JPS6364613A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6364613A JPS6364613A JP20903386A JP20903386A JPS6364613A JP S6364613 A JPS6364613 A JP S6364613A JP 20903386 A JP20903386 A JP 20903386A JP 20903386 A JP20903386 A JP 20903386A JP S6364613 A JPS6364613 A JP S6364613A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
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- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
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- G11B5/312—Details for reducing flux leakage between the electrical coil layers and the magnetic cores or poles or between the magnetic cores or poles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は磁気ディスク装量に用いられるサイドクロスト
ークを低減した薄膜磁気ヘッドの製造方法において、基
板（スライダ）上にギャップ層と対向する両側縁部を傾
斜状にエツチングして断面が台形形状とする第一磁極を
形成し、その第一磁極の周囲に該第一磁極の表面と同一
平面となる段差補正膜を形成した後、第一磁極上にギャ
ップ層を介して断面が矩形形状とする第二磁極を形成す
ることにより、第一磁極先端部とギャップ層を介して対
向する第二磁極先端部との間のギャップ長を当該両側部
で広く形成したものである。
ークを低減した薄膜磁気ヘッドの製造方法において、基
板（スライダ）上にギャップ層と対向する両側縁部を傾
斜状にエツチングして断面が台形形状とする第一磁極を
形成し、その第一磁極の周囲に該第一磁極の表面と同一
平面となる段差補正膜を形成した後、第一磁極上にギャ
ップ層を介して断面が矩形形状とする第二磁極を形成す
ることにより、第一磁極先端部とギャップ層を介して対
向する第二磁極先端部との間のギャップ長を当該両側部
で広く形成したものである。
本発明は磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法に係り、特に高トラツク密度化された磁気
ディスク媒体に対して再生時のサイドクロストークを低
減し得る磁極先端部構造を有する薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関するものである。
ドの製造方法に係り、特に高トラツク密度化された磁気
ディスク媒体に対して再生時のサイドクロストークを低
減し得る磁極先端部構造を有する薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関するものである。
近来、磁気ディスク装置においては、高速、大容量化が
急速に進められており、これに伴って磁気ディスク媒体
のクランク密度は益々高められる傾向にある。このため
、トラックの狭幅化に対応して隣接トラックの記録信号
を雑音として再生する、所謂サイドクロストークのない
薄膜磁気ヘッドが必要とされている。
急速に進められており、これに伴って磁気ディスク媒体
のクランク密度は益々高められる傾向にある。このため
、トラックの狭幅化に対応して隣接トラックの記録信号
を雑音として再生する、所謂サイドクロストークのない
薄膜磁気ヘッドが必要とされている。
このような実情から本発明者らは上記の要求を満たす新
しい薄膜磁気ヘッドを特願昭６１−６１６５４号により
既に提案している。
しい薄膜磁気ヘッドを特願昭６１−６１６５４号により
既に提案している。
従来の薄膜磁気ヘッドは、第４図の要部断面図に示すよ
うにスライダとなる基板１１上に第一磁極１２、ギャッ
プ層１３及び層間絶縁層１４を介在した薄膜コイル１５
、第二磁極１６、絶縁保護膜１７が順に積層されている
。該ギャップ層１３を挟んで直接対向する一対の前記磁
極１２．１６の先端部の端面ば、スライダ（基板）１１
の浮上面１８に露出され、磁気ディスク媒体１９と対向
するが、該媒体１９側から見たその磁極先端形状は何れ
も第５図に示すように矩形形状となっている。図中、Ｅ
はギャップ長を示している。
うにスライダとなる基板１１上に第一磁極１２、ギャッ
プ層１３及び層間絶縁層１４を介在した薄膜コイル１５
、第二磁極１６、絶縁保護膜１７が順に積層されている
。該ギャップ層１３を挟んで直接対向する一対の前記磁
極１２．１６の先端部の端面ば、スライダ（基板）１１
の浮上面１８に露出され、磁気ディスク媒体１９と対向
するが、該媒体１９側から見たその磁極先端形状は何れ
も第５図に示すように矩形形状となっている。図中、Ｅ
はギャップ長を示している。
ところが、かかる従来の薄膜磁気ヘッドでは、周知の如
く磁気ディスク媒体１９の記録情報を再生する際に、再
生すべきトランクに隣接したトラックの記録情報も雑音
として再生するという所謂、サイドクロストークが発生
する欠点がある。
く磁気ディスク媒体１９の記録情報を再生する際に、再
生すべきトランクに隣接したトラックの記録情報も雑音
として再生するという所謂、サイドクロストークが発生
する欠点がある。
このサイドクロストークは、各記録クラブク間に５μｍ
程度の幅のガートバンドと称する非記録再生領域を設け
ることで減少することができるが、しかし前述した高ト
ランク密度化された磁気ディスク媒体では、ガートバン
ドの幅も大きく狭められるので、サイドクロストークの
減少は困難となる。
程度の幅のガートバンドと称する非記録再生領域を設け
ることで減少することができるが、しかし前述した高ト
ランク密度化された磁気ディスク媒体では、ガートバン
ドの幅も大きく狭められるので、サイドクロストークの
減少は困難となる。
そこで本発明者らは、先に述べたようにこの高トランク
密度の磁気ディスク媒体に対してサイドクロストークが
減少できる新規な薄膜磁気ヘッドを提案している。
密度の磁気ディスク媒体に対してサイドクロストークが
減少できる新規な薄膜磁気ヘッドを提案している。
第２図及び第３図はこの薄膜磁気ヘッドの磁極先端部を
示す斜視図と磁気ディスク媒体側から見た磁極先端形状
を示す図である。
示す斜視図と磁気ディスク媒体側から見た磁極先端形状
を示す図である。
この両図で明らかな如く、スライダの空気流入端側に位
置する第一磁極２１の先端部の両側縁部は、対向する第
二磁極１６の先端部に対し２１ａと２１ｂで示すように
斜めに切り欠かれ、その部分の磁極２１゜１６間ギャッ
プ長７！ｓは規格のギャップ長！より扇形状に広（形成
されている。
置する第一磁極２１の先端部の両側縁部は、対向する第
二磁極１６の先端部に対し２１ａと２１ｂで示すように
斜めに切り欠かれ、その部分の磁極２１゜１６間ギャッ
プ長７！ｓは規格のギャップ長！より扇形状に広（形成
されている。
このように磁極先端部分の両側縁部のギャップ長を広く
することにより、磁気ディスク媒体２２の記録トラック
２２ａ上の記録信号を再生する場合、ガートバンド２３
を介して隣接する記録トランク２２ｂがらの雑音信号、
即ちサイドクロストーク信号はギャップ損失として低減
される。
することにより、磁気ディスク媒体２２の記録トラック
２２ａ上の記録信号を再生する場合、ガートバンド２３
を介して隣接する記録トランク２２ｂがらの雑音信号、
即ちサイドクロストーク信号はギャップ損失として低減
される。
しかし、従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、第一磁
極１２を形成後、ギャップ層１３を介してそのまま第二
磁極１６を形成するようにしているため、該ギャップ層
１３を形成するに先立って第一＠極１２の先端部の両側
縁部に前記傾斜状の切り火きを形成しても、その後、そ
の部分に被着したギャップ層１３は単に斜めに設けられ
るだけで、ギャップ長は何等かわらない。つまり磁極先
端部の両側縁部のギャップ長のみを部分的に広く形成す
ることは容易でなく、前述した新規提案の薄膜磁気ヘッ
ドの製造を困難にしている。
極１２を形成後、ギャップ層１３を介してそのまま第二
磁極１６を形成するようにしているため、該ギャップ層
１３を形成するに先立って第一＠極１２の先端部の両側
縁部に前記傾斜状の切り火きを形成しても、その後、そ
の部分に被着したギャップ層１３は単に斜めに設けられ
るだけで、ギャップ長は何等かわらない。つまり磁極先
端部の両側縁部のギャップ長のみを部分的に広く形成す
ることは容易でなく、前述した新規提案の薄膜磁気ヘッ
ドの製造を困難にしている。
本発明は上記のような状況に鑑み、磁極先端部のギャッ
プ対向面側の両側縁部を傾斜状の切り欠いた第一磁極を
有する磁気ヘッドにおける第一磁極先端部の切り欠き部
分と対向する第一磁極先端部間のギャップ長を広くした
磁極先端部構造の形成に好適な新規な製造方法を提供す
ることを目的とするものである。
プ対向面側の両側縁部を傾斜状の切り欠いた第一磁極を
有する磁気ヘッドにおける第一磁極先端部の切り欠き部
分と対向する第一磁極先端部間のギャップ長を広くした
磁極先端部構造の形成に好適な新規な製造方法を提供す
ることを目的とするものである。
本発明は上記目的を達成するため、スライダとなる基板
上に設ける第一磁極を、そのギャップ層に対向する両側
縁部を傾斜状にエツチングして断面形状が台形となるよ
うに形成する工程と、その第一磁極上からその周囲に非
磁性材料層を被着した後、該第一磁極の台形上面の非磁
性材料層部分のみを選択エツチング方法により除去して
前記第一磁極の周囲に該第一磁極の表面と同一平面とな
る段差補正膜を形成する工程を行って、その第一磁極の
先端部とギャップ層を介して対向する第二磁極の先端部
との間のギャップ長を当該両側縁部で広（した構造にす
る。
上に設ける第一磁極を、そのギャップ層に対向する両側
縁部を傾斜状にエツチングして断面形状が台形となるよ
うに形成する工程と、その第一磁極上からその周囲に非
磁性材料層を被着した後、該第一磁極の台形上面の非磁
性材料層部分のみを選択エツチング方法により除去して
前記第一磁極の周囲に該第一磁極の表面と同一平面とな
る段差補正膜を形成する工程を行って、その第一磁極の
先端部とギャップ層を介して対向する第二磁極の先端部
との間のギャップ長を当該両側縁部で広（した構造にす
る。
本発明の製造方法では、両側縁部を傾斜状にした断面形
状が台形の第一磁極の周囲に、該第一磁極の表面と同一
平面となる段差補正膜が形成されているため、その第一
磁極先端部上にギャップ層を介して第二磁極先端部を対
向するように形成することにより、該ギャップ層が第一
磁極先端部の断面形成に沿って傾斜して配設されること
がな（、対向する磁極先端部間のギャップ長が両側縁部
において部分的に広くすることが可能となる。
状が台形の第一磁極の周囲に、該第一磁極の表面と同一
平面となる段差補正膜が形成されているため、その第一
磁極先端部上にギャップ層を介して第二磁極先端部を対
向するように形成することにより、該ギャップ層が第一
磁極先端部の断面形成に沿って傾斜して配設されること
がな（、対向する磁極先端部間のギャップ長が両側縁部
において部分的に広くすることが可能となる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実
施例を工程順に示した媒体対向面側からみた平面図であ
る。
施例を工程順に示した媒体対向面側からみた平面図であ
る。
先ず第１図（ａ）に示すようにスライダとなる基板１１
上に、例えばパーマロイからなる磁性層３１を形成し、
該磁性層３１をフォトリソグラフィ工程により第１図（
ｂ）に示すように媒体対向面側を除く周囲の側縁部を傾
斜状にした断面形状が台形となる第一磁極２１を形成す
る。
上に、例えばパーマロイからなる磁性層３１を形成し、
該磁性層３１をフォトリソグラフィ工程により第１図（
ｂ）に示すように媒体対向面側を除く周囲の側縁部を傾
斜状にした断面形状が台形となる第一磁極２１を形成す
る。
この断面台形形状の第一磁極２１を形成する方法として
は、前記基板１１上にパーマロイからなる磁性層３１を
スパッタリング法、或いは弯着法等により、例えば１５
０℃程度の基板温度で成膜した第一磁性膜上に３０℃程
度の基板温度で第二Ｗ性膜を成膜した二層構成に形成し
、この磁性層３１上に磁極形成用のレジストパターンを
設けると共に、そのパターンを遮光マスクにして、例え
ばＨ２ＳＯ４＋ Ｈ２Ｏ２１Ｈ２０＋ ＮＨ４Ｆ 、
ＣＲＨ２ｎ＋１０Ｈからなるエツチング液を用いてエツ
チングを行うことにより、成膜温度によりエツチング速
度が異なることを利用して断面台形形状の第一磁極２１
を容易に形成することができる。
は、前記基板１１上にパーマロイからなる磁性層３１を
スパッタリング法、或いは弯着法等により、例えば１５
０℃程度の基板温度で成膜した第一磁性膜上に３０℃程
度の基板温度で第二Ｗ性膜を成膜した二層構成に形成し
、この磁性層３１上に磁極形成用のレジストパターンを
設けると共に、そのパターンを遮光マスクにして、例え
ばＨ２ＳＯ４＋ Ｈ２Ｏ２１Ｈ２０＋ ＮＨ４Ｆ 、
ＣＲＨ２ｎ＋１０Ｈからなるエツチング液を用いてエツ
チングを行うことにより、成膜温度によりエツチング速
度が異なることを利用して断面台形形状の第一磁極２１
を容易に形成することができる。
次に第１図ｆｃ）に示すように第一磁極２１を含む基板
１１上に該第一磁極２１と同様な厚さの５ｉ０２．また
はＭ２Ｏ３からなる非磁性材料層３２を被着し、その表
面に、前記第一磁極２１と対応する領域が露出するレジ
ストパターン３３を形成する。
１１上に該第一磁極２１と同様な厚さの５ｉ０２．また
はＭ２Ｏ３からなる非磁性材料層３２を被着し、その表
面に、前記第一磁極２１と対応する領域が露出するレジ
ストパターン３３を形成する。
次に第１図（ｄ）に示すように該レジストパターン３３
を遮光マスクにして、該非磁性材料層３２が５ｉ０２で
ある場合にはＨＦ、Ｎ１−１４Ｆ及びエチレングリコー
ルからなるエツチング液を用いて前記第一磁極２１０表
面が露出するようにエツチングを行う。このエツチング
工程としては上記工程のかわりに、例えばＭマスクパタ
ーンを用い、ＣＦａと０２のエツチングガスによるプラ
ズマエツチング工程を通用しても良い。
を遮光マスクにして、該非磁性材料層３２が５ｉ０２で
ある場合にはＨＦ、Ｎ１−１４Ｆ及びエチレングリコー
ルからなるエツチング液を用いて前記第一磁極２１０表
面が露出するようにエツチングを行う。このエツチング
工程としては上記工程のかわりに、例えばＭマスクパタ
ーンを用い、ＣＦａと０２のエツチングガスによるプラ
ズマエツチング工程を通用しても良い。
その後、前記レジストパターン３３を除去することによ
り第１図（ｅ）に示すように前記第−Ｍ１極２１の周囲
に該磁極２１の表面と同一レベルの平面となる段差補正
膜３４が形成される。
り第１図（ｅ）に示すように前記第−Ｍ１極２１の周囲
に該磁極２１の表面と同一レベルの平面となる段差補正
膜３４が形成される。
従って、第１図（ｆｌに示すように引続き前記同一平面
である第一磁極２１及び段差補正膜３４上に５ｉ０２、
またはＡｌ２Ｏ３からなるギャップ層１３を被着し、そ
の表面に更に図示しない眉間絶縁層を介在した薄膜コイ
ルと、断面矩形形状の第二磁極１６及び５ｉＯ７、また
はＡｊ２０．からなる保護膜３５を順に形成する。
である第一磁極２１及び段差補正膜３４上に５ｉ０２、
またはＡｌ２Ｏ３からなるギャップ層１３を被着し、そ
の表面に更に図示しない眉間絶縁層を介在した薄膜コイ
ルと、断面矩形形状の第二磁極１６及び５ｉＯ７、また
はＡｊ２０．からなる保護膜３５を順に形成する。
そして上記第一、第二磁極２１．１６先婦が露出した面
を所望の浮上形状面に切削研磨仕上げ加工することによ
り、前記第一磁極２１の先端部とギャップ層１３を介し
て対向する第二磁極１６の先端部との間のギャップ長を
当該両側縁部で広（構成することが可能となった。
を所望の浮上形状面に切削研磨仕上げ加工することによ
り、前記第一磁極２１の先端部とギャップ層１３を介し
て対向する第二磁極１６の先端部との間のギャップ長を
当該両側縁部で広（構成することが可能となった。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る薄膜磁気
ヘッドの製造方法によれば、両側縁部を傾斜状にした断
面形状が台形の第一磁極の周囲に、該第一磁極の表面と
同一平面となる段差補正膜を形成し、その第一磁極及び
差補正膜上にギャップ層を介して第二磁極を対向配置す
ることで、対向する第一、第二磁極先端部間のギャップ
長が両側縁部において部分的に広くした薄膜磁気ヘッド
を容易に製造することができる。
ヘッドの製造方法によれば、両側縁部を傾斜状にした断
面形状が台形の第一磁極の周囲に、該第一磁極の表面と
同一平面となる段差補正膜を形成し、その第一磁極及び
差補正膜上にギャップ層を介して第二磁極を対向配置す
ることで、対向する第一、第二磁極先端部間のギャップ
長が両側縁部において部分的に広くした薄膜磁気ヘッド
を容易に製造することができる。
従って、高トラツク密度の磁気ディスク媒体の記録・再
生に通用して極めて有利である。
生に通用して極めて有利である。
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実
施例を工程順に示した媒体対 向面側からみた平面図、 第２図は本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの磁極先端部
を示す斜視図、 第３図は本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの磁極先端形
状を示す図、 築４図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための要部断
面図、 第５図は従来の薄膜磁気ヘッドの磁極先端形状を説明す
るための図である。 第１図乃至第３図において、 １１は基板（スライダ）、１３はギャップ層、１６は第
二磁極、２１は第一磁極、３１は磁性層、３２は非磁性
材料層、３３はレジストパターン、３４は段差補正膜、
３５は保護膜をそれぞれ示す。 一木 ■ Ｎ−八
施例を工程順に示した媒体対 向面側からみた平面図、 第２図は本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの磁極先端部
を示す斜視図、 第３図は本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの磁極先端形
状を示す図、 築４図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための要部断
面図、 第５図は従来の薄膜磁気ヘッドの磁極先端形状を説明す
るための図である。 第１図乃至第３図において、 １１は基板（スライダ）、１３はギャップ層、１６は第
二磁極、２１は第一磁極、３１は磁性層、３２は非磁性
材料層、３３はレジストパターン、３４は段差補正膜、
３５は保護膜をそれぞれ示す。 一木 ■ Ｎ−八
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 スライダとなる基板（１１）上に第一磁極（２１）とギ
ャップ層（１３）を順に形成し、その表面にそれぞれ層
間絶縁層を介して薄膜コイル及び第二磁極（１６）を積
層形成して磁気ヘッドを製造する方法において、 上記第一磁極（２１）上にギャップ層（１３）を形成す
るに先立って、その第一磁極（２１）のギャップ層（１
３）に対向する両側縁部を傾斜状にエッチングして断面
形状が台形となるように形成する工程と、その第一磁極
（２１）上からその周囲に非磁性材料層（３２）を被着
した後、該第一磁極（２１）の台形上面の非磁性材料層
（３２）部分のみをエッチング除去して前記第一磁極（
２１）の周囲に該第一磁極（２１）の表面と同一平面と
なる段差補正膜（３４）を形成する工程を行って、第一
磁極（２１）の先端部にギャップ層（１３）を介して対
向する第二磁極（１６）の先端部との間のギャップ長を
当該両側部で広く形成することを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20903386A JPS6364613A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20903386A JPS6364613A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6364613A true JPS6364613A (ja) | 1988-03-23 |
Family
ID=16566141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20903386A Pending JPS6364613A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6364613A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0390347A2 (en) * | 1989-03-28 | 1990-10-03 | Quantum Corporation | Recording head to optimize high density recording |
| EP0399800A2 (en) * | 1989-05-26 | 1990-11-28 | Seagate Technology International | Thin film magnetic head manufacturing method |
| EP0536032A2 (en) * | 1991-09-30 | 1993-04-07 | Quantum Corporation | Thin film read/write head for minimizing erase fringing and method of making the same |
-
1986
- 1986-09-04 JP JP20903386A patent/JPS6364613A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0390347A2 (en) * | 1989-03-28 | 1990-10-03 | Quantum Corporation | Recording head to optimize high density recording |
| EP0399800A2 (en) * | 1989-05-26 | 1990-11-28 | Seagate Technology International | Thin film magnetic head manufacturing method |
| EP0536032A2 (en) * | 1991-09-30 | 1993-04-07 | Quantum Corporation | Thin film read/write head for minimizing erase fringing and method of making the same |
| EP0536032A3 (ja) * | 1991-09-30 | 1994-03-02 | Digital Equipment Corp |
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