JPS6369763A - 窒化アルミニウム基板及びその製造方法 - Google Patents

窒化アルミニウム基板及びその製造方法

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JPS6369763A
JPS6369763A JP61213987A JP21398786A JPS6369763A JP S6369763 A JPS6369763 A JP S6369763A JP 61213987 A JP61213987 A JP 61213987A JP 21398786 A JP21398786 A JP 21398786A JP S6369763 A JPS6369763 A JP S6369763A
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JP
Japan
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aluminum nitride
substrate
ain
nitride substrate
crystal grains
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JP61213987A
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羽鳥 雅一
水野谷 信幸
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は窒化アルミニウム(A I N)基板とその製
造方法に関し、更に詳しくは、該基板の板面内の各個所
で測定した抗折強度のバラツキが小さいので設計信頼性
の高いAuN基板とその製造方法に関する。
(従来の技術) AflNは電気絶縁性であると同時に熱放散性に優れた
セラミックスであり、半導体の基板や単結晶引上げ用炉
部材などに広く使用されはじめている。
このA文N基板は例えば次のようにして製造されている
。すなわち、まずAIN粉と焼結助剤である例えばY2
O3粉とを所定量混合し、得られた混合粉をバインダー
でスラリー化し、ドクターブレード装置を用いて、グリ
ーンシートに成形し、脱脂後、例えば窒素雰囲気中で焼
結する。
その後、この焼結板を、例えば、ホーニング処理して表
面に付着している焼成時の詰粉や表面のわずかな凹凸な
どを削除する。このときの表面の削除量は、厚みにして
通常2〜3−程度である。
得られたAuN基板は表面が平滑になり、それが実用に
供される。
(発明が解決しようとする問題点) ところが、従来から知られているAIN基板においては
、その板面内における抗折強度(σf)のバラツキが天
さという問題がある。すなわち、概略、(rfは10〜
40Kg/mm2であることが通例である。このように
、抗折強度がバラつくということは、この基板を各種の
用途素材として使用する場合の強度設計をはなはだ困難
たらしめる。とくに抗折強度がその下限値近辺でバラつ
くということは、強度設計時におけるAKLN基板の信
頼性を著しく低下させる。
本発明は、このような問題が解決された、とくに下限値
それ自体も高くしかもバラツキの幅が狭いので、強度設
計における信頼性が向上したAIN基板とその製造方法
の提供を目的とする。
(問題点を解決するための手段・作用)本発明者らは上
記問題点を解決すべく、各種のAUN基板の組織と製造
方法に検討を加えた。
その結果、従来のAIN基板はいずれも、基板の表面部
には厚み5〜10.に亘って異常に粒成長したAMNの
結晶粒が集中的に存在し、中心部には比較的小粒径でか
つ粒径の揃ったA、QN結晶粒が存在しているという事
実を見出した。そしてまた、この異常成長したAIN結
晶粒の周辺にはイットリウム・アルミニウム・ガーネッ
ト(YAi型結高結晶基板の中心部の場合に比べて多量
に存在している事実を見出した。
そこで木発明者らは、この異常成長したAfLN結晶粒
の存在が基板内における抗折強度のバラツキを誘発する
原因ではないかとの着想を抱き、基板表面部を所定の厚
み削除して上記した異常成長のAJIN結晶粒を除去し
たところ、抗折強度のバラツキは小さくなり、しかも抗
折強度の下限値も上昇するとの事実を見出して本発明の
A、Q−N基板とその製造方法を開発するに到った。
すなわち、本発明のA立N基板は、YAG型結晶に基づ
くX線回折強度(I YAG )とAIN結晶に基づく
x!J1回折強度(IAIH)、!=の比(I YAG
/IA4N)が、表面部では0.05以下であることを
特徴とし、その製造方法は、A文N焼結板の表面を厚み
10〜50%削除することを特徴とする。
まず、本発明のA立N基板は、その表面部でI YAG
 / I A!lNが0.05以下である。このことは
、表面部におけるYAG結晶が少ない、すなわち、前述
したようにYAGが′まつわりついている″異常成長し
たA文N結晶粒の存在量が少ないということを定量的に
示すものである。別言すれば、表面部に存在するAfL
N結晶粒はその粒径が比較的小さくしかも揃っており、
更に粒間結合部にはYAGの介在量が少なく直接的な粒
間結合であるため結合力も強いということを意味する。
このIYAG/IAlNが0.05より大きくなるとい
うことは、まさに上記したと逆の状態に表面部がなって
いる、つまり、異常成長したAIN結晶粒の存在量が多
い状態であることを意味し、抗折強度のバラツキを低減
せしめるためには不適である。
本発明のAIN基板は次のようにして製造することがで
きる。すなわち、まず従来と同様な方法でAiN焼結板
を製造する。
その後、この焼結板の表面を厚み10〜50μsに亘っ
て削除するのである。削除の方法は従来の場合と同様に
ホーニング処理でよく、更には、ラッピングなどの方法
を適用してもよい。
削除する厚みは、表面部の異常成長したAIN結晶粒を
除去し得るに足る厚みであることが必要で、焼結板の製
造方法によっても異なるが異常成長したAfLN結晶粒
の存在する厚みは通常5〜Lopであるので、削除の厚
みは10p1以上とする。しかし、あまり多量に削除し
ても、徒らに削除しなくてもよいAIN結晶粒を無駄に
除去することになるので、削除量は最大でも50.以下
とする。好ましくは10〜20戸である。
(発明の実施例) 平均粒径1.5戸のAuN粉97重量部と平均粒径0.
8.のY2O3粉3重量部とをボールミルにいれて充分
混合・粉砕したのち、バインダとしてアクリル樹脂を適
量添加しドクターブレードによりシート成形をし、成形
板を製造した。
この成形板から縦75mm横35mmの基板前駆体を打
抜き加工し、これらを700 ’0で脱脂したのち、窒
素雰囲気炉内において温度1770℃、時間2時間で焼
結した。
得られた焼結板をホーニング処理して、表面部を2戸、
7戸、15pJR,30戸削除して4種類の基板を製造
した。
得られた4種類の基板につき、その表面部におけるIY
AG、IA立Nを測定し、I YAG / I A文N
を算出した。また、各基板の面内の中心個所における抗
折強度を測定し、その最大値と最小値を表に示した。
[発明の効果] 以上の説明で明らかなように、本発明のAIN基板は、
板面内における抗折強度のバラツキが従来のものに比べ
て小さく、強度設計における信頼性が極めて高い。また
、その製造方法は従来方法と基本的には変らず表面部の
削除量を変えるだけであるから新たな設備投資も不要で
あり、その工業的な価値は大である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、イットリウム・アルミニウム・ガーネット型結晶に
    基づくX線回折強度(I_Y_A_G)と窒化アルミニ
    ウム結晶に基づくX線回折強度(I_A_l_N)との
    比(I_Y_A_G/I_A_l_N)が、表面部では
    0.05以下であることを特徴とする窒化アルミニウム
    基板。 2、窒化アルミニウム焼結板の表面を厚み10〜50μ
    m削除することを特徴とする窒化アルミニウム基板の製
    造方法。
JP61213987A 1986-09-12 1986-09-12 窒化アルミニウム基板及びその製造方法 Granted JPS6369763A (ja)

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JPH0427184B2 JPH0427184B2 (ja) 1992-05-11

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04290462A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Hitachi Ltd 金属接合回路基板およびそれを用いた電子装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04290462A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Hitachi Ltd 金属接合回路基板およびそれを用いた電子装置

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