JPS6422025U - - Google Patents

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JPS6422025U
JPS6422025U JP11740687U JP11740687U JPS6422025U JP S6422025 U JPS6422025 U JP S6422025U JP 11740687 U JP11740687 U JP 11740687U JP 11740687 U JP11740687 U JP 11740687U JP S6422025 U JPS6422025 U JP S6422025U
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Japan
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work coil
chamber
susceptor
wafer
reaction chamber
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案装置の一実施例を示す簡略縦断
面図、第2図は本考案装置とローダ室、アンロー
ダ室との位置関係を示す簡略平面図である。 1……ワークコイル、2……石英ワークコイル
カバー、3……ウエーハ、4……サセプタ、6…
…石英インナベルジヤ、10……プツシユプルロ
ツド、15……縦型チヤンバ(水冷チヤンバ)、
18……反応室、19……ワークコイル室。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 水冷された縦型チヤンバ15内に石英ワークコ
    イルカバー2を設けて反応室18とワークコイル
    室19を形成し、反応室18内をインナベルジヤ
    6で覆い、この反応室18を形成するワークコイ
    ルカバー2の直上にウエーハ3を載置したサセプ
    タ4を配置し、ワークコイル室19内にはウエー
    ハ加熱用のワークコイル1を設けると共に、ワー
    クコイル室19、この室19を形成するワークコ
    イルカバー2及びサセプタ4の中心部を貫通しサ
    セプタ4上のウエーハ3の押上げを図るプツシユ
    プルロツド10を設け、かつ、サセプタ4を回転
    可能とした枚葉式CVD装置。
JP11740687U 1987-07-29 1987-07-29 Expired - Lifetime JPH0521867Y2 (ja)

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JP11740687U JPH0521867Y2 (ja) 1987-07-29 1987-07-29

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Publication Number Publication Date
JPS6422025U true JPS6422025U (ja) 1989-02-03
JPH0521867Y2 JPH0521867Y2 (ja) 1993-06-04

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ID=31360840

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JP (1) JPH0521867Y2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001019590A (ja) * 1999-07-06 2001-01-23 Sony Corp 気相成長装置
JP2001118837A (ja) * 1992-09-07 2001-04-27 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001118837A (ja) * 1992-09-07 2001-04-27 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置
JP2001019590A (ja) * 1999-07-06 2001-01-23 Sony Corp 気相成長装置

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JPH0521867Y2 (ja) 1993-06-04

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