JPS6389841A - 熱処理可能な画像形成要素のためのオーバーコート層 - Google Patents
熱処理可能な画像形成要素のためのオーバーコート層Info
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49872—Aspects relating to non-photosensitive layers, e.g. intermediate protective layers
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、熱処理の間の要素からの揮発性成分の放出を
低下させることを可能にし且つその他の利益を可能にす
る、熱処理可能な要素のための保護層(overcoa
t)に関する。
低下させることを可能にし且つその他の利益を可能にす
る、熱処理可能な要素のための保護層(overcoa
t)に関する。
熱処理によって画像を生じさせるための熱処理可能な要
素、特にフォトサーモグラフィック要素及びサーモグラ
フィック要素(フィルム及び紙を含む)の表面の保護層
は公知である。そのような要素及び保護層は、例えば、
Re5earch Disclosure、1978年
6月、第17029項、米国特許第3.457,075
号及び米国特許第3,933.508号に記載されてい
る。
素、特にフォトサーモグラフィック要素及びサーモグラ
フィック要素(フィルム及び紙を含む)の表面の保護層
は公知である。そのような要素及び保護層は、例えば、
Re5earch Disclosure、1978年
6月、第17029項、米国特許第3.457,075
号及び米国特許第3,933.508号に記載されてい
る。
熱処理温度(例えば、10(1℃よりも高い温度)で揮
発性である成分を含むフォトサーモグラフィック要素に
よって示される問題は、その揮発性成分が熱処理の間に
要素から放出される傾向があることである。この例は、
熱現像で要素から放出される傾向のあるトーナー(例え
ば、スクシンイミド)を含み且つポリビニルアルコール
製保護層を含む後記比較例Aで例示されるようなハロゲ
ン化銀フォトサーモグラフィックフィルムである。その
ようなポリビニルアルコール製保護層の例は、例えば、
米国特許第3.933,508号、米国特許第3.89
3,860号、昭和58年12月19日に公開された特
開昭58−217930号に記載されている。比較例A
によって例示されているように、ポリビニルアルコール
単独ではトーナーの放出を防止しないのでこの問題に対
する解決法とはならない。
発性である成分を含むフォトサーモグラフィック要素に
よって示される問題は、その揮発性成分が熱処理の間に
要素から放出される傾向があることである。この例は、
熱現像で要素から放出される傾向のあるトーナー(例え
ば、スクシンイミド)を含み且つポリビニルアルコール
製保護層を含む後記比較例Aで例示されるようなハロゲ
ン化銀フォトサーモグラフィックフィルムである。その
ようなポリビニルアルコール製保護層の例は、例えば、
米国特許第3.933,508号、米国特許第3.89
3,860号、昭和58年12月19日に公開された特
開昭58−217930号に記載されている。比較例A
によって例示されているように、ポリビニルアルコール
単独ではトーナーの放出を防止しないのでこの問題に対
する解決法とはならない。
そのような要素のための保護層として記載されてきてい
るか又は用いられてきているその他のポリマーもまた、
許容できる保護層に関しての要件を十分には満足しない
。これらのその他のポリマーは、保護層が(a)熱処理
の間の要素の諸層の耐変形性を提供する、(b)熱処理
の間の要素中の揮発性成分の損失を防止するか又は低下
させる、(c)要素の製造中に又は画像形成及び熱処理
の前の要素の保管中に必須の画像形成成分が要素の1層
以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか又は
防止する、(d)保護層が要素の隣接層に満足に接着す
るのを可能にする、及び(e)要素の製造中、保管中及
び処理中に亀裂及び望ましくないマーキング(例えば摩
擦マーキング)を生じない、という諸要件の1つ以上を
満足しない。
るか又は用いられてきているその他のポリマーもまた、
許容できる保護層に関しての要件を十分には満足しない
。これらのその他のポリマーは、保護層が(a)熱処理
の間の要素の諸層の耐変形性を提供する、(b)熱処理
の間の要素中の揮発性成分の損失を防止するか又は低下
させる、(c)要素の製造中に又は画像形成及び熱処理
の前の要素の保管中に必須の画像形成成分が要素の1層
以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか又は
防止する、(d)保護層が要素の隣接層に満足に接着す
るのを可能にする、及び(e)要素の製造中、保管中及
び処理中に亀裂及び望ましくないマーキング(例えば摩
擦マーキング)を生じない、という諸要件の1つ以上を
満足しない。
通常の保護層物!(例えば、酢酸セルロース、ゼラチン
及び完全に加水分解されたポリビニルアルコール)はい
ずれも十分には満足ではない。
及び完全に加水分解されたポリビニルアルコール)はい
ずれも十分には満足ではない。
以下余白
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題は、熱処理可能な要素、特にフォトサーモグ
ラフィック要素又はサーモグラフィック要素のための、
少なくとも50重量%のポリ珪酸を含む保護層によって
解決されることが見いだされた。そのような要素のため
の好ましい保護層は、ポリ珪酸と共存性の水溶性のヒド
ロキシル基含有ポリマー(例えば、水溶性ポリビニルア
ルコール又は水溶性セルロース誘導体)又はモノマーも
また含有する。
ラフィック要素又はサーモグラフィック要素のための、
少なくとも50重量%のポリ珪酸を含む保護層によって
解決されることが見いだされた。そのような要素のため
の好ましい保護層は、ポリ珪酸と共存性の水溶性のヒド
ロキシル基含有ポリマー(例えば、水溶性ポリビニルア
ルコール又は水溶性セルロース誘導体)又はモノマーも
また含有する。
ポリ珪酸は式
%式%
(式中、Xは塗布可能なポリ珪酸水溶液を提供するのに
十分な整数、例えば少なくとも3から約600までの範
囲内の整数である) によって表される。
十分な整数、例えば少なくとも3から約600までの範
囲内の整数である) によって表される。
ポリ珪酸は有機合成技術で公知の方法によって、例えば
オルト珪酸テトラエチルの加水分解によって調製される
。ポリ珪酸の典型的な調製法は、室温(20℃)で蒸留
水とINのり−)ルエンスルホン酸及び無水アルコール
とを混合し、次いでオルト珪酸テトラエチルと混合する
ことを含む。数分以内に透明な溶液が得られる。その生
成したポリ珪酸溶液は典型的には20℃で30日以上安
定である。INのp−トルエンスルホン酸水溶液はこの
調製において典型的に好ましいが、0.1〜1、ONの
酸濃度を用いることができる。その調製において一層低
い酸濃度を用いるならばポリ珪酸溶液の安定性はしばし
ば最適よりは低い。p−トルエンスルホン酸の代わりの
有用な酸としては塩酸、硫酸、及びその他の鉱酸がある
。有機弱酸(例えば酢酸)は所望の加水分解を提供する
ことができるが、しかしその生成ポリ珪酸組成物は数時
間以内にゲルをもたらす。このゲルは追加の混合工程及
び調製工程なしでは好都合には塗布されない。
オルト珪酸テトラエチルの加水分解によって調製される
。ポリ珪酸の典型的な調製法は、室温(20℃)で蒸留
水とINのり−)ルエンスルホン酸及び無水アルコール
とを混合し、次いでオルト珪酸テトラエチルと混合する
ことを含む。数分以内に透明な溶液が得られる。その生
成したポリ珪酸溶液は典型的には20℃で30日以上安
定である。INのp−トルエンスルホン酸水溶液はこの
調製において典型的に好ましいが、0.1〜1、ONの
酸濃度を用いることができる。その調製において一層低
い酸濃度を用いるならばポリ珪酸溶液の安定性はしばし
ば最適よりは低い。p−トルエンスルホン酸の代わりの
有用な酸としては塩酸、硫酸、及びその他の鉱酸がある
。有機弱酸(例えば酢酸)は所望の加水分解を提供する
ことができるが、しかしその生成ポリ珪酸組成物は数時
間以内にゲルをもたらす。このゲルは追加の混合工程及
び調製工程なしでは好都合には塗布されない。
塗布された状態で有用なポリ珪酸保護層組成物は典型的
には100〜200℃の範囲内の要素の処理温度で不利
益に流動したり、汚したり、ゆがめたりすることはない
。
には100〜200℃の範囲内の要素の処理温度で不利
益に流動したり、汚したり、ゆがめたりすることはない
。
保護層中のポリ珪酸の最適濃度は保護層中の諸成分、特
定のフォトサーモグラフィック要素及び処理条件に依存
して変化する。保護層中にポリビニルアルコールが存在
する時には、ポリ珪酸濃度が50重景%未満であると、
熱処理可能な要素がらの揮発性成分の放出を所望程度で
低下させることはない、好ましくは、保護層中にポリビ
ニルアルコールが存在する時には、ポリ珪酸濃度は保護
層の50〜90重量%の範囲内である。ポリ珪酸の最適
濃度は特定の画像形成要素、熱処理条件、ポリ珪酸との
組み合わせで用いられる諸成分等のような因子に依存し
て変化することができる。
定のフォトサーモグラフィック要素及び処理条件に依存
して変化する。保護層中にポリビニルアルコールが存在
する時には、ポリ珪酸濃度が50重景%未満であると、
熱処理可能な要素がらの揮発性成分の放出を所望程度で
低下させることはない、好ましくは、保護層中にポリビ
ニルアルコールが存在する時には、ポリ珪酸濃度は保護
層の50〜90重量%の範囲内である。ポリ珪酸の最適
濃度は特定の画像形成要素、熱処理条件、ポリ珪酸との
組み合わせで用いられる諸成分等のような因子に依存し
て変化することができる。
ポリ珪酸を含む有用な保護層組成物は典型的には無色透
明である。保護層が無色透明でないならば、その時には
、要素がフォトサーモグラフィック要素であるならば、
いずれにしても画像を与えて調べるために用いられる輻
射線の波長に対して透過性であることが必要である。そ
の保護層は画像形成特性、例えば、フォトサーモグラフ
ィック要素の場合のセンシトメトリー特性(例えば、最
低濃度、最高濃度又は写真感度)に殆ど悪影響を及ぼさ
ない。
明である。保護層が無色透明でないならば、その時には
、要素がフォトサーモグラフィック要素であるならば、
いずれにしても画像を与えて調べるために用いられる輻
射線の波長に対して透過性であることが必要である。そ
の保護層は画像形成特性、例えば、フォトサーモグラフ
ィック要素の場合のセンシトメトリー特性(例えば、最
低濃度、最高濃度又は写真感度)に殆ど悪影響を及ぼさ
ない。
その他の成分、特にその他のポリマーをポリ珪酸と共に
保護層中に用いることができる。保護層においてポリ珪
酸との組み合わせで有用であることができるその他の成
分としては、例えば、その他のポリマー、例えば、ポリ
珪酸と共存性である水溶性のヒドロキシル基含有ポリマ
ー又はモノマー、例えば、アクリルアミドポリマー、水
溶性セルロース誘導体(例えば、水溶性酢酸セルロース
及び酢酸ヒドロキシエチルセルロース)等がある。
保護層中に用いることができる。保護層においてポリ珪
酸との組み合わせで有用であることができるその他の成
分としては、例えば、その他のポリマー、例えば、ポリ
珪酸と共存性である水溶性のヒドロキシル基含有ポリマ
ー又はモノマー、例えば、アクリルアミドポリマー、水
溶性セルロース誘導体(例えば、水溶性酢酸セルロース
及び酢酸ヒドロキシエチルセルロース)等がある。
その水溶性ポリマーはポリ珪酸と共存性でなければなら
ないことが重要である。
ないことが重要である。
そのような保護層を含むフォトサーモグラフィック要素
及びサーモグラフィック要素は、所望ならば、多重のポ
リマー含有層、特に多重保s!!層を含むことができる
。例えば、フォトサーモグラフィック要素は、ポリ珪酸
以外のポリマー、例えば、水溶性セルロース誘導体(例
えば、水溶性酢酸セルロース)を含む第一保護層、及び
少なくとも50重景%のポリ珪酸及びその他のポリマー
を含む第二保護層を含むことができる。
及びサーモグラフィック要素は、所望ならば、多重のポ
リマー含有層、特に多重保s!!層を含むことができる
。例えば、フォトサーモグラフィック要素は、ポリ珪酸
以外のポリマー、例えば、水溶性セルロース誘導体(例
えば、水溶性酢酸セルロース)を含む第一保護層、及び
少なくとも50重景%のポリ珪酸及びその他のポリマー
を含む第二保護層を含むことができる。
本発明の保護層はポリ珪酸と共存性である上記のような
いずれの要素にも有用である。その要素は黒白要素又は
色素形成性要素であることができる。その保護層は乾式
物理現像用に設計されたハロゲン化銀フォトサーモグラ
フィック要素に特に有用である。保護層が有用である有
用なハロゲン化銀要素は、例えば、米国特許第3,45
7,075号、第4.459.350号、第4.264
,725号及びRe5earchDisclosure
、1978年6月、第17029項に記載されている。
いずれの要素にも有用である。その要素は黒白要素又は
色素形成性要素であることができる。その保護層は乾式
物理現像用に設計されたハロゲン化銀フォトサーモグラ
フィック要素に特に有用である。保護層が有用である有
用なハロゲン化銀要素は、例えば、米国特許第3,45
7,075号、第4.459.350号、第4.264
,725号及びRe5earchDisclosure
、1978年6月、第17029項に記載されている。
保護層は、例えば、(a)現場以外で及び/又は現場で
調製された写真ハロゲン化銀、(b)(i)有機銀塩酸
化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩、例えばベヘン酸銀
と(ii)該有機銀塩酸化剤のための還元剤、好ましく
はフェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わせ、
及び(c)場合によっては存在していてもよい調色剤、
を結合剤中に反応性関連で担持している支持体を含むフ
ォトサーモグラフィック要素に特に有用である。
調製された写真ハロゲン化銀、(b)(i)有機銀塩酸
化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩、例えばベヘン酸銀
と(ii)該有機銀塩酸化剤のための還元剤、好ましく
はフェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わせ、
及び(c)場合によっては存在していてもよい調色剤、
を結合剤中に反応性関連で担持している支持体を含むフ
ォトサーモグラフィック要素に特に有用である。
好ましいフォトサーモグラフィック要素は、(a)現場
で及び/又は現場以外で調製された写真ハロゲン化銀、
(b)(i)ベヘン酸銀と(ii )該ベヘンMmのた
めのフェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わせ
、(c)調色剤、例えば、スクシンイミド、及び(d)
画像安定剤、例えば、2−ブロモ−2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)アセトアミド、を結合剤、特にポリ
ビニルブチラール結合剤中に反応性関連で担持している
支持体を含んでおり、且つ前記したような保護層、好ま
しくは(A)ポリ珪酸及び(B)80〜99%加水分解
されている水溶性ポリビニルアルコールを含み、(A)
対(B)の比が少なくとも1、例えば1〜1.5である
保護層をもっている。
で及び/又は現場以外で調製された写真ハロゲン化銀、
(b)(i)ベヘン酸銀と(ii )該ベヘンMmのた
めのフェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わせ
、(c)調色剤、例えば、スクシンイミド、及び(d)
画像安定剤、例えば、2−ブロモ−2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)アセトアミド、を結合剤、特にポリ
ビニルブチラール結合剤中に反応性関連で担持している
支持体を含んでおり、且つ前記したような保護層、好ま
しくは(A)ポリ珪酸及び(B)80〜99%加水分解
されている水溶性ポリビニルアルコールを含み、(A)
対(B)の比が少なくとも1、例えば1〜1.5である
保護層をもっている。
保護層は好ましくは要素の製造時に要素に塗布されるが
、しかしながら、場合によっては保護層は所望ならば要
素の調製後のいずれかの段階で要素に塗布することがで
きる。例えば、場合によっては保護層は露光の後で熱処
理の前に要素に塗布することができる。
、しかしながら、場合によっては保護層は所望ならば要
素の調製後のいずれかの段階で要素に塗布することがで
きる。例えば、場合によっては保護層は露光の後で熱処
理の前に要素に塗布することができる。
最適の保護層厚は種々の因子、例えば、特定の要素、処
理条件、熱処理手段、所望の画像及び特定の保護層に依
存する。特に有用な保護N厚は1〜10μ、好ましくは
1〜3μの範囲内である。
理条件、熱処理手段、所望の画像及び特定の保護層に依
存する。特に有用な保護N厚は1〜10μ、好ましくは
1〜3μの範囲内である。
フォトサーモグラフィック要素は、本質的に写真ハロゲ
ン化銀から成る感光性成分を含む。そのようなフォトサ
ーモグラフィック要素においては、ハロゲン化銀からの
潜像銀は処理の際に前記の酸化−還元画像形成性組み合
わせのための触媒として役立つ。写真ハロゲン化銀の好
ましい濃度はフォトサーモグラフィック要素中の有機銀
塩酸化剤(例えば、ベヘン酸銀)1モル当たり約0.0
1〜10モルの範囲内である。所望ならばその他の感光
性根塩は写真ハロゲン化銀との組み合わせで有用である
。好ましい写真ハロゲン化銀は塩化銀、臭化銀、臭沃化
銀、塩臭沃化銀及びこれらのハロゲン化銀の混合物であ
る。非常に微細な粒子の写真ハロゲン化銀は特に有用で
ある。写真ハロゲン化銀は写真技術で公知のいずれかの
方法によって調製することができる。写真ハロゲン化銀
のそのような調製法並びに写真ハロゲン化銀の形態は、
例えば、Re5earch Disclosure %
1978年6月、第17029項及びRe5earc
h Disclosure % 1978年12月)第
17643項に記載されている。平板状の感光性ハロゲ
ン化銀もまた、例えば米国特許第4.435,499号
に記載されているように有用である。写真ハロゲン化銀
は、上記のRe5earch Disclosure刊
行物に記載されているように保管中の感度の損失に対し
て安定化することができ、洗浄しないか又は洗浄するこ
とができ、化学増感することができ、またカブリの生成
に対して保護することができる。ハロゲン化銀は、例え
ば米国特許第3,457,075号に記載されているよ
うに現場で調製することができる。
ン化銀から成る感光性成分を含む。そのようなフォトサ
ーモグラフィック要素においては、ハロゲン化銀からの
潜像銀は処理の際に前記の酸化−還元画像形成性組み合
わせのための触媒として役立つ。写真ハロゲン化銀の好
ましい濃度はフォトサーモグラフィック要素中の有機銀
塩酸化剤(例えば、ベヘン酸銀)1モル当たり約0.0
1〜10モルの範囲内である。所望ならばその他の感光
性根塩は写真ハロゲン化銀との組み合わせで有用である
。好ましい写真ハロゲン化銀は塩化銀、臭化銀、臭沃化
銀、塩臭沃化銀及びこれらのハロゲン化銀の混合物であ
る。非常に微細な粒子の写真ハロゲン化銀は特に有用で
ある。写真ハロゲン化銀は写真技術で公知のいずれかの
方法によって調製することができる。写真ハロゲン化銀
のそのような調製法並びに写真ハロゲン化銀の形態は、
例えば、Re5earch Disclosure %
1978年6月、第17029項及びRe5earc
h Disclosure % 1978年12月)第
17643項に記載されている。平板状の感光性ハロゲ
ン化銀もまた、例えば米国特許第4.435,499号
に記載されているように有用である。写真ハロゲン化銀
は、上記のRe5earch Disclosure刊
行物に記載されているように保管中の感度の損失に対し
て安定化することができ、洗浄しないか又は洗浄するこ
とができ、化学増感することができ、またカブリの生成
に対して保護することができる。ハロゲン化銀は、例え
ば米国特許第3,457,075号に記載されているよ
うに現場で調製することができる。
フォトサーモグラフィック要素は典型的には、有機銀塩
酸化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩を含有する酸化−
還元画像形成性組み合わせを含む。
酸化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩を含有する酸化−
還元画像形成性組み合わせを含む。
そのような有機銀塩酸化剤は照射の際の暗色化に耐える
。好ましい有機銀塩酸化剤は10〜30個の炭素原子を
含有する長鎖脂肪酸の銀塩である。有用な有機銀塩酸化
剤の例はベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、
ラウリル酸銀、ヒドロキシステアリン酸銀、カプリン酸
銀、ミリスチン酸銀及びパルミチン酸銀である。有機銀
塩酸化剤の組み合わせも有用である。長鎖脂肪酸の銀塩
ではない有用な銀塩酸化剤の例としては、例えば、安息
香酸銀及び銀ベンゾトリアゾールがある。
。好ましい有機銀塩酸化剤は10〜30個の炭素原子を
含有する長鎖脂肪酸の銀塩である。有用な有機銀塩酸化
剤の例はベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、
ラウリル酸銀、ヒドロキシステアリン酸銀、カプリン酸
銀、ミリスチン酸銀及びパルミチン酸銀である。有機銀
塩酸化剤の組み合わせも有用である。長鎖脂肪酸の銀塩
ではない有用な銀塩酸化剤の例としては、例えば、安息
香酸銀及び銀ベンゾトリアゾールがある。
フォトサーモグラフィック要素中の有機銀塩酸化剤の最
適濃度は所望の画像、特定の有機銀塩酸化剤、特定の還
元剤及び特定のフォトサーモグラフィック要素に依存し
て変化する。有機銀塩酸化剤の好ましい濃度は好ましく
はAg 1モル当たり有機銀塩酸化剤約0.1〜約1
00モルの範囲内である。有機銀塩酸化剤の組み合わせ
が存在する時には、有機銀塩酸化剤の合計濃度は好まし
くは上記の濃度範囲内である。
適濃度は所望の画像、特定の有機銀塩酸化剤、特定の還
元剤及び特定のフォトサーモグラフィック要素に依存し
て変化する。有機銀塩酸化剤の好ましい濃度は好ましく
はAg 1モル当たり有機銀塩酸化剤約0.1〜約1
00モルの範囲内である。有機銀塩酸化剤の組み合わせ
が存在する時には、有機銀塩酸化剤の合計濃度は好まし
くは上記の濃度範囲内である。
フォトサーモグラフィック要素においては種々の還元剤
が有用である。有用な還元剤の例としては、置換フェノ
ール及び置換ナフトール、例えばビス−β−ナフトール
;ポリヒドロキシベンゼン、例えばヒドロキノン類(ヒ
ドロキノン、アルキル置換ヒドロキノン、例えば第三ブ
チルヒドロキノン、メチルヒドロキノン、2.5−ジメ
チルヒドロキノン及び2.6−ジメチルヒドロキノンを
含む);カテコール及びピロガロール;アミノフェノー
ル還元剤、例えば2.4−ジアミノフェノール及びメチ
ルアミノフェノール:アスコルビン酸還元剤、例えばア
スコルビン酸、アスコルビン酸ケタール及びその他のア
スコルビン酸誘導体;ヒドロキシルアミン還元剤:3−
ピラゾリドン還元剤、例えば1−フェニル−3−ピラゾ
リドン及び4−メチル−4−ヒドロキシメチル−1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン;スルホンアミドフェノール
及び米国特許第3.933.508号及びRe5ear
chDisclosure、1978年6月、第170
29項に記載されているその他の有機還元剤(その記載
は参照文として本明細書に含まれるものとする)がある
。有機還元剤の組み合わせも有用である。
が有用である。有用な還元剤の例としては、置換フェノ
ール及び置換ナフトール、例えばビス−β−ナフトール
;ポリヒドロキシベンゼン、例えばヒドロキノン類(ヒ
ドロキノン、アルキル置換ヒドロキノン、例えば第三ブ
チルヒドロキノン、メチルヒドロキノン、2.5−ジメ
チルヒドロキノン及び2.6−ジメチルヒドロキノンを
含む);カテコール及びピロガロール;アミノフェノー
ル還元剤、例えば2.4−ジアミノフェノール及びメチ
ルアミノフェノール:アスコルビン酸還元剤、例えばア
スコルビン酸、アスコルビン酸ケタール及びその他のア
スコルビン酸誘導体;ヒドロキシルアミン還元剤:3−
ピラゾリドン還元剤、例えば1−フェニル−3−ピラゾ
リドン及び4−メチル−4−ヒドロキシメチル−1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン;スルホンアミドフェノール
及び米国特許第3.933.508号及びRe5ear
chDisclosure、1978年6月、第170
29項に記載されているその他の有機還元剤(その記載
は参照文として本明細書に含まれるものとする)がある
。有機還元剤の組み合わせも有用である。
フォトサーモグラフィック要素において好ましい有機還
元剤は米国特許第3,801,321号に記載されてい
るようなスルホンアミドフェノール還元剤である。有用
なスルホンアミドフェノール還元剤の例としては2.6
−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、
ベンゼンスルホンアミドフェノール、2.6−ジプロモ
ー4−ベンゼンスルホンアミドフェノール及びそれらの
混合物である。
元剤は米国特許第3,801,321号に記載されてい
るようなスルホンアミドフェノール還元剤である。有用
なスルホンアミドフェノール還元剤の例としては2.6
−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、
ベンゼンスルホンアミドフェノール、2.6−ジプロモ
ー4−ベンゼンスルホンアミドフェノール及びそれらの
混合物である。
フォトサーモグラフィック要素中の還元剤の最適濃度は
特定のフォトサーモグラフィック要素、所望の画像、処
理条件、特定の有81銀塩酸化剤及び特定の安定剤先駆
物質のような因子に依存して変化する。還元剤の好まし
い濃度はフォトサーモグラフィック材料中の銀1モル当
たり約0.2〜約2.0モルの範囲内である。還元剤の
組み合わせが存在する時には、還元剤の合計濃度は好ま
しくは上記した濃度範囲内である。
特定のフォトサーモグラフィック要素、所望の画像、処
理条件、特定の有81銀塩酸化剤及び特定の安定剤先駆
物質のような因子に依存して変化する。還元剤の好まし
い濃度はフォトサーモグラフィック材料中の銀1モル当
たり約0.2〜約2.0モルの範囲内である。還元剤の
組み合わせが存在する時には、還元剤の合計濃度は好ま
しくは上記した濃度範囲内である。
フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、活性剤−
調色剤又はトーナー−促進剤としても知られている調色
剤を含む、フォトサーモグラフィック要素においては調
色剤の組み合わせが有用である。最適な調色剤又は調色
剤の組み合わせは、特定のフォトサーモグラフィック要
素、フォトサーモグラフィック要素中の特定の成分、所
望の画像及び処理条件のような因子に依存する。有用な
調色剤及び調色剤の組み合わせの例は、例えば、Re5
earch Disclosure 、1978年6月
・第17029項及び米国特許第4.123,282号
に記載されている。
調色剤又はトーナー−促進剤としても知られている調色
剤を含む、フォトサーモグラフィック要素においては調
色剤の組み合わせが有用である。最適な調色剤又は調色
剤の組み合わせは、特定のフォトサーモグラフィック要
素、フォトサーモグラフィック要素中の特定の成分、所
望の画像及び処理条件のような因子に依存する。有用な
調色剤及び調色剤の組み合わせの例は、例えば、Re5
earch Disclosure 、1978年6月
・第17029項及び米国特許第4.123,282号
に記載されている。
有用な調色剤の例としては、例えば、フタルイミド、N
−ヒドロキシフタルイミド、N−カリウムフタルイミド
、スクシンイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフター
ルイミド、フタルアジン、1−(2H)−フタルアジノ
ン及び2−アセチルフタルアジノンがある。
−ヒドロキシフタルイミド、N−カリウムフタルイミド
、スクシンイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフター
ルイミド、フタルアジン、1−(2H)−フタルアジノ
ン及び2−アセチルフタルアジノンがある。
フォトサーモグラフィック要素で有用な安定剤としては
、例えば米国特許第4.459,350号に記載されて
いるような光分解的に浩性な安定剤及び安定剤先駆物質
があり、また、例えば、アゾールチオエーテル及びブロ
ックドアゾリンチオン安定剤先駆物質及び米国特許第3
,877.940号に記載されているようなカルバモイ
ル安定剤先駆物質がある。
、例えば米国特許第4.459,350号に記載されて
いるような光分解的に浩性な安定剤及び安定剤先駆物質
があり、また、例えば、アゾールチオエーテル及びブロ
ックドアゾリンチオン安定剤先駆物質及び米国特許第3
,877.940号に記載されているようなカルバモイ
ル安定剤先駆物質がある。
フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、ビヒクル
、結合剤として及び種々の層中に種々のコロイド及びポ
リマーを単独で又は組み合わせで含有する。有用な物質
は疎水性又は親水性である。
、結合剤として及び種々の層中に種々のコロイド及びポ
リマーを単独で又は組み合わせで含有する。有用な物質
は疎水性又は親水性である。
それらは透明又は半透明であり、天然産物質、例えば蛋
白質、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘
導体、多糖類、例えばデキストラン、アラビアゴム等;
及び合成ポリマー物質、例えばポリビニルピロリドンの
ような水溶性ポリビニル化合物及びアクリルアミドポリ
マーの両方を含む。
白質、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘
導体、多糖類、例えばデキストラン、アラビアゴム等;
及び合成ポリマー物質、例えばポリビニルピロリドンの
ような水溶性ポリビニル化合物及びアクリルアミドポリ
マーの両方を含む。
有用なその他の合成ポリマー化合物としてはラテックス
形態のような分散ビニル化合物及び特に写真材料の寸法
安定性を増加させるものがある。有効なポリマーとして
は水不溶性ポリマーであるアクリル酸アルキル、メタク
リル酸アルキル、アクリル酸、アクリル酸スルホアルキ
ル及び硬化又はキュアーを容易にする架橋座をもつもの
がある。
形態のような分散ビニル化合物及び特に写真材料の寸法
安定性を増加させるものがある。有効なポリマーとして
は水不溶性ポリマーであるアクリル酸アルキル、メタク
リル酸アルキル、アクリル酸、アクリル酸スルホアルキ
ル及び硬化又はキュアーを容易にする架橋座をもつもの
がある。
好ましい高分子量物質及び樹脂としてはポリビニルブチ
ラール、酢酸醋酸セルロース、ポリメタクリル酸メチル
、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、ポリスチ
レン、ポリ塩化ビニル、塩素化ゴム、ポリイソブチレン
、ブタジェン−スチレンコポリマー、塩化ビニル−酢酸
ビニルコポリマー、酢酸ビニルと塩化ビニルとのコポリ
マー、ポリビニルアルコール及びポリカーボネートがあ
る。
ラール、酢酸醋酸セルロース、ポリメタクリル酸メチル
、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、ポリスチ
レン、ポリ塩化ビニル、塩素化ゴム、ポリイソブチレン
、ブタジェン−スチレンコポリマー、塩化ビニル−酢酸
ビニルコポリマー、酢酸ビニルと塩化ビニルとのコポリ
マー、ポリビニルアルコール及びポリカーボネートがあ
る。
フォトサーモグラフィック要素は、Re5earchD
isclosures 1978年6月、第17029
項及びRe5earchDisclosure、197
8年12月、第17643項に記載されているような、
感度増強化合物、増感色素、硬膜剤、帯電防止層、可塑
剤兼滑剤、塗布助剤、増白剤、吸収及び濾過色素として
機能する現像調整剤を含有することができる。
isclosures 1978年6月、第17029
項及びRe5earchDisclosure、197
8年12月、第17643項に記載されているような、
感度増強化合物、増感色素、硬膜剤、帯電防止層、可塑
剤兼滑剤、塗布助剤、増白剤、吸収及び濾過色素として
機能する現像調整剤を含有することができる。
熱処理可能な要素、特にフォトサーモグラフィック要素
又はサーモグラフィック要素は種々の支持体を含む。有
用な支持体の例としてはポリビニルアセクールフィルム
、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート
フィルム、ポリカーボネートフィルム及び関連したフィ
ルム又は樹脂物質、並びにガラス、紙、金属及び熱処理
温度に耐えることのできるその他の支持体がある。
又はサーモグラフィック要素は種々の支持体を含む。有
用な支持体の例としてはポリビニルアセクールフィルム
、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート
フィルム、ポリカーボネートフィルム及び関連したフィ
ルム又は樹脂物質、並びにガラス、紙、金属及び熱処理
温度に耐えることのできるその他の支持体がある。
フォトサーモグラフィック要素又はサーモグラフィック
要素の諸N(保護層を含む)は写真技術で公知の塗布法
(浸漬被覆、エアナイフ塗布、カーテンコーチング又は
ホッパーを用いての押出被覆を含む)によって支持体上
に塗布される。所望ならば、2つ以上の層を同時に塗布
する。
要素の諸N(保護層を含む)は写真技術で公知の塗布法
(浸漬被覆、エアナイフ塗布、カーテンコーチング又は
ホッパーを用いての押出被覆を含む)によって支持体上
に塗布される。所望ならば、2つ以上の層を同時に塗布
する。
分光増感色素は追加の感度を与えるために上記のフォト
サーモグラフィック要素に有用である。
サーモグラフィック要素に有用である。
有用な増感色素は、例えば、Re5earch Dis
closure 。
closure 。
1978年6月−第17029項及びRe5earch
Disclosure %1978年12月、第17
643項に記載されている。
Disclosure %1978年12月、第17
643項に記載されている。
フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、像様露光
及び熱処理の前にフォトサーモグラフィック要素を安定
化するのを助けるために熱安定剤を含む。そのような熱
安定剤は保管中のフォトサーモグラフィック要素の安定
性の改良を助ける。
及び熱処理の前にフォトサーモグラフィック要素を安定
化するのを助けるために熱安定剤を含む。そのような熱
安定剤は保管中のフォトサーモグラフィック要素の安定
性の改良を助ける。
好ましい熱安定剤は
(a)2−ブロモ−2−アリールスルホニルアセトアミ
ド、例えば2−ブロモ−2−p−1リルスルホニルアセ
トアミド、 (b)2− ()リブロモメチルスルホニル)ベンゾチ
アゾール、及び (c)6−置換−2,4−ビス(トリブロモメチル)−
S−)リアジン、例えば6−メチル又は6−フェニル−
2,4−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン である。
ド、例えば2−ブロモ−2−p−1リルスルホニルアセ
トアミド、 (b)2− ()リブロモメチルスルホニル)ベンゾチ
アゾール、及び (c)6−置換−2,4−ビス(トリブロモメチル)−
S−)リアジン、例えば6−メチル又は6−フェニル−
2,4−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン である。
フォトサーモグラフィック要素は、ハロゲン化銀フォト
サーモグラフィック要素の場合には、種々のエネルギー
形態によって像様露光される。そのようなエネルギー形
態は、感光性ハロゲン化銀が悪心するものであり、電磁
スペクトルの紫外領域、可視領域及び赤外領域並びに電
子ビーム及びβ線、T線、X線、α粒子、中性子線、及
び非干渉性(ランダム相)形態又はレーザーによって作
られるような干渉性(同相)形態のいずれかであるその
他の形態の微粒子波様輻射エネルギーを包含する。露光
は写真ハロゲン化銀の分光増感に依存して単色、オルソ
、又はパンクロである。像様露光は好ましくはフォトサ
ーモグラフィック要素中に現像可能な潜像を作るのに十
分な時間及び強さである。フォトサーモグラフィック要
素の像様露光の後に、その生成潜像は単にその要素を適
度に高い温度に全体的に加熱することによって現像され
る。この全体的な加熱はフォトサーモグラフィック要素
を約90〜約150°Cの範囲内の温度に、現像された
像が生成されるまで、例えば約0.5〜約60秒の範囲
内で加熱することを伴うに過ぎな ′い。加熱時間を
長くするか又は短くするかによって、所望の画像、フォ
トサーモグラフィック要素の特定の成分及び加熱手段に
依存して上記の範囲内の一層高いか又は−層低い温度が
有用である。
サーモグラフィック要素の場合には、種々のエネルギー
形態によって像様露光される。そのようなエネルギー形
態は、感光性ハロゲン化銀が悪心するものであり、電磁
スペクトルの紫外領域、可視領域及び赤外領域並びに電
子ビーム及びβ線、T線、X線、α粒子、中性子線、及
び非干渉性(ランダム相)形態又はレーザーによって作
られるような干渉性(同相)形態のいずれかであるその
他の形態の微粒子波様輻射エネルギーを包含する。露光
は写真ハロゲン化銀の分光増感に依存して単色、オルソ
、又はパンクロである。像様露光は好ましくはフォトサ
ーモグラフィック要素中に現像可能な潜像を作るのに十
分な時間及び強さである。フォトサーモグラフィック要
素の像様露光の後に、その生成潜像は単にその要素を適
度に高い温度に全体的に加熱することによって現像され
る。この全体的な加熱はフォトサーモグラフィック要素
を約90〜約150°Cの範囲内の温度に、現像された
像が生成されるまで、例えば約0.5〜約60秒の範囲
内で加熱することを伴うに過ぎな ′い。加熱時間を
長くするか又は短くするかによって、所望の画像、フォ
トサーモグラフィック要素の特定の成分及び加熱手段に
依存して上記の範囲内の一層高いか又は−層低い温度が
有用である。
好ましい処理温度は約100〜約130℃の範囲内であ
る。
る。
サーモグラフィック要素の場合には、熱エネルギー源及
び像形成手段は総ての像様熱暴露源及びサーモグラフィ
ック像形成技術で公知の手段であることができる。像様
加熱手段は、例えば、赤外線加熱手段、レーザー、マイ
クロ波加熱手段等であることができる。
び像形成手段は総ての像様熱暴露源及びサーモグラフィ
ック像形成技術で公知の手段であることができる。像様
加熱手段は、例えば、赤外線加熱手段、レーザー、マイ
クロ波加熱手段等であることができる。
フォトサーモグラフィック技術及びサーモグラフィック
技術で公知の加熱手段は所望の処理温度範囲を提供する
のに有用である。加熱手段は、例えば、簡単な熱板、ア
イロン、ローラー、加熱ドラム、マイクロ波加熱手段、
加熱空気等である。
技術で公知の加熱手段は所望の処理温度範囲を提供する
のに有用である。加熱手段は、例えば、簡単な熱板、ア
イロン、ローラー、加熱ドラム、マイクロ波加熱手段、
加熱空気等である。
熱処理は好ましくは周囲の圧力及び湿度条件下で実施さ
れる。所望ならば、通常の大気圧及び湿度以外の条件も
有用である。
れる。所望ならば、通常の大気圧及び湿度以外の条件も
有用である。
その要素の諸成分は所望の画像を提供する要素中のいず
れかの位置に存在することができる。所望ならば、その
要素の1種以上の成分がその要素の1つ以上の層中に存
在する。例えば、ある場合には、その要素のフォトサー
モグラフィック層の上の保護層中にある割合の還元剤、
トーナー、安定剤先駆物質及び/又はその他の添加物を
含むことが望ましい。ある場合には、このことはフォト
サーモグラフィック要素の諸層中のある種の添加物の移
動を低下させる。
れかの位置に存在することができる。所望ならば、その
要素の1種以上の成分がその要素の1つ以上の層中に存
在する。例えば、ある場合には、その要素のフォトサー
モグラフィック層の上の保護層中にある割合の還元剤、
トーナー、安定剤先駆物質及び/又はその他の添加物を
含むことが望ましい。ある場合には、このことはフォト
サーモグラフィック要素の諸層中のある種の添加物の移
動を低下させる。
画像形成性組み合わせの諸成分が所望の画像を作るため
に相互に“関連している”ことが必要である0本明細書
において用語“関連している”は、フォトサーモグラフ
ィック要素において感光性ハロゲン化銀及び画像形成性
組み合わせは相互に、所望の処理を可能にしそして有用
な画像を作る位置にあることを意味する。
に相互に“関連している”ことが必要である0本明細書
において用語“関連している”は、フォトサーモグラフ
ィック要素において感光性ハロゲン化銀及び画像形成性
組み合わせは相互に、所望の処理を可能にしそして有用
な画像を作る位置にあることを意味する。
上記の保護層が有用であるサーモグラフィック要素は、
ポリ珪酸と共存できるいかなるものも含む。そのような
サーモグラフィック要素は、例えば、米国特許第2,6
63,657号、第2,910,377号、第3,02
8,254号、第3,031,329号及び第3,08
0,254号に記載されているものを含む。有用なサー
モグラフィック要素の例は、画像形成技術で公知の電気
的に活性化された記録及びサーモグラフィーのために設
計された物質を含むサーモグラフィック層を担持する支
持体、及び少なくとも50重量%のポリ珪酸を含む保護
層を含んでいる。
ポリ珪酸と共存できるいかなるものも含む。そのような
サーモグラフィック要素は、例えば、米国特許第2,6
63,657号、第2,910,377号、第3,02
8,254号、第3,031,329号及び第3,08
0,254号に記載されているものを含む。有用なサー
モグラフィック要素の例は、画像形成技術で公知の電気
的に活性化された記録及びサーモグラフィーのために設
計された物質を含むサーモグラフィック層を担持する支
持体、及び少なくとも50重量%のポリ珪酸を含む保護
層を含んでいる。
本明細書において用語“水溶性”は、90℃で2時間以
内に少なくとも2gの化合物又は組成物が水11に溶解
することを意味する。
内に少なくとも2gの化合物又は組成物が水11に溶解
することを意味する。
以下の諸実施例は本発明を更に例証する。
実施例1〜3
1、対置Ω里製
下記の組成をもつ対照フォトサーモグラフィック要素を
調製した: 謀豆星 工Z亘」工Zムユ写真ゼ
ラチン 1733.0(161,0)マ
ット 107.6 (10,0
)ホルムアルデヒド 45.2(4,2
)界面活性剤(p−イソノニル フェノキシポリグリシドール である5urfactant 10G%米国の0lin
Corp、の登録商標であり、同社から入手できる)
50.6(4,7)フォトサーモグーフィ・
ク ベヘン酸≦艮(Ag) 861.1
(80,0)tlgBrx(Hg)
1.Ho、1)AgBr(Ag)
430.6(40,0)Nal
37.7(3,5)スクシンイミド
トーナー/現 像調整剤 452.1 (42,
0)界面活性剤(SF −96、これは ポリシロキサン流体であり、 米国のGeneral Electric Co。
調製した: 謀豆星 工Z亘」工Zムユ写真ゼ
ラチン 1733.0(161,0)マ
ット 107.6 (10,0
)ホルムアルデヒド 45.2(4,2
)界面活性剤(p−イソノニル フェノキシポリグリシドール である5urfactant 10G%米国の0lin
Corp、の登録商標であり、同社から入手できる)
50.6(4,7)フォトサーモグーフィ・
ク ベヘン酸≦艮(Ag) 861.1
(80,0)tlgBrx(Hg)
1.Ho、1)AgBr(Ag)
430.6(40,0)Nal
37.7(3,5)スクシンイミド
トーナー/現 像調整剤 452.1 (42,
0)界面活性剤(SF −96、これは ポリシロキサン流体であり、 米国のGeneral Electric Co。
から入手でき、同社の登録向
標である’) 16.1 (1
,5)モノブロモ安定剤: 64.6(
6,0)ナフチルトリアジン安定剤: 64.6
(6,0)以下余白 01°0\/N\1001゜ 〒 八 ポリビニルブチラール結合剤 (ButvarB−76、米国のMon5an t。
,5)モノブロモ安定剤: 64.6(
6,0)ナフチルトリアジン安定剤: 64.6
(6,0)以下余白 01°0\/N\1001゜ 〒 八 ポリビニルブチラール結合剤 (ButvarB−76、米国のMon5an t。
Co、の登録商標) 4305.6(4
00,0)増感色素 5.4(
0,5)ベンゼンスルホンアミドフ ェノール現像主薬: 1076.4(10
0,0)門IBK溶剤 322.
9(30,0)叉昔止 0.1m(4ミル)の青色ポリエチレンテレフタレート
フィルム 以下の実施例においては保護層の組成のみを特定する。
00,0)増感色素 5.4(
0,5)ベンゼンスルホンアミドフ ェノール現像主薬: 1076.4(10
0,0)門IBK溶剤 322.
9(30,0)叉昔止 0.1m(4ミル)の青色ポリエチレンテレフタレート
フィルム 以下の実施例においては保護層の組成のみを特定する。
実施例全般で用いたフォトサーモグラフィック層の組成
は上記した通りである。
は上記した通りである。
下記の諸成分を下記の順序で混合した:蒸留水
144gINのp−トルエンスルホ ン酸 36gエチルアル
コール 200gTEO3208g 10分以内にPSAの透明溶液を得た。
144gINのp−トルエンスルホ ン酸 36gエチルアル
コール 200gTEO3208g 10分以内にPSAの透明溶液を得た。
■、ポIビニルアルコール(PV、A)の?″′′水中
リビニルアルコール8重量%の水溶液を調製した(水中
の8重量%(7)ELVANOL 52/22、ELV
ANOL 52/22は米国のE、1.duPont
deNemours。
リビニルアルコール8重量%の水溶液を調製した(水中
の8重量%(7)ELVANOL 52/22、ELV
ANOL 52/22は米国のE、1.duPont
deNemours。
Co、の登録商標である)。 以下余白N
−IUのPSA PVA t−t L ’IJ、:
:8%pVA 、 ELVANOL 52/22 1
25.5g 125.5g蒸留水
79.5g 48.5gPSA溶液
46.0 g 76.5 g合計
250.0 g 250.0 g*
ELVANOL 71/30 27−33 99.
0−99.8 5.0−7.0本 〃52/22
21−25 86.5−89 5.0−7.0*
〃85/82 24−32 99.0−99.
8 5.0−7.0* 〃90150 12−1
5 99.0−99.8 5.0−7.0*〃50
/42 40−46 86.5−89 5.0
−7.0* *VINOL 165
55−65 99.3+
5.5−7.5** 〃325 26−30
98.0−98.8 5.0−7.0**
〃425 26−30 95.5−96.5
4.5−6.5** 〃523 22−26
87.0−89.0 4.0−6.0* ELV
ANOLは米国のE、I、duPont deNea+
ours+co。
−IUのPSA PVA t−t L ’IJ、:
:8%pVA 、 ELVANOL 52/22 1
25.5g 125.5g蒸留水
79.5g 48.5gPSA溶液
46.0 g 76.5 g合計
250.0 g 250.0 g*
ELVANOL 71/30 27−33 99.
0−99.8 5.0−7.0本 〃52/22
21−25 86.5−89 5.0−7.0*
〃85/82 24−32 99.0−99.
8 5.0−7.0* 〃90150 12−1
5 99.0−99.8 5.0−7.0*〃50
/42 40−46 86.5−89 5.0
−7.0* *VINOL 165
55−65 99.3+
5.5−7.5** 〃325 26−30
98.0−98.8 5.0−7.0**
〃425 26−30 95.5−96.5
4.5−6.5** 〃523 22−26
87.0−89.0 4.0−6.0* ELV
ANOLは米国のE、I、duPont deNea+
ours+co。
の登録商標であり、同社から入手できる。
*)kVINOLは米国のAir Products
& Chemicals。
& Chemicals。
Inc、の登録商標であり、同社がら入手できる。
既知面積の被覆物質をアセトン及び水中で内部標準とし
てN−メチルスクシンイミドで抽出した、その抽出物I
Iを30M、BD−5溶融シリカ細管カラムに注入した
。確証された標準、保持時間、及び火炎イオン化検知器
は同定及び定量を提供した。
てN−メチルスクシンイミドで抽出した、その抽出物I
Iを30M、BD−5溶融シリカ細管カラムに注入した
。確証された標準、保持時間、及び火炎イオン化検知器
は同定及び定量を提供した。
b) −y’ −狡
152.4csi (5ft)のフィルムストリップ又
は5個の30.48CIm (12in) X 35m
mのフィルムストリップを14gパケットのリンデモレ
キュラーシーブ(乾燥剤)と−緒に金属フィルム缶中に
いれた。
は5個の30.48CIm (12in) X 35m
mのフィルムストリップを14gパケットのリンデモレ
キュラーシーブ(乾燥剤)と−緒に金属フィルム缶中に
いれた。
そのボックスを密封した後に、そのストリップを60℃
で4日間装置し、次いでそのサンプルを、保giNの亀
裂の存在について肉眼で検査する。ゼラチンから成る保
護層を対照として用いる。
で4日間装置し、次いでそのサンプルを、保giNの亀
裂の存在について肉眼で検査する。ゼラチンから成る保
護層を対照として用いる。
C)五像皇五並
フィルムを構成する諸層の示差的熱膨張挙動に起因して
、端のすぐ近< (1〜4關)に位置する微小画像特
性は熱処理の間に望ましくない変形を受ける。保j!層
が画像の汚れをもたらす傾向についての評価は、フィル
ムの端での画像の顕微鏡的評価からなり、その規模を0
(汚れなし)から10+++(最も悪い汚れ)までの自
由裁量単位で報告する。1,6111での3〜5の画像
汚れは許容できると考えられる。0に近い画像汚れ値は
極めて望ましい。
、端のすぐ近< (1〜4關)に位置する微小画像特
性は熱処理の間に望ましくない変形を受ける。保j!層
が画像の汚れをもたらす傾向についての評価は、フィル
ムの端での画像の顕微鏡的評価からなり、その規模を0
(汚れなし)から10+++(最も悪い汚れ)までの自
由裁量単位で報告する。1,6111での3〜5の画像
汚れは許容できると考えられる。0に近い画像汚れ値は
極めて望ましい。
d)づJ仁ヒ乙二j−
露光したKodak Dacomatic DLフィル
ムの、又は試験下の実験物質の標準ストリップを、標準
KodakKomstar Processorを用い
て熱現像する(にodak \Dacomatic D
L、及びKoms tarは米国のEastmanKo
dak Companyの登録商標である)。フィルム
の底面を加熱ドラムと接触させ且つ保護層を処理の間、
処理用織物ベルトと接触したままであるようにストリッ
プを通すことが通常のやり方である。
ムの、又は試験下の実験物質の標準ストリップを、標準
KodakKomstar Processorを用い
て熱現像する(にodak \Dacomatic D
L、及びKoms tarは米国のEastmanKo
dak Companyの登録商標である)。フィルム
の底面を加熱ドラムと接触させ且つ保護層を処理の間、
処理用織物ベルトと接触したままであるようにストリッ
プを通すことが通常のやり方である。
保護層とベルトとの間の接触の結果として生じるいかな
る表面変形も“ベルトマーク”として報告される。
る表面変形も“ベルトマーク”として報告される。
■、i の′蕉 に・ るPSAPv^ のイi上記I
で記載したフォトサーモグラフィック要素を、PSA対
PVA0比をθ〜1.5の間で変化させたPSA/PV
Aで被覆した。その生成要素を保留されたスクシンイミ
ドについて分析しく130℃で2分間加熱した原料及び
ストリップ)、その結果を下記の第1表に表示する:以
下余白 第1表 スクシンイミド 1ヒIJIA PVA=E1vanol 52
/22 <1
.1(<0.1) 100 ひ8嵐#B
PSA/PVA=0.50
1n、2(8,1) 76 ひどい〃CO
,75244,3(2)、7) 32 中位実約分
111 1.(1) 五、1±16.1
367.1(調、1)0 わずか−21,2
5(34,1±1.5) 397.2(36,9)
0 なし#3 1.50 412.
3(38,3) Oなし比較例D ゼラチη埋ffl
385.4(35,8)
Oな しその結果は、部分的に加水分解されたPVA(
ELVANOL 52/22)単独はスクシンイミドに
対して極めて貧弱な遮断層であるが、しかしPSAとの
混合層として被覆される時にはPSA/PVA0比が少
なくとも1.0であると、満足になることを示している
。 以下余白実施例4
〜9:ポリビニルアルコールの1実施例1のTで記載し
たフォトサーモグラフィック要素を下記の第2表で特定
した保護層の1つで被覆した。実施例4〜9においてP
SA/PVAの比は1.25であった。130℃で2分
間加熱した原料及び材料を保留されたスクシンイミドに
ついて分析した。その結果を第2表に表示する。 以下
余白第2表 スクシンイミド 比較例E PVA=E1vanol 71/30
178.7(16,6) 29.2
ひどい〃F PVA=E1vanol 85/82
479.0±17.2” <1.1(<0.1)
全部ひどい〃G PVA=Vinol 325
(44,5±1.6) <1.1(<0.
1) 全部 ひどい〃 HPVA=Vinol 4
25 <1.1(<0.
1) mu ひ81〃I PVA=Vino
l 523 <1.1(<0
.1) 全部 ひどい・lΔ辷隅鰹月U之
く上」よ 頒医シ?1lllI4 PSA/PVA
−Elvanol 71/30 495.1(4
6,0) 0.0なし” 5 PSA/PVA−El
vanol 85/82 474.7(44,1
) 2.8なし〃6 PSA/PVA−Vinol
329 465.0(43,2) 4.1なし
〃7 PSA/PVA−Vinol 425 495.
1±10.8” 480.1(44,6) 1.4な
し〃8 PSMPVA−Vinol 523 (46
,0±1.0) 470.4(43,7) 2.1
なし” 9 PSA/PVA−Elvanol 52/
22 447.8(41,6) 3.7なし対照
GEL Control 473.6(
44,0) 2.0なし〃494.1(45,9)
456.4(42,4) 3.5〃〃4B4
.4(45,0) 466.1(43,3)
1.7*U津雛112〜J:こd直は平上側直であり
、個々鳴こついての穆惰類九次である。
で記載したフォトサーモグラフィック要素を、PSA対
PVA0比をθ〜1.5の間で変化させたPSA/PV
Aで被覆した。その生成要素を保留されたスクシンイミ
ドについて分析しく130℃で2分間加熱した原料及び
ストリップ)、その結果を下記の第1表に表示する:以
下余白 第1表 スクシンイミド 1ヒIJIA PVA=E1vanol 52
/22 <1
.1(<0.1) 100 ひ8嵐#B
PSA/PVA=0.50
1n、2(8,1) 76 ひどい〃CO
,75244,3(2)、7) 32 中位実約分
111 1.(1) 五、1±16.1
367.1(調、1)0 わずか−21,2
5(34,1±1.5) 397.2(36,9)
0 なし#3 1.50 412.
3(38,3) Oなし比較例D ゼラチη埋ffl
385.4(35,8)
Oな しその結果は、部分的に加水分解されたPVA(
ELVANOL 52/22)単独はスクシンイミドに
対して極めて貧弱な遮断層であるが、しかしPSAとの
混合層として被覆される時にはPSA/PVA0比が少
なくとも1.0であると、満足になることを示している
。 以下余白実施例4
〜9:ポリビニルアルコールの1実施例1のTで記載し
たフォトサーモグラフィック要素を下記の第2表で特定
した保護層の1つで被覆した。実施例4〜9においてP
SA/PVAの比は1.25であった。130℃で2分
間加熱した原料及び材料を保留されたスクシンイミドに
ついて分析した。その結果を第2表に表示する。 以下
余白第2表 スクシンイミド 比較例E PVA=E1vanol 71/30
178.7(16,6) 29.2
ひどい〃F PVA=E1vanol 85/82
479.0±17.2” <1.1(<0.1)
全部ひどい〃G PVA=Vinol 325
(44,5±1.6) <1.1(<0.
1) 全部 ひどい〃 HPVA=Vinol 4
25 <1.1(<0.
1) mu ひ81〃I PVA=Vino
l 523 <1.1(<0
.1) 全部 ひどい・lΔ辷隅鰹月U之
く上」よ 頒医シ?1lllI4 PSA/PVA
−Elvanol 71/30 495.1(4
6,0) 0.0なし” 5 PSA/PVA−El
vanol 85/82 474.7(44,1
) 2.8なし〃6 PSA/PVA−Vinol
329 465.0(43,2) 4.1なし
〃7 PSA/PVA−Vinol 425 495.
1±10.8” 480.1(44,6) 1.4な
し〃8 PSMPVA−Vinol 523 (46
,0±1.0) 470.4(43,7) 2.1
なし” 9 PSA/PVA−Elvanol 52/
22 447.8(41,6) 3.7なし対照
GEL Control 473.6(
44,0) 2.0なし〃494.1(45,9)
456.4(42,4) 3.5〃〃4B4
.4(45,0) 466.1(43,3)
1.7*U津雛112〜J:こd直は平上側直であり
、個々鳴こついての穆惰類九次である。
**実施例4〜9:この値は平均値であり、個々の被漠
についてのぽ準皓差である。
についてのぽ準皓差である。
第2表の結果は、ポリビニルアルコールは1.25の比
で被覆されたPSA/PVAと比較してスクシンイミド
に対して貧弱な遮断層であることを示している。 P
SA/PVA組成物は、用いたポリビニルアルコールと
は無関係に、130℃での加熱の間のスクシンイミドの
損失の点でゼラチン対照に匹敵する。そのPSA/PV
A保護層には望ましくない処理パターン(ベルトマーク
)はない。
で被覆されたPSA/PVAと比較してスクシンイミド
に対して貧弱な遮断層であることを示している。 P
SA/PVA組成物は、用いたポリビニルアルコールと
は無関係に、130℃での加熱の間のスクシンイミドの
損失の点でゼラチン対照に匹敵する。そのPSA/PV
A保護層には望ましくない処理パターン(ベルトマーク
)はない。
実施例10〜12ニ一五込/上刃Xa口LΩ123実施
例1の■で記載したフォトサーモグラフィック要素を、
種々の量のポリビニルアルコール(Elvanol 7
1/30)を含有するPSA/PVAで被覆した。ゼラ
チン保護層を対照として用いた。材料を130℃で2分
間加熱した際のスクシンイミドの損失及び処理パターン
の生成度を次の第3表に表示する二
以下余白第3表 対 照 ゼラチン対照 −269な し比較例K
PSA/PVA O,3359ひどし1#L
〃0.67 23 中位、M −0,8
9= 中位 実施例10 〃1.00 14
わずか−11−1,339なし 〃12 〃1.33 5 なし*スクシンイ
ミドの損失は試験の間の周囲の湿度に依存する。
例1の■で記載したフォトサーモグラフィック要素を、
種々の量のポリビニルアルコール(Elvanol 7
1/30)を含有するPSA/PVAで被覆した。ゼラ
チン保護層を対照として用いた。材料を130℃で2分
間加熱した際のスクシンイミドの損失及び処理パターン
の生成度を次の第3表に表示する二
以下余白第3表 対 照 ゼラチン対照 −269な し比較例K
PSA/PVA O,3359ひどし1#L
〃0.67 23 中位、M −0,8
9= 中位 実施例10 〃1.00 14
わずか−11−1,339なし 〃12 〃1.33 5 なし*スクシンイ
ミドの損失は試験の間の周囲の湿度に依存する。
その損失は一層高い湿度で一層高い。
第3表の結果は、保護層中でのPSAの量が増加するに
つれて遮断性が改良されることを示している。PSA/
PV^の比0.67でのスクシンイミドの損失はゼラチ
ン対照よりもすでに低いが、ベルトマークはその比が1
.0よりも上に増加したときにのみ排除される。
以下余白実施例13〜18: 嘗
の271体 に・ るPSA涜 セルロース(WS
CA)のづ 実施例1の1で記載したフォトサーモグラフィック要素
を、PSA対WSCAの比をO〜1.25の間で変化さ
せたPSA/WSCAで被覆した。その生成塗膜を保留
されたスクシンイミドについて分析した(130℃で2
分間加熱した原料及びストリップ)。
つれて遮断性が改良されることを示している。PSA/
PV^の比0.67でのスクシンイミドの損失はゼラチ
ン対照よりもすでに低いが、ベルトマークはその比が1
.0よりも上に増加したときにのみ排除される。
以下余白実施例13〜18: 嘗
の271体 に・ るPSA涜 セルロース(WS
CA)のづ 実施例1の1で記載したフォトサーモグラフィック要素
を、PSA対WSCAの比をO〜1.25の間で変化さ
せたPSA/WSCAで被覆した。その生成塗膜を保留
されたスクシンイミドについて分析した(130℃で2
分間加熱した原料及びストリップ)。
その結果を下記の第4表に表示する・ 以下余白第4
表 スクシンイミド 対照 ゼラチ泄q 羽1.0鄭、0
3 貧弱比較例N冠A
221.7(2)、6) 招 貧弱8岡ケ113
PSA、〜原論、比−0.50
361.7(33,6) 8
N独子〃14 0.75 391.
8±8.6°356.3(33,1) 9 良
好〃 15 1.00
(36,4±0.8) 376.7(35,0)
4 6喰子〃16 1.2
5 354.1(32,9) 10o
/c亀裂” 17 PSA/PVA、比1.25
. ” 381.0(35
,4) 3 、M子〃 18 P
SA/PVA、比 1.25.[18376,7(35
,0) 4 M子その水溶性酢酸セ
ルロースは16.5%のアセチルを含有していた。
表 スクシンイミド 対照 ゼラチ泄q 羽1.0鄭、0
3 貧弱比較例N冠A
221.7(2)、6) 招 貧弱8岡ケ113
PSA、〜原論、比−0.50
361.7(33,6) 8
N独子〃14 0.75 391.
8±8.6°356.3(33,1) 9 良
好〃 15 1.00
(36,4±0.8) 376.7(35,0)
4 6喰子〃16 1.2
5 354.1(32,9) 10o
/c亀裂” 17 PSA/PVA、比1.25
. ” 381.0(35
,4) 3 、M子〃 18 P
SA/PVA、比 1.25.[18376,7(35
,0) 4 M子その水溶性酢酸セ
ルロースは16.5%のアセチルを含有していた。
本発明においては、少なくとも50重量%のポリ珪酸を
含有する保護層は、熱処理の間の要素中の揮発性成分の
損失を防止するか又は低下させることができ、熱処理の
間の要素の諸層の耐変形性を提供し、画像成分が要素の
1つ以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか
又は防止し、保護層が要素の隣接層に満足に接着するの
を可能にし、又望ましくない亀裂及びマーキングのない
保護層を可能にする。このことば上記したように要素中
の改良された画像を特徴とする
含有する保護層は、熱処理の間の要素中の揮発性成分の
損失を防止するか又は低下させることができ、熱処理の
間の要素の諸層の耐変形性を提供し、画像成分が要素の
1つ以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか
又は防止し、保護層が要素の隣接層に満足に接着するの
を可能にし、又望ましくない亀裂及びマーキングのない
保護層を可能にする。このことば上記したように要素中
の改良された画像を特徴とする
Claims (1)
- 1、少なくとも50重量%のポリ珪酸を含むことを特徴
とする、熱処理可能な要素のための保護層。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US910033 | 1986-09-22 | ||
US06/910,033 US4741992A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Thermally processable element comprising an overcoat layer containing poly(silicic acid) |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6389841A true JPS6389841A (ja) | 1988-04-20 |
JP2648152B2 JP2648152B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=25428207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62235039A Expired - Fee Related JP2648152B2 (ja) | 1986-09-22 | 1987-09-21 | 熱処理可能な要素のための保護層 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4741992A (ja) |
EP (1) | EP0261932B1 (ja) |
JP (1) | JP2648152B2 (ja) |
CA (1) | CA1303410C (ja) |
DE (1) | DE3768399D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05127333A (ja) * | 1990-12-26 | 1993-05-25 | Oriental Photo Ind Co Ltd | 熱現像性感光材料 |
Families Citing this family (40)
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US4942115A (en) * | 1989-04-24 | 1990-07-17 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element comprising an overcoat layer |
US5126405A (en) * | 1990-05-23 | 1992-06-30 | Eastman Kodak Company | Cross-linked conductive polymers and antistat coatings employing the same |
US5037871A (en) * | 1990-05-23 | 1991-08-06 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat compositions and photographic elements containing same |
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US5294526A (en) * | 1993-02-22 | 1994-03-15 | Eastman Kodak Company | Method for the manufacture of a thermally processable imaging element |
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