JPWO2004064054A1

JPWO2004064054A1 - Optical recording medium

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Publication number: JPWO2004064054A1
Application number: JP2004566264A
Authority: JP
Inventors: 小巻　壮; 壮小巻; 敏文田中; 宇佐美　守; 守宇佐美
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2003-01-15
Filing date: 2003-01-15
Publication date: 2006-05-18
Also published as: AU2003203167A1; TWI267073B; WO2004064054A1; TW200412593A

Abstract

本発明による光記録媒体は、支持基板と、光透過層と、前記支持基板と前記光透過層との間に設けられた情報層とを備え、前記光透過層を介して前記情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録及び／又は再生を行うことができる。レーザビームが入射する光入射面に存在する凹凸欠陥のピーク部分又はボトム部分における前記光透過層の厚さをＴ１、前記凹凸欠陥の端部における前記光透過層の厚さをＴ２、前記凹凸欠陥の前記ピーク部分又はボトム部分から前記端部までの周方向における距離をＷとした場合、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ≦５．５×１０−４が満たされている。本発明によれば、次世代型の光記録媒体の記録及び／又は再生において好ましく用いられる線速度領域（１０〜１９ｍ／ｓ）において、光入射面の凹凸欠陥に起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができるので、凹凸欠陥がジッタに与える影響を効果的に抑制することが可能となる。An optical recording medium according to the present invention includes a support substrate, a light transmission layer, and an information layer provided between the support substrate and the light transmission layer, and a laser is applied to the information layer via the light transmission layer. Data can be recorded and / or reproduced by irradiating the beam. The thickness of the light transmissive layer at the peak or bottom portion of the concavo-convex defect existing on the light incident surface on which the laser beam is incident is T1, the thickness of the light transmissive layer at the end of the concavo-convex defect is T2, and the concavo-convex defect When the distance in the circumferential direction from the peak portion or the bottom portion to the end portion is W, | T1-T2 | /W≦5.5×10−4 at least for all the concavo-convex defects in the recording area. be satisfied. According to the present invention, in a linear velocity region (10 to 19 m / s) that is preferably used for recording and / or reproduction of a next-generation type optical recording medium, a residual focus error component caused by uneven defects on the light incident surface is substantially reduced. Since it can be 10% or less, it is possible to effectively suppress the influence of the uneven defect on the jitter.

Description

本発明は光記録媒体に関し、特に、支持基板とは反対側の面に設けられた薄い光透過層を有する次世代型の光記録媒体に関する。 The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to a next-generation optical recording medium having a thin light transmission layer provided on a surface opposite to a support substrate.

近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤ（ＣｏｍｐａｃｔＤｉｓｃ）やＤＶＤ（ＤｉｇｉｔａｌＶｅｒｓａｔｉｌｅＤｉｓｃ）に代表される光記録媒体が広く用いられている。
ＣＤは、厚さ約１．２ｍｍｌの光透過性基板上に情報記録層及び保護層が積層された構造を有しており、波長約７８０ｎｍのレーザビームを光透過性基板側から情報記録層に照射することによってデータの記録及び／又は再生を行うことができる。レーザビームの集束には開口数（ＮＡ）が約０．４５の対物レンズが用いられ、これにより情報記録層上におけるレーザビームのビームスポット径は約１．６μｍまで絞られる。これにより、ＣＤでは、約７００ＭＢの記録容量と、等倍速（約１．２ｍ／ｓｅｃ）において約１Ｍｂｐｓのデータ転送レートが実現されている。
これに対しＤＶＤは、厚さ約０．６ｍｍの光透過性基板上に情報記録層及び保護層が積層された積層体と、厚さ約０．６ｍｍのダミー基板とが接着層を介して貼り合わされた構造を有しており、波長約６５０ｎｍのレーザビームを光透過性基板側から情報記録層に照射することによってデータの記録及び／又は再生を行うことができる。レーザビームの集束には開口数（ＮＡ）が約０．６の対物レンズが用いられ、これにより情報記録層上におけるレーザビームのビームスポット径は約０．９３μｍまで絞られる。このように、ＤＶＤの記録及び／再生においては、ＣＤよりも波長の短いレーザビームが用いられるとともに、開口数（ＮＡ）が大きい対物レンズが用いられていることから、ＣＤに比べてより小さいビームスポット径が実現されている。これにより、ＤＶＤでは、約４．７ＧＢ／面の記録容量と、等倍速（約３．５ｍ／ｓｅｃ）において約１１Ｍｂｐｓのデータ転送レートが実現されている。
一方、近年における情報化社会の高度化に伴い、ＤＶＤを越えるデータの記録容量を有し、且つ、ＤＶＤを越えるデータ転送レートを実現可能な光記録媒体の実用化が求められており、その開発が行われている。このような次世代型の光記録媒体においては、大容量・高データ転送レートを実現するため、必然的に、データの記録及び／又は再生に用いるレーザビームのビームスポット径をさらに小さく絞らなければならず、そのためには、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数（ＮＡ）をさらに大きくするとともに、レーザビームの波長をさらに短くする必要がある。
しかしながら、レーザビームを集束するための対物レンズを高ＮＡ化すると、光記録媒体の反りや傾きの許容度、すなわちチルトマージンが非常に小さくなるという問題が生じる。チルトマージンＴは、記録及び／又は再生に用いるレーザビームの波長をλ、レーザビームの光路となる光透過層の厚さをｄとすると、次式によって表すことができる。

式（１）から明らかなように、チルトマージンは対物レンズのＮＡが大きいほど小さくなってしまう。また、波面収差（コマ収差）が発生する光透過層の屈折率をｎ、傾き角をθとすると、波面収差係数Ｗは、次式によって表すことができる。

式（１）及び式（２）から明らかなように、チルトマージンを大きくし、且つ、コマ収差の発生を抑えるためには、記録・再生に用いるレーザビームが入射する光透過層の厚さｄを小さくすることが非常に有効である。ＣＤ（ＮＡ＝約０．４５）に使用される光透過性基板の厚みが約１．２ｍｍであるのに対し、ＤＶＤ（ＮＡ＝約０．６）に使用される光透過性基板の厚みが約０．６ｍｍに設定されているのはこのためである。
上述した理由から、次世代型の光記録媒体においては、十分なチルトマージンを確保しつつ、コマ収差の発生を抑えるために、光透過層の厚さを２００μｍ以下、特に１００μｍ程度まで薄くする必要があるものと考えられる。
このため、次世代型の光記録媒体においては、ＣＤやＤＶＤ等、現行の光記録媒体のようにレーザビームの光路となる光透過性基板上に情報記録層を形成することは困難であり、支持基板上に形成した情報記録層等の上に、スピンコート法や光透過性シートの貼り付け等によって薄い光透過層を形成し、これをレーザビームの光路として用いる方法が検討されている。このように、次世代型の光記録媒体の作製においては、光入射面側から順次成膜が行われる現行の光記録媒体とは異なり、光入射面とは反対側の面から順次成膜が行われることになる。
しかしながら、スピンコート法や光透過性シートの貼り付け等によって形成した光透過層の表面（次世代型光記録媒体の光入射面）は、主に射出成形法により作製される光透過性基板の表面（ＣＤやＤＶＤの光入射面）に比べて平坦性が低いという問題がある。しかも、ＣＤやＤＶＤにおいては、光入射面上に形成されるレーザビームのビームスポットがある程度大きいことから（ＣＤ：約７００μｍ，ＤＶＤ：約５００ｍｍ）、光入射面上の凹凸は希釈され、記録特性や再生特性に与える影響が小さくなる一方、次世代型の光記録媒体においては、光入射面上に形成されるレーザビームのビームスポットが非常に小さいことから（例えば１３０μｍ）、僅かな凹凸が記録特性や再生特性に大きな影響を与える可能性がある。
このため、次世代型光記録媒体の製造工程においては、光入射面の表面性を検査し、その表面性が低い場合には不良品として排除することが求められる。In recent years, optical recording media represented by CD (Compact Disc) and DVD (Digital Versatile Disc) are widely used as recording media for recording large-capacity digital data.
The CD has a structure in which an information recording layer and a protective layer are laminated on a light transmissive substrate having a thickness of about 1.2 mm, and a laser beam having a wavelength of about 780 nm is applied from the light transmissive substrate side to the information recording layer. Data can be recorded and / or reproduced by irradiation. An objective lens having a numerical aperture (NA) of about 0.45 is used for focusing the laser beam, and thereby, the beam spot diameter of the laser beam on the information recording layer is reduced to about 1.6 μm. As a result, a CD has a recording capacity of about 700 MB and a data transfer rate of about 1 Mbps at the same speed (about 1.2 m / sec).
On the other hand, in DVD, a laminate in which an information recording layer and a protective layer are laminated on a light transmissive substrate having a thickness of about 0.6 mm and a dummy substrate having a thickness of about 0.6 mm are attached via an adhesive layer. Data recording and / or reproduction can be performed by irradiating the information recording layer with a laser beam having a wavelength of about 650 nm from the light transmissive substrate side. An objective lens having a numerical aperture (NA) of about 0.6 is used for focusing the laser beam, and thereby the beam spot diameter of the laser beam on the information recording layer is reduced to about 0.93 μm. As described above, in DVD recording and reproduction, a laser beam having a wavelength shorter than that of a CD is used, and an objective lens having a large numerical aperture (NA) is used. Spot diameter is realized. As a result, the DVD has a recording capacity of about 4.7 GB / side and a data transfer rate of about 11 Mbps at the same speed (about 3.5 m / sec).
On the other hand, with the advancement of the information society in recent years, there has been a demand for practical application of an optical recording medium having a data recording capacity exceeding DVD and capable of realizing a data transfer rate exceeding DVD. Has been done. In such a next-generation optical recording medium, in order to realize a large capacity and a high data transfer rate, the beam spot diameter of the laser beam used for data recording and / or reproduction must be further reduced. For this purpose, it is necessary to further increase the numerical aperture (NA) of the objective lens for focusing the laser beam and further shorten the wavelength of the laser beam.
However, when the NA of the objective lens for focusing the laser beam is increased, there arises a problem that the tolerance of the warp or tilt of the optical recording medium, that is, the tilt margin becomes very small. The tilt margin T can be expressed by the following equation, where λ is the wavelength of the laser beam used for recording and / or reproduction, and d is the thickness of the light transmission layer serving as the optical path of the laser beam.

As is clear from equation (1), the tilt margin decreases as the NA of the objective lens increases. Further, when the refractive index of the light transmission layer in which wavefront aberration (coma aberration) occurs is n and the inclination angle is θ, the wavefront aberration coefficient W can be expressed by the following equation.

As is clear from the equations (1) and (2), in order to increase the tilt margin and suppress the occurrence of coma aberration, the thickness d of the light transmission layer on which the laser beam used for recording / reproducing is incident It is very effective to reduce the size. The thickness of the light-transmitting substrate used for the CD (NA = about 0.45) is about 1.2 mm, whereas the thickness of the light-transmitting substrate used for the DVD (NA = about 0.6) is This is why it is set to about 0.6 mm.
For the reasons described above, in the next-generation type optical recording medium, it is necessary to reduce the thickness of the light transmission layer to 200 μm or less, particularly about 100 μm, in order to suppress the occurrence of coma aberration while ensuring a sufficient tilt margin. It is thought that there is.
For this reason, in the next-generation optical recording medium, it is difficult to form an information recording layer on a light-transmitting substrate that becomes an optical path of a laser beam, such as a current optical recording medium such as a CD or a DVD, A method in which a thin light transmission layer is formed on an information recording layer or the like formed on a support substrate by spin coating or pasting a light transmission sheet and used as an optical path of a laser beam has been studied. As described above, in the production of the next generation type optical recording medium, unlike the current optical recording medium in which the film is sequentially formed from the light incident surface side, the film is sequentially formed from the surface opposite to the light incident surface. Will be done.
However, the surface of the light transmissive layer (light incident surface of the next generation type optical recording medium) formed by spin coating or pasting of a light transmissive sheet is mainly a light transmissive substrate produced by an injection molding method. There is a problem that the flatness is low compared to the surface (light incident surface of CD or DVD). Moreover, in CD and DVD, since the laser beam spot formed on the light incident surface is somewhat large (CD: about 700 μm, DVD: about 500 mm), the unevenness on the light incident surface is diluted and recording characteristics are reduced. In the next-generation optical recording medium, the laser beam spot formed on the light incident surface is very small (for example, 130 μm), so that slight unevenness is recorded. This may have a big influence on the characteristics and reproduction characteristics.
For this reason, in the manufacturing process of the next-generation type optical recording medium, it is required to inspect the surface property of the light incident surface and to exclude it as a defective product when the surface property is low.

したがって、本発明の目的は、支持基板とは反対側の面に設けられた薄い光透過層を有する光記録媒体であって、光入射面に記録特性や再生特性に大きな影響を与える可能性のある凹凸がない光記録媒体を提供することを目的とする。
本発明のかかる目的は、支持基板と、光透過層と、前記支持基板と前記光透過層との間に設けられた情報層とを備え、前記光透過層を介して前記情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録及び／又は再生を行う光記録媒体であって、前記レーザビームが入射する光入射面に存在する凹凸欠陥のピーク部分又はボトム部分における前記光透過層の厚さをＴ１、前記凹凸欠陥の端部における前記光透過層の厚さをＴ２、前記凹凸欠陥の前記ピーク部分又はボトム部分から前記端部までの周方向における距離をＷとした場合、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
が満たされていることを特徴とする光記録媒体によって達成される。
本発明によれば、次世代型の光記録媒体の記録及び／又は再生において好ましく用いられる線速度領域（１０〜１９ｍ／ｓ）において、光入射面の凹凸欠陥に起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。これにより、凹凸欠陥がジッタに与える影響を効果的に抑制することが可能となる。
また、本発明の好ましい実施形態においては、前記光透過層の層厚が３０〜２００μｍである。さらに、本発明の好ましい実施形態においては、前記情報層には相変化材料からなる記録層が含まれており、１０ｍ／ｓ以上の線速度で前記記録層へのデータの記録が可能である。このような次世代型の光記録媒体は、光入射面上に形成されるレーザビームのビームスポットが非常に小さく、しかも、非常に高い線速度でデータの記録が行われることから、光入射面の僅かな凹凸が記録特性や再生特性に大きな影響を与えてしまう。しかしながら、本発明によれば、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
が満たされていることから、良好な記録特性及び再生特性を得ることが可能となる。Therefore, an object of the present invention is an optical recording medium having a thin light transmission layer provided on the surface opposite to the support substrate, and the light incident surface may greatly affect recording characteristics and reproduction characteristics. An object of the present invention is to provide an optical recording medium having no irregularities.
An object of the present invention includes a support substrate, a light transmission layer, and an information layer provided between the support substrate and the light transmission layer, and a laser beam is applied to the information layer through the light transmission layer. The optical recording medium records and / or reproduces data by irradiating the light, and the thickness of the light transmission layer at the peak or bottom portion of the concavo-convex defect existing on the light incident surface on which the laser beam is incident is set. T1, the thickness of the light transmission layer at the end of the concavo-convex defect is T2, and the distance in the circumferential direction from the peak or bottom portion of the concavo-convex defect to the end is W, at least within the recording area For all irregularities
| T1-T2 | ^{/W≦5.5×10 −4}
Is achieved by an optical recording medium characterized in that
According to the present invention, in a linear velocity region (10 to 19 m / s) that is preferably used for recording and / or reproduction of a next-generation type optical recording medium, a residual focus error component caused by uneven defects on the light incident surface is substantially reduced. It can be 10% or less. As a result, it is possible to effectively suppress the influence of the uneven defect on the jitter.
Moreover, in preferable embodiment of this invention, the layer thickness of the said light transmissive layer is 30-200 micrometers. Furthermore, in a preferred embodiment of the present invention, the information layer includes a recording layer made of a phase change material, and data can be recorded on the recording layer at a linear velocity of 10 m / s or more. Such a next-generation type optical recording medium has a very small beam spot of the laser beam formed on the light incident surface, and data is recorded at a very high linear velocity. A slight unevenness greatly affects recording characteristics and reproduction characteristics. However, according to the present invention, at least for all the irregular defects in the recording area,
| T1-T2 | ^{/W≦5.5×10 −4}
Therefore, it is possible to obtain good recording characteristics and reproduction characteristics.

図１（ａ）は、本発明の好ましい実施の形態による光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図である。
図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
図２（ａ）、は、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１を拡大して示す略断面図である。
図２（ｂ）は、光入射面１６ａに存在する凹欠陥２２を拡大して示す略断面図である。
図３は、図１に示す光記録媒体１０の製造方法を示すフローチャートである。
図４は、光記録媒体の良否を検査するための検査装置１００の概略構成図である。
図５は、光ヘッド１１４の構成を示す概略図である。
図６は、光記録媒体の良否を検査する方法を示すフローチャートである。
図７は、検査用レーザビームＬ１が光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａにフォーカスロックした状態を模式的に示す図である。
図８は、ステップＳ１６による判定方法を示すフローチャートである。
図９は、良品と判定される領域を示す模式的なグラフである。FIG. 1A is a cutaway perspective view showing the appearance of an optical recording medium 10 according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 1B is an enlarged partial cross-sectional view of a portion A shown in FIG.
FIG. 2A is an enlarged schematic cross-sectional view showing the convex defect 21 existing on the light incident surface 16a.
FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing the recessed defect 22 existing on the light incident surface 16a in an enlarged manner.
FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the optical recording medium 10 shown in FIG.
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an inspection apparatus 100 for inspecting the quality of the optical recording medium.
FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of the optical head 114.
FIG. 6 is a flowchart showing a method for inspecting the quality of the optical recording medium.
FIG. 7 is a diagram schematically showing a state in which the inspection laser beam L1 is focus-locked to the light incident surface 16a of the optical recording medium precursor 10 ′.
FIG. 8 is a flowchart showing the determination method in step S16.
FIG. 9 is a schematic graph showing an area determined to be a non-defective product.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施態様について詳細に説明する。
図１（ａ）は、本発明の好ましい実施の形態による光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。図１に示す光記録媒体１０はいわゆる書き換え型の光記録媒体であるが、本発明の対象が書き換え型の光記録媒体に限定されるものではなく、追記型の光記録媒体や再生専用型の光記録媒体等、他のタイプの光記録媒体についても対象とすることができる。
図１（ａ），（ｂ）に示す光記録媒体１０は、外径が約１２０ｍｍ、厚みが約１．２ｍｍである円盤状の光記録媒体であり、図１（ｂ）に示すように、支持基板１１と、反射層１２と、第２誘電体層１３と、記録層１４と、第１誘電体層１５と、光透過層１６とを備えて構成されている。特に限定されるものではないが、図１に示す光記録媒体１０は、波長λが３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、好ましくは約４０５ｎｍであるレーザビームＬを光透過層１６の表面である光入射面１６ａより照射することによってデータの記録及び再生を行うことが可能な書き換え型の光記録媒体である。光記録媒体１０に対するデータの記録及び再生においては、開口数が０．７以上、好ましくは０．８５程度の対物レンズが用いられ、これによって、レーザビームＬの波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡとした場合、λ／ＮＡ≦６４０ｎｍに設定される。尚、「第２」誘電体層１３及び「第１」誘電体層１５とは、光入射面１６ａから見てそれぞれ２番目及び１番目の誘電体層であることを意味する。
支持基板１１は、光記録媒体１０に求められる厚み（約１．２ｍｍ）を確保するために用いられる厚さ約１．１ｍｍの円盤状の基板であり、その一方の面には、その中心部近傍から外縁部に向けて、レーザビームＬをガイドするためのグルーブ１１ａ及びランド１１ｂが螺旋状に形成されている。支持基板１１の材料としては種々の材料を用いることが可能であり、例えば、ガラス、セラミックス、あるいは樹脂を用いることができる。これらのうち、成形の容易性の観点から、一般にポリカーボネート樹脂が用いられることが多い。
反射層１２は、光透過層１６側から入射されるレーザビームＬを反射し、再び光透過層１６から出射させる役割を果たす。反射層１２の材料としては、レーザビームＬを反射可能である種々の材料を用いることが可能であり、例えば、マグネシウム（Ｍｇ），アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ），クロム（Ｃｒ），鉄（Ｆｅ），コバルト（Ｃｏ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），亜鉛（Ｚｎ），ゲルマニウム（Ｇｅ），銀（Ａｇ），白金（Ｐｔ），金（Ａｕ）等が用いられる。反射層１３の厚さとしては、５〜３００ｎｍに設定される。
第１誘電体層１５及び第２誘電体層１３は、これらの間に設けられる記録層１４を物理的及び／又は化学的に保護する役割を果たし、記録層１４はこれら第１誘電体層１３及び第２誘電体層１５に挟持されることによって、光記録後、長期間にわたって記録情報の劣化が効果的に防止される。
第１誘電体層１５及び第２誘電体層１３を構成する材料は、使用されるレーザビームＬの波長領域において透明な誘電体であれば特に限定されず、例えば、酸化物、硫化物、窒化物又はこれらの組み合わせを主成分として用いることができるが、支持基板１１等の熱変形防止、並びに、記録層１４に対する保護特性の観点から、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＧｅＮ、ＧｅＣｒＮ、ＣｅＯ_２、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＣ、Ｌａ_２Ｏ_３、ＴａＯ、ＴｉＯ_２、ＳｉＡｌＯＮ（ＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，Ｓｉ_３Ｎ_４及びＡｌＮの混合物）及びＬａＳｉＯＮ（Ｌａ_２Ｏ_３，ＳｉＯ_２及びＳｉ_３Ｎ_４の混合物）等、アルミニウム（Ａｌ）、シリコン（Ｓｉ）、セリウム（Ｃｅ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、タンタル（Ｔａ）等の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物あるいはそれらの混合物が好ましく用いられる。また、第１誘電体層１５及び第２誘電体層１３の層厚としては、３〜２００ｎｍに設定される。
記録層１４は可逆的な記録マークが形成される層であり、相変化材料によって構成される。相変化材料は、結晶状態である場合の反射率とアモルファス状態である場合の反射率とが異なるため、これを利用してデータの記録が行われる。記録されるデータは、例えばアモルファス状態である記録マークの長さ（記録マークの前縁から後縁までの長さ）及び例えば結晶状態であるブランク領域の長さ（記録マークの後縁から次の記録マークの前縁までの長さ）によって表現される。
記録層１４を結晶状態からアモルファス状態に変化させるためには、光入射面１６ａから照射されるレーザビームＬを記録パワーＰｗから基底パワーＰｂまでの振幅を有するパルス波形とすることによって記録層１４を融点以上の温度に加熱し、その後、レーザビームＬのパワーを基底パワーＰｂに設定することによって急冷する。これによって溶融した領域がアモルファス状態に変化し、これが記録マークとなる。一方、記録層１４をアモルファス状態から結晶状態に変化させるためには、光入射面１６ａから照射されるレーザビームＬのパワーを消去パワーＰｅに設定することによって記録層１４を結晶化温度以上の温度に加熱する。結晶化温度以上の温度に加熱された領域は、レーザビームＬが遠ざかることによって徐冷されることから、当該領域が結晶状態に変化する。
ここで、記録パワーＰｗ、消去パワーＰｅ及び基底パワーＰｂの関係は、
Ｐｗ＞Ｐｅ≧Ｐｂ
に設定される。したがって、レーザビームＬのパワーをこのように変調すれば、記録層１４の未記録領域に記録マークを形成するだけでなく、既に記録マークが形成されている領域にこれと異なる記録マークを直接上書き（ダイレクトオーバーライト）することが可能となる。
記録層１４を構成する相変化材料の種類としては特に限定されるものではないが、高速でダイレクトオーバーライトを可能とするためには、アモルファス状態から結晶状態への構造変化に要する時間（結晶化時間）が短い材料を選択することが好ましく、このような材料としてはＳｂＴｅ系材料を挙げることができる。ＳｂＴｅ系材料としてはＳｂＴｅのみでもよいし、結晶化時間をより短縮するとともに長期の保存に対する信頼性を高めるために添加物を加えてもよい。記録層１４の層厚としては、２〜４０ｎｍに設定される。
光透過層１６は、レーザビームＬの入射面を構成するとともにレーザビームＬの光路となる層であり、その厚さとしては３０〜２００μｍ、好ましくは１００μｍ程度に設定される。光透過層１６の材料としては、使用されるレーザビームＬの波長領域において光透過率が十分に高い材料である限り特に限定されないが、アクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂が好ましく用いられる。また、紫外線硬化性樹脂を硬化させてなる膜のかわりに、光透過性樹脂からなる光透過性シートと各種接着剤や粘着剤を用いて光透過層１６を形成することも可能である。
尚、光記録媒体１０を構成する各層のうち、支持基板１１と光透過層１６との間に設けられる層を「情報層」と総称することがある。再生専用の光記録媒体においては、支持基板１１に設けられるピット列によって情報が保持されるため記録層１４に相当する層が設けられないが、この場合、反射層が情報層に相当する。
本実施形態による光記録媒体１０では、光入射面１６ａの凹凸が所定の範囲内に抑えられている。これについて、より具体的に説明する。
図２は、光入射面１６ａの凹凸部分を拡大して示す略断面図であり、（ａ）は凸欠陥部分、（ｂ）は凹欠陥部分を示している。
図２（ａ）に示すように、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１のピーク部分２１ａにおける光透過層１６の厚さをＴ１、凸欠陥２１の端部２１ｂにおける光透過層１６の厚さをＴ２、凸欠陥２１のピーク部分２１ａから端部２１ｂまでの周方向における距離（ピーク部分２１ａから一方の端部２１ｂまでの距離と他方の端部２１ｂまでの距離が異なる場合には、その短い方）をＷとした場合、本実施形態による光記録媒体１０では、少なくとも記録エリア内の全ての凸欠陥２１の変動量（Ｔ１−Ｔ２）と変動幅（Ｗ）との間に、
Ｔ１−Ｔ２／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
の関係が満たされている。換言すれば、本実施形態による光記録媒体１０の少なくとも記録エリア内には、
Ｔ１−Ｔ２／Ｗ＞５．５×１０^−４
を満たす凸欠陥は存在しない。
さらに、図２（ｂ）に示すように、光入射面１６ａに存在する凹欠陥２２のボトム部分２２ａにおける光透過層１６の厚さをＴ１、凹欠陥２２の端部２２ｂにおける光透過層１６の厚さをＴ２、凹欠陥２２のボトム部分２２ａから端部２２ｂまでの周方向における距離（ボトム部分２２ａから一方の端部２２ｂまでの距離と他方の端部２２ｂまでの距離が異なる場合には、その短い方）をＷとした場合、本実施形態による光記録媒体１０では、少なくとも記録エリア内の全ての凹欠陥２２の変動量（Ｔ２−Ｔ１）と変動幅（Ｗ）との間に、
Ｔ２−Ｔ１／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
の関係が満たされている。換言すれば、本実施形態による光記録媒体１０の少なくとも記録エリア内には、
Ｔ２−Ｔ１／Ｗ＞５．５×１０^−４
を満たす凹欠陥は存在しない。
すなわち、本実施形態による光記録媒体１０では、光入射面１６ａの記録エリアに存在する欠陥の全てについて、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
が満たされている。
このような条件を満たす光記録媒体は、光入射面１６ａが十分に平滑であることから、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１や凹欠陥２２によって記録特性や再生特性に深刻な影響を与えることがない。具体的には、次世代型の光記録媒体の記録及び／又は再生において好ましく用いられる線速度領域（１０〜１９ｍ／ｓ）において、高域面振れ量を０．３５μｍ以下、面振れ加速度を１０ｍ／ｓ^２以下に抑えることができ、その結果、高域面振れや面振れ加速度に起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。一般に、残留フォーカスエラー成分が１０％を超えると、ジッタへの影響が非常に顕著となることから、本発明では、光入射面１６ａに存在する凸欠陥２１や凹欠陥２２によってジッタを顕著に悪化させることがない。
ここで、「面振れ加速度」とは記録及び／又は再生時において対物レンズに生じる加速度を指し、「高域面振れ量」とは凸欠陥２１や凹欠陥２２のうち、対物レンズが追従できない急峻部分の大きさを指す。
次に、図１に示す光記録媒体１０の製造方法について説明する。書き換え型である光記録媒体１０の製造工程は、大きく分けて成膜工程と初期化工程からなり、成膜工程及び初期化工程の順に行われる。
図３は、図１に示す光記録媒体１０の製造方法を示すフローチャートである。
まず、スタンパを用いた射出成形法により、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成された支持基板１１を作製する（ステップＳ１）。但し、支持基板１１の作製は射出成形法に限られず、２Ｐ法等、他の方法によってこれを作製しても構わない。
次に、支持基板１１の表面のうち、グループ１１ａ及びランド１１ｂが設けられた面に反射層１２を形成する（ステップＳ２）。反射層１２の形成は、反射層１２の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましい。気相成長法としてはスパッタリング法や真空蒸着法が挙げられ、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。
次に、反射層１２上に第２誘電体層１３を形成する（ステップＳ３）。第２誘電体層１３の形成についても、第２誘電体層１３の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。
次に、第２誘電体層１３上に記録層１４を形成する（ステップＳ４）。記録層１４の形成についても、記録層１４の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。スパッタリング直後における相変化材料はアモルファス状態となっており、その後行われる初期化工程において結晶状態に変化させられる。
次に、記録層１４上に第１誘電体層１５を形成する（ステップＳ５）。第１誘電体層１５の形成についても、第１誘電体層１５の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、中でもスパッタリング法を用いることがより好ましい。
そして、第１誘電体層１５上に光透過層１６を形成する（ステップＳ６）。光透過層１６は、例えば、粘度調整されたアクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂をスピンコート法等により皮膜させ、紫外線を照射して硬化させたり、或いは、光透過性樹脂からなる光透過性シートを接着剤により貼り付けることにより形成することができる。上述のとおり、スピンコート法や光透過性シートの貼り付け等によって形成した光透過層１６の表面（光入射面１６ａ）は、ＣＤやＤＶＤの光入射面である光透過性基板の表面に比べて平坦性が低くなりやすい。
以上により、成膜工程が完了する。本発明においては、成膜工程が完了した状態の光記録媒体を「光記録媒体前駆体１０’」と呼ぶ。但し、特に区別する必要がない場合には、便宜上、光記録媒体前駆体１０’についても単に「光記録媒体」と呼ぶことがある。
次に、光記録媒体前駆体１０’をレーザ照射装置（図示せず）の回転テーブルに載置し、回転させながらグルーブ１１ａ及びランド１１ｂに沿った方向（円周方向）における長さが短く、且つ、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂに垂直な方向（径方向）における長さが長い矩形状の初期化用レーザビームを連続的に照射し、光記録媒体前駆体１０’が１回転するごとに照射位置を径方向にずらすことによって、初期化用レーザビームを記録層１４のほぼ全面に照射する。すなわち、記録層１４の初期化を行う（ステップＳ７）。初期化用レーザビームが照射された領域における相変化材料は融点を超える温度に加熱され、その後初期化用レーザビームが遠ざかることによって除冷されることから、記録層１４の全面が結晶状態、すなわち、未記録状態となる。
以上により、初期化工程が完了し、光記録媒体１０が完成する。初期化工程を行うと結晶粒径が比較的大きくなり、これにより、記録層１４の反射率が非常に高くなる。
なお、光記録媒体１０の製造方法は上記の製造方法に特に限定されるものではなく、公知の光記録媒体の製造に採用される製造技術を用いることができる。
次に、光記録媒体の良否を検査する方法について説明する。
検査を行うタイミングとしては、成膜工程が完了した後であればどのタイミングで行っても構わないが、以下に説明するように、記録層１４の反射率が高いと検査を行いにくくなることから、成膜工程が完了した後、初期化工程を行う前（ステップＳ６とステップＳ７の間）に検査を実行することが好ましい。したがって、以下、上述した光記録媒体前駆体１０’を検査対象とする場合を例に説明する。
図４は、光記録媒体の良否を検査するための検査装置１００の概略構成図である。
図４に示すように、検査装置１００は、光記録媒体前駆体１０’を回転させるスピンドルモータ１０１と、光記録媒体前駆体１０’に検査用レーザビームＬ１を照射する光学系１１０と、光学系１１０を光記録媒体前駆体１０’の径方向に移動させるトラバースモータ１０２と、光学系１１０にレーザ駆動信号１０３ａを供給するレーザ駆動回路１０３と、光学系１１０にレンズ駆動信号１０４ａを供給するレンズ駆動回路１０４と、スピンドルモータ１０１、トラバースモータ１０２、レーザ駆動回路１０３及びレンズ駆動回路１０４を制御するコントローラ１０５とを備えている。
光学系１１０は、レーザ駆動信号１０３ａに基づいて検査用レーザビームＬ１を発生するレーザ光源１１１と、レーザ光源１１１が発する検査用レーザビームＬ１を平行光線に変換するコリメータレンズ１１２と、検査用レーザビームＬ１とその戻り光Ｌ２とを分離するビームスプリッタ１１３と、検査用レーザビームＬ１を光記録媒体前駆体１０’に照射する光ヘッド１１４と、検査用レーザビームの戻り光Ｌ２に基づいてフォーカスエラー信号ＦＥを生成するフォトディテクタ１１５とを備えている。
図５は、光ヘッド１１４の構成を示す概略図である。図５に示すように、光ヘッド１１４は、検査用レーザビームＬ１を集光する対物レンズ１１４ａと、レンズ駆動信号１０４ａに基づいて対物レンズ１１４ａを上下動させるアクチュエータ１１４ｂと、対物レンズ１１４ａに固定された永久磁石１１４ｃと、永久磁石１１４ｃを取り囲むように設けられたコイル１１４ｄとを備えている。永久磁石１１４ｃ及びこれを取り囲むように設けられたコイル１１４ｄは、対物レンズ１１４ａの上下方向の位置を検出するための位置検出器として機能し、コイル１１４ｄに流れる電流は位置検出信号Ｐとしてコントローラ１０５に供給される。
スピンドルモータ１０１は、コントローラ１０５による制御のもと、光記録媒体前駆体１０’を所望の回転数で回転させることが可能である。トラバースモータ１０２は、コントローラ１０５による制御のもと、光学系１１０を光記録媒体前駆体１０’の径方向に移動させるために用いられる。レーザ駆動回路１０３は、コントローラ１０５による制御のもと、光学系１１０内のレーザ光源１１１にレーザ駆動信号１０３ａを供給するために用いられる。レンズ駆動回路１０４は、コントローラ１０５による制御のもと、光ヘッド１１４にレンズ駆動信号１０４ａを供給するために用いられる。上述の通り、レンズ駆動信号１０４ａを受けた光ヘッド１１４内のアクチュエータ１１４ｂは、これに基づいて対物レンズ１１４ａ上下動させる。これにより、検査用レーザビームＬ１のビームスポットを所望の面に正しくフォーカスさせることが可能となる。
コントローラ１０５には、フォーカス制御回路１０５ａ及び判定回路１０５ｂが含まれており、フォーカス制御回路１０５ａが活性状態となると、レンズ駆動回路１０４に対する制御により、検査用レーザビームＬ１のビームスポットが所望の面にフォーカスロックされた状態となる。また、判定回路１０５ｂは、検査対象である光記録媒体前駆体１０’が良品であるか不良品であるかを判定する回路であり、フォトディテクタ１１５により生成されるフォーカスエラー信号ＦＥ及び位置検出器により生成される位置検出信号Ｐに基づいて判定を行う。
図６は、光記録媒体の良否を検査する方法を示すフローチャートである。
光記録媒体の良否の検査においては、検査対象である光記録媒体前駆体１０’を検査装置１００にセットした後、まず、コントローラ１０５による制御のもと、スピンドルモータ１０１によって光記録媒体前駆体１０’を回転させ（ステップＳ１１）、さらに、レーザ駆動回路１０３を駆動することにより検査用レーザビームＬ１を光記録媒体前駆体１０’に照射する（ステップＳ１２）。この時、検査位置についてはトラバースモータ１０２を駆動することにより光記録媒体前駆体１０’の径方向に調整可能である。
スピンドルモータ１０１による光記録媒体前駆体１０’の回転は、検査用レーザビームＬ１に対して線速度が一定となるように制御することが好ましく、この場合の線速度としては、実際の記録時及び／又は再生時における線速度にほぼ一致させることが好ましい。検査時における線速度を記録時及び／又は再生時における線速度とほぼ一致させれば、光入射面１６ａに存在する凹凸が実際のデータの記録及び／又は再生に与える影響を考慮して検査を行うことが可能となる。
次に、コントローラ１０５による制御のもと、レンズ駆動回路１０４を駆動し、検査用レーザビームＬ１のフォーカスを光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａに合わせる（ステップＳ１３）。
そして、コントローラ１０５内のフォーカス制御回路１０５ａを活性化させることにより、検査用レーザビームＬ１を光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａにフォーカスロックさせる（ステップＳ１４）。これにより、光ヘッド１１４内のアクチュエータ１１４ｂには、対物レンズ１１４ａが光入射面１６ａの凹凸に追従するよう、レンズ駆動信号１０４ａがリアルタイムに供給されることになる。
図７は、検査用レーザビームＬ１が光記録媒体前駆体１０’の光入射面１６ａにフォーカスロックした状態を模式的に示す図である。光入射面１６ａは、通常５％程度の反射率を有していることから、データの記録時や再生時において記録層１４にフォーカスロックさせる場合と同様にして、光入射面１６ａにもフォーカスロックさせることが可能であるが、光入射面１６ａに比べて記録層１４の反射率が高すぎると、光入射面１６ａに検査用レーザビームＬ１をフォーカスロックさせにくくなる。このため、検査時においては記録層１４の反射率が低いことが望ましい。図６に示す検査工程を初期化工程より前（ステップＳ６とステップＳ７の間）に実行することが好ましいのは、かかる理由による。
この状態において、コントローラ１０５内に含まれる判定回路１０５ｂは、光ヘッド１１４より供給される位置検出信号Ｐ及びフォトディテクタ１１５より供給されるフォーカスエラー信号ＦＥを監視し、これに基づいて面振れ加速度及び高域面振れ量をそれぞれ計算する（ステップＳ１５）。位置検出信号Ｐに基づく面振れ加速度の計算及びフォーカスエラー信号ＦＥに基づく高域面振れ量は次のようにして行う。
すなわち、対物レンズ１１４ａが光入射面１６ａの表面に存在する凹凸に連動して上下動すると、位置検出信号Ｐはこれに連動した電流値を示すことから、位置検出信号Ｐにより示される対物レンズ１１４ａの位置を判定回路１０５ｂ内で２回微分すれば、対物レンズ１１４ａに生じている加速度を知ることが可能となる。一方、光入射面１６ａの表面に凹凸が存在している場合であっても、これに連動して対物レンズ１１４ａが上下動しない場合、つまり、凹凸が急峻であるために対物レンズ１１４ａが追従できなかった場合には、位置検出信号Ｐに変化は現れない。
このように、位置検出信号Ｐを参照すれば、光入射面１６ａの表面に存在する凹凸のうち対物レンズ１１４ａが追従可能な凹凸によって対物レンズ１１４ａにどの程度の加速度が生じているのか、すなわち、「面振れ加速度」を算出することが可能となる。
また、光入射面１６ａの表面に凹凸が存在しているにも関わらず、これが急峻であるために対物レンズ１１４ａが追従できなかった場合には、検査用レーザビームＬ１の焦点が光入射面１６ａからずれてしまい、そのズレ量がフォーカスエラー信号ＦＥとなって現れる。一方、光入射面１６ａの表面に凹凸が存在している場合であっても、対物レンズ１１４ａがこれに連動して正しく上下動している場合には、フォーカスエラー信号ＦＥは正しくフォーカスされていることを示すことになる。
したがって、フォーカスエラー信号ＦＥを参照すれば、光入射面１６ａの表面に存在する凹凸のうち、対物レンズ１１４ａが追従できない急峻な凹凸の存在とその大きさ、すなわち、「高域面振れ量」を算出することが可能となる。
尚、対物レンズ１１４ａが追従可能な凹凸の限界は、使用する部品によって異なるが、ＣＤ用の部品を用いた場合には約５００Ｈｚ程度である。つまり、光入射面１６ａの表面に存在する凹凸のうち、その周波数成分が約５００Ｈｚ以下であれば対物レンズ１１４ａが追従可能である一方、その周波数成分が約５００Ｈｚを超える場合には、対物レンズ１１４ａはこれに追従することができなくなってしまう。
このように、光ヘッド１１４より供給される位置検出信号Ｐ及びフォトディテクタ１１５より供給されるフォーカスエラー信号ＦＥを参照すれば、光入射面１６ａの表面性を表す面振れ加速度及び高域面振れ量を算出することが可能となる。
次に、コントローラ１０５内に含まれる判定回路１０５ｂは、ステップＳ１５にて算出された面振れ加速度及び高域面振れ量に基づいて、検査対象である光記録媒体前駆体１０’が良品であるか不良品であるかを判定する（ステップＳ１６）。
図８は、ステップＳ１６による判定方法を示すフローチャートである。
ステップＳ１６においては、まず、フォーカスエラー信号ＦＥより得られた高域面振れ量を参照し、これが高域面振れ量のしきい値を越えていないか否かを判断する（ステップＳ２１）。ここで、「高域面振れ量のしきい値」とは、光入射面１６ａに存在する凹凸のうち、対物レンズ１１４ａが追従できない急峻な凹凸に許容されるサイズの最大値であり、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ＞５．５×１０^−４
を満たす凹凸欠陥を排除するためには、高域面振れ量のしきい値を０．３５μｍに設定すればよい。高域面振れ量のしきい値をこのように設定すれば、実際の記録及び／又は再生において高域面振れに起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。残留フォーカスエラー成分が１０％を超えると、ジッタへの影響が非常に顕著となることから、このような光記録媒体前駆体１０’は本検査工程において排除する必要がある。
そして、ステップＳ２１における判断の結果、高域面振れ量の最大値がしきい値を越えていれば（Ｓ２１：ＹＥＳ）、不良品と判定する。
一方、面振れ量の最大値がしきい値を越えていなければ（Ｓ２１：ＮＯ）、次に、光入射面１６ａの面振れ加速度の最大値を抽出し、これが面振れ加速度のしきい値を越えていないか否かを判断する（ステップＳ２２）。ここで、「面振れ加速度のしきい値」とは、光入射面１６ａに存在する凹凸に基づき対物レンズ１１４ａに生じる加速度として許容される最大値であり、検査装置１００においては追従可能であったとしても、ユーザが実際に使用するドライブの性能によってはフォーカスが外れてしまうおそれのある面振れを持った光記録媒体前駆体１０’を排除することを目的として設定される。具体的には、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ＞５．５×１０^−４
を満たす凹凸欠陥を排除すべく、面振れ加速度のしきい値を１０ｍ／ｓ^２に設定すればよい。面振れ加速度のしきい値をこのように設定すれば、実際の記録及び／又は再生において高域面振れに起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ１０％以下とすることができる。ステップＳ２２における判断の結果、面振れ加速度の最大値がしきい値を越えていれば（Ｓ２２：ＹＥＳ）、不良品と判定する。
一方、面振れ加速度の最大値がしきい値を越えていなければ（Ｓ２２：ＮＯ）、最終的に良品であると判定し、図３に示した初期化工程（ステップＳ７）を実行する。
図９は、図８に示す基準により良品と判定される領域を示す模式的なグラフである。図９に示すように、図８に示す基準によって判定を行えば、良品と判定される領域はグラフ上において２辺が両軸に接する四角形となり、高域面振れ量及び面振れ加速度がいずれも所定のしきい値以下である場合にのみ良品であると判定されることが分かる。
尚、上述した光記録媒体の検査方法及び検査装置はあくまで一例であり、これ以外の方法によって、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ＞５．５×１０^−４
を満たす凹凸欠陥を持った光記録媒体を排除することも可能である。
例えば、上記検査装置１００では、位置検出信号Ｐを生成するために永久磁石１１４ｃ及びコイル１１４ｄからなる位置検出器を用いているが、これ以外の方法によって対物レンズ１１４ａに生じている加速度を測定可能しても構わない。例えば、永久磁石１１４ｃ及びコイル１１４ｄの代わりに静電容量型の位置検出器を設け、これによって対物レンズ１１４ａに生じている加速度を測定することも可能である。
また、上記の検査方法においては、光記録媒体の光入射面に検査用レーザビームＬ１のフォーカスを合わせることによって光入射面の表面性を検査しているが、回転している光記録媒体の光入射面に電磁波又は音波を照射し、ドップラー効果により生じる、反射波の周波数ずれを測定することにより、光入射面の表面性を検査しても構わない。
以上説明したように、本実施態様による光記録媒体１０は、支持基板１１とは反対側の面に設けられた薄い光透過層１６を有し、その表面である光入射面１６ａの記録エリア内に存在する凹凸欠陥の全てについて、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
が満たされていることから、光入射面１６ａに存在する凹凸欠陥によって記録特性や再生特性に深刻な影響を与えることがない。
尚、本発明において「光入射面」とは、光記録媒体の表面のうち記録及び／又は再生に用いるレーザビームが入射する面を指し、光透過層１６の表面である必要はない。したがって、光透過層１６の表面にハードコート層等が設けられている場合には、その表面が「光入射面」となる。
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。  Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
  FIG. 1A is a cutaway perspective view showing the appearance of an optical recording medium 10 according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an enlarged view of part A shown in FIG. It is sectional drawing. An optical recording medium 10 shown in FIG. 1 is a so-called rewritable optical recording medium. However, the object of the present invention is not limited to a rewritable optical recording medium, and is a write-once optical recording medium or a read-only optical recording medium. Other types of optical recording media such as optical recording media can also be targeted.
  An optical recording medium 10 shown in FIGS. 1A and 1B is a disc-shaped optical recording medium having an outer diameter of about 120 mm and a thickness of about 1.2 mm. As shown in FIG. The support substrate 11, the reflective layer 12, the second dielectric layer 13, the recording layer 14, the first dielectric layer 15, and the light transmission layer 16 are configured. Although not particularly limited, the optical recording medium 10 shown in FIG. 1 is irradiated with a laser beam L having a wavelength λ of 380 nm to 450 nm, preferably about 405 nm, from the light incident surface 16 a that is the surface of the light transmission layer 16. By doing so, it is a rewritable optical recording medium capable of recording and reproducing data. In recording and reproducing data to and from the optical recording medium 10, an objective lens having a numerical aperture of 0.7 or more, preferably about 0.85 is used, whereby the wavelength of the laser beam L is λ, and the numerical aperture of the objective lens. Is set to λ / NA ≦ 640 nm. The “second” dielectric layer 13 and the “first” dielectric layer 15 mean the second and first dielectric layers as viewed from the light incident surface 16a, respectively.
  The support substrate 11 is a disk-shaped substrate having a thickness of about 1.1 mm used for securing a thickness (about 1.2 mm) required for the optical recording medium 10, and has a central portion on one surface thereof. Grooves 11a and lands 11b for guiding the laser beam L are formed in a spiral shape from the vicinity toward the outer edge. Various materials can be used as the material of the support substrate 11, and for example, glass, ceramics, or resin can be used. Of these, polycarbonate resins are often used from the viewpoint of ease of molding.
  The reflection layer 12 plays a role of reflecting the laser beam L incident from the light transmission layer 16 side and emitting the laser beam L from the light transmission layer 16 again. As the material of the reflective layer 12, various materials that can reflect the laser beam L can be used. For example, magnesium (Mg), aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), copper (Cu), zinc (Zn), germanium (Ge), silver (Ag), platinum (Pt), gold (Au), or the like is used. The thickness of the reflective layer 13 is set to 5 to 300 nm.
  The first dielectric layer 15 and the second dielectric layer 13 serve to physically and / or chemically protect the recording layer 14 provided therebetween, and the recording layer 14 serves as the first dielectric layer 13. Further, by being sandwiched between the second dielectric layers 15, deterioration of recorded information is effectively prevented over a long period after optical recording.
  The material constituting the first dielectric layer 15 and the second dielectric layer 13 is not particularly limited as long as it is a transparent dielectric material in the wavelength region of the laser beam L to be used. For example, oxide, sulfide, nitride Or a combination thereof can be used as a main component, but from the viewpoint of the thermal deformation prevention of the support substrate 11 and the like and the protective properties for the recording layer 14, Al₂O₃AlN, ZnO, ZnS, GeN, GeCrN, CeO₂, SiO, SiO₂, Si₃N₄, SiC, La₂O₃, TaO, TiO₂, SiAlON (SiO₂, Al₂O₃, Si₃N₄And a mixture of AlN) and LaSiON (La₂O₃, SiO₂And Si₃N₄Etc.), such as aluminum (Al), silicon (Si), cerium (Ce), titanium (Ti), zinc (Zn), tantalum (Ta), oxides, nitrides, sulfides, carbides or mixtures thereof Is preferably used. The thicknesses of the first dielectric layer 15 and the second dielectric layer 13 are set to 3 to 200 nm.
  The recording layer 14 is a layer on which a reversible recording mark is formed, and is made of a phase change material. Since the phase change material has a different reflectance in a crystalline state and a reflectance in an amorphous state, data is recorded using this. The recorded data includes, for example, the length of the recording mark in the amorphous state (length from the leading edge to the trailing edge of the recording mark) and the length of the blank area in the crystalline state (from the trailing edge of the recording mark to the next (Length to the leading edge of the recording mark).
  In order to change the recording layer 14 from the crystalline state to the amorphous state, the laser beam L irradiated from the light incident surface 16a is changed to a pulse waveform having an amplitude from the recording power Pw to the base power Pb. Heating to a temperature equal to or higher than the melting point, followed by rapid cooling by setting the power of the laser beam L to the base power Pb. As a result, the melted region changes to an amorphous state, which becomes a recording mark. On the other hand, in order to change the recording layer 14 from the amorphous state to the crystalline state, the power of the laser beam L irradiated from the light incident surface 16a is set to the erasing power Pe to set the recording layer 14 to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature. Heat to. Since the region heated to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature is gradually cooled as the laser beam L moves away, the region changes to a crystalline state.
  Here, the relationship between the recording power Pw, the erasing power Pe, and the base power Pb is as follows:
Pw> Pe ≧ Pb
Set to Therefore, by modulating the power of the laser beam L in this way, not only a recording mark is formed in an unrecorded area of the recording layer 14, but also a different recording mark is directly overwritten in an area where a recording mark is already formed. (Direct overwriting) is possible.
  The type of phase change material constituting the recording layer 14 is not particularly limited, but in order to enable direct overwriting at high speed, the time required for the structural change from the amorphous state to the crystalline state (crystallization) It is preferable to select a material having a short time), and examples of such a material include SbTe-based materials. As the SbTe-based material, only SbTe may be used, or an additive may be added in order to further shorten the crystallization time and increase the reliability for long-term storage. The thickness of the recording layer 14 is set to 2 to 40 nm.
  The light transmission layer 16 is a layer that constitutes an incident surface of the laser beam L and serves as an optical path of the laser beam L, and has a thickness of 30 to 200 μm, preferably about 100 μm. The material of the light transmission layer 16 is not particularly limited as long as the material has a sufficiently high light transmittance in the wavelength region of the laser beam L to be used, but an acrylic or epoxy ultraviolet curable resin is preferably used. Moreover, it is also possible to form the light transmissive layer 16 using a light transmissive sheet made of a light transmissive resin and various adhesives and pressure-sensitive adhesives instead of a film formed by curing an ultraviolet curable resin.
  Of the layers constituting the optical recording medium 10, layers provided between the support substrate 11 and the light transmission layer 16 may be collectively referred to as “information layers”. In a read-only optical recording medium, since information is held by pit rows provided on the support substrate 11, a layer corresponding to the recording layer 14 is not provided, but in this case, the reflective layer corresponds to the information layer.
  In the optical recording medium 10 according to the present embodiment, the unevenness of the light incident surface 16a is suppressed within a predetermined range. This will be described more specifically.
  FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged concavo-convex portion of the light incident surface 16a, where (a) shows a convex defect portion and (b) shows a concave defect portion.
  As shown in FIG. 2A, the thickness of the light transmission layer 16 at the peak portion 21a of the convex defect 21 existing on the light incident surface 16a is T1, and the thickness of the light transmission layer 16 at the end portion 21b of the convex defect 21. T2, the distance in the circumferential direction from the peak portion 21a to the end portion 21b of the convex defect 21 (if the distance from the peak portion 21a to the one end portion 21b is different from the distance from the other end portion 21b, the distance is short. When W is W, in the optical recording medium 10 according to the present embodiment, at least between the fluctuation amount (T1-T2) and the fluctuation width (W) of all the convex defects 21 in the recording area,
              T1-T2 / W ≦ 5.5 × 10^-4
The relationship is satisfied. In other words, at least in the recording area of the optical recording medium 10 according to the present embodiment,
              T1-T2 / W> 5.5 × 10^-4
There is no convex defect that satisfies
  Further, as shown in FIG. 2B, the thickness of the light transmission layer 16 at the bottom portion 22a of the concave defect 22 existing on the light incident surface 16a is T1, and the thickness of the light transmission layer 16 at the end 22b of the concave defect 22 is. Thickness T2, the distance in the circumferential direction from the bottom portion 22a of the concave defect 22 to the end 22b (if the distance from the bottom portion 22a to one end 22b and the distance from the other end 22b are different, When the shorter one is W, in the optical recording medium 10 according to the present embodiment, at least between the fluctuation amount (T2-T1) and the fluctuation width (W) of all the concave defects 22 in the recording area,
              T2-T1 / W ≦ 5.5 × 10^-4
The relationship is satisfied. In other words, at least in the recording area of the optical recording medium 10 according to the present embodiment,
              T2-T1 / W> 5.5 × 10^-4
There is no concave defect that satisfies
  That is, in the optical recording medium 10 according to the present embodiment, all the defects existing in the recording area of the light incident surface 16a are
            | T1-T2 | /W≦5.5×10^-4
Is satisfied.
  In an optical recording medium satisfying such conditions, the light incident surface 16a is sufficiently smooth, and thus the recording defect and reproduction characteristic are seriously affected by the convex defect 21 and the concave defect 22 present on the light incident surface 16a. There is nothing. Specifically, in a linear velocity region (10 to 19 m / s) preferably used for recording and / or reproduction of a next-generation type optical recording medium, the high-frequency surface shake amount is 0.35 μm or less and the surface shake acceleration is 10 m. / S²As a result, the residual focus error component caused by high-frequency surface shake and surface shake acceleration can be reduced to approximately 10% or less. In general, when the residual focus error component exceeds 10%, the influence on the jitter becomes very significant. Therefore, in the present invention, the jitter is remarkably deteriorated by the convex defect 21 and the concave defect 22 existing on the light incident surface 16a. I will not let you.
  Here, “surface vibration acceleration” refers to acceleration generated in the objective lens at the time of recording and / or reproduction, and “high-frequency surface vibration amount” is steep in which the objective lens cannot follow the convex defect 21 or the concave defect 22. Refers to the size of the part.
  Next, a method for manufacturing the optical recording medium 10 shown in FIG. 1 will be described. The manufacturing process of the rewritable optical recording medium 10 is roughly divided into a film forming process and an initialization process, which are performed in the order of the film forming process and the initialization process.
  FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the optical recording medium 10 shown in FIG.
  First, the support substrate 11 on which the groove 11a and the land 11b are formed is manufactured by an injection molding method using a stamper (step S1). However, the production of the support substrate 11 is not limited to the injection molding method, and it may be produced by other methods such as the 2P method.
  Next, the reflective layer 12 is formed on the surface of the support substrate 11 on which the group 11a and the land 11b are provided (step S2). The reflective layer 12 is preferably formed using a vapor phase growth method using chemical species including the constituent elements of the reflective layer 12. Examples of the vapor phase growth method include a sputtering method and a vacuum evaporation method, and it is more preferable to use the sputtering method.
  Next, the second dielectric layer 13 is formed on the reflective layer 12 (step S3). Also for the formation of the second dielectric layer 13, it is preferable to use a vapor phase growth method using chemical species containing the constituent elements of the second dielectric layer 13, and it is more preferable to use the sputtering method.
  Next, the recording layer 14 is formed on the second dielectric layer 13 (step S4). Also for the formation of the recording layer 14, it is preferable to use a vapor phase growth method using a chemical species containing a constituent element of the recording layer 14, and it is more preferable to use a sputtering method. The phase change material immediately after sputtering is in an amorphous state, and is changed to a crystalline state in an initialization process performed thereafter.
  Next, the first dielectric layer 15 is formed on the recording layer 14 (step S5). Also for the formation of the first dielectric layer 15, it is preferable to use a vapor phase growth method using a chemical species containing a constituent element of the first dielectric layer 15, and it is more preferable to use a sputtering method.
  Then, the light transmission layer 16 is formed on the first dielectric layer 15 (step S6). For example, the light transmission layer 16 is formed by coating a viscosity-adjusted acrylic or epoxy ultraviolet curable resin by a spin coat method or the like, and irradiating with ultraviolet rays to cure, or transmitting light made of a light transmissive resin. The adhesive sheet can be formed by sticking with an adhesive. As described above, the surface (light incident surface 16a) of the light transmissive layer 16 formed by spin coating or pasting a light transmissive sheet is compared with the surface of the light transmissive substrate that is the light incident surface of a CD or DVD. And flatness tends to be low.
  Thus, the film forming process is completed. In the present invention, the optical recording medium in a state where the film forming process is completed is referred to as “optical recording medium precursor 10 ′”. However, for the sake of convenience, the optical recording medium precursor 10 ′ may be simply referred to as “optical recording medium” unless it is necessary to distinguish between them.
  Next, the optical recording medium precursor 10 ′ is placed on a rotary table of a laser irradiation apparatus (not shown), and the length in the direction (circumferential direction) along the groove 11a and the land 11b is short while rotating. In addition, a rectangular initialization laser beam having a long length in the direction (radial direction) perpendicular to the groove 11a and the land 11b is continuously irradiated, and the irradiation position is generated each time the optical recording medium precursor 10 ′ rotates once. Is shifted in the radial direction to irradiate the entire surface of the recording layer 14 with the laser beam for initialization. That is, the recording layer 14 is initialized (step S7). The phase change material in the region irradiated with the initialization laser beam is heated to a temperature exceeding the melting point, and then is cooled by moving away from the initialization laser beam, so that the entire surface of the recording layer 14 is in a crystalline state, that is, The recording state is not completed.
  Thus, the initialization process is completed, and the optical recording medium 10 is completed. When the initialization process is performed, the crystal grain size becomes relatively large, and thereby the reflectance of the recording layer 14 becomes very high.
  In addition, the manufacturing method of the optical recording medium 10 is not specifically limited to said manufacturing method, The manufacturing technique employ | adopted for manufacture of a well-known optical recording medium can be used.
  Next, a method for inspecting the quality of the optical recording medium will be described.
  The inspection may be performed at any timing after the film forming process is completed. However, as described below, if the recording layer 14 has a high reflectance, it is difficult to perform the inspection. The inspection is preferably performed after the film formation process is completed and before the initialization process is performed (between step S6 and step S7). Therefore, the case where the optical recording medium precursor 10 ′ described above is an inspection target will be described below as an example.
  FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an inspection apparatus 100 for inspecting the quality of the optical recording medium.
  As shown in FIG. 4, the inspection apparatus 100 includes a spindle motor 101 that rotates an optical recording medium precursor 10 ′, an optical system 110 that irradiates the optical recording medium precursor 10 ′ with an inspection laser beam L1, and an optical system. 110, a traverse motor 102 for moving the optical recording medium precursor 10 'in the radial direction, a laser drive circuit 103 for supplying a laser drive signal 103a to the optical system 110, and a lens drive for supplying a lens drive signal 104a to the optical system 110. The circuit 104 includes a spindle motor 101, a traverse motor 102, a laser drive circuit 103, and a controller 105 that controls the lens drive circuit 104.
  The optical system 110 includes a laser light source 111 that generates an inspection laser beam L1 based on a laser drive signal 103a, a collimator lens 112 that converts the inspection laser beam L1 emitted from the laser light source 111 into parallel rays, and an inspection laser beam. A beam splitter 113 that separates L1 and its return light L2, an optical head 114 that irradiates the optical recording medium precursor 10 'with the inspection laser beam L1, and a focus error signal based on the return light L2 of the inspection laser beam And a photodetector 115 for generating FE.
  FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of the optical head 114. As shown in FIG. 5, the optical head 114 is fixed to the objective lens 114a that condenses the inspection laser beam L1, the actuator 114b that moves the objective lens 114a up and down based on the lens drive signal 104a, and the objective lens 114a. A permanent magnet 114c and a coil 114d provided so as to surround the permanent magnet 114c. The permanent magnet 114c and the coil 114d provided so as to surround the permanent magnet 114c function as a position detector for detecting the vertical position of the objective lens 114a, and the current flowing through the coil 114d is sent to the controller 105 as a position detection signal P. Supplied.
  The spindle motor 101 can rotate the optical recording medium precursor 10 ′ at a desired rotation speed under the control of the controller 105. The traverse motor 102 is used to move the optical system 110 in the radial direction of the optical recording medium precursor 10 ′ under the control of the controller 105. The laser drive circuit 103 is used to supply a laser drive signal 103 a to the laser light source 111 in the optical system 110 under the control of the controller 105. The lens driving circuit 104 is used to supply a lens driving signal 104 a to the optical head 114 under the control of the controller 105. As described above, the actuator 114b in the optical head 114 that has received the lens driving signal 104a moves the objective lens 114a up and down based on this. This makes it possible to correctly focus the beam spot of the inspection laser beam L1 on a desired surface.
  The controller 105 includes a focus control circuit 105a and a determination circuit 105b. When the focus control circuit 105a is activated, the control of the lens driving circuit 104 causes the beam spot of the inspection laser beam L1 to reach a desired surface. The focus is locked. The determination circuit 105b is a circuit for determining whether the optical recording medium precursor 10 ′ to be inspected is a non-defective product or a defective product, and is based on the focus error signal FE generated by the photodetector 115 and the position detector. The determination is performed based on the generated position detection signal P.
  FIG. 6 is a flowchart showing a method for inspecting the quality of the optical recording medium.
  In the inspection of the quality of the optical recording medium, after the optical recording medium precursor 10 ′ to be inspected is set in the inspection apparatus 100, first, the optical recording medium precursor 10 is controlled by the spindle motor 101 under the control of the controller 105. 'Is rotated (step S11), and the laser driving circuit 103 is driven to irradiate the optical recording medium precursor 10' with the inspection laser beam L1 (step S12). At this time, the inspection position can be adjusted in the radial direction of the optical recording medium precursor 10 ′ by driving the traverse motor 102.
  The rotation of the optical recording medium precursor 10 ′ by the spindle motor 101 is preferably controlled so that the linear velocity is constant with respect to the inspection laser beam L 1. It is preferable to substantially match the linear velocity during reproduction. If the linear velocity at the time of inspection is substantially the same as the linear velocity at the time of recording and / or reproduction, the inspection is performed in consideration of the influence of the irregularities present on the light incident surface 16a on the actual data recording and / or reproduction. Can be done.
  Next, under the control of the controller 105, the lens driving circuit 104 is driven to focus the inspection laser beam L1 on the light incident surface 16a of the optical recording medium precursor 10 '(step S13).
  Then, by activating the focus control circuit 105a in the controller 105, the inspection laser beam L1 is focus-locked to the light incident surface 16a of the optical recording medium precursor 10 '(step S14). As a result, the lens drive signal 104a is supplied to the actuator 114b in the optical head 114 in real time so that the objective lens 114a follows the unevenness of the light incident surface 16a.
  FIG. 7 is a diagram schematically showing a state in which the inspection laser beam L1 is focus-locked on the light incident surface 16a of the optical recording medium precursor 10 '. Since the light incident surface 16a usually has a reflectivity of about 5%, the light incident surface 16a is also focus-locked in the same manner as when the recording layer 14 is focus-locked during data recording or reproduction. However, if the reflectance of the recording layer 14 is too high compared to the light incident surface 16a, it is difficult to focus-lock the inspection laser beam L1 on the light incident surface 16a. For this reason, it is desirable that the reflectance of the recording layer 14 is low at the time of inspection. This is why it is preferable to execute the inspection process shown in FIG. 6 before the initialization process (between step S6 and step S7).
  In this state, the determination circuit 105b included in the controller 105 monitors the position detection signal P supplied from the optical head 114 and the focus error signal FE supplied from the photodetector 115, and based on this, the surface shake acceleration and the high acceleration are detected. Each area runout is calculated (step S15). The calculation of the surface shake acceleration based on the position detection signal P and the high frequency surface shake amount based on the focus error signal FE are performed as follows.
  That is, when the objective lens 114a moves up and down in conjunction with the unevenness present on the surface of the light incident surface 16a, the position detection signal P indicates a current value associated with this, and therefore the objective lens 114a indicated by the position detection signal P. Is differentiated twice in the determination circuit 105b, it is possible to know the acceleration generated in the objective lens 114a. On the other hand, even if there is unevenness on the surface of the light incident surface 16a, the objective lens 114a does not move up and down in conjunction with this, that is, since the unevenness is steep, the objective lens 114a can follow. If not, no change appears in the position detection signal P.
  Thus, referring to the position detection signal P, how much acceleration is generated in the objective lens 114a by the unevenness that can be followed by the objective lens 114a among the unevenness present on the surface of the light incident surface 16a, that is, It is possible to calculate “surface acceleration”.
  In addition, when the objective lens 114a cannot follow due to the steepness of the surface of the light incident surface 16a, the focus of the inspection laser beam L1 is focused on the light incident surface 16a. And the deviation amount appears as a focus error signal FE. On the other hand, even when the surface of the light incident surface 16a has irregularities, the focus error signal FE is correctly focused when the objective lens 114a moves up and down in conjunction with this. Will show that.
  Therefore, referring to the focus error signal FE, among the unevenness present on the surface of the light incident surface 16a, the presence and size of the steep unevenness that cannot be followed by the objective lens 114a, that is, the “high-frequency surface shake amount” is obtained. It is possible to calculate.
  The limit of the unevenness that can be followed by the objective lens 114a varies depending on the parts used, but is about 500 Hz when CD parts are used. That is, among the irregularities present on the surface of the light incident surface 16a, the objective lens 114a can follow if its frequency component is about 500 Hz or less, while if the frequency component exceeds about 500 Hz, the objective lens 114a. Will not be able to follow this.
  As described above, referring to the position detection signal P supplied from the optical head 114 and the focus error signal FE supplied from the photodetector 115, the surface vibration acceleration and the high-frequency surface vibration amount representing the surface property of the light incident surface 16a can be obtained. It is possible to calculate.
  Next, the determination circuit 105b included in the controller 105 determines whether the optical recording medium precursor 10 ′ to be inspected is a non-defective product based on the surface shake acceleration and the high-frequency surface shake amount calculated in step S15. It is determined whether it is a defective product (step S16).
  FIG. 8 is a flowchart showing the determination method in step S16.
  In step S16, first, the high-frequency surface shake amount obtained from the focus error signal FE is referred to, and it is determined whether or not the high-frequency surface shake amount exceeds a threshold value (step S21). Here, the “threshold value for high-frequency surface shake amount” is the maximum value of the size allowed for the steep unevenness that cannot be followed by the objective lens 114a among the unevenness present on the light incident surface 16a.
            | T1-T2 | / W> 5.5 × 10^-4
In order to eliminate the concavo-convex defect that satisfies the above condition, the threshold value of the high-frequency surface shake amount may be set to 0.35 μm. By setting the threshold value of the high-frequency surface shake amount in this way, the residual focus error component caused by the high-frequency surface shake can be reduced to approximately 10% or less in actual recording and / or reproduction. If the residual focus error component exceeds 10%, the influence on the jitter becomes very significant. Therefore, such an optical recording medium precursor 10 'needs to be excluded in this inspection process.
  As a result of the determination in step S21, if the maximum value of the high-frequency surface shake amount exceeds the threshold value (S21: YES), it is determined as a defective product.
  On the other hand, if the maximum value of the surface shake amount does not exceed the threshold value (S21: NO), next, the maximum value of the surface shake acceleration of the light incident surface 16a is extracted, and this is the threshold value of the surface shake acceleration. It is determined whether or not it has exceeded (step S22). Here, the “threshold acceleration threshold” is the maximum value allowed as the acceleration generated in the objective lens 114a based on the unevenness present on the light incident surface 16a, and can be followed by the inspection apparatus 100. However, it is set for the purpose of eliminating the optical recording medium precursor 10 ′ having a surface shake that may cause the focus to be lost depending on the performance of the drive actually used by the user. In particular,
            | T1-T2 | / W> 5.5 × 10^-4
In order to eliminate uneven defects satisfying²Should be set. If the threshold value of the surface shake acceleration is set in this way, the residual focus error component caused by the high-frequency surface shake during actual recording and / or reproduction can be made approximately 10% or less. As a result of the determination in step S22, if the maximum value of the surface runout acceleration exceeds the threshold value (S22: YES), it is determined as a defective product.
  On the other hand, if the maximum value of the surface runout acceleration does not exceed the threshold value (S22: NO), it is finally determined that the product is a non-defective product, and the initialization process (step S7) shown in FIG. 3 is executed.
  FIG. 9 is a schematic graph showing a region that is determined to be non-defective according to the criteria shown in FIG. As shown in FIG. 9, if the determination is made based on the reference shown in FIG. 8, the area determined to be non-defective is a quadrangle whose two sides are in contact with both axes on the graph. It can be seen that a non-defective product is determined only when the value is equal to or less than a predetermined threshold value.
  The above-described optical recording medium inspection method and inspection apparatus are merely examples, and other methods can be used.
            | T1-T2 | / W> 5.5 × 10^-4
It is also possible to eliminate an optical recording medium having an uneven defect that satisfies the above.
  For example, in the inspection apparatus 100, a position detector including the permanent magnet 114c and the coil 114d is used to generate the position detection signal P. However, acceleration generated in the objective lens 114a can be measured by other methods. It doesn't matter. For example, instead of the permanent magnet 114c and the coil 114d, a capacitance type position detector can be provided to measure the acceleration generated in the objective lens 114a.
  In the above inspection method, the surface property of the light incident surface is inspected by focusing the light incident surface of the optical recording medium on the light incident surface of the optical recording medium. The surface property of the light incident surface may be inspected by irradiating the incident surface with electromagnetic waves or sound waves and measuring the frequency shift of the reflected wave caused by the Doppler effect.
  As described above, the optical recording medium 10 according to the present embodiment has the thin light transmission layer 16 provided on the surface opposite to the support substrate 11 and is within the recording area of the light incident surface 16a which is the surface thereof. For all of the irregularities present in
            | T1-T2 | /W≦5.5×10^-4
Therefore, the recording / reproducing characteristics are not seriously affected by the irregularity defects present on the light incident surface 16a.
  In the present invention, the “light incident surface” refers to a surface on the surface of an optical recording medium on which a laser beam used for recording and / or reproduction is incident, and need not be the surface of the light transmission layer 16. Therefore, when a hard coat layer or the like is provided on the surface of the light transmission layer 16, the surface becomes a “light incident surface”.
  The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope of the invention described in the claims, and these are also included in the scope of the present invention. Needless to say.

以下、実施例を用いて本発明について更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
［サンプルの作製］
まず、射出成型法により、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍであり、表面にグルーブ１１ａ及びランド１１ｂ（トラックピッチ（グルーブのピッチ）＝０．３μｍ）が形成されたポリカーボネートからなるディスク状の支持基板１１を作製した。
次に、この支持基板１１をスパッタリング装置にセットし、グルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成されている側の表面に銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）及び銅（Ｃｕ）の合金からなる厚さ１００ｎｍの反射層１２、Ａｌ_２Ｏ_３からなる厚さ２０ｎｍの第２誘電体層１３、原子比がＳｂ_７４Ｔｅ_１８Ｇｅ_７Ｉｎ_１である厚さ１２ｎｍの記録層１４、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物（モル比＝８０：２０）からなる厚さ１３０ｎｍの第１誘電体層１５を順次スパッタ法により形成した。
そして、第１誘電体層１５上に、紫外線硬化性樹脂（２５℃における粘度＝５０００ｃＰ）をスピンコート法によりコーティングし、これに紫外線を照射することによって厚さ１００μｍの光透過層１６を形成した。スピンコート時においては、閉塞治具を用いて支持基板１１の中心孔を閉塞し、この治具上に紫外線硬化性樹脂を吐出した後、回転数を２０００ｒｐｍに設定して８秒間回転させた。
以上の方法を用いて６つのサンプル＃１〜＃６を作製した。
［サンプルの評価］
次に、レーザフォーカス変位計を用い、サンプル＃１〜＃６の光透過層１６に存在する最も大きな凹凸欠陥（塗布ムラ）のサイズを調べた。測定の結果を表１に示す。

表１に示すように、サンプル＃１〜＃３においては
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
が満たされているが、サンプル＃４〜＃６においてはこれが満たされておらず、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ＞５．５×１０^−４
であった。
次に、上記サンプル＃１〜＃６をそれぞれ検査装置（新電子工業社製ＯＤＡ−ＩＩ型機械精度測定器）にセットし、１１．４ｍ／ｓｅｃの線速度で回転させながら、検査用レーザビームＬ１を光入射面１６ａに照射した。そして、得られた位置検出信号Ｐ及びフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、面振れ加速度及び高域面振れ量を算出した。測定の結果を表２に示す。

表２に示すように、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
を満たすサンプル＃１〜＃３においては高域面振れ量が０．３５μｍ以下であり、面振れ加速度が１０ｍ／ｓ^２以下であったが、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ＞５．５×１０^−４
であるサンプル＃４〜＃６においては高域面振れ量が０．３５μｍ超であり、面振れ加速度が１０ｍ／ｓ^２超であった。
次に、上記サンプル＃１〜＃６をそれぞれ光ディスク評価装置（パルステック社製ＤＤＵ１０００）にセットし、１１．４ｍ／ｓｅｃの線速度で回転させながら、開口数が０．８５である対物レンズを介して波長が４０５ｎｍであるレーザビームＬをトラックに沿って記録層１４に照射し、得られる残留フォーカスエラー成分を測定した。
ここで、残留フォーカスエラー成分の測定は次のようにして行った。
まず、フォーカスサーボをかけずにサンプルと対物レンズとの距離を変動させた場合に得られるフォーカスエラー信号を検出し、サンプルと対物レンズとの距離（変位）とフォーカスエラー信号の出力との関係を示すフォーカス感度曲線を求めた。このフォーカス感度曲線におけるプラス側のピーク値とマイナス側のピーク値との差を求め、この値を「Ｆ」と定義した。次に、ナイフエッジ法によりフォーカスサーボをかけた場合に得られるフォーカスエラー信号を検出し、そのプラス側のピーク値とマイナス側のピーク値との差を求め、この値を「Ｒ」と定義した。そしてＲ／Ｆにより、残留フォーカスエラー成分を算出した。
さらに、上記評価装置を用い、上記と同じ条件でサンプル＃１〜＃６に対し１，７ＲＬＬ変調方式における２Ｔ〜８Ｔ信号からなる混合信号をそれぞれ記録した。そして、記録された混合信号を再生し、そのジッタを測定した。ここでいうジッタとはクロックジッタを指し、タイムインターバルアナライザにより再生信号の「ゆらぎ（σ）」を求め、σ／Ｔｗ（Ｔｗ：クロックの１周期）により算出した。
測定の結果を表３に示す。

表３に示すように、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
を満たすサンプル＃１〜＃３においては残留フォーカスエラー成分が１０％以下であり、その結果、ジッタも良好であった。一方、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ＞５．５×１０^−４
であるサンプル＃４〜＃６においては残留フォーカスエラー成分が１０％超であり、その結果、ジッタがかなり高い値となった。
１０２……トラバースモータ
１０３……レーザ駆動回路
１０４……レンズ駆動回路
１０５……コントローラ
１０５ａ…フォーカス制御回路
１０５ｂ…判定回路
Ｓ１……支持基板１１の作製
Ｓ２……反射層１２の形成
Ｓ３……第２誘電体層１３の形成
Ｓ４……記録層１４の形成
Ｓ５……第１誘電体層１５の形成
Ｓ６……光透過層１６の形成
Ｓ７……記録層１４の初期化
Ｓ１１…光記録媒体前駆体１０’の回転
Ｓ１２…検査用レーザビームＬ１の照射
Ｓ１３…フォーカスを光入射面１６ａに合わせる
Ｓ１４…フォーカスロック
Ｓ１５…面振れ加速度及び高域面振れ量の計算
Ｓ１６…判定
Ｓ２１…高域面振れ量の最大値がしきい値を越えているか？
Ｓ２２…面振れ加速度の最大値がしきい値を越えているか？Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[Preparation of sample]
First, a disk-shaped support substrate made of polycarbonate having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm and having grooves 11a and lands 11b (track pitch (groove pitch) = 0.3 μm) formed on the surface by an injection molding method. 11 was produced.
Next, the support substrate 11 is set in a sputtering apparatus, and the surface on which the groove 11a and the land 11b are formed is made of an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu) with a thickness of 100 nm. The reflective layer 12, the second dielectric layer 13 made of Al ₂ O ₃ and having a thickness of 20 nm, the recording layer 14 having an atomic ratio of Sb ₇₄ Te ₁₈ Ge ₇ In ₁ and a thickness of 12 nm, a mixture of ZnS and SiO ₂ (moles) A first dielectric layer 15 having a ratio of 80:20) having a thickness of 130 nm was sequentially formed by sputtering.
Then, an ultraviolet curable resin (viscosity at 25 ° C. = 5000 cP) was coated on the first dielectric layer 15 by a spin coating method, and the light transmission layer 16 having a thickness of 100 μm was formed by irradiating this with ultraviolet rays. . At the time of spin coating, the central hole of the support substrate 11 was closed using a closing jig, and an ultraviolet curable resin was discharged onto the jig, and then the rotation speed was set to 2000 rpm and rotated for 8 seconds.
Six samples # 1 to # 6 were prepared using the above method.
[Sample Evaluation]
Next, the size of the largest unevenness defect (coating unevenness) existing in the light transmission layer 16 of Samples # 1 to # 6 was examined using a laser focus displacement meter. The measurement results are shown in Table 1.

As shown in Table 1, in samples # 1 to # 3
| T1-T2 | ^{/W≦5.5×10 −4}
Is satisfied, but in samples # 4 to # 6, this is not satisfied,
| T1-T2 | / W> 5.5 × 10 ⁻⁴
Met.
Next, each of the above samples # 1 to # 6 is set in an inspection apparatus (ODA-II type mechanical accuracy measuring instrument manufactured by Shin Denshi Kogyo Co., Ltd.) and rotated at a linear velocity of 11.4 m / sec while inspecting laser beams. The light incident surface 16a was irradiated with L1. Then, based on the obtained position detection signal P and focus error signal FE, the surface shake acceleration and the high frequency surface shake amount were calculated. Table 2 shows the measurement results.

As shown in Table 2,
| T1-T2 | ^{/W≦5.5×10 −4}
In samples # 1 to # 3 that satisfy the above conditions, the high-frequency surface shake amount was 0.35 μm or less and the surface shake acceleration was 10 m / s ² or less.
| T1-T2 | / W> 5.5 × 10 ⁻⁴
In samples # 4 to # 6, the high-frequency surface shake amount was more than 0.35 μm, and the surface shake acceleration was more than 10 m / s ² .
Next, each of the samples # 1 to # 6 is set in an optical disk evaluation apparatus (DDU1000 manufactured by Pulstec), and an objective lens having a numerical aperture of 0.85 is rotated while rotating at a linear velocity of 11.4 m / sec. Then, the recording layer 14 was irradiated with a laser beam L having a wavelength of 405 nm along the track, and the resulting residual focus error component was measured.
Here, the residual focus error component was measured as follows.
First, a focus error signal obtained when the distance between the sample and the objective lens is changed without applying focus servo is detected, and the relationship between the distance (displacement) between the sample and the objective lens and the output of the focus error signal is determined. The focus sensitivity curve shown was determined. The difference between the positive peak value and the negative peak value in this focus sensitivity curve was determined, and this value was defined as “F”. Next, a focus error signal obtained when the focus servo is applied by the knife edge method is detected, the difference between the positive peak value and the negative peak value is obtained, and this value is defined as “R”. . The residual focus error component was calculated by R / F.
Further, using the evaluation apparatus, mixed signals composed of 2T to 8T signals in the 1,7RLL modulation system were recorded on samples # 1 to # 6 under the same conditions as described above. The recorded mixed signal was reproduced and its jitter was measured. The jitter here refers to clock jitter, and the “fluctuation (σ)” of the reproduction signal is obtained by a time interval analyzer and is calculated by σ / Tw (Tw: one cycle of the clock).
Table 3 shows the measurement results.

As shown in Table 3,
| T1-T2 | ^{/W≦5.5×10 −4}
In samples # 1 to # 3 satisfying the above, the residual focus error component was 10% or less, and as a result, the jitter was also good. on the other hand,
| T1-T2 | / W> 5.5 × 10 ⁻⁴
In samples # 4 to # 6, the residual focus error component is more than 10%, and as a result, the jitter is considerably high.
DESCRIPTION OF SYMBOLS 102 ... Traverse motor 103 ... Laser drive circuit 104 ... Lens drive circuit 105 ... Controller 105a ... Focus control circuit 105b ... Judgment circuit S1 ... Production of support substrate 11 S2 ... Reflection layer 12 formation S3 ... First 2 formation of dielectric layer 13 S4 ... formation of recording layer 14 S5 ... formation of first dielectric layer 15 S6 ... formation of light transmission layer 16 S7 ... initialization of recording layer 14 S11 ... precursor of optical recording medium Rotation S12 of the body 10 '... irradiation with the inspection laser beam L1 S13 ... Focus the focus on the light incident surface 16a ... Focus lock S15 ... Calculation of surface shake acceleration and high-frequency surface shake amount S16 ... Determination S21 ... High-frequency surface shake Does the maximum quantity exceed the threshold?
S22: Does the maximum value of the surface runout acceleration exceed the threshold value?

Claims

支持基板と、光透過層と、前記支持基板と前記光透過層との間に設けられた情報層とを備え、前記光透過層を介して前記情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録及び／又は再生を行う光記録媒体であって、前記レーザビームが入射する光入射面に存在する凹凸欠陥のピーク部分又はボトム部分における前記光透過層の厚さをＴ１、前記凹凸欠陥の端部における前記光透過層の厚さをＴ２、前記凹凸欠陥の前記ピーク部分又はボトム部分から前記端部までの周方向における距離をＷとした場合、少なくとも記録エリア内の全ての凹凸欠陥について、
｜Ｔ１−Ｔ２｜／Ｗ ≦ ５．５×１０^−４
が満たされていることを特徴とする光記録媒体。A support substrate, a light transmission layer, and an information layer provided between the support substrate and the light transmission layer, and irradiating the information layer with the laser beam through the light transmission layer to transmit data An optical recording medium that performs recording and / or reproduction, wherein the thickness of the light transmission layer at the peak or bottom portion of the concavo-convex defect existing on the light incident surface on which the laser beam is incident is T1, When the thickness of the light transmission layer in the portion is T2, and the distance in the circumferential direction from the peak portion or bottom portion of the uneven defect to the end portion is W, at least for all uneven defects in the recording area,
| T1-T2 | ^{/W≦5.5×10 −4}
An optical recording medium characterized in that

前記光透過層の層厚が３０〜２００μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。The optical recording medium according to claim 1, wherein the light transmission layer has a thickness of 30 to 200 μm.

前記光入射面の高域面振れ量が０．３５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。The optical recording medium according to claim 1, wherein a high-frequency surface shake amount of the light incident surface is 0.35 μm or less.

前記光入射面の面振れ加速度が１０ｍ／ｓ^２以下であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。The optical recording medium according to claim 1, wherein a surface deflection acceleration of the light incident surface is 10 m / s ² or less.

前記情報層には、相変化材料からなる記録層が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。The optical recording medium according to claim 1, wherein the information layer includes a recording layer made of a phase change material.

１０ｍ／ｓ以上の線速度で前記記録層へのデータの記録が可能な請求項５に記載の光記録媒体。The optical recording medium according to claim 5, wherein data can be recorded on the recording layer at a linear velocity of 10 m / s or more.