JPS6361418A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6361418A JPS6361418A JP20617986A JP20617986A JPS6361418A JP S6361418 A JPS6361418 A JP S6361418A JP 20617986 A JP20617986 A JP 20617986A JP 20617986 A JP20617986 A JP 20617986A JP S6361418 A JPS6361418 A JP S6361418A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- plasma
- protective film
- magnetic
- film layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 47
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 21
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 12
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 85
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 abstract description 9
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 abstract description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 abstract 3
- VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N [F].[Si] Chemical compound [F].[Si] VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 49
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 9
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 hexamethylsiloxane Chemical compound 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- RNYJXPUAFDFIQJ-UHFFFAOYSA-N hydron;octadecan-1-amine;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[NH3+] RNYJXPUAFDFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 2
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N squalane Chemical compound CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N tetradecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCO HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 239000004909 Moisturizer Substances 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- ULBTUVJTXULMLP-UHFFFAOYSA-N butyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC ULBTUVJTXULMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- AMFIJXSMYBKJQV-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);octadecanoate Chemical compound [Co+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AMFIJXSMYBKJQV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000001333 moisturizer Effects 0.000 description 1
- 229940043348 myristyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N n-Triacontane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTBAHSZERDXKKZ-UHFFFAOYSA-N octadecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(Cl)=O WTBAHSZERDXKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N octadecylazanium;acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCN UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWPNJOHZHSJFIY-UHFFFAOYSA-N octyl tetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC QWPNJOHZHSJFIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229940032094 squalane Drugs 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N tantalum(v) ethoxide Chemical compound [Ta+5].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZRLCXMPFXYVHGS-UHFFFAOYSA-N tetramethylgermane Chemical compound C[Ge](C)(C)C ZRLCXMPFXYVHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気記録媒体およびその製造方法に関し、さ
らに詳しくは摩擦係数が小さくて耐久性に優れた磁気記
録媒体およびその製造方法に関する。
らに詳しくは摩擦係数が小さくて耐久性に優れた磁気記
録媒体およびその製造方法に関する。
一般に、金属もしくはそれらの合金などをM空蒸着、ス
パッタリング等によって基体フィルム上に被着するか、
あるいは磁性粉末を結合剤成分とともに基体フィルム上
に結着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁
気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗されやす
く、特に真空蒸着等によって形成される強磁性金属薄膜
層は、高密度記録に適した特性を有する反面、磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて、摩耗や損傷を受は易い。
パッタリング等によって基体フィルム上に被着するか、
あるいは磁性粉末を結合剤成分とともに基体フィルム上
に結着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁
気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗されやす
く、特に真空蒸着等によって形成される強磁性金属薄膜
層は、高密度記録に適した特性を有する反面、磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて、摩耗や損傷を受は易い。
このため、従来から磁性層上に種々の保護膜層を設ける
などして耐久性を改善することが行われており、たとえ
ば、高級脂肪酸やフッ素系化合物等の潤滑剤を被着させ
たり(特開昭53−88704号、特開昭58−941
30号)、あるいは、有機化合物のモノマーガスのプラ
ズマ重合により高分子化合物のHH*を設けたり(特開
昭58−88828号、特開昭58−60427号)、
またイオン化プラズマ分解重合により炭素水素買被膜を
形成する(特開昭60−157726号)ことが提案さ
れている。
などして耐久性を改善することが行われており、たとえ
ば、高級脂肪酸やフッ素系化合物等の潤滑剤を被着させ
たり(特開昭53−88704号、特開昭58−941
30号)、あるいは、有機化合物のモノマーガスのプラ
ズマ重合により高分子化合物のHH*を設けたり(特開
昭58−88828号、特開昭58−60427号)、
またイオン化プラズマ分解重合により炭素水素買被膜を
形成する(特開昭60−157726号)ことが提案さ
れている。
ところが、これらの保護膜層を磁性層上に設け′たもの
は耐久性が未だ充分ではなく、磁気ヘッドとの摺接によ
り比較的短時間で摩耗しやすくて、未だ充分に満足でき
る耐久性は得られていない。
は耐久性が未だ充分ではなく、磁気ヘッドとの摺接によ
り比較的短時間で摩耗しやすくて、未だ充分に満足でき
る耐久性は得られていない。
この発明はかかる現状に鑑み種々検討を行った結果なさ
れたもので、基体上に磁性層を形成した後、この磁性層
上に金属微粒子を含有させて表面に凹凸を形成したプラ
ズマ重合保護膜層を形成することによって、磁気ヘッド
等との摺動の際の真実接触面積を低減し、摩擦係数を充
分に小さくして耐久性を充分に向上させたものである。
れたもので、基体上に磁性層を形成した後、この磁性層
上に金属微粒子を含有させて表面に凹凸を形成したプラ
ズマ重合保護膜層を形成することによって、磁気ヘッド
等との摺動の際の真実接触面積を低減し、摩擦係数を充
分に小さくして耐久性を充分に向上させたものである。
またプラズマ重合保護膜層上にさらに潤滑剤層を形成す
ることによって、耐久性をさらに一段と向上させたもの
である。
ることによって、耐久性をさらに一段と向上させたもの
である。
この発明において、磁性層上に形成するプラズマ重合保
護膜層は、磁性層を真空雰囲気内で有機化合物のモノマ
ーガスのプラズマ中にさらしてプラズマ重合を行うと同
時に、金属を加熱蒸発させて得た蒸気流を磁性層に差し
向けることによって形成され、このように有機化合物の
プラズマ重合と同時に金属の加熱蒸発が行われると、加
熱蒸発された金属が微粒子となって磁性層上に被着し、
金属の微粒子を含有して表面に凹凸を形成した有機化合
物のプラズマ重合保護層が形成される。しかして、この
プラズマ重合保護層の凹凸によって磁気ヘッド等との摺
動の際の真実接触面積が低減され、摩擦係数が充分に小
さくなって走行性が改善され、耐久性が充分に向上され
る。
護膜層は、磁性層を真空雰囲気内で有機化合物のモノマ
ーガスのプラズマ中にさらしてプラズマ重合を行うと同
時に、金属を加熱蒸発させて得た蒸気流を磁性層に差し
向けることによって形成され、このように有機化合物の
プラズマ重合と同時に金属の加熱蒸発が行われると、加
熱蒸発された金属が微粒子となって磁性層上に被着し、
金属の微粒子を含有して表面に凹凸を形成した有機化合
物のプラズマ重合保護層が形成される。しかして、この
プラズマ重合保護層の凹凸によって磁気ヘッド等との摺
動の際の真実接触面積が低減され、摩擦係数が充分に小
さくなって走行性が改善され、耐久性が充分に向上され
る。
このように、プラズマ重合と同時に金属蒸発源で加熱蒸
発されて使用される金属としては、亜鉛、アルミニウム
、ニッケル、コバルト、クロム、チタン、鉄等の金属ま
たはこれらの合金が好適なものとして使用され、これら
の金属は抵抗加熱や電子銃加熱により加熱蒸発され、磁
性層に差し向けられて微粒子となって磁性層上に被着す
る。
発されて使用される金属としては、亜鉛、アルミニウム
、ニッケル、コバルト、クロム、チタン、鉄等の金属ま
たはこれらの合金が好適なものとして使用され、これら
の金属は抵抗加熱や電子銃加熱により加熱蒸発され、磁
性層に差し向けられて微粒子となって磁性層上に被着す
る。
また、プラズマ重合に使用される有機化合物のモノマー
ガスとしては、たとえば、メタン、プロパン、エチレン
、プロピレンなどの炭化水素系化合物のモノマーガス、
C2F4 、C3Fs 、C3F、等のフッ素系有機化
合物のモノマーガス、テトラメチルシラン、ヘキサメチ
ルジシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシ
ロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなどの
ケイ素系有機化合物のモノマーガス、テトラメチルスズ
、テトラメチルゲルマニウム、フェロセン、ペンタエト
キシタンタル、チタニウムテトライソプロポキサイドな
どの有機金属化合物のモノマーガス等が好ましく使用さ
れる。これらの有機化合物のモノマーガスは、単独ある
いは希ガス、水素ガス、酸素ガス等と混合し、13.5
6 MHzの高周波や、2.56GH2のマイクロ波に
よりプラズマ化して磁性層上でプラズマ重合され、この
とき同時に金属の蒸気流が差し向けられるため、金属の
微粒子を含有して表面に凹凸を形成したプラズマ重合保
護膜層が磁性層上に形成される。
ガスとしては、たとえば、メタン、プロパン、エチレン
、プロピレンなどの炭化水素系化合物のモノマーガス、
C2F4 、C3Fs 、C3F、等のフッ素系有機化
合物のモノマーガス、テトラメチルシラン、ヘキサメチ
ルジシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシ
ロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなどの
ケイ素系有機化合物のモノマーガス、テトラメチルスズ
、テトラメチルゲルマニウム、フェロセン、ペンタエト
キシタンタル、チタニウムテトライソプロポキサイドな
どの有機金属化合物のモノマーガス等が好ましく使用さ
れる。これらの有機化合物のモノマーガスは、単独ある
いは希ガス、水素ガス、酸素ガス等と混合し、13.5
6 MHzの高周波や、2.56GH2のマイクロ波に
よりプラズマ化して磁性層上でプラズマ重合され、この
とき同時に金属の蒸気流が差し向けられるため、金属の
微粒子を含有して表面に凹凸を形成したプラズマ重合保
護膜層が磁性層上に形成される。
このようにして形成されるプラズマ重合保護膜層におけ
る金属微粒子の配合割合は、プラズマ重合保護膜層の全
成分に対して10〜70重量%の範囲内であることが好
ましく、少なすぎても多すぎても表面に凹凸を良好に形
成することができない。また、プラズマ重合保護膜層の
表面の凹凸は、[0,01〜0.20IImの範囲内の
ものがlXlO12〜lX1014Xl−形成されてい
るのが好ましく、幅が狭すぎたり、少なすぎると所期の
効果が得られず、幅が広すぎたり、多すぎたりすると電
磁変換特性に悪影響を及ぼす。この凹凸の幅の大きさお
よび個数等は、金属の加熱蒸発とプラズマ重合を同時に
行う際のガス圧および高周波電力、マイクロ波電力等を
制御することによってコントロールされ、従って、金属
の加熱蒸発とプラズマ重合を同時に行う場合のガス圧お
よび高周波の電力やマイクロ波電力は、プラズマ重合保
護膜層の表面に良好な凹凸を形成するため、ガス圧を0
.01〜5トールの範囲内とし、高周波電力を0.01
〜2W/ cnl、マイクロ波電力を0.01〜2W/
−の範囲内とするのが好ましく、ガス圧を0.03〜1
.5トールとし、高周波電力を、0.05〜l W/c
d、マイクロ波電力を0.05〜I W/cn!の範囲
内とするのがより好ましい。また、このようにして形成
される表面に凹凸を存するプラズマ重合保護膜層の膜厚
は、50〜1000人の範囲内であることが好ましく、
膜厚が薄すぎると充分な凹凸を有する保護膜層が得られ
ず、走行性および耐久性が充分に向上されない。また厚
すぎると内部応力によりクラックが生じ、さらにスペー
シングロスが大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を
及ぼすため好ましくない。
る金属微粒子の配合割合は、プラズマ重合保護膜層の全
成分に対して10〜70重量%の範囲内であることが好
ましく、少なすぎても多すぎても表面に凹凸を良好に形
成することができない。また、プラズマ重合保護膜層の
表面の凹凸は、[0,01〜0.20IImの範囲内の
ものがlXlO12〜lX1014Xl−形成されてい
るのが好ましく、幅が狭すぎたり、少なすぎると所期の
効果が得られず、幅が広すぎたり、多すぎたりすると電
磁変換特性に悪影響を及ぼす。この凹凸の幅の大きさお
よび個数等は、金属の加熱蒸発とプラズマ重合を同時に
行う際のガス圧および高周波電力、マイクロ波電力等を
制御することによってコントロールされ、従って、金属
の加熱蒸発とプラズマ重合を同時に行う場合のガス圧お
よび高周波の電力やマイクロ波電力は、プラズマ重合保
護膜層の表面に良好な凹凸を形成するため、ガス圧を0
.01〜5トールの範囲内とし、高周波電力を0.01
〜2W/ cnl、マイクロ波電力を0.01〜2W/
−の範囲内とするのが好ましく、ガス圧を0.03〜1
.5トールとし、高周波電力を、0.05〜l W/c
d、マイクロ波電力を0.05〜I W/cn!の範囲
内とするのがより好ましい。また、このようにして形成
される表面に凹凸を存するプラズマ重合保護膜層の膜厚
は、50〜1000人の範囲内であることが好ましく、
膜厚が薄すぎると充分な凹凸を有する保護膜層が得られ
ず、走行性および耐久性が充分に向上されない。また厚
すぎると内部応力によりクラックが生じ、さらにスペー
シングロスが大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を
及ぼすため好ましくない。
このようにして形成された表面に凹凸を有するプラズマ
重合保護膜層は、さらに潤滑剤層が積層されると摩擦係
数がさらに低減されて耐久性が一段と向上される。この
ようなプラズマ重合保護膜層上に積層形成される潤滑剤
層は、潤滑剤を、たとえば、メチルイソブチルケトン、
メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、ベンゼ
ン、トルエン、フレオン、シクロヘキサノン、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジオ
キサン等の適当な溶剤に熔解し、溶解によって得られた
溶液中にプラズマ重合保護膜層を浸漬するか、或いは上
記溶液を予め形成されたプラズマ重合保護膜層上に塗布
または噴霧するなどの方法で被着され、さらに潤滑剤を
、プラズマ重合、CvD、スパッタリング、真空蒸着等
の方法でプラズマ重合保護膜層上に被着する方法でも被
着される。
重合保護膜層は、さらに潤滑剤層が積層されると摩擦係
数がさらに低減されて耐久性が一段と向上される。この
ようなプラズマ重合保護膜層上に積層形成される潤滑剤
層は、潤滑剤を、たとえば、メチルイソブチルケトン、
メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、ベンゼ
ン、トルエン、フレオン、シクロヘキサノン、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジオ
キサン等の適当な溶剤に熔解し、溶解によって得られた
溶液中にプラズマ重合保護膜層を浸漬するか、或いは上
記溶液を予め形成されたプラズマ重合保護膜層上に塗布
または噴霧するなどの方法で被着され、さらに潤滑剤を
、プラズマ重合、CvD、スパッタリング、真空蒸着等
の方法でプラズマ重合保護膜層上に被着する方法でも被
着される。
使用される潤滑剤としては、脂肪族系潤滑剤、フッ素系
潤滑剤、シリコーン系潤滑剤および炭化水素系潤滑剤等
がいずれも好適なものとして使用され、脂肪族系潤滑剤
としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、ベヘン酸等の脂肪酸、ステアリン酸亜鉛
、ステアリン酸コバルト等の脂肪酸の金属塩、ステアリ
ン酸−n−ブチル、ミリスチン酸オクチル等の脂肪酸エ
ステル、ステアリルアルコール、ミリスチルアルコール
等の脂肪族アルコール、トリメチルステアリルアンモニ
ウムクロライド、塩化ステアロイル等の塩化物、ステア
リルアミン、ステアリルアミンアセテート、ステアリル
アミンハイドロクロライド等のアミン等が挙げられる。
潤滑剤、シリコーン系潤滑剤および炭化水素系潤滑剤等
がいずれも好適なものとして使用され、脂肪族系潤滑剤
としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、ベヘン酸等の脂肪酸、ステアリン酸亜鉛
、ステアリン酸コバルト等の脂肪酸の金属塩、ステアリ
ン酸−n−ブチル、ミリスチン酸オクチル等の脂肪酸エ
ステル、ステアリルアルコール、ミリスチルアルコール
等の脂肪族アルコール、トリメチルステアリルアンモニ
ウムクロライド、塩化ステアロイル等の塩化物、ステア
リルアミン、ステアリルアミンアセテート、ステアリル
アミンハイドロクロライド等のアミン等が挙げられる。
またフッ素系潤?ft剤としては、パーフルオロポリエ
ーテルフルオロアルキルポリエーテルなどが好適なもの
として使用され、市販品の具体例としては、ダイキン社
製ダイフロイル#20、デュポン社製クライトツクスM
1クライトツクスH,パイダックスAR,モンテジソン
社製フォンブリンZ等が挙げられる。さらにシリコーン
系潤滑剤としては、シリコーンオイル、変性シリコーン
オイル等が挙げられ、炭化水素系潤滑剤としては、パラ
フィン、スクアラン、ワックス等が挙げられる。なお、
これらの潤滑剤のうち、極性基を有するものはプラズマ
重合保護膜層との密着性がよく、特に摩擦係数を下げる
効果があるためより好ましく使用される。
ーテルフルオロアルキルポリエーテルなどが好適なもの
として使用され、市販品の具体例としては、ダイキン社
製ダイフロイル#20、デュポン社製クライトツクスM
1クライトツクスH,パイダックスAR,モンテジソン
社製フォンブリンZ等が挙げられる。さらにシリコーン
系潤滑剤としては、シリコーンオイル、変性シリコーン
オイル等が挙げられ、炭化水素系潤滑剤としては、パラ
フィン、スクアラン、ワックス等が挙げられる。なお、
これらの潤滑剤のうち、極性基を有するものはプラズマ
重合保護膜層との密着性がよく、特に摩擦係数を下げる
効果があるためより好ましく使用される。
使用に際しては、その1種または2種以上が混合して使
用され、また被着量は、プラズマ重合保護膜層上に20
〜200人の被膜が形成される範囲内で被着させるのが
好ましく、20人より膜厚が薄いと所期の効果が得られ
ず、200人より膜厚が厚いとスペーシングロスが大き
くなりすぎて電気的特性に悪影響を及ぼす。
用され、また被着量は、プラズマ重合保護膜層上に20
〜200人の被膜が形成される範囲内で被着させるのが
好ましく、20人より膜厚が薄いと所期の効果が得られ
ず、200人より膜厚が厚いとスペーシングロスが大き
くなりすぎて電気的特性に悪影響を及ぼす。
基体上に形成される磁性層は、γ−i’;’e2o。
粉末、Fe304粉末、Co含有r−Fe203粉末、
Co含有Fe3O4粉末、Fe粉末、C。
Co含有Fe3O4粉末、Fe粉末、C。
粉末、Fe−Ni粉末などの磁性粉末を結合剤成分およ
び有機溶剤等とともに基体上に塗布、乾燥するか、ある
いは、Co、Fe、Ni、Co−Ni合金、Co−Cr
合金、Co−P合金、Go−Ni−P合金などの強磁性
材を、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体上に被着するなどの方
法で形成される。
び有機溶剤等とともに基体上に塗布、乾燥するか、ある
いは、Co、Fe、Ni、Co−Ni合金、Co−Cr
合金、Co−P合金、Go−Ni−P合金などの強磁性
材を、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体上に被着するなどの方
法で形成される。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス扱等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス扱等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
厚さ10μmのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
袋層し、lXl0−5トールの真空下でコバルトを加熱
蒸発させて、ポリエステルフィルム上に厚さ100人の
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで
、第1図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属
薄膜層を形成したポリエステルフィルム1を処理槽2内
の原反ロール3からガイドロール4を介し、円筒状キャ
ン5に沿って2m/分の速度で移動させ、さらにガイド
ロール6を介して巻き取りロール7に巻き取るようにセ
ットした。続いて、円筒状キャン5の下方に配設した金
属蒸発源8で亜鉛9を電子銃で加熱蒸発させると同時に
、処理槽2に取りつけたガス導入管IOから処理槽2内
にメタンのモノマーガスを100secmの流量で導入
して、ガス圧を0.09トールとし、電極11に13.
56M)IzO高周波を100Wで印加してプラズマ重
合を行い、プラズマ重合保護膜層を形成した。このとき
のプラズマ重合保護膜層の層厚は300人で、亜鉛およ
び亜鉛酸化物の微粒子を含み、表面に!0.03μmの
凹凸が1.6X 1013個/cfIl形成されていた
。しかる後、所定の幅に裁断して、第2図に示すような
ポリエステルフィルム1上に強磁性金属薄膜層14およ
び凹凸を有する全屈微粒子含有プラズマ重合保護膜層1
5を順次に積層形成した磁気テープAをつくった。なお
、第1図中12は処理槽2内を減圧するための排気系で
あり、13は電極11に高周波を印加するための高周波
電源である。
袋層し、lXl0−5トールの真空下でコバルトを加熱
蒸発させて、ポリエステルフィルム上に厚さ100人の
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで
、第1図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属
薄膜層を形成したポリエステルフィルム1を処理槽2内
の原反ロール3からガイドロール4を介し、円筒状キャ
ン5に沿って2m/分の速度で移動させ、さらにガイド
ロール6を介して巻き取りロール7に巻き取るようにセ
ットした。続いて、円筒状キャン5の下方に配設した金
属蒸発源8で亜鉛9を電子銃で加熱蒸発させると同時に
、処理槽2に取りつけたガス導入管IOから処理槽2内
にメタンのモノマーガスを100secmの流量で導入
して、ガス圧を0.09トールとし、電極11に13.
56M)IzO高周波を100Wで印加してプラズマ重
合を行い、プラズマ重合保護膜層を形成した。このとき
のプラズマ重合保護膜層の層厚は300人で、亜鉛およ
び亜鉛酸化物の微粒子を含み、表面に!0.03μmの
凹凸が1.6X 1013個/cfIl形成されていた
。しかる後、所定の幅に裁断して、第2図に示すような
ポリエステルフィルム1上に強磁性金属薄膜層14およ
び凹凸を有する全屈微粒子含有プラズマ重合保護膜層1
5を順次に積層形成した磁気テープAをつくった。なお
、第1図中12は処理槽2内を減圧するための排気系で
あり、13は電極11に高周波を印加するための高周波
電源である。
実施例2
実施例1におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、亜鉛に代えてアルミニウムを加熱蒸発させた以外は、
実施例1と同様にして強磁性金属薄膜層上に、厚さ35
0人で、アルミニウム及びアルミニウム酸化物の微粒子
を含み、幅0.05μmの凹凸が3 X 10”(II
I/cat形成されたプラズマ重合保護膜層を形成し、
磁気テープAをつくった。
、亜鉛に代えてアルミニウムを加熱蒸発させた以外は、
実施例1と同様にして強磁性金属薄膜層上に、厚さ35
0人で、アルミニウム及びアルミニウム酸化物の微粒子
を含み、幅0.05μmの凹凸が3 X 10”(II
I/cat形成されたプラズマ重合保護膜層を形成し、
磁気テープAをつくった。
実施例3
実施例1におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、メタンのモノマーガスに代えて、テトラメチルシラン
のモノマーガスを150secmの流量で導入した以外
は、実施例1と同様にして強磁性金属薄膜層上に、厚さ
250人で、亜鉛および亜鉛酸化物の微粒子を含み、@
0.02μmの凹凸が5X1013(固/el+!形成
されたプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープAを
つくった。
、メタンのモノマーガスに代えて、テトラメチルシラン
のモノマーガスを150secmの流量で導入した以外
は、実施例1と同様にして強磁性金属薄膜層上に、厚さ
250人で、亜鉛および亜鉛酸化物の微粒子を含み、@
0.02μmの凹凸が5X1013(固/el+!形成
されたプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープAを
つくった。
実施例4
実施例1において、プラズマ重合保護膜層を形成した後
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
のo、iii%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例1と同様にして第3図に示すような、ポリエス
テルフィルムl上に、強磁性金属薄膜層14、凹凸を有
する金属微粒子含有プラズマ重合保護膜層15および潤
滑剤層16を順次に積層形成した磁気テープBをつく
った。
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
のo、iii%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例1と同様にして第3図に示すような、ポリエス
テルフィルムl上に、強磁性金属薄膜層14、凹凸を有
する金属微粒子含有プラズマ重合保護膜層15および潤
滑剤層16を順次に積層形成した磁気テープBをつく
った。
実施例5
実施例2において、プラズマ重合保護膜層を形成した後
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
の0.1重量%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例2と同様にして第3図に示すような磁気テープ
Bをつくった。
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
の0.1重量%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例2と同様にして第3図に示すような磁気テープ
Bをつくった。
実施例6
実施例3において、プラズマ重合保護膜層を形成した後
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
の0.1重量%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例3と同様にして第3図に示すような磁気テープ
Bをつくった。
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
の0.1重量%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例3と同様にして第3図に示すような磁気テープ
Bをつくった。
実施例7
α−Fe磁性粉末 600重量部エスレッ
クCN(m水化学工業 80〃社製、塩化ヒニルー酢
酸ヒニ ル共重合体) バンデソクスT−5250(大 30〃日本インキ化
学工業社製、ウ レタンエラストマー) コロネートしく日本ポリウレタ 10〃ン工業社製、
三官能性低分子 量イソシアネート化合物) メチルイソブチルケトン 400〃トルエン
400〃この組成物をボールミル中
で72時間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を厚さ10μmのポリエステルフィルム上に乾燥厚が
4μmとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。
クCN(m水化学工業 80〃社製、塩化ヒニルー酢
酸ヒニ ル共重合体) バンデソクスT−5250(大 30〃日本インキ化
学工業社製、ウ レタンエラストマー) コロネートしく日本ポリウレタ 10〃ン工業社製、
三官能性低分子 量イソシアネート化合物) メチルイソブチルケトン 400〃トルエン
400〃この組成物をボールミル中
で72時間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を厚さ10μmのポリエステルフィルム上に乾燥厚が
4μmとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。
次いで、これに実施例1と同様にしてプラズマ重合保護
膜層を形成し、磁気テープをつくった。
膜層を形成し、磁気テープをつくった。
実施例8
実施例7において、プラズマ重合保護膜層を形成した後
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
の0.1重量%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例7と同様にして磁気テープをつくった。
、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸
の0.1重量%トルエン溶液を塗布、乾燥して、ステア
リン酸からなる厚さ50人の潤滑剤層を形成した以外は
、実施例7と同様にして磁気テープをつくった。
比較例1
実施例1において、プラズマ重合保護膜層の形成を省い
た以外は実施例Iと同様にして磁気テープをつくった。
た以外は実施例Iと同様にして磁気テープをつくった。
比較例2
実施例4において、プラズマ重合保護膜層の形成を省い
た以外は実施例4と同様にして磁気テープをつくった。
た以外は実施例4と同様にして磁気テープをつくった。
比較例3
実施例7において、プラズマ重合保護膜層の形成を省い
た以外は実施例7と同様にして磁気テープをつくった。
た以外は実施例7と同様にして磁気テープをつくった。
比較例4
実施例8において、プラズマ重合保護膜層の形成を省い
た以外は実施例8と同様にして磁気テープをつくった。
た以外は実施例8と同様にして磁気テープをつくった。
各実施例および各比較例で得られた磁気テープについて
、摩擦係数を測定し、耐久性を試験した。耐久性試験は
、スチル試験機でスチル寿命を測定して行った。
、摩擦係数を測定し、耐久性を試験した。耐久性試験は
、スチル試験機でスチル寿命を測定して行った。
下記第1表はその結果である。
第1表
〔発明の効果〕
上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ(実施例1ないし8)は、いずれも比較例1ないし4
で得られた磁気テープに比し、摩擦係数が小さくて、ス
チル寿命が長く、このことからこの発明によって得られ
る磁気記録媒体は、−段と耐久性に優れていることがわ
かる。
プ(実施例1ないし8)は、いずれも比較例1ないし4
で得られた磁気テープに比し、摩擦係数が小さくて、ス
チル寿命が長く、このことからこの発明によって得られ
る磁気記録媒体は、−段と耐久性に優れていることがわ
かる。
第1図はプラズマ処理装置の1例を示す概略断面図、第
2図および第3図はこの発明によって得られた磁気テー
プの部分拡大断面図である。 1・・・ポリエステルフィルム(基体)、14・・・強
磁性金属薄膜層(磁性層)、15・・・プラズマ重合保
護膜層、16・・・潤滑剤層、A、B・・・磁気テープ
(磁気記録媒体) 第1図
2図および第3図はこの発明によって得られた磁気テー
プの部分拡大断面図である。 1・・・ポリエステルフィルム(基体)、14・・・強
磁性金属薄膜層(磁性層)、15・・・プラズマ重合保
護膜層、16・・・潤滑剤層、A、B・・・磁気テープ
(磁気記録媒体) 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上に磁性層を形成し、この磁性層上に金属微粒
子を含有させて表面に凹凸を形成したプラズマ重合保護
膜層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体 2、基体上に磁性層を形成し、この磁性層上に金属微粒
子を含有させて表面に凹凸を形成したプラズマ重合保護
膜層を設け、さらにこのプラズマ重合保護膜層上に潤滑
剤層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体 3、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層を真
空雰囲気内で有機化合物のモノマーガスのプラズマ中に
さらしてプラズマ重合を行うと同時に、金属を加熱蒸発
させて得た蒸気流を磁性層に差し向け、金属微粒子を含
有させて表面に凹凸を形成したプラズマ重合保護膜層を
磁性層上に形成することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法 4、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層を真
空雰囲気内で有機化合物のモノマーガスのプラズマ中に
さらしてプラズマ重合を行うと同時に、金属を加熱蒸発
させて得た蒸気流を磁性層に差し向けて、金属微粒子を
含有させて表面に凹凸を形成したプラズマ重合保護膜層
を磁性層上に形成し、さらにこのプラズマ重合保護膜層
上に潤滑剤層を形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20617986A JPS6361418A (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20617986A JPS6361418A (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6361418A true JPS6361418A (ja) | 1988-03-17 |
Family
ID=16519120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20617986A Pending JPS6361418A (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6361418A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5715669A (en) * | 1994-11-30 | 1998-02-10 | Kabushiki Kaisha Toyoda Jidoshokki Seisakusho | Bobbin transporting system for roving and spinning machines with apparatus to exchange bobbins of differing pitches |
-
1986
- 1986-09-01 JP JP20617986A patent/JPS6361418A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5715669A (en) * | 1994-11-30 | 1998-02-10 | Kabushiki Kaisha Toyoda Jidoshokki Seisakusho | Bobbin transporting system for roving and spinning machines with apparatus to exchange bobbins of differing pitches |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4737415A (en) | Magnetic recording medium and production thereof | |
JP2003208710A (ja) | 磁気記録媒体 | |
US5589263A (en) | Magnetic recording medium having a ferromagnetic metal thin film, a dry etched layer, a carbonaceous film, and a lubricant film | |
EP0174024B1 (en) | Magnetic recording medium and method of producing the same | |
US6136421A (en) | Magneto-resistance recording media comprising multilayered protective overcoats | |
JP2005209265A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0437484B2 (ja) | ||
JPS6361418A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS6361417A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS6258417A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS59172160A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH04205814A (ja) | 磁気記憶体 | |
JP3108156B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS60237640A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6231022A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JP3787086B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH08231455A (ja) | トリブロック化合物、潤滑剤及び磁気記録媒体 | |
JP2594625B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6231024A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0554368A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH10255263A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62281119A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPH04221426A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS6234323A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62273625A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 |