JPS6399050A - ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 - Google Patents

ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法

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JPS6399050A
JPS6399050A JP15056486A JP15056486A JPS6399050A JP S6399050 A JPS6399050 A JP S6399050A JP 15056486 A JP15056486 A JP 15056486A JP 15056486 A JP15056486 A JP 15056486A JP S6399050 A JPS6399050 A JP S6399050A
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JP
Japan
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formula
butyl
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bis
bisphenol
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Pending
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JP15056486A
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English (en)
Inventor
Tatsuo Kanechika
達夫 金親
Haruki Okamura
春樹 岡村
Yuko Takahashi
祐幸 高橋
Shinichi Yago
八児 真一
Takeshi Takada
武 高田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式(1) (式中、RIおよびR2は炭素数1〜5のアルキル基を
、R3は炭素数1− j 1のアルキル基を、Aは−5
(CHz)、S−を示す。ここでnは2〜10の整数を
示す) で示されるビスフェノール誘導体およびその製造法に関
する。
従来よりポリオレフィン、ABS樹脂、ポリスチレン、
インパクトポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン
共重合物、ポリアミド、ポリアセタールおよびエチレン
−プロピレン共重合物などの合成樹脂、天然ゴムおよび
ブタジェンゴム、イソプレンゴム、イソプレン−イソブ
チレン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、クロロプレ
ン−エチレン−プロピレン三元共重合ゴムなどの合成ゴ
ム、潤滑油、燃料油などの石油製品、油脂およびグリー
スなどの各種の有機物質は熱、光および酸素により劣化
を受は易く、かかる劣化を抑制するために、各種の劣化
防止剤を配合することも周知の事実である。
本発明者らはこのような有機物質の劣化防止に優れた性
能を有する化合物を開発すべく研究の結果、有機物質に
対して優れた耐熱性、耐光性および酸化防止性を有し、
しかも相溶性、蒸散性等の劣化防止剤としての特性にも
すぐれる化合物として前記一般式(1)で示されるビス
フェノール誘導体を開発するに至った。
前記一般式(1)で示されるビスフェノール誘導体は文
献未記載の新規化合物であって、該ビスフェノール誘導
体は一般式(II) R2R2 (式中、RI、RzおよびR3は前記と同じ意味を有す
る) で示されるビスフェノールモノアクリレート化合物と一
般式(厘) R5(CH2)n SH(冨) (式中、nは前記と同じ意味を有する)で示されるアル
カンジチオールとを反応させることにより製造すること
ができる。
前記一般式中において、置換基R1及びR2としてはた
とえばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基
、5ec−ブチル基、t−ブチル基、t−アミル基であ
り、Rsとしてはメチル基、エチル基、プロピル基、ヘ
キシル基、ノニル基が挙げられる。
一般式(II)で示されるビスフェノールモノアクリレ
ート化合物は例えば2・2′−エチリデンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフェノール)、2・2′−エチリ
デンビス(4,6−ジーt−ブチルフェノール)、2・
2′−ブチリデンビス(4,6−シンチルフエノール)
、2・2−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)、2・2′−ブチリデンビス(4・6−
ジーt−ブチルフェノール)、2・2′−ブチリデンビ
ス(4,6−ジーL−アミルフェノール)、2・2′−
オクチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2・2′−オクチリデンビス(4,6−ジーt
−ブチルフェノール)、2・2′−デシリデンビス(6
−t−ブチル−4−メチルフェノール)などのビスフェ
ノール類を塩化アクリロイルと反応させることによって
容易に合成し得る。
また、一般式(1)で示されるアルカンジチオールとし
てはl・2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチ
オール、■、4−ブタンジチオール、1.6−ヘキサン
ジチオール、1.10−デカンジチオールなどが例示さ
れる。
本発明において、ビスフェノールモノアクリレート化合
物とアルカンジチオールとの反応は通常溶媒中で行われ
、かかる溶媒としては、n−ヘキサン、n−ヘプタン等
の脂肪族炭化水素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素
、エタノール、メタノールおよびt−ブタノールなどの
アニン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフランジオキサン等のエーテル類が挙げられる。中
でもクロロホルム、エタノール、トルエンが好ましく使
用される。
この反応において塩基性触媒の存在はより有効であり、
かかる塩基性触媒としては炭素数1〜4の低級アルコー
ルのアルカリ金属アルコキシド、たとえばナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウム第三ブ
トキシドなど、トリエチルアミンなどの三級アミン類、
水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムなどが通常用い
られ、特に好ましいのはナトリウムメトキシドである。
これらの塩基性触媒を使用する場合、その使用量は通常
ビスフェノールモノアクリレート化合物に対して0.5
〜5重ffi%である。
反応温度は通常10°Cから使用した溶媒の還流温度の
範囲であるが、多くの場合に還流温度で行われる。
両反応原料の反応モル比は、一般的にはアルカンジチオ
ールに対してビスフェノールモノアクリレート化合物が
2〜2.2モル倍である。
かくして得られる一般式(I)で示されるビスフェノー
ル誘導体は、有機物質用劣化防止剤として有用であるが
、天然ならびに合成ポリマーの熱的および酸化的劣化の
防止に対して殊に有用である。
一般式(1)で表されるビスフェノール誘導体を劣化防
止剤として使用する場合、それ単独の使用でも有機物質
の安定化に有効であるが、その他の添加剤たとえば酸化
防止剤、含イオウ化合物、リン含有化合物、紫外線吸収
剤、光安定剤、可塑剤、金属石鹸類、顔料、染料、充填
剤および腐蝕防止剤、防錆剤、流動点降下剤、消泡剤、
清浄分散剤、極圧剤などのような部用添加剤および金゛
属キレート剤などの各種添加剤をそれぞれの目的に応じ
て併用してもよい。
以下、本発明を実施例により説明する。
原料製造例1 の合成 温度計、滴下ろう斗、攪拌機を備えた500−四ロフラ
スコに、2・2′−ブチリデンビス(4,6−ジーt−
ブチルフェノール)82y(0,176モル)、トルエ
ン200y及びトリエチルアミン29.3y(0,29
モル)を仕込み、容器内の空気を窒素置換し、1°Cま
で冷却する。
滴下ろう斗から塩化アクリル259(0,28モル)お
よびトルエン50yの混合液を2時間かけて反応容器内
に滴下する。滴下終了後希塩酸で過剰のトリエチルアミ
ンを中和し、水洗、分散し、油層から溶媒を1802蒸
留すると、粘稠油状物が得られる。これにn−ヘキサン
約507を加えて再結晶すると2・2′−ブチリデンビ
ス(4,6−ジーt−ブチルフェノール)モノアクリレ
−1−84,49C収率95チ)が得られる。
融点 193〜194°C 元素分析   C35H5202()内針算値Ci  
  g118チ (83,28%)H:   10.2
4チ (t o、 a s%)実施例1 攪拌機、温度計および冷却管を、備えた200−四ツロ
フラスコに、2・2′−エチリデンビス(4,6−ジー
t−ブチルフェノール)モノアクリレート20y(0,
04モル)、■・6−ヘキサンジチオール3グおよびト
ルエン80yを仕込み、容器内の空気を窒素置換したの
ち、28チナトリウムメトキシドメタノール溶液0.3
57を加えた。その後昇温し、50〜60℃にて反応さ
せたのち30℃に冷却する。希塩酸で中和し、水洗、脱
水後、トルエンを留去する。残渣にn−ヘキサン802
を加え、再結晶することにより白色結晶の4゜11−ジ
チアテトラデカンニ酸ビス(4・6−ジーt−ブチル−
2−(1−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシ
フェニル)エチル〕フェニル〕エステル18.4 yC
収率80%)を得た。
融点 140〜142°C 元素分析  C72HIIO0652()内針算値C;
   76.06%(76,14%)H;     9
.82チ(9,76%)S;     5.60チ(5
,65%)実施例2 2・2′−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)モノアクリレート16.6P(0,04
モル)を用いる以外は実施例1と同様な条件で反応、後
処理することにより、白色結晶の4.11−ジチアテト
ラデカンニ酸ビス(6−t−ブチル−2−(1−(3−
t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)エ
チル〕−4−メチルフェニル)エステル、19.6y(
収率82チ)を得た。
融点 115〜117℃ 元素分析  C60H8606S2   ()内は計算
値C;    74.64チ(74,49qlJ)H;
     9.01チ(8,96%)S;     6
.60%(6,68%)実施例8 2・2′−ブチリデンビス(4・6−ジーt−プチルフ
エノール)モノアクリレート20.29 (0,04モ
ル)を用いる以外は実施例1と同様な条件で反応、後処
理することにより、白色結晶の4・11−ジチアテトラ
デカンニ酸ビス(4・6−ジーt−ブチル−2−〔1−
(8・5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブチル〕フェニル)エステル18.82(収率79%)
を得た。
融点 148〜150℃ 元素分析  C70HII80a Sz  ()内針算
値C;    7G、70チ(76,59tlJ)H;
    to、oa%(9,98チ)s;     5
.85チ(5,98%)実施例4 2・2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)モノアクリレート17.5Li(0,0
4モル)を用いる以外は実施例Iと同様な条件で反応、
後処理することにより、白色結晶の4・11−ジチアテ
トラデカンニ酸ビス(6−t−ブチル−2−[1−(3
−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ブチル]−4−メチルフェニル)エステル16.4S’
(収率80チ)を得た。
融点 70〜72°C 元素分析  C64H9406S2  ()内針算値c
;    75.22チ(75,10チ)H;    
 9.31係(9,26%)S;     6.20%
(6,27’Xi実施例5 2・2′−ブチリデンビス(4・6−ジ−t−アミルフ
ェノール)モノアクリレート23.1P(0,04モル
)を用いる以外は実施例1と同様な条件で反応、後処理
することにより、白色結晶の4・11−ジチアテトラデ
カンニ酸ビス(4・6−ジーt−アミル−2−〔1−(
3・5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ブ
チル〕フェニル)エステル22.2F(収率85チ)を
得た。
融点 98〜101 ’C 元素分析  C84HI340s S2 ()内針算値
C;    77.48チ(77,36チ)Hi   
 10.48チ(10,86チ)S;     4.8
5係(4,92%)実施例6 2・2′−オクチリデンビス(6−t−ブチル−4−メ
チルフェノール)モノアクリレート19.7P(0,0
4モル)を用いる以外は実施例1と同様な条件で反応、
後処理することにより、白色結晶の4・11−ジチアテ
トラデカンニ酸ビス(6−t−ブチル−2−〔1−(a
−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
オクチル〕−4−メチルフェニル)エステル18.9F
(収率83,2%)を得た。
融  点   82〜84.5℃ 元素分析  C72HIIO06S2  ()内針算値
CF    76.13チ(76,14チ)H;   
  9.89%(9,76チ、)S;     5.5
5チ(5,65%)手  続  補  正  書 (方
式)昭和62年11月11日

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は炭素数1〜5のアルキル
    基を、R3は炭素数1〜11のアルキル基を、Aは−S
    (CH_2)_nS−を示す。ここでnは2〜10の整
    数を示す) で示されるビスフェノール誘導体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は炭素数1〜5のアルキル
    基を、R_3は炭素数1〜11のアルキル基を示す) で示されるビスフェノールモノアクリレート化合物と一
    般式 HS(CH_2)_nSH (式中、nは2〜10の整数を示す) で示されるアルカンジチオールを反応させることを特徴
    とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2およびR_3は前記と同じ意味
    を有する。¥Aは−S(CH_2)_nS−を示し、n
    は2〜10の整数を示す。¥) で示されるビスフェノール誘導体の製造法。
JP15056486A 1986-06-25 1986-06-25 ビスフエノ−ル誘導体およびその製造法 Pending JPS6399050A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5725202A (en) * 1995-01-17 1998-03-10 Tokai Rubber Industries, Ltd. Fluid-filled elastic bushing having displacement restrictor with elastic buffer and stiff abutting part
CN102180819A (zh) * 2011-04-08 2011-09-14 李绍通 3, 3’二硫代二丙酸甲酯合成新工艺

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EP0727410A1 (de) * 1995-02-08 1996-08-21 Ciba-Geigy Ag Bisphenolesterderivate

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