JPS6389841A - 熱処理可能な画像形成要素のためのオーバーコート層 - Google Patents

熱処理可能な画像形成要素のためのオーバーコート層

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JPS6389841A
JPS6389841A JP62235039A JP23503987A JPS6389841A JP S6389841 A JPS6389841 A JP S6389841A JP 62235039 A JP62235039 A JP 62235039A JP 23503987 A JP23503987 A JP 23503987A JP S6389841 A JPS6389841 A JP S6389841A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、熱処理の間の要素からの揮発性成分の放出を
低下させることを可能にし且つその他の利益を可能にす
る、熱処理可能な要素のための保護層(overcoa
 t)に関する。
〔従来の技術〕
熱処理によって画像を生じさせるための熱処理可能な要
素、特にフォトサーモグラフィック要素及びサーモグラ
フィック要素(フィルム及び紙を含む)の表面の保護層
は公知である。そのような要素及び保護層は、例えば、
Re5earch Disclosure、1978年
6月、第17029項、米国特許第3.457,075
号及び米国特許第3,933.508号に記載されてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
熱処理温度(例えば、10(1℃よりも高い温度)で揮
発性である成分を含むフォトサーモグラフィック要素に
よって示される問題は、その揮発性成分が熱処理の間に
要素から放出される傾向があることである。この例は、
熱現像で要素から放出される傾向のあるトーナー(例え
ば、スクシンイミド)を含み且つポリビニルアルコール
製保護層を含む後記比較例Aで例示されるようなハロゲ
ン化銀フォトサーモグラフィックフィルムである。その
ようなポリビニルアルコール製保護層の例は、例えば、
米国特許第3.933,508号、米国特許第3.89
3,860号、昭和58年12月19日に公開された特
開昭58−217930号に記載されている。比較例A
によって例示されているように、ポリビニルアルコール
単独ではトーナーの放出を防止しないのでこの問題に対
する解決法とはならない。
そのような要素のための保護層として記載されてきてい
るか又は用いられてきているその他のポリマーもまた、
許容できる保護層に関しての要件を十分には満足しない
。これらのその他のポリマーは、保護層が(a)熱処理
の間の要素の諸層の耐変形性を提供する、(b)熱処理
の間の要素中の揮発性成分の損失を防止するか又は低下
させる、(c)要素の製造中に又は画像形成及び熱処理
の前の要素の保管中に必須の画像形成成分が要素の1層
以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか又は
防止する、(d)保護層が要素の隣接層に満足に接着す
るのを可能にする、及び(e)要素の製造中、保管中及
び処理中に亀裂及び望ましくないマーキング(例えば摩
擦マーキング)を生じない、という諸要件の1つ以上を
満足しない。
通常の保護層物!(例えば、酢酸セルロース、ゼラチン
及び完全に加水分解されたポリビニルアルコール)はい
ずれも十分には満足ではない。
以下余白 〔問題点を解決するための手段〕 上記の問題は、熱処理可能な要素、特にフォトサーモグ
ラフィック要素又はサーモグラフィック要素のための、
少なくとも50重量%のポリ珪酸を含む保護層によって
解決されることが見いだされた。そのような要素のため
の好ましい保護層は、ポリ珪酸と共存性の水溶性のヒド
ロキシル基含有ポリマー(例えば、水溶性ポリビニルア
ルコール又は水溶性セルロース誘導体)又はモノマーも
また含有する。
〔作 用〕
ポリ珪酸は式 %式% (式中、Xは塗布可能なポリ珪酸水溶液を提供するのに
十分な整数、例えば少なくとも3から約600までの範
囲内の整数である) によって表される。
ポリ珪酸は有機合成技術で公知の方法によって、例えば
オルト珪酸テトラエチルの加水分解によって調製される
。ポリ珪酸の典型的な調製法は、室温(20℃)で蒸留
水とINのり−)ルエンスルホン酸及び無水アルコール
とを混合し、次いでオルト珪酸テトラエチルと混合する
ことを含む。数分以内に透明な溶液が得られる。その生
成したポリ珪酸溶液は典型的には20℃で30日以上安
定である。INのp−トルエンスルホン酸水溶液はこの
調製において典型的に好ましいが、0.1〜1、ONの
酸濃度を用いることができる。その調製において一層低
い酸濃度を用いるならばポリ珪酸溶液の安定性はしばし
ば最適よりは低い。p−トルエンスルホン酸の代わりの
有用な酸としては塩酸、硫酸、及びその他の鉱酸がある
。有機弱酸(例えば酢酸)は所望の加水分解を提供する
ことができるが、しかしその生成ポリ珪酸組成物は数時
間以内にゲルをもたらす。このゲルは追加の混合工程及
び調製工程なしでは好都合には塗布されない。
塗布された状態で有用なポリ珪酸保護層組成物は典型的
には100〜200℃の範囲内の要素の処理温度で不利
益に流動したり、汚したり、ゆがめたりすることはない
保護層中のポリ珪酸の最適濃度は保護層中の諸成分、特
定のフォトサーモグラフィック要素及び処理条件に依存
して変化する。保護層中にポリビニルアルコールが存在
する時には、ポリ珪酸濃度が50重景%未満であると、
熱処理可能な要素がらの揮発性成分の放出を所望程度で
低下させることはない、好ましくは、保護層中にポリビ
ニルアルコールが存在する時には、ポリ珪酸濃度は保護
層の50〜90重量%の範囲内である。ポリ珪酸の最適
濃度は特定の画像形成要素、熱処理条件、ポリ珪酸との
組み合わせで用いられる諸成分等のような因子に依存し
て変化することができる。
ポリ珪酸を含む有用な保護層組成物は典型的には無色透
明である。保護層が無色透明でないならば、その時には
、要素がフォトサーモグラフィック要素であるならば、
いずれにしても画像を与えて調べるために用いられる輻
射線の波長に対して透過性であることが必要である。そ
の保護層は画像形成特性、例えば、フォトサーモグラフ
ィック要素の場合のセンシトメトリー特性(例えば、最
低濃度、最高濃度又は写真感度)に殆ど悪影響を及ぼさ
ない。
その他の成分、特にその他のポリマーをポリ珪酸と共に
保護層中に用いることができる。保護層においてポリ珪
酸との組み合わせで有用であることができるその他の成
分としては、例えば、その他のポリマー、例えば、ポリ
珪酸と共存性である水溶性のヒドロキシル基含有ポリマ
ー又はモノマー、例えば、アクリルアミドポリマー、水
溶性セルロース誘導体(例えば、水溶性酢酸セルロース
及び酢酸ヒドロキシエチルセルロース)等がある。
その水溶性ポリマーはポリ珪酸と共存性でなければなら
ないことが重要である。
そのような保護層を含むフォトサーモグラフィック要素
及びサーモグラフィック要素は、所望ならば、多重のポ
リマー含有層、特に多重保s!!層を含むことができる
。例えば、フォトサーモグラフィック要素は、ポリ珪酸
以外のポリマー、例えば、水溶性セルロース誘導体(例
えば、水溶性酢酸セルロース)を含む第一保護層、及び
少なくとも50重景%のポリ珪酸及びその他のポリマー
を含む第二保護層を含むことができる。
本発明の保護層はポリ珪酸と共存性である上記のような
いずれの要素にも有用である。その要素は黒白要素又は
色素形成性要素であることができる。その保護層は乾式
物理現像用に設計されたハロゲン化銀フォトサーモグラ
フィック要素に特に有用である。保護層が有用である有
用なハロゲン化銀要素は、例えば、米国特許第3,45
7,075号、第4.459.350号、第4.264
,725号及びRe5earchDisclosure
、1978年6月、第17029項に記載されている。
保護層は、例えば、(a)現場以外で及び/又は現場で
調製された写真ハロゲン化銀、(b)(i)有機銀塩酸
化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩、例えばベヘン酸銀
と(ii)該有機銀塩酸化剤のための還元剤、好ましく
はフェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わせ、
及び(c)場合によっては存在していてもよい調色剤、
を結合剤中に反応性関連で担持している支持体を含むフ
ォトサーモグラフィック要素に特に有用である。
好ましいフォトサーモグラフィック要素は、(a)現場
で及び/又は現場以外で調製された写真ハロゲン化銀、
(b)(i)ベヘン酸銀と(ii )該ベヘンMmのた
めのフェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わせ
、(c)調色剤、例えば、スクシンイミド、及び(d)
画像安定剤、例えば、2−ブロモ−2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)アセトアミド、を結合剤、特にポリ
ビニルブチラール結合剤中に反応性関連で担持している
支持体を含んでおり、且つ前記したような保護層、好ま
しくは(A)ポリ珪酸及び(B)80〜99%加水分解
されている水溶性ポリビニルアルコールを含み、(A)
対(B)の比が少なくとも1、例えば1〜1.5である
保護層をもっている。
保護層は好ましくは要素の製造時に要素に塗布されるが
、しかしながら、場合によっては保護層は所望ならば要
素の調製後のいずれかの段階で要素に塗布することがで
きる。例えば、場合によっては保護層は露光の後で熱処
理の前に要素に塗布することができる。
最適の保護層厚は種々の因子、例えば、特定の要素、処
理条件、熱処理手段、所望の画像及び特定の保護層に依
存する。特に有用な保護N厚は1〜10μ、好ましくは
1〜3μの範囲内である。
フォトサーモグラフィック要素は、本質的に写真ハロゲ
ン化銀から成る感光性成分を含む。そのようなフォトサ
ーモグラフィック要素においては、ハロゲン化銀からの
潜像銀は処理の際に前記の酸化−還元画像形成性組み合
わせのための触媒として役立つ。写真ハロゲン化銀の好
ましい濃度はフォトサーモグラフィック要素中の有機銀
塩酸化剤(例えば、ベヘン酸銀)1モル当たり約0.0
1〜10モルの範囲内である。所望ならばその他の感光
性根塩は写真ハロゲン化銀との組み合わせで有用である
。好ましい写真ハロゲン化銀は塩化銀、臭化銀、臭沃化
銀、塩臭沃化銀及びこれらのハロゲン化銀の混合物であ
る。非常に微細な粒子の写真ハロゲン化銀は特に有用で
ある。写真ハロゲン化銀は写真技術で公知のいずれかの
方法によって調製することができる。写真ハロゲン化銀
のそのような調製法並びに写真ハロゲン化銀の形態は、
例えば、Re5earch Disclosure %
 1978年6月、第17029項及びRe5earc
h Disclosure % 1978年12月)第
17643項に記載されている。平板状の感光性ハロゲ
ン化銀もまた、例えば米国特許第4.435,499号
に記載されているように有用である。写真ハロゲン化銀
は、上記のRe5earch Disclosure刊
行物に記載されているように保管中の感度の損失に対し
て安定化することができ、洗浄しないか又は洗浄するこ
とができ、化学増感することができ、またカブリの生成
に対して保護することができる。ハロゲン化銀は、例え
ば米国特許第3,457,075号に記載されているよ
うに現場で調製することができる。
フォトサーモグラフィック要素は典型的には、有機銀塩
酸化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩を含有する酸化−
還元画像形成性組み合わせを含む。
そのような有機銀塩酸化剤は照射の際の暗色化に耐える
。好ましい有機銀塩酸化剤は10〜30個の炭素原子を
含有する長鎖脂肪酸の銀塩である。有用な有機銀塩酸化
剤の例はベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、
ラウリル酸銀、ヒドロキシステアリン酸銀、カプリン酸
銀、ミリスチン酸銀及びパルミチン酸銀である。有機銀
塩酸化剤の組み合わせも有用である。長鎖脂肪酸の銀塩
ではない有用な銀塩酸化剤の例としては、例えば、安息
香酸銀及び銀ベンゾトリアゾールがある。
フォトサーモグラフィック要素中の有機銀塩酸化剤の最
適濃度は所望の画像、特定の有機銀塩酸化剤、特定の還
元剤及び特定のフォトサーモグラフィック要素に依存し
て変化する。有機銀塩酸化剤の好ましい濃度は好ましく
はAg  1モル当たり有機銀塩酸化剤約0.1〜約1
00モルの範囲内である。有機銀塩酸化剤の組み合わせ
が存在する時には、有機銀塩酸化剤の合計濃度は好まし
くは上記の濃度範囲内である。
フォトサーモグラフィック要素においては種々の還元剤
が有用である。有用な還元剤の例としては、置換フェノ
ール及び置換ナフトール、例えばビス−β−ナフトール
;ポリヒドロキシベンゼン、例えばヒドロキノン類(ヒ
ドロキノン、アルキル置換ヒドロキノン、例えば第三ブ
チルヒドロキノン、メチルヒドロキノン、2.5−ジメ
チルヒドロキノン及び2.6−ジメチルヒドロキノンを
含む);カテコール及びピロガロール;アミノフェノー
ル還元剤、例えば2.4−ジアミノフェノール及びメチ
ルアミノフェノール:アスコルビン酸還元剤、例えばア
スコルビン酸、アスコルビン酸ケタール及びその他のア
スコルビン酸誘導体;ヒドロキシルアミン還元剤:3−
ピラゾリドン還元剤、例えば1−フェニル−3−ピラゾ
リドン及び4−メチル−4−ヒドロキシメチル−1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン;スルホンアミドフェノール
及び米国特許第3.933.508号及びRe5ear
chDisclosure、1978年6月、第170
29項に記載されているその他の有機還元剤(その記載
は参照文として本明細書に含まれるものとする)がある
。有機還元剤の組み合わせも有用である。
フォトサーモグラフィック要素において好ましい有機還
元剤は米国特許第3,801,321号に記載されてい
るようなスルホンアミドフェノール還元剤である。有用
なスルホンアミドフェノール還元剤の例としては2.6
−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、
ベンゼンスルホンアミドフェノール、2.6−ジプロモ
ー4−ベンゼンスルホンアミドフェノール及びそれらの
混合物である。
フォトサーモグラフィック要素中の還元剤の最適濃度は
特定のフォトサーモグラフィック要素、所望の画像、処
理条件、特定の有81銀塩酸化剤及び特定の安定剤先駆
物質のような因子に依存して変化する。還元剤の好まし
い濃度はフォトサーモグラフィック材料中の銀1モル当
たり約0.2〜約2.0モルの範囲内である。還元剤の
組み合わせが存在する時には、還元剤の合計濃度は好ま
しくは上記した濃度範囲内である。
フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、活性剤−
調色剤又はトーナー−促進剤としても知られている調色
剤を含む、フォトサーモグラフィック要素においては調
色剤の組み合わせが有用である。最適な調色剤又は調色
剤の組み合わせは、特定のフォトサーモグラフィック要
素、フォトサーモグラフィック要素中の特定の成分、所
望の画像及び処理条件のような因子に依存する。有用な
調色剤及び調色剤の組み合わせの例は、例えば、Re5
earch Disclosure 、1978年6月
・第17029項及び米国特許第4.123,282号
に記載されている。
有用な調色剤の例としては、例えば、フタルイミド、N
−ヒドロキシフタルイミド、N−カリウムフタルイミド
、スクシンイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフター
ルイミド、フタルアジン、1−(2H)−フタルアジノ
ン及び2−アセチルフタルアジノンがある。
フォトサーモグラフィック要素で有用な安定剤としては
、例えば米国特許第4.459,350号に記載されて
いるような光分解的に浩性な安定剤及び安定剤先駆物質
があり、また、例えば、アゾールチオエーテル及びブロ
ックドアゾリンチオン安定剤先駆物質及び米国特許第3
,877.940号に記載されているようなカルバモイ
ル安定剤先駆物質がある。
フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、ビヒクル
、結合剤として及び種々の層中に種々のコロイド及びポ
リマーを単独で又は組み合わせで含有する。有用な物質
は疎水性又は親水性である。
それらは透明又は半透明であり、天然産物質、例えば蛋
白質、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘
導体、多糖類、例えばデキストラン、アラビアゴム等;
及び合成ポリマー物質、例えばポリビニルピロリドンの
ような水溶性ポリビニル化合物及びアクリルアミドポリ
マーの両方を含む。
有用なその他の合成ポリマー化合物としてはラテックス
形態のような分散ビニル化合物及び特に写真材料の寸法
安定性を増加させるものがある。有効なポリマーとして
は水不溶性ポリマーであるアクリル酸アルキル、メタク
リル酸アルキル、アクリル酸、アクリル酸スルホアルキ
ル及び硬化又はキュアーを容易にする架橋座をもつもの
がある。
好ましい高分子量物質及び樹脂としてはポリビニルブチ
ラール、酢酸醋酸セルロース、ポリメタクリル酸メチル
、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、ポリスチ
レン、ポリ塩化ビニル、塩素化ゴム、ポリイソブチレン
、ブタジェン−スチレンコポリマー、塩化ビニル−酢酸
ビニルコポリマー、酢酸ビニルと塩化ビニルとのコポリ
マー、ポリビニルアルコール及びポリカーボネートがあ
る。
フォトサーモグラフィック要素は、Re5earchD
isclosures 1978年6月、第17029
項及びRe5earchDisclosure、197
8年12月、第17643項に記載されているような、
感度増強化合物、増感色素、硬膜剤、帯電防止層、可塑
剤兼滑剤、塗布助剤、増白剤、吸収及び濾過色素として
機能する現像調整剤を含有することができる。
熱処理可能な要素、特にフォトサーモグラフィック要素
又はサーモグラフィック要素は種々の支持体を含む。有
用な支持体の例としてはポリビニルアセクールフィルム
、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート
フィルム、ポリカーボネートフィルム及び関連したフィ
ルム又は樹脂物質、並びにガラス、紙、金属及び熱処理
温度に耐えることのできるその他の支持体がある。
フォトサーモグラフィック要素又はサーモグラフィック
要素の諸N(保護層を含む)は写真技術で公知の塗布法
(浸漬被覆、エアナイフ塗布、カーテンコーチング又は
ホッパーを用いての押出被覆を含む)によって支持体上
に塗布される。所望ならば、2つ以上の層を同時に塗布
する。
分光増感色素は追加の感度を与えるために上記のフォト
サーモグラフィック要素に有用である。
有用な増感色素は、例えば、Re5earch Dis
closure 。
1978年6月−第17029項及びRe5earch
 Disclosure %1978年12月、第17
643項に記載されている。
フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、像様露光
及び熱処理の前にフォトサーモグラフィック要素を安定
化するのを助けるために熱安定剤を含む。そのような熱
安定剤は保管中のフォトサーモグラフィック要素の安定
性の改良を助ける。
好ましい熱安定剤は (a)2−ブロモ−2−アリールスルホニルアセトアミ
ド、例えば2−ブロモ−2−p−1リルスルホニルアセ
トアミド、 (b)2− ()リブロモメチルスルホニル)ベンゾチ
アゾール、及び (c)6−置換−2,4−ビス(トリブロモメチル)−
S−)リアジン、例えば6−メチル又は6−フェニル−
2,4−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン である。
フォトサーモグラフィック要素は、ハロゲン化銀フォト
サーモグラフィック要素の場合には、種々のエネルギー
形態によって像様露光される。そのようなエネルギー形
態は、感光性ハロゲン化銀が悪心するものであり、電磁
スペクトルの紫外領域、可視領域及び赤外領域並びに電
子ビーム及びβ線、T線、X線、α粒子、中性子線、及
び非干渉性(ランダム相)形態又はレーザーによって作
られるような干渉性(同相)形態のいずれかであるその
他の形態の微粒子波様輻射エネルギーを包含する。露光
は写真ハロゲン化銀の分光増感に依存して単色、オルソ
、又はパンクロである。像様露光は好ましくはフォトサ
ーモグラフィック要素中に現像可能な潜像を作るのに十
分な時間及び強さである。フォトサーモグラフィック要
素の像様露光の後に、その生成潜像は単にその要素を適
度に高い温度に全体的に加熱することによって現像され
る。この全体的な加熱はフォトサーモグラフィック要素
を約90〜約150°Cの範囲内の温度に、現像された
像が生成されるまで、例えば約0.5〜約60秒の範囲
内で加熱することを伴うに過ぎな  ′い。加熱時間を
長くするか又は短くするかによって、所望の画像、フォ
トサーモグラフィック要素の特定の成分及び加熱手段に
依存して上記の範囲内の一層高いか又は−層低い温度が
有用である。
好ましい処理温度は約100〜約130℃の範囲内であ
る。
サーモグラフィック要素の場合には、熱エネルギー源及
び像形成手段は総ての像様熱暴露源及びサーモグラフィ
ック像形成技術で公知の手段であることができる。像様
加熱手段は、例えば、赤外線加熱手段、レーザー、マイ
クロ波加熱手段等であることができる。
フォトサーモグラフィック技術及びサーモグラフィック
技術で公知の加熱手段は所望の処理温度範囲を提供する
のに有用である。加熱手段は、例えば、簡単な熱板、ア
イロン、ローラー、加熱ドラム、マイクロ波加熱手段、
加熱空気等である。
熱処理は好ましくは周囲の圧力及び湿度条件下で実施さ
れる。所望ならば、通常の大気圧及び湿度以外の条件も
有用である。
その要素の諸成分は所望の画像を提供する要素中のいず
れかの位置に存在することができる。所望ならば、その
要素の1種以上の成分がその要素の1つ以上の層中に存
在する。例えば、ある場合には、その要素のフォトサー
モグラフィック層の上の保護層中にある割合の還元剤、
トーナー、安定剤先駆物質及び/又はその他の添加物を
含むことが望ましい。ある場合には、このことはフォト
サーモグラフィック要素の諸層中のある種の添加物の移
動を低下させる。
画像形成性組み合わせの諸成分が所望の画像を作るため
に相互に“関連している”ことが必要である0本明細書
において用語“関連している”は、フォトサーモグラフ
ィック要素において感光性ハロゲン化銀及び画像形成性
組み合わせは相互に、所望の処理を可能にしそして有用
な画像を作る位置にあることを意味する。
上記の保護層が有用であるサーモグラフィック要素は、
ポリ珪酸と共存できるいかなるものも含む。そのような
サーモグラフィック要素は、例えば、米国特許第2,6
63,657号、第2,910,377号、第3,02
8,254号、第3,031,329号及び第3,08
0,254号に記載されているものを含む。有用なサー
モグラフィック要素の例は、画像形成技術で公知の電気
的に活性化された記録及びサーモグラフィーのために設
計された物質を含むサーモグラフィック層を担持する支
持体、及び少なくとも50重量%のポリ珪酸を含む保護
層を含んでいる。
本明細書において用語“水溶性”は、90℃で2時間以
内に少なくとも2gの化合物又は組成物が水11に溶解
することを意味する。
〔実施例〕
以下の諸実施例は本発明を更に例証する。
実施例1〜3 1、対置Ω里製 下記の組成をもつ対照フォトサーモグラフィック要素を
調製した: 謀豆星           工Z亘」工Zムユ写真ゼ
ラチン        1733.0(161,0)マ
ット            107.6 (10,0
)ホルムアルデヒド        45.2(4,2
)界面活性剤(p−イソノニル フェノキシポリグリシドール である5urfactant 10G%米国の0lin
 Corp、の登録商標であり、同社から入手できる)
     50.6(4,7)フォトサーモグーフィ・
ク ベヘン酸≦艮(Ag)         861.1 
(80,0)tlgBrx(Hg)         
   1.Ho、1)AgBr(Ag)       
     430.6(40,0)Nal      
         37.7(3,5)スクシンイミド
トーナー/現 像調整剤           452.1 (42,
0)界面活性剤(SF −96、これは ポリシロキサン流体であり、 米国のGeneral Electric Co。
から入手でき、同社の登録向 標である’)            16.1 (1
,5)モノブロモ安定剤:        64.6(
6,0)ナフチルトリアジン安定剤:    64.6
(6,0)以下余白 01°0\/N\1001゜ 〒   八 ポリビニルブチラール結合剤 (ButvarB−76、米国のMon5an t。
Co、の登録商標)        4305.6(4
00,0)増感色素            5.4(
0,5)ベンゼンスルホンアミドフ ェノール現像主薬:       1076.4(10
0,0)門IBK溶剤           322.
9(30,0)叉昔止 0.1m(4ミル)の青色ポリエチレンテレフタレート
フィルム 以下の実施例においては保護層の組成のみを特定する。
実施例全般で用いたフォトサーモグラフィック層の組成
は上記した通りである。
下記の諸成分を下記の順序で混合した:蒸留水    
        144gINのp−トルエンスルホ ン酸               36gエチルアル
コール      200gTEO3208g 10分以内にPSAの透明溶液を得た。
■、ポIビニルアルコール(PV、A)の?″′′水中
リビニルアルコール8重量%の水溶液を調製した(水中
の8重量%(7)ELVANOL 52/22、ELV
ANOL 52/22は米国のE、1.duPont 
deNemours。
Co、の登録商標である)。       以下余白N
−IUのPSA  PVA t−t  L ’IJ、:
:8%pVA 、 ELVANOL 52/22  1
25.5g   125.5g蒸留水        
   79.5g   48.5gPSA溶液    
     46.0 g   76.5 g合計   
        250.0 g  250.0 g*
ELVANOL 71/30  27−33  99.
0−99.8  5.0−7.0本 〃52/22  
21−25  86.5−89   5.0−7.0*
  〃85/82  24−32  99.0−99.
8  5.0−7.0*  〃90150  12−1
5  99.0−99.8  5.0−7.0*〃50
/42  40−46  86.5−89   5.0
−7.0*  *VINOL  165       
55−65     99.3+          
5.5−7.5**   〃325    26−30
  98.0−98.8  5.0−7.0**   
〃425    26−30  95.5−96.5 
 4.5−6.5**  〃523    22−26
  87.0−89.0  4.0−6.0* ELV
ANOLは米国のE、I、duPont deNea+
ours+co。
の登録商標であり、同社から入手できる。
*)kVINOLは米国のAir Products 
& Chemicals。
Inc、の登録商標であり、同社がら入手できる。
既知面積の被覆物質をアセトン及び水中で内部標準とし
てN−メチルスクシンイミドで抽出した、その抽出物I
Iを30M、BD−5溶融シリカ細管カラムに注入した
。確証された標準、保持時間、及び火炎イオン化検知器
は同定及び定量を提供した。
b)  −y’   −狡 152.4csi (5ft)のフィルムストリップ又
は5個の30.48CIm (12in) X 35m
mのフィルムストリップを14gパケットのリンデモレ
キュラーシーブ(乾燥剤)と−緒に金属フィルム缶中に
いれた。
そのボックスを密封した後に、そのストリップを60℃
で4日間装置し、次いでそのサンプルを、保giNの亀
裂の存在について肉眼で検査する。ゼラチンから成る保
護層を対照として用いる。
C)五像皇五並 フィルムを構成する諸層の示差的熱膨張挙動に起因して
、端のすぐ近<  (1〜4關)に位置する微小画像特
性は熱処理の間に望ましくない変形を受ける。保j!層
が画像の汚れをもたらす傾向についての評価は、フィル
ムの端での画像の顕微鏡的評価からなり、その規模を0
(汚れなし)から10+++(最も悪い汚れ)までの自
由裁量単位で報告する。1,6111での3〜5の画像
汚れは許容できると考えられる。0に近い画像汚れ値は
極めて望ましい。
d)づJ仁ヒ乙二j− 露光したKodak Dacomatic DLフィル
ムの、又は試験下の実験物質の標準ストリップを、標準
KodakKomstar Processorを用い
て熱現像する(にodak \Dacomatic D
L、及びKoms tarは米国のEastmanKo
dak Companyの登録商標である)。フィルム
の底面を加熱ドラムと接触させ且つ保護層を処理の間、
処理用織物ベルトと接触したままであるようにストリッ
プを通すことが通常のやり方である。
保護層とベルトとの間の接触の結果として生じるいかな
る表面変形も“ベルトマーク”として報告される。
■、i の′蕉 に・ るPSAPv^ のイi上記I
で記載したフォトサーモグラフィック要素を、PSA対
PVA0比をθ〜1.5の間で変化させたPSA/PV
Aで被覆した。その生成要素を保留されたスクシンイミ
ドについて分析しく130℃で2分間加熱した原料及び
ストリップ)、その結果を下記の第1表に表示する:以
下余白 第1表 スクシンイミド 1ヒIJIA    PVA=E1vanol  52
/22                    <1
.1(<0.1)     100    ひ8嵐#B
  PSA/PVA=0.50           
 1n、2(8,1)    76   ひどい〃CO
,75244,3(2)、7)  32  中位実約分
111      1.(1)   五、1±16.1
   367.1(調、1)0   わずか−21,2
5(34,1±1.5)  397.2(36,9) 
 0  なし#3   1.50      412.
3(38,3)  Oなし比較例D ゼラチη埋ffl
           385.4(35,8)   
Oな しその結果は、部分的に加水分解されたPVA(
ELVANOL 52/22)単独はスクシンイミドに
対して極めて貧弱な遮断層であるが、しかしPSAとの
混合層として被覆される時にはPSA/PVA0比が少
なくとも1.0であると、満足になることを示している
。                以下余白実施例4
〜9:ポリビニルアルコールの1実施例1のTで記載し
たフォトサーモグラフィック要素を下記の第2表で特定
した保護層の1つで被覆した。実施例4〜9においてP
SA/PVAの比は1.25であった。130℃で2分
間加熱した原料及び材料を保留されたスクシンイミドに
ついて分析した。その結果を第2表に表示する。 以下
余白第2表 スクシンイミド 比較例E  PVA=E1vanol 71/30  
       178.7(16,6)   29.2
 ひどい〃F  PVA=E1vanol 85/82
 479.0±17.2”  <1.1(<0.1) 
  全部ひどい〃G  PVA=Vinol 325 
    (44,5±1.6)   <1.1(<0.
1)   全部 ひどい〃 HPVA=Vinol 4
25               <1.1(<0.
1)   mu  ひ81〃I   PVA=Vino
l 523             <1.1(<0
.1)   全部 ひどい・lΔ辷隅鰹月U之    
  く上」よ 頒医シ?1lllI4 PSA/PVA
−Elvanol 71/30    495.1(4
6,0)  0.0なし” 5 PSA/PVA−El
vanol 85/82    474.7(44,1
)  2.8なし〃6 PSA/PVA−Vinol 
329    465.0(43,2)  4.1なし
〃7 PSA/PVA−Vinol 425 495.
1±10.8” 480.1(44,6)  1.4な
し〃8 PSMPVA−Vinol 523  (46
,0±1.0)  470.4(43,7)  2.1
なし” 9 PSA/PVA−Elvanol 52/
22   447.8(41,6)  3.7なし対照
 GEL Control       473.6(
44,0)  2.0なし〃494.1(45,9) 
  456.4(42,4)    3.5〃〃4B4
.4(45,0)   466.1(43,3)   
 1.7*U津雛112〜J:こd直は平上側直であり
、個々鳴こついての穆惰類九次である。
**実施例4〜9:この値は平均値であり、個々の被漠
についてのぽ準皓差である。
第2表の結果は、ポリビニルアルコールは1.25の比
で被覆されたPSA/PVAと比較してスクシンイミド
に対して貧弱な遮断層であることを示している。  P
SA/PVA組成物は、用いたポリビニルアルコールと
は無関係に、130℃での加熱の間のスクシンイミドの
損失の点でゼラチン対照に匹敵する。そのPSA/PV
A保護層には望ましくない処理パターン(ベルトマーク
)はない。
実施例10〜12ニ一五込/上刃Xa口LΩ123実施
例1の■で記載したフォトサーモグラフィック要素を、
種々の量のポリビニルアルコール(Elvanol 7
1/30)を含有するPSA/PVAで被覆した。ゼラ
チン保護層を対照として用いた。材料を130℃で2分
間加熱した際のスクシンイミドの損失及び処理パターン
の生成度を次の第3表に表示する二         
       以下余白第3表 対 照  ゼラチン対照 −269な し比較例K  
 PSA/PVA    O,3359ひどし1#L 
  〃0.67  23   中位、M   −0,8
9=  中位 実施例10     〃1.00    14    
 わずか−11−1,339なし 〃12   〃1.33  5   なし*スクシンイ
ミドの損失は試験の間の周囲の湿度に依存する。
その損失は一層高い湿度で一層高い。
第3表の結果は、保護層中でのPSAの量が増加するに
つれて遮断性が改良されることを示している。PSA/
PV^の比0.67でのスクシンイミドの損失はゼラチ
ン対照よりもすでに低いが、ベルトマークはその比が1
.0よりも上に増加したときにのみ排除される。   
         以下余白実施例13〜18: 嘗 
の271体 に・ るPSA涜   セルロース(WS
CA)のづ 実施例1の1で記載したフォトサーモグラフィック要素
を、PSA対WSCAの比をO〜1.25の間で変化さ
せたPSA/WSCAで被覆した。その生成塗膜を保留
されたスクシンイミドについて分析した(130℃で2
分間加熱した原料及びストリップ)。
その結果を下記の第4表に表示する・  以下余白第4
表 スクシンイミド 対照 ゼラチ泄q          羽1.0鄭、0
  3 貧弱比較例N冠A             
 221.7(2)、6)   招 貧弱8岡ケ113
  PSA、〜原論、比−0.50         
     361.7(33,6)       8 
   N独子〃14       0.75 391.
8±8.6°356.3(33,1)    9  良
好〃  15            1.00   
(36,4±0.8)   376.7(35,0) 
     4   6喰子〃16       1.2
5       354.1(32,9)   10o
/c亀裂”   17  PSA/PVA、比1.25
.  ”             381.0(35
,4)      3    、M子〃  18  P
SA/PVA、比 1.25.[18376,7(35
,0)       4    M子その水溶性酢酸セ
ルロースは16.5%のアセチルを含有していた。
〔発明の効果〕
本発明においては、少なくとも50重量%のポリ珪酸を
含有する保護層は、熱処理の間の要素中の揮発性成分の
損失を防止するか又は低下させることができ、熱処理の
間の要素の諸層の耐変形性を提供し、画像成分が要素の
1つ以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか
又は防止し、保護層が要素の隣接層に満足に接着するの
を可能にし、又望ましくない亀裂及びマーキングのない
保護層を可能にする。このことば上記したように要素中
の改良された画像を特徴とする

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、少なくとも50重量%のポリ珪酸を含むことを特徴
    とする、熱処理可能な要素のための保護層。
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