JPS6422025U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6422025U JPS6422025U JP11740687U JP11740687U JPS6422025U JP S6422025 U JPS6422025 U JP S6422025U JP 11740687 U JP11740687 U JP 11740687U JP 11740687 U JP11740687 U JP 11740687U JP S6422025 U JPS6422025 U JP S6422025U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work coil
- chamber
- susceptor
- wafer
- reaction chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
第1図は本考案装置の一実施例を示す簡略縦断
面図、第2図は本考案装置とローダ室、アンロー
ダ室との位置関係を示す簡略平面図である。 1……ワークコイル、2……石英ワークコイル
カバー、3……ウエーハ、4……サセプタ、6…
…石英インナベルジヤ、10……プツシユプルロ
ツド、15……縦型チヤンバ(水冷チヤンバ)、
18……反応室、19……ワークコイル室。
面図、第2図は本考案装置とローダ室、アンロー
ダ室との位置関係を示す簡略平面図である。 1……ワークコイル、2……石英ワークコイル
カバー、3……ウエーハ、4……サセプタ、6…
…石英インナベルジヤ、10……プツシユプルロ
ツド、15……縦型チヤンバ(水冷チヤンバ)、
18……反応室、19……ワークコイル室。
Claims (1)
- 水冷された縦型チヤンバ15内に石英ワークコ
イルカバー2を設けて反応室18とワークコイル
室19を形成し、反応室18内をインナベルジヤ
6で覆い、この反応室18を形成するワークコイ
ルカバー2の直上にウエーハ3を載置したサセプ
タ4を配置し、ワークコイル室19内にはウエー
ハ加熱用のワークコイル1を設けると共に、ワー
クコイル室19、この室19を形成するワークコ
イルカバー2及びサセプタ4の中心部を貫通しサ
セプタ4上のウエーハ3の押上げを図るプツシユ
プルロツド10を設け、かつ、サセプタ4を回転
可能とした枚葉式CVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11740687U JPH0521867Y2 (ja) | 1987-07-29 | 1987-07-29 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11740687U JPH0521867Y2 (ja) | 1987-07-29 | 1987-07-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6422025U true JPS6422025U (ja) | 1989-02-03 |
JPH0521867Y2 JPH0521867Y2 (ja) | 1993-06-04 |
Family
ID=31360840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11740687U Expired - Lifetime JPH0521867Y2 (ja) | 1987-07-29 | 1987-07-29 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0521867Y2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001019590A (ja) * | 1999-07-06 | 2001-01-23 | Sony Corp | 気相成長装置 |
JP2001118837A (ja) * | 1992-09-07 | 2001-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置 |
-
1987
- 1987-07-29 JP JP11740687U patent/JPH0521867Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118837A (ja) * | 1992-09-07 | 2001-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置 |
JP2001019590A (ja) * | 1999-07-06 | 2001-01-23 | Sony Corp | 気相成長装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0521867Y2 (ja) | 1993-06-04 |
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