JPS6423864U - - Google Patents

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JPS6423864U
JPS6423864U JP11829187U JP11829187U JPS6423864U JP S6423864 U JPS6423864 U JP S6423864U JP 11829187 U JP11829187 U JP 11829187U JP 11829187 U JP11829187 U JP 11829187U JP S6423864 U JPS6423864 U JP S6423864U
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exhaust chamber
preliminary exhaust
sample
beam irradiation
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Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
図は本考案の一実施例の構成図である。 Ｂ……本体装置、１……電子銃、２……コンデ
ンサレンズ、ｄ……偏向レンズ、３……対物レン
ズ、Ｅ……電子銃から照射される電子ビーム、Ｓ
……試料、４……試料ホルダー、５……試料ステ
ージ、６……ステージ駆動部、Ｒ……Ｘ線、７…
…分光結晶、８……スリツト、９……Ｘ線検出器
、１０……真空装置、１１……凹面鏡、１２……
凸面鏡、１３……４５度ミラー、１４……窓、１
５……レンズ、Ｍ……顕微鏡光学系、１６……予
備排気室、１７……ゲートバルブ、１８……ステ
ージ、１９……ビーム照射装置、２０……試料交
換棒、２１……蓋、２２……リークバルブ、ＲＰ
……ロータリポンプ、２３……開口。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 予備排気室を備えた試料面分析装置において、
    予備排気室に試料面を照射する電子ビーム照射手
    段を設けたことを特徴とする試料面分析装置。
JP11829187U 1987-07-31 1987-07-31 Expired - Lifetime JPH0548358Y2 (ja)

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JP11829187U JPH0548358Y2 (ja) 1987-07-31 1987-07-31

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JPS6423864U true JPS6423864U (ja) 1989-02-08
JPH0548358Y2 JPH0548358Y2 (ja) 1993-12-24

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0943174A (ja) * 1995-07-28 1997-02-14 Jeol Ltd プラズマエッチング装置を備えた表面分析装置
JP2016031928A (ja) * 2014-07-29 2016-03-07 ライカ ミクロジュステーメ ゲーエムベーハー クライオ顕微鏡法のための操作容器
WO2018020649A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置

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WO2018020649A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置

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Publication number Publication date
JPH0548358Y2 (ja) 1993-12-24

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