JPS6381894A - セラミツクス回路基板の製造方法 - Google Patents

セラミツクス回路基板の製造方法

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JPS6381894A
JPS6381894A JP22703586A JP22703586A JPS6381894A JP S6381894 A JPS6381894 A JP S6381894A JP 22703586 A JP22703586 A JP 22703586A JP 22703586 A JP22703586 A JP 22703586A JP S6381894 A JPS6381894 A JP S6381894A
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JP
Japan
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circuit board
brazing material
circuit
ceramic
ceramic circuit
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JP22703586A
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秀和 柳澤
孝三 柏木
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Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
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Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、セラミックス回路基板の製造方法の改良に関
する。
(従来の技術とその問題点) 従来、セラミックス回路基板を製造するには、第3図に
示す如<A1zOx基板1に、無電解銅めっき等により
回路2を形成して、セラミックス回路基板3を得ていた
然し乍ら、この方法ではめっきの密着不良、ふくれ等が
生じ、信頼性のある回路2が得にくいというう問題があ
った。
そこで本発明は、セラミックス基板との密着不良、ふく
れ等の無い回路を有するセラミックス回路基板を製造す
ることのできる方法を提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段) 上記問題点を解決するための本発明のセラミックス回路
基板の製造方法は、Aj2zOs系セラミックス基板に
、Ti、Zr、Hf等の活性金属を含むペーストろう材
をスクリーン印刷してパターンを形成し、次に加熱して
ろう材を溶融接着させ、回路形成することを特徴とする
ものである。
また本発明のセラミックス回路基板上の製造方法は、A
6ZO,系セラミックス基板に、Ti1Z r % H
f等の活性金属を含むペーストろう材をスクリーン印刷
してパターンを形成し、次に加熱してろう材を溶融接着
させ、回路を形成し、以後絶縁体を印刷、焼成し、その
上に前記と同じペーストろう材をスクリーン印刷してパ
ターンを形成し加熱してろう材を溶融接着させ、回路を
形成することを少なくとも1回行って複層の回路を形成
することを特徴とするものである。
(作用) 上記のように本発明のセラミックス回路基板の製造方法
は、活性金属を含むペーストろう材でパターンを形成し
、加熱して溶融接着し、回路を形成するので、ろう材は
セラミックス基板に対して良く濡れた状態となり、しか
もろう材は耐熱強度′があるので、加熱溶融時セラミッ
クス基板との熱膨張差の充分対応できて、接着面にクラ
ックが入ることが無い。従って、長期間使用しても回路
がふくれて剥離することが無く、接着強度が極めて高い
ものである。
(実施例) 本発明のセラミックス回路基板の製造方法の一実施例を
第1図によって説明すると、厚さ41の93%A l 
20 i基板1上に、A g −Cu28wt%−Ti
2wt%より成るペースト状ろう材を厚さ0.03+u
にスクリーン印刷してパターン形成し、次に830℃で
加熱してろう材を基板1上に溶融接着させ、回路2′を
形成して、セラミックス回路基板3′を得た。
次に他の実施例を第2図によって説明すると、厚さ4 
、5 mmの93%Al2zO:r基板l上に、Ag−
Cu28wt%−Zr2wt%より成るペースト状ろう
材を厚さ0.031mにスクリーン印刷してパターンを
形成し、次に880℃で加熱してろう材を基板1上に溶
融接着させ、回路2′を形成し、次いで絶縁体、本例で
は を厚さ  1重にスクリーン印刷し、次いで600
℃で焼成して絶縁層・tを形成し、次にその上にA g
 −Cu28wt%−Ti2Hj%より成るペースト状
ろう材を厚さ0.03511にスクリーン印刷してパタ
ーン形成し、次いで830℃で加熱してろう材を絶縁層
4に溶融接着させ且つ前記回路2′に接続した回路5を
形成して、2層の回路を有するセラミックス回路基板3
″を得た。
こうして作られた実施例1.2のセラミックス回路基板
3′、3″と、従来例のセラミックス回路基板3とを各
1万個について品質検査し、且つセラミックス基板1上
に対する回路2.2の密着強度を測定した処、下記の表
に示すような結果を得た。
上記の表で明らかなように実施例1.2のセラミックス
回路基板は、従来例のセラミ・ンクス回路基板に比し回
路のふくれが桁違いに少ないことが判る。また実施例1
.2のセラミックス回路基板は従来例のセラミックス回
路基板に比し、回路の密着強度が著しく安定しているこ
とが判る。
尚、第2図に示す実施例のセラミックス回路基板は、2
Nに回路を形成した場合でもあるが、3層以上何層でも
良いものである。
(発明の効果) 以上詳記した通り本発明のセラミックス回路基板の製造
方法によれば、セラミックス基板に対する回路の密着強
度が著しく安定していて、しかも回路のふくれが極めて
少ないセラミックス回路基板を容易に得ることができる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のセラミックス回路基板の製造方法の一
実施例を示す図、第2図は本発明のセラミックス回路基
板の製造方法の他の実施例を示す図、第3図は従来のセ
ラミックス回路基板の製造方法示す図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)Al_2O_3系セラミックス基板に、Ti、Zr
    、Hf等の活性金属を含むペーストろう材をスクリーン
    印刷してパターンを形成し、次に加熱してろう材を溶融
    接着させ、回路を形成することを特徴とするセラミック
    ス回路基板の製造方法。 2)Al_2O_3系セラミックス基板に、Ti、Zr
    、Hf等の活性金属を含むペーストろう材をスクリーン
    印刷してパターンを形成し、次に加熱してろう材を溶融
    接着させ回路を形成し、以後絶縁体を印刷、焼成し、そ
    の上に前記と同じペーストろう材をスクリーン印刷して
    パターンを形成し加熱してろう材を溶融接着させ、回路
    を形成することを少なくとも1回行って複層の回路を形
    成することを特徴とするセラミックス回路基板の製造方
    法。
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