本発明においては、ジューテリオイオン及びトリメチルシリルカチオンが好ましい。
本発明の前記一般式（１ａ）で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法において使用する２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物は、前記の一般式（２）で示される。その一般式（２）において、Ｍは前記と同義であり、Ｙ１はヨウ素原子又はホルミル基を表す。
本発明の製法において使用する塩基としては、例えば、リチウムアミド化合物が挙げられ、具体的には、リチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジド、リチウムジイソプロピルアミド等が好適に使用される。なお、これらの塩基は、単独又は二種以上を混合して使用しても良く、又、予め別途合成したものでも、反応前に系内で調整したものでも構わない。
前記塩基の使用量は、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物１モルに対して、Ｍが水素原子の場合には、好ましくは２．０〜５．０モル、更に好ましくは２．１〜３．０モルであり、一方、Ｍが、金属原子の場合には、好ましくは１．０〜３．０モル、更に好ましくは１．１〜２．０モルである。
本発明の反応において使用するヨウ素化剤としては、一般のヨウ素化剤ならば特に限定されないが、例えば、一塩化ヨウ素、一臭化ヨウ素、ヨウ素、Ｎ−ヨードコハク酸イミドが挙げられるが、好ましくは一塩化ヨウ素、一臭化ヨウ素、ヨウ素が使用される。なお、これらのヨウ素化剤は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記ヨウ素化剤の使用量は、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物１モルに対して、好ましくは０．５〜５．０モル、更に好ましくは１．０〜２．０モルである。
本発明の反応において使用するホルミル化剤としては、一般のホルミル化剤ならば特に限定されないが、例えば、一酸化炭素；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド等のホルムアミド類；ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸イソプロピル等のギ酸エステル類等が挙げられるが、好ましくはホルムアミド類、更に好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが使用される。なお、これらのホルミル化剤は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記ホルミル化剤の使用量は、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物１モルに対して、好ましくは０．５〜５．０モル、更に好ましくは１．０〜２．０モルである。
本発明の反応において使用する有機溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられるが、好ましくはエーテル類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、更に好ましくはエーテル類、脂肪族炭化水素類が使用される。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記有機溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等により適宜調節するが、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物１ｇに対して、好ましくは５〜１００ｍｌ、更に好ましくは１０〜５０ｍｌである。
本発明の反応は、例えば、塩基の存在下、有機溶媒中にて、２，３，４−トリフルオロ安息香酸とヨウ素化剤又はホルミル化剤とを、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは−１００〜０℃、更に好ましくは−８０〜−１０℃であり、反応圧力は特に制限されない。なお、本発明の反応は、水の非存在下で行うことが望ましい。
本発明の新規な２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物は、前記の式（３ａ）又は（３ｂ）で示される。その式（３ｂ）において、Ｍ１は、金属原子であり、例えば、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子等のアルカリ金属、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子、バリウム原子等のアルカリ土類金属原子、及び銅原子等が挙げられる。本発明においては、これらの中でも、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子及び銅原子が好ましく、更に好ましくは、リチウム原子又はナトリウム原子である。
前記２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物は、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とリチウム化合物とを反応させることによって得られる。２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物は、前記の式（４ａ）又は（４ｂ）で示されるが、その式（４ｂ）において、Ｍ１は、前記と同義である。その際の反応温度は、好ましくは−１００〜０℃、更に好ましくは−８０〜−１０℃であり、反応圧力は特に制限されない。なお、該反応は、水の非存在下で行うことが望ましい。
前記リチウム化合物としては、例えば、リチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジド、リチウムジイソプロピルアミド等が好適に使用される。なお、これらのリチウム化合物は、単独又は二種以上を混合して使用しても良く、又、予め別途合成したものでも、反応前に系内で調製したものでも構わない。
前記リチウム化合物の使用量は、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物（４ａ）１モルに対して、好ましくは２．０〜５．０モル、更に好ましくは２．１〜３．０モルであり、一方、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物（４ｂ）１モルに対して、好ましくは１．０〜３．０モル、更に好ましくは１．１〜２．０モルである。
前記２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とリチウム化合物との反応は、有機溶媒の存在下で行うのが望ましく、使用する有機溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられるが、好ましくはエーテル類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、更に好ましくはエーテル類、脂肪族炭化水素類が使用される。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記有機溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等により適宜調節するが、２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物１ｇに対して、好ましくは５〜１００ｍｌ、更に好ましくは１０〜５０ｍｌである。
本発明の新規な２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物は、これに求電子種（Ｘ＋）を発生させ得る化合物を反応させることによって、一般式（１ｂ）で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物を生成させることが出来る。
前記求電子種（Ｘ＋）を発生させ得る化合物としては、例えば、重水（求電子種：ジューテリオイオン）；塩素（求電子種：クロロカチオン）、臭素（求電子種：ブロモカチオン）、ヨウ素（求電子種：ヨードカチオン）等のハロゲン原子；メチルメシラート（求電子種：メチルカチオン）、メチルトシラート（求電子種：メチルカチオン）、メチルトリフラート（求電子種：メチルカチオン）等のスルホナート類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（求電子種：ホルミルカチオン）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（求電子種：アセチルカチオン）等のアミド類；クロロトリメチルシラン（求電子種：トリメチルシリルカチオン）、クロロトリエチルシラン（求電子種：トリエチルシリルカチオン）、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン（求電子種：ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルカチオン）等のクロロシラン類；ホウ酸トリメチル（求電子種：ジメトキシボロニウムカチオン）、ホウ酸トリエチル（求電子種：ジエトキシボロニウムカチオン）、ホウ酸トリイソプロピル（求電子種：ジイソプロポキシボロニウムカチオン）等のホウ酸エステル類；塩化トリメチルスズ（求電子種：トリメチルスタニウムカチオン）、塩化トリｎ−ブチルスズ（求電子種：トリｎ−ブチルスタニウムカチオン）、トリｎ−ブチルスズトリフラート（求電子種：トリｎ−ブチルスタニウムカチオン）等のトリアルキルスズ塩類が挙げられる。
前記式（１ｂ）で示される化合物の中でも、本発明においては、下記式（１ｂ−１）及び（１ｂ−２）：
式中、Ｄは重水素原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸又は２，３，４−トリフルオロ−５−トリメチルシリル安息香酸が好ましい。
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸又は２，３，４−トリフルオロ−５−トリメチルシリル安息香酸が好ましい。
前記一般式（３ａ）又は（３ｂ）で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸と、求電子種を発生させ得る化合物との反応は、例えば、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸を含む溶液に求電子種を発生させ得る化合物を有機溶媒の存在下又は非存在下において、ゆるやかに添加し、攪拌しながら反応させることができる。その際の反応温度は、好ましくは−１００〜０℃、更に好ましくは−８０〜−１０℃であり、反応圧力は特に制限されない。
使用する有機溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されないが、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられるが、好ましくはエーテル類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、更に好ましくはエーテル類、脂肪族炭化水素類が使用される。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記有機溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等により適宜調節するが、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸１ｇに対して、好ましくは５〜１００ｍｌ、更に好ましくは１０〜５０ｍｌである。
本発明の反応によって２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物が得られるが、目的物が２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の場合には、反応終了後、例えば、中和、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な製法によって単離・精製され、一方、目的物が２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸の金属塩の場合には、反応終了後、例えば、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な製法によって単離・精製される。
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
実施例１（２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸１０．３ｇを得た（単離収率；６０％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の物性値は以下の通りであった。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸１０．３ｇを得た（単離収率；６０％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の物性値は以下の通りであった。
融点；１６０〜１６１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；８．２２〜８．２７（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．０８，２．４４Ｈｚ）、９．７０（１Ｈ，ｂｒ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；３０３（Ｍ＋１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；８．２２〜８．２７（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．０８，２．４４Ｈｚ）、９．７０（１Ｈ，ｂｒ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；３０３（Ｍ＋１）
実施例２（２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、一塩化ヨウ素１４．０ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸１１．２ｇを得た（単離収率；６５％）。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、一塩化ヨウ素１４．０ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸１１．２ｇを得た（単離収率；６５％）。
実施例３（２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアミン１４．３ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−７０℃で３０分間攪拌させてリチウムジイソプロピルアミドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−６０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−７０℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて−７０℃に冷却した溶液に、液温を−６０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら−６０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸１５．３ｇを得た（単離収率；８９％）。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアミン１４．３ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−７０℃で３０分間攪拌させてリチウムジイソプロピルアミドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−６０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−７０℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて−７０℃に冷却した溶液に、液温を−６０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら−６０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸１５．３ｇを得た（単離収率；８９％）。
実施例４（２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン９．６４ｇ（０．０６８ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン３５ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液４３．３ｍｌ（０．０６８ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸ナトリウム１１．３ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに懸濁した溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を高速液体クロマトグラフィーで分析（絶対定量法）したところ、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸が１０．３ｇ生成していた（反応収率；６０％）。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン９．６４ｇ（０．０６８ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン３５ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液４３．３ｍｌ（０．０６８ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸ナトリウム１１．３ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに懸濁した溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液６０ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を加えた後、濃塩酸を加えて酸性化した。次いで、反応液を濾過し、濾液から有機層を分液した後、有機層を高速液体クロマトグラフィーで分析（絶対定量法）したところ、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸が１０．３ｇ生成していた（反応収率；６０％）。
実施例５（２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸リチウムの合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に水３０ｍｌを加えた後、減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をトルエン３０ｍｌで２回洗浄した後に乾燥させ、淡橙色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸リチウム９．９８ｇを得た（単離収率；５７％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸リチウムは、以下の物性値で示される新規な化合物である。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液を、ヨウ素２１．７ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて０℃に冷却した溶液に、液温を１０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら１０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に水３０ｍｌを加えた後、減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をトルエン３０ｍｌで２回洗浄した後に乾燥させ、淡橙色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸リチウム９．９８ｇを得た（単離収率；５７％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸リチウムは、以下の物性値で示される新規な化合物である。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；７．８４〜７．９０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．３１，４．６３，２．６８Ｈｚ）
実施例６（２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸の合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−６０℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−７０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−６０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−７０℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．２８ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて−６０℃に冷却した溶液を、液温を−６０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら−６０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に２ｍｏｌ／ｌ塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後、水層を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。次いで、有機層と抽出液を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で濃縮した後、濃縮物をジイソプロピルエーテルを用いて再結晶させ、無色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸１０．２ｇを得た（単離収率；８８％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸は以下の物性値で示される新規な化合物である。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−６０℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−７０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。
次いで、該溶液の液温を−６０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−７０℃で３０分間攪拌させた。その後、この溶液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６．２８ｇ（０．０８６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解させて−６０℃に冷却した溶液を、液温を−６０℃以下に保ちながらゆるやかに滴下し、攪拌しながら−６０℃で３０分間反応させた。
反応終了後、反応液に２ｍｏｌ／ｌ塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後、水層を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。次いで、有機層と抽出液を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で濃縮した後、濃縮物をジイソプロピルエーテルを用いて再結晶させ、無色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸１０．２ｇを得た（単離収率；８８％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ホルミル安息香酸は以下の物性値で示される新規な化合物である。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；８．３５〜８．４１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．３１，４．８７，２．４４Ｈｚ）、１０．２７（１Ｈ，ｓ）、１２．０（１Ｈ，ｂｒ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；２０５（Ｍ＋１）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；２０５（Ｍ＋１）
実施例７（２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムの合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−５０℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−６０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−５０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−６０℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液に、重水１．７２ｇ（０．０８６ｍｏｌ）（求電子種；ジューテリオイオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−５０℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸７．２６ｇを得た（単離収率；７２％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸は、以下の物性値で示される新規な化合物である。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−５０℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−６０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−５０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−６０℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液に、重水１．７２ｇ（０．０８６ｍｏｌ）（求電子種；ジューテリオイオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−５０℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸７．２６ｇを得た（単離収率；７２％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸は、以下の物性値で示される新規な化合物である。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ（ｐｐｍ））；７．７９〜７．８８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．３９，２．４４，１．９５Ｈｚ）、１２．０（１Ｈ，ｓ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１７８（Ｍ＋１）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１７８（Ｍ＋１）
実施例８（２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸ナトリウムの合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン９．６４ｇ（０．０６８ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン３５ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液４３．３ｍｌ（０．０６８ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸ナトリウム１１．３ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに懸濁した溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸ナトリウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸ナトリウムを含む溶液に、重水１．７２ｇ（０．０８６ｍｏｌ）（求電子種；ジューテリオイオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−１５℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸６．９６ｇを得た（単離収率；６９％）。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン９．６４ｇ（０．０６８ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン３５ｍｌを加え、液温を−１５℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液４３．３ｍｌ（０．０６８ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−１５℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−１５℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸ナトリウム１１．３ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに懸濁した溶液をゆるやかに加えた後、−１５℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸ナトリウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸ナトリウムを含む溶液に、重水１．７２ｇ（０．０８６ｍｏｌ）（求電子種；ジューテリオイオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−１５℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−ジューテリオ安息香酸６．９６ｇを得た（単離収率；６９％）。
実施例９（２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムの合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−５０℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−６０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−５０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−６０℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液に、クロロトリメチルシラン１４．６ｇ（０．１３４ｍｏｌ）（求電子種；トリメチルシリルカチオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−５０℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−トリメチルシリル安息香酸７．０７ｇを得た（単離収率；５０％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−トリメチルシリル安息香酸は、以下の物性値で示される新規な化合物である。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン２０．０ｇ（０．１４２ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン７０ｍｌを加え、液温を−５０℃以下に保ちながら、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液８９．９ｍｌ（０．１４２ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−６０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−５０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．０ｇ（０．０５７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−６０℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液に、クロロトリメチルシラン１４．６ｇ（０．１３４ｍｏｌ）（求電子種；トリメチルシリルカチオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−５０℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；酢酸エチル）し、淡黄色結晶として、２，３，４−トリフルオロ−５−トリメチルシリル安息香酸７．０７ｇを得た（単離収率；５０％）。
なお、２，３，４−トリフルオロ−５−トリメチルシリル安息香酸は、以下の物性値で示される新規な化合物である。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ（ｐｐｍ））；０．３７（９Ｈ，ｓ）、７．６５〜７．７３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．０６，５．６２，２．４４Ｈｚ）、１２．０（１Ｈ，ｂｒｓ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；２４９（Ｍ＋１）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；２４９（Ｍ＋１）
実施例１０（２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムの合成）
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液６４．０ｍｌ（０．１０１ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン１００ｍｌを加え、液温を−５０℃以下に保ちながら、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１２．３ｇ（０．１０１ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−６０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−５０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸８．２０ｇ（０．０４７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−７０℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液に、二酸化炭素（求電子種：カルボキシルカチオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−７０℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物を酢酸エチルでリパルプし、白色結晶として、４，５，６−トリフルオロイソフタル酸４．６７ｇを得た（単離収率；４６％）。
なお、４，５，６−トリフルオロイソフタル酸の物性値は以下の通りであった。
攪拌装置、温度計及び滴下漏斗を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、アルゴン雰囲気下、１．５８ｍｏｌ／ｌｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液６４．０ｍｌ（０．１０１ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン１００ｍｌを加え、液温を−５０℃以下に保ちながら、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１２．３ｇ（０．１０１ｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、−６０℃で３０分間攪拌させてリチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジドを含む溶液を調製した。次いで、該溶液の液温を−５０℃以下に保ちながら、２，３，４−トリフルオロ安息香酸８．２０ｇ（０．０４７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かした溶液をゆるやかに加えた後、−７０℃で３０分間攪拌させて、２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液を生成させた。
次いで、この２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸リチウムを含む溶液に、二酸化炭素（求電子種：カルボキシルカチオン）をゆるやかに添加して、攪拌しながら−７０℃で３０分間反応させた。反応終了後、反応液に濃塩酸を加えて酸性化し、有機層を分液した後に減圧下で濃縮した。得られた濃縮物を酢酸エチルでリパルプし、白色結晶として、４，５，６−トリフルオロイソフタル酸４．６７ｇを得た（単離収率；４６％）。
なお、４，５，６−トリフルオロイソフタル酸の物性値は以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；８．２１（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８．０６，２．４４Ｈｚ）、１３．０（１Ｈ，ｂｒｓ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；２２１（Ｍ＋１）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；２２１（Ｍ＋１）
本発明は、新規な２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及び、２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の新規な製法に関する。２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
Claims (25)
- 一般式（１）：
式中、Ｙはヨウ素原子、ホルミル基又は求電子種を表し、Ｍは水素原子又は金属原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物。 - 金属原子が、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又は銅原子である請求の範囲第１項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物。
- アルカリ金属原子が、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子又はセシウム原子である請求の範囲第２項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物。
- アルカリ土類金属原子が、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子又はバリウム原子である請求の範囲第２項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物。
- 金属原子が、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子又は銅原子から選択されたものである請求の範囲第１項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物。
- 求電子種が重水素原子又はトリメチルシリル基である請求の範囲第１項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物。
- 塩基の存在下、有機溶媒中にて、一般式（２）：
式中、Ｍは、水素原子又は金属原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とヨウ素化剤又はホルミル化剤とを反応させることを特徴とする、式（１ａ）：
式中、Ｙ１はヨウ素原子又はホルミル基を表し、Ｍは、前記と同義である、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。 - Ｙがヨウ素原子である請求の範囲第７項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- 塩基が、リチウムアミド化合物である請求の範囲第８項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- リチウムアミド化合物が、リチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジド及びリチウムジイソプロピルアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種のリチウムアミド化合物である請求の範囲第９項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- ヨウ素化剤が、一塩化ヨウ素、一臭化ヨウ素、ヨウ素及びＮ−ヨードコハク酸イミドからなる群より選ばれる少なくとも１種のヨウ素化剤である請求の範囲第８項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- Ｙがホルミル基である請求の範囲第７項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- 塩基が、リチウムアミド化合物である請求の範囲第７項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- リチウムアミド化合物が、リチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジド及びリチウムジイソプロピルアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種のリチウムアミド化合物である請求の範囲第１３項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- ホルミル化剤が、一酸化炭素、ホルムアミド類及びギ酸エステル類からなる群より選ばれる少なくとも１種のホルミル化剤である請求の範囲第７項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- 有機溶媒が、エーテル類、脂肪族炭化水素類及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒である請求の範囲第７〜１５項のいずれかに記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- 反応を、水の非存在下で行う請求の範囲第７〜１６項のいずれかに記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸の製法。
- 一般式（３ａ）又は（３ｂ）：
式中、Ｍ１は金属原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸。 - Ｍ１がナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子、バリウム原子及び銅原子から成る群より選択されるものである請求の範囲第１８項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸。
- 一般式（４ａ）又は（４ｂ）：
式中、Ｍ１は金属原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ安息香酸化合物とリチウム化合物とを反応させることを特徴とする、一般式（３ａ）又は（３ｂ）：
式中、Ｍ１は前記と同義である、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸の製造方法。 - リチウム化合物が、リチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジド及びリチウムジイソプロピルアミドからなる群より選ばれる少なくとも１種のリチウムアミド化合物である請求の範囲第２０項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸化合物の製法。
- Ｍ１がナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子、バリウム原子及び銅原子から成る群より選択されるものである請求の範囲第２０項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸の製法。
- 一般式（３ａ）又は（３ｂ）：
式中、Ｍ１は金属原子を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−リチオ安息香酸と、求電子種を発生させ得る化合物とを反応させることを特徴とする、一般式（１ｂ）：
式中、Ｙ２は求電子種を表す、
で示される２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。 - 求電子種（Ｘ＋）を発生させ得る化合物が、重水；塩素、臭素、ヨウ素；メチルメシラート、メチルトシラート、メチルトリフラート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド；クロロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラン、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン；ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリイソプロピル；塩化トリメチルスズ、塩化トリｎ−ブチルスズ及びトリｎ−ブチルスズトリフラートから成る群より選択されるものである請求の範囲第２３項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
- 求電子種が重水素原子又はトリメチルシリル基である請求の範囲第２３項記載の２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物の製法。
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005237136 | 2005-08-18 | ||
| JP2005237134 | 2005-08-18 | ||
| JP2005237134 | 2005-08-18 | ||
| JP2005237135 | 2005-08-18 | ||
| JP2005237136 | 2005-08-18 | ||
| JP2005237135 | 2005-08-18 | ||
| PCT/JP2006/316238 WO2007021001A1 (ja) | 2005-08-18 | 2006-08-18 | ２，３，４－トリフルオロ－５－置換安息香酸化合物及びその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2007021001A1 true JPWO2007021001A1 (ja) | 2009-02-26 |
Family
ID=37757654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007531038A Pending JPWO2007021001A1 (ja) | 2005-08-18 | 2006-08-18 | ２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及びその製法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2007021001A1 (ja) |
| WO (1) | WO2007021001A1 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06256257A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-09-13 | Bayer Ag | フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類 |
| JPH0770140A (ja) * | 1990-02-13 | 1995-03-14 | F Hoffmann La Roche Ag | １，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンのリチウム化法 |
| JPH1180076A (ja) * | 1997-07-08 | 1999-03-23 | Ube Ind Ltd | ２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸、そのエステル類及びその製造法 |
| JP2002543055A (ja) * | 1999-04-21 | 2002-12-17 | ワーナー−ランバート・カンパニー | ２−（ｎ−フェニルアミノ）安息香酸の製造方法 |
| JP2003527379A (ja) * | 2000-03-15 | 2003-09-16 | ワーナー−ランバート・カンパニー、リミテッド、ライアビリティ、カンパニー | Ｍｅｘ阻害物質としての５−アミド置換ジアリールアミン類 |
| WO2005028426A1 (ja) * | 2003-09-19 | 2005-03-31 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | 新規４−フェニルアミノ−ベンズアルドオキシム誘導体並びにそのmek阻害剤としての使用 |
-
2006
- 2006-08-18 JP JP2007531038A patent/JPWO2007021001A1/ja active Pending
- 2006-08-18 WO PCT/JP2006/316238 patent/WO2007021001A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0770140A (ja) * | 1990-02-13 | 1995-03-14 | F Hoffmann La Roche Ag | １，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンのリチウム化法 |
| JPH06256257A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-09-13 | Bayer Ag | フルオロ−トリフルオロメチル安息香酸誘導体類 |
| JPH1180076A (ja) * | 1997-07-08 | 1999-03-23 | Ube Ind Ltd | ２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸、そのエステル類及びその製造法 |
| JP2002543055A (ja) * | 1999-04-21 | 2002-12-17 | ワーナー−ランバート・カンパニー | ２−（ｎ−フェニルアミノ）安息香酸の製造方法 |
| JP2003527379A (ja) * | 2000-03-15 | 2003-09-16 | ワーナー−ランバート・カンパニー、リミテッド、ライアビリティ、カンパニー | Ｍｅｘ阻害物質としての５−アミド置換ジアリールアミン類 |
| WO2005028426A1 (ja) * | 2003-09-19 | 2005-03-31 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | 新規４−フェニルアミノ−ベンズアルドオキシム誘導体並びにそのmek阻害剤としての使用 |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| JPN6012034614; Ｅｕｒ． Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． , 2001, ｐ．２７７１-２７７７ * |
| JPN6012034615; Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．７， Ｎｏ．１４, 1997, ｐ．１８７５-１８７８ * |
| JPN6013027832; 社団法人日本化学会編: 第５版実験化学講座１３ 有機化合物の合成Ｉ-炭化水素・ハロゲン化物- , 20040220, ４５５〜４５６頁, 丸善株式会社 * |
| JPN6013027834; Ｊ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， Ｃｈｅｍ． Ｃｏｍｍｕｎ． , 1995, ｐ．８１７-８１８ * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2007021001A1 (ja) | 2007-02-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6948419B2 (ja) | クロマノン誘導体の新規な製造方法 | |
| TW201602128A (zh) | Ｃ－糖苷衍生物之製造方法 | |
| JPWO2007021001A1 (ja) | ２，３，４−トリフルオロ−５−置換安息香酸化合物及びその製法 | |
| JP4879907B2 (ja) | フェニル２−ピリミジニルケトン類の製造方法及びその新規中間体 | |
| JP4899385B2 (ja) | ３−アミノメチルオキセタン化合物の製法 | |
| JP3895053B2 (ja) | ジハロメチルシラン類の製法 | |
| JP4710698B2 (ja) | シリルエーテル基を有するβ−ジケトン化合物の製造法 | |
| JP4047040B2 (ja) | ２−フルオロ安息香酸誘導体の製造方法 | |
| JP7041092B2 (ja) | ビアリールホスフィンの製造方法 | |
| JP4538993B2 (ja) | β−ケトニトリル誘導体の製法 | |
| JP2003055285A (ja) | ４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに４−ハロゲノ−４’−ヒドロキシビフェニルの製法 | |
| JP6868890B2 (ja) | 環上に置換基を有する含窒素環状化合物の製造方法 | |
| JPH09316071A (ja) | カルバペネム抗生物質中間体の製造法 | |
| JP2003321468A (ja) | ピリドン化合物の製造法およびその中間体 | |
| JP4000758B2 (ja) | ２−（５−ハロゲノ−２−ニトロフェニル）−２−置換酢酸エステル誘導体の製造法 | |
| JP2021127332A (ja) | ５−ブロモ−２−アルキル安息香酸の製造方法 | |
| JP4013772B2 (ja) | ２−ヒドロキシイミノ−３−オキソプロピオニトリル及びその製法 | |
| CN117142996A (zh) | 单胺基抑制剂类中间体及其合成方法与应用 | |
| JP5544862B2 (ja) | ストロンチウムアミド化合物の製造方法 | |
| JP2014172851A (ja) | ピラゾール誘導体の製造方法およびイソオキサゾール誘導体の製造方法 | |
| JP2007119406A (ja) | ４−アセチル−１−ベンジル−４−フェニルピペリジン類の製造法 | |
| JPH06345735A (ja) | Ｎ−置換−３−ピペリジノールの製法 | |
| JP2019521965A (ja) | ラミブジン及びエムトリシタビンの生産方法 | |
| JP2010229113A (ja) | ２−（２’，４’−ジ置換フェニル）ピリジン化合物の製造方法 | |
| JP2004115456A (ja) | ２−ハロゲノフラン−３−カルボン酸類の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090609 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120703 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120830 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130122 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130227 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131029 |