JPS639572Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS639572Y2 JPS639572Y2 JP15821083U JP15821083U JPS639572Y2 JP S639572 Y2 JPS639572 Y2 JP S639572Y2 JP 15821083 U JP15821083 U JP 15821083U JP 15821083 U JP15821083 U JP 15821083U JP S639572 Y2 JPS639572 Y2 JP S639572Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- steel strip
- chamber
- rolls
- chambers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 56
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 33
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は、鋼ストリツプの焼鈍に用いられる
直火型加熱炉に関するものである。
直火型加熱炉に関するものである。
鋼ストリツプの焼鈍に用いる直火型加熱炉は、
炉内の加熱室に燃焼ガスを導入して鋼ストリツプ
を加熱するもので、第1図に部分断面図で示すよ
うに、加熱炉1内に例えば2つの縦方向の加熱室
2a,2bが設けられており、加熱室2aと2b
の端部を連通する炉頂の小室3には、加熱室2a
および2bの略延長上の位置に、鋼ストリツプ4
を加熱室2aから加熱室2bへ導くための一対の
反転ロール5a,5bが設置されている。反転ロ
ール5a,5bに掛け渡された鋼ストリツプ4
は、加熱室2aを上昇し、小室3を右方へ横行
し、加熱室2bを降下して走行する。一方、燃焼
ガスは、加熱室2bの下方から導入され、加熱室
2b、小室3、加熱室2aを経て、鋼ストリツプ
4を加熱し、加熱室2aの下方から排出される。
炉内の加熱室に燃焼ガスを導入して鋼ストリツプ
を加熱するもので、第1図に部分断面図で示すよ
うに、加熱炉1内に例えば2つの縦方向の加熱室
2a,2bが設けられており、加熱室2aと2b
の端部を連通する炉頂の小室3には、加熱室2a
および2bの略延長上の位置に、鋼ストリツプ4
を加熱室2aから加熱室2bへ導くための一対の
反転ロール5a,5bが設置されている。反転ロ
ール5a,5bに掛け渡された鋼ストリツプ4
は、加熱室2aを上昇し、小室3を右方へ横行
し、加熱室2bを降下して走行する。一方、燃焼
ガスは、加熱室2bの下方から導入され、加熱室
2b、小室3、加熱室2aを経て、鋼ストリツプ
4を加熱し、加熱室2aの下方から排出される。
ところで、このような直火型加熱炉の反転ロー
ル5aおよび5bは、小室3内を高温の燃焼ガス
が流れるので、長時間の使用によつて反転ロール
5aおよび5bの表面が酸化して表面に酸化物の
異物を生じ、反転ロール5aおよび5bと接する
側の鋼ストリツプ4の表面に、前記異物による押
し傷を発生させる。従つて、従来は、押し傷によ
つて鋼ストリツプの品質が低下するという問題が
あつた。
ル5aおよび5bは、小室3内を高温の燃焼ガス
が流れるので、長時間の使用によつて反転ロール
5aおよび5bの表面が酸化して表面に酸化物の
異物を生じ、反転ロール5aおよび5bと接する
側の鋼ストリツプ4の表面に、前記異物による押
し傷を発生させる。従つて、従来は、押し傷によ
つて鋼ストリツプの品質が低下するという問題が
あつた。
そこで、高温の燃焼ガスから反転ロール5aお
よび5bを保護するために、第2図に示すよう
に、反転ロール5aおよび5bを加熱室2a,2
bの上部に設けられたロール室6に収容して、小
室3を流れる高温の燃焼ガスより隔離すると共
に、予熱室7出口の燃焼ガスを冷却したのちロー
ル室6に供給して、小室3を流れる高温の燃焼ガ
スがロール室6に侵入するのを阻止するようにし
た加熱炉が提案されている(特開昭53−54106
号)。
よび5bを保護するために、第2図に示すよう
に、反転ロール5aおよび5bを加熱室2a,2
bの上部に設けられたロール室6に収容して、小
室3を流れる高温の燃焼ガスより隔離すると共
に、予熱室7出口の燃焼ガスを冷却したのちロー
ル室6に供給して、小室3を流れる高温の燃焼ガ
スがロール室6に侵入するのを阻止するようにし
た加熱炉が提案されている(特開昭53−54106
号)。
しかしながら、この加熱炉における反転ロール
5aおよび5bは、高温の燃焼ガスから熱的に保
護されているだけであつて、反転ロール5aおよ
び5bは、予熱室7からロール室6に供給された
燃焼ガスによつて酸化される虞れがある。また、
小室3を流れる高温燃焼ガスのロール室6への侵
入を充分に阻止するためには、ロール室6に供給
する燃焼ガスによつてロール室6の圧力を小室3
よりもかなり高くしなければならないので、ロー
ル室6から小室3に流入する低温燃焼ガス量が多
くなつて、加熱炉1′における鋼ストリツプ4の
加熱効率が著しく低下してしまう。
5aおよび5bは、高温の燃焼ガスから熱的に保
護されているだけであつて、反転ロール5aおよ
び5bは、予熱室7からロール室6に供給された
燃焼ガスによつて酸化される虞れがある。また、
小室3を流れる高温燃焼ガスのロール室6への侵
入を充分に阻止するためには、ロール室6に供給
する燃焼ガスによつてロール室6の圧力を小室3
よりもかなり高くしなければならないので、ロー
ル室6から小室3に流入する低温燃焼ガス量が多
くなつて、加熱炉1′における鋼ストリツプ4の
加熱効率が著しく低下してしまう。
この考案は、上述の現状に鑑み、反転ロールの
酸化を防いだ直火型加熱炉を提供するもので、端
部が小室によつて互いに連通している、鋼ストリ
ツプを連続的に加熱するための、並設された2つ
の加熱室と、前記小室内の、前記加熱室の各々の
ほぼ延長線上の位置に設けられた、前記鋼ストリ
ツプを一方の加熱室から他方の加熱室へ導くため
の一対のロールとからなる直火型加熱炉におい
て、前記小室を、前記一対のロール間を通る鋼ス
トリツプの外面に近接する外壁と、前記鋼ストリ
ツプの内面および前記一対のロールの各々の表面
に近接する内壁とから構成すると共に、前記内壁
に、前記一対のロールの各々の表面に向けて還元
性のガスを吹付けるためのガス噴出孔を設け、か
つ、前記2つの加熱室の一端部付近に、前記鋼ス
トリツプの加熱用ガスを互いに連通させるための
ガス通路を設けたことに特徴を有する。
酸化を防いだ直火型加熱炉を提供するもので、端
部が小室によつて互いに連通している、鋼ストリ
ツプを連続的に加熱するための、並設された2つ
の加熱室と、前記小室内の、前記加熱室の各々の
ほぼ延長線上の位置に設けられた、前記鋼ストリ
ツプを一方の加熱室から他方の加熱室へ導くため
の一対のロールとからなる直火型加熱炉におい
て、前記小室を、前記一対のロール間を通る鋼ス
トリツプの外面に近接する外壁と、前記鋼ストリ
ツプの内面および前記一対のロールの各々の表面
に近接する内壁とから構成すると共に、前記内壁
に、前記一対のロールの各々の表面に向けて還元
性のガスを吹付けるためのガス噴出孔を設け、か
つ、前記2つの加熱室の一端部付近に、前記鋼ス
トリツプの加熱用ガスを互いに連通させるための
ガス通路を設けたことに特徴を有する。
以下、この考案の実施例を図面に基づき詳述す
る。第3図は、この考案の直火型加熱炉の部分断
面図である。図示されるように、この考案の直火
型加熱炉8は、第1図の従来の加熱炉1と同様
に、2つの縦方向の加熱室9aおよび9bと、そ
の略延長上の位置に、鋼ストリツプ10を加熱室
9aから9bへ導くための一対の反転ロール11
aおよび11bとが設けられている。しかし、こ
の考案の加熱炉8では、従来の加熱炉1とは異な
り、炉頂の小室12を、反転ロール11aおよび
11bが収容され、これに掛け渡された鋼ストリ
ツプ10が走行し得る、空隙に形成すると共に、
加熱室9aと9bとを連絡するガス通路13を、
小室12の近くに設けている。
る。第3図は、この考案の直火型加熱炉の部分断
面図である。図示されるように、この考案の直火
型加熱炉8は、第1図の従来の加熱炉1と同様
に、2つの縦方向の加熱室9aおよび9bと、そ
の略延長上の位置に、鋼ストリツプ10を加熱室
9aから9bへ導くための一対の反転ロール11
aおよび11bとが設けられている。しかし、こ
の考案の加熱炉8では、従来の加熱炉1とは異な
り、炉頂の小室12を、反転ロール11aおよび
11bが収容され、これに掛け渡された鋼ストリ
ツプ10が走行し得る、空隙に形成すると共に、
加熱室9aと9bとを連絡するガス通路13を、
小室12の近くに設けている。
すなわち、加熱炉8の小室12を構成する内壁
14と外壁15とを、反転ロール11aおよび1
1bと、これに掛け渡された鋼ストリツプ10と
に近接させて設けることにより、反転ロール11
aおよび11bが配設される小室12へ、燃焼ガ
スが侵入するのを抑え、一方、燃焼ガスを、ガス
通路13を通して加熱室9bから9aへ流れるよ
うにしたものである。反転ロール11aおよび1
1bと、これに近接された、内壁14の内面14
aとの間は、反転ロール5a,5bの回転時のロ
ールの偏心分を見込んだ小さな間隔とする。実用
上、この間隔は10〜20mmもあればよい。また、外
壁15は、鋼ストリツプ10の通板を間始する際
に、手作業で鋼ストリツプ10の先端が小室12
を通り易くするために、上方に移動自在にしてあ
る。
14と外壁15とを、反転ロール11aおよび1
1bと、これに掛け渡された鋼ストリツプ10と
に近接させて設けることにより、反転ロール11
aおよび11bが配設される小室12へ、燃焼ガ
スが侵入するのを抑え、一方、燃焼ガスを、ガス
通路13を通して加熱室9bから9aへ流れるよ
うにしたものである。反転ロール11aおよび1
1bと、これに近接された、内壁14の内面14
aとの間は、反転ロール5a,5bの回転時のロ
ールの偏心分を見込んだ小さな間隔とする。実用
上、この間隔は10〜20mmもあればよい。また、外
壁15は、鋼ストリツプ10の通板を間始する際
に、手作業で鋼ストリツプ10の先端が小室12
を通り易くするために、上方に移動自在にしてあ
る。
さらに、この考案の加熱炉8では、前記内壁1
4内にノズル16を埋込んで、ノズル16の先端
を内壁14の内面14aに開口させ、内壁14内
に設けられたメインパイプ17から供給される還
元性のガスを、鋼ストリツプ10の内面と接する
反転ロール11aおよび11bの表面に吹付け
て、反転ロール11aおよび11bの表面の酸化
防止を図つている。この場合、反転ロール11a
と11bは、燃焼ガスとの接触が少なく、その酸
化速度が遅いので、還元性のガスは、H2濃度が
2〜5%あれば足り、かつ、少量で充分である。
従つて、還元性のガスとして、例えばH2とN2と
を混合したガスの他に、加熱炉に続く均熱炉で用
いた使用済み雰囲気ガス(H2とN2の混合ガス
で、5〜15%のH2含有)を用いることもできる。
なお、還元性のガスは、鋼ストリツプ10よりも
少し高めの温度にして、鋼ストリツプ10の温度
低下を防止したり、常温のままで、反転ロール1
1a,11bの過熱を防止するなどの使い方がで
きる。
4内にノズル16を埋込んで、ノズル16の先端
を内壁14の内面14aに開口させ、内壁14内
に設けられたメインパイプ17から供給される還
元性のガスを、鋼ストリツプ10の内面と接する
反転ロール11aおよび11bの表面に吹付け
て、反転ロール11aおよび11bの表面の酸化
防止を図つている。この場合、反転ロール11a
と11bは、燃焼ガスとの接触が少なく、その酸
化速度が遅いので、還元性のガスは、H2濃度が
2〜5%あれば足り、かつ、少量で充分である。
従つて、還元性のガスとして、例えばH2とN2と
を混合したガスの他に、加熱炉に続く均熱炉で用
いた使用済み雰囲気ガス(H2とN2の混合ガス
で、5〜15%のH2含有)を用いることもできる。
なお、還元性のガスは、鋼ストリツプ10よりも
少し高めの温度にして、鋼ストリツプ10の温度
低下を防止したり、常温のままで、反転ロール1
1a,11bの過熱を防止するなどの使い方がで
きる。
この考案は、以上のように、加熱炉の反転ロー
ルが収容される小室を構成している内壁および外
壁を、反転ロールおよびこれに掛け渡されたスト
リツプに近接させて、燃焼ガスの小室への侵入を
抑えると共に、反転ロールに還元性のガスを吹付
けているので、反転ロールの酸化を防止でき、従
つて、従来、反転ロールの酸化によつて鋼ストリ
ツプに生じていた押し傷が、発生しなくなる。ま
た、反転ロールに吹付ける還元性のガスは少量で
よいので、加熱炉の加熱効率が低下することもな
い。
ルが収容される小室を構成している内壁および外
壁を、反転ロールおよびこれに掛け渡されたスト
リツプに近接させて、燃焼ガスの小室への侵入を
抑えると共に、反転ロールに還元性のガスを吹付
けているので、反転ロールの酸化を防止でき、従
つて、従来、反転ロールの酸化によつて鋼ストリ
ツプに生じていた押し傷が、発生しなくなる。ま
た、反転ロールに吹付ける還元性のガスは少量で
よいので、加熱炉の加熱効率が低下することもな
い。
第1図は、従来の加熱炉の部分断面図、第2図
は、反転ロールの保護を行なつた従来の加熱炉の
断面図、第3図は、この考案の加熱炉の部分断面
図である。図面において、 8……加熱炉、9a,9b……加熱室、10…
…鋼ストリツプ、11a,11b……反転ロー
ル、12……小室、13……ガス通路、14……
内壁、14a……内壁の内面、15……外壁、1
6……ノズル、17……メインパイプ。
は、反転ロールの保護を行なつた従来の加熱炉の
断面図、第3図は、この考案の加熱炉の部分断面
図である。図面において、 8……加熱炉、9a,9b……加熱室、10…
…鋼ストリツプ、11a,11b……反転ロー
ル、12……小室、13……ガス通路、14……
内壁、14a……内壁の内面、15……外壁、1
6……ノズル、17……メインパイプ。
Claims (1)
- 端部が小室によつて互いに連通している、鋼ス
トリツプを連続的に加熱するための、並設された
2つの加熱室と、前記小室内の、前記加熱室の
各々のほぼ延長線上の位置に設けられた、前記鋼
ストリツプを一方の加熱室から他方の加熱室へ導
くための一対のロールとからなる直火型加熱炉に
おいて、前記小室を、前記一対のロール間を通る
鋼ストリツプの外面に近接する外壁と、前記鋼ス
トリツプの内面および前記一対のロールの各々の
表面に近接する内壁とから構成すると共に、前記
内壁に、前記一対のロールの各々の表面に向けて
還元性のガスを吹付けるためのガス噴出孔を設
け、かつ、前記2つの加熱室の一端部付近に、前
記鋼ストリツプの加熱用ガスを互いに連通させる
ためのガス通路を設けたことを特徴とする直火型
加熱炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15821083U JPS6067351U (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 直火型加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15821083U JPS6067351U (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 直火型加熱炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6067351U JPS6067351U (ja) | 1985-05-13 |
JPS639572Y2 true JPS639572Y2 (ja) | 1988-03-22 |
Family
ID=30348594
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15821083U Granted JPS6067351U (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 直火型加熱炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6067351U (ja) |
-
1983
- 1983-10-14 JP JP15821083U patent/JPS6067351U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6067351U (ja) | 1985-05-13 |
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