JPS6360732A - ポリエチレン−2,6−ナフタレ−トフイルム - Google Patents
ポリエチレン−2,6−ナフタレ−トフイルムInfo
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- JPS6360732A JPS6360732A JP20628886A JP20628886A JPS6360732A JP S6360732 A JPS6360732 A JP S6360732A JP 20628886 A JP20628886 A JP 20628886A JP 20628886 A JP20628886 A JP 20628886A JP S6360732 A JPS6360732 A JP S6360732A
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- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は厚さ斑に優れかつ平坦易滑性に優れたポリエチ
レンーコ、6−ナフタレートフィルムに関する。更に詳
しくは、磁気記録媒体用ベースフィルムとして特に優れ
たポリエチレン一一、6−ナフタレートフィルムに関ス
る。
レンーコ、6−ナフタレートフィルムに関する。更に詳
しくは、磁気記録媒体用ベースフィルムとして特に優れ
たポリエチレン一一、6−ナフタレートフィルムに関ス
る。
〔従来の技術と発明が解決しようとする問題点〕周知の
ごと(、工業用フィルム、特に磁気記録媒体のベースフ
ィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフイルム
が現在主流として用いられている。しかしながら、近年
ポリエチレンテレフタレートフィルムでは1強度及び耐
熱性で不充分な用途が出現し、新しい素材が要望されて
いる。このWmに対していくつかの素材が候補としてさ
げられているが、それらの中でモ、コストと品質の両面
よりポリエチレン−コツ6−ナフタレートフィルムが注
目をあびている。ポリエチレンココ、6−ナフタレート
フィルムは、ポリエチレンテレフタレートに比べて耐熱
性に優れること、高強度化の達成が容易なこと、粗大物
が少ないことによりポリエチレンテレフタレートに代る
素材として種々の用途への展開が考えられており、とり
わけ高品質・高密度の磁気記録媒体用途への展開が注目
されている。
ごと(、工業用フィルム、特に磁気記録媒体のベースフ
ィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフイルム
が現在主流として用いられている。しかしながら、近年
ポリエチレンテレフタレートフィルムでは1強度及び耐
熱性で不充分な用途が出現し、新しい素材が要望されて
いる。このWmに対していくつかの素材が候補としてさ
げられているが、それらの中でモ、コストと品質の両面
よりポリエチレン−コツ6−ナフタレートフィルムが注
目をあびている。ポリエチレンココ、6−ナフタレート
フィルムは、ポリエチレンテレフタレートに比べて耐熱
性に優れること、高強度化の達成が容易なこと、粗大物
が少ないことによりポリエチレンテレフタレートに代る
素材として種々の用途への展開が考えられており、とり
わけ高品質・高密度の磁気記録媒体用途への展開が注目
されている。
ところで、これらの用途への展開に際しての最X要課題
はフィルムへの平坦易滑性の付与である。周知のごと(
フィルムの平坦易滑化の手法としては、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムにおいて種々検討されてきた。そ
のひとつの手法は、フィルム中に含有せしめる不活性粒
子の種類1粒径9粒子量9粒径分布等を変えて最適条件
を見い出すことである。この方法は。
はフィルムへの平坦易滑性の付与である。周知のごと(
フィルムの平坦易滑化の手法としては、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムにおいて種々検討されてきた。そ
のひとつの手法は、フィルム中に含有せしめる不活性粒
子の種類1粒径9粒子量9粒径分布等を変えて最適条件
を見い出すことである。この方法は。
ポリエチレン−コツ6−ナフタレートフィルムにおいて
も、はぼポリエチレンテレフタレートフィルムでの知見
をそのまま転用出来ることが判明している。これに対し
て別の手法は、フィルムの面内の配向を低下させて9粒
子が形成する突起を核とした窪みを有する突起を形成さ
せることにより、平坦易滑化を達成するものである。
も、はぼポリエチレンテレフタレートフィルムでの知見
をそのまま転用出来ることが判明している。これに対し
て別の手法は、フィルムの面内の配向を低下させて9粒
子が形成する突起を核とした窪みを有する突起を形成さ
せることにより、平坦易滑化を達成するものである。
該手法をポリエチレン−2,6−ナフタレートフィルム
に対しても適用すべく検討したところ。
に対しても適用すべく検討したところ。
単にフィルムの面内の配向度を下げただけでは。
同一粒径、同一粒子量、同一粒子分布の同一の不活性粒
子を用いた場合にも、平坦易滑化は達成されるものの厚
さ一斑が極端に悪化してしまい。
子を用いた場合にも、平坦易滑化は達成されるものの厚
さ一斑が極端に悪化してしまい。
高級なフィルム用途特に磁気記録媒体のベースフィルム
用途としては、使用に耐えないものであることが判明し
た。
用途としては、使用に耐えないものであることが判明し
た。
本発明は、平坦易滑性と共に厚さ斑にも優れたポリエチ
レン−,2,6−ナフタレートフィルムが備えろべき物
性を見い出すことを目的としたものである。
レン−,2,6−ナフタレートフィルムが備えろべき物
性を見い出すことを目的としたものである。
本発明者らは、上記目的を達成すべ(鋭意検討した結果
、不活性微粒子を含有し、かつフィルムの物性をある特
定の範囲に規定したポリエチレンココ、6−ナフタレー
ドフイルムカ、厚さ斑が良好でかつ平坦易滑化を達成し
得ることを見出し本発明に到達したものである。
、不活性微粒子を含有し、かつフィルムの物性をある特
定の範囲に規定したポリエチレンココ、6−ナフタレー
ドフイルムカ、厚さ斑が良好でかつ平坦易滑化を達成し
得ることを見出し本発明に到達したものである。
すなわち本発明の要旨は、平均粒径o、i〜10μの不
活性微粒子をo、oi〜10tミル10t量ポリエチレ
ン−コツ6−ナフタレートフィルムであって、そのフィ
ルムの200℃での/7/コ結晶化時間が6.0分以下
でありかつ面配向度ΔPと平均屈折率nが下記式■及び
■を満たすと共に突起と該突起を核とした長径が少くと
も0.−μm以上の窪みとかうなる凹凸単位のフイ7v
ム表面積1〜当りの数A(個1〜)が下記式[3]を清
だしフィルムのタテ、ヨコの厚さ斑が共に3%以下であ
ることを特徴とする平坦易滑性。
活性微粒子をo、oi〜10tミル10t量ポリエチレ
ン−コツ6−ナフタレートフィルムであって、そのフィ
ルムの200℃での/7/コ結晶化時間が6.0分以下
でありかつ面配向度ΔPと平均屈折率nが下記式■及び
■を満たすと共に突起と該突起を核とした長径が少くと
も0.−μm以上の窪みとかうなる凹凸単位のフイ7v
ム表面積1〜当りの数A(個1〜)が下記式[3]を清
だしフィルムのタテ、ヨコの厚さ斑が共に3%以下であ
ることを特徴とする平坦易滑性。
フィルムの厚さ斑にすぐれたポリエチレン一一、6−ナ
フタレートフィルムに存する。
フタレートフィルムに存する。
JP≦/護3五−u、 / 、? A 曲面・曲・
・■/、&l、!0≦n≦7.6750 曲面・・・曲
■OくA≦/!000 ・曲・曲面・■本発明
でいうポリエチレン−2,6−ナフタレートとは、その
構成単位が実質的にエチレンーー、6−ナフタレート単
位から構成されているポリマーを指すが、少量例えば1
0モル%、以下好ましくは3モルチ以下の第3成分によ
って変性すしたエチレン−2,6−ナフタレートポリマ
ー機能的誘導体1例えばナフタレンーコ、6−ジカルボ
ン酸メチル等とエチレングリコールとを触媒の存在下で
適当な反応条件の下に縮合させることによって改造され
る。この場合ナフタレンーー、6−ジカルボン酸及びエ
チレングリコール以外の第3成分としては例えばアジピ
ン酸、シュウ酸、イノフタル酸、テレフタル酸、ナフタ
レンーコ、7−ジカルポン酸、ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸のごときジカルボン酸又はその低級アルキルエ
ステル:p−オキシ安息香酸。
・■/、&l、!0≦n≦7.6750 曲面・・・曲
■OくA≦/!000 ・曲・曲面・■本発明
でいうポリエチレン−2,6−ナフタレートとは、その
構成単位が実質的にエチレンーー、6−ナフタレート単
位から構成されているポリマーを指すが、少量例えば1
0モル%、以下好ましくは3モルチ以下の第3成分によ
って変性すしたエチレン−2,6−ナフタレートポリマ
ー機能的誘導体1例えばナフタレンーコ、6−ジカルボ
ン酸メチル等とエチレングリコールとを触媒の存在下で
適当な反応条件の下に縮合させることによって改造され
る。この場合ナフタレンーー、6−ジカルボン酸及びエ
チレングリコール以外の第3成分としては例えばアジピ
ン酸、シュウ酸、イノフタル酸、テレフタル酸、ナフタ
レンーコ、7−ジカルポン酸、ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸のごときジカルボン酸又はその低級アルキルエ
ステル:p−オキシ安息香酸。
p−オキンエトキシ安息香識のごときオキシカルボン酸
又はその低級アルキルエステル;或いはプロピレングリ
コール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコ−/L/。
又はその低級アルキルエステル;或いはプロピレングリ
コール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコ−/L/。
ジエチレングリコール、/、lI−シクロヘキサンジメ
タツールのごときポリアルキレングリコール等を挙げる
ことができる。又1重合に際して艶消剤、遮光剤、安定
剤、酸化防止剤1重合調節剤、可塑剤等を添加しても差
しつかえない。
タツールのごときポリアルキレングリコール等を挙げる
ことができる。又1重合に際して艶消剤、遮光剤、安定
剤、酸化防止剤1重合調節剤、可塑剤等を添加しても差
しつかえない。
又9本発明で用いるポリエチレンココ、6−ナフタレー
トは1重合度が低すぎると機械的性質が低下するので、
その極限粘度は0.110以上好ましくは0.33〜O
,デのものである。
トは1重合度が低すぎると機械的性質が低下するので、
その極限粘度は0.110以上好ましくは0.33〜O
,デのものである。
本発明のフィルムは、各種用途とりわけ磁気記録媒体ベ
ースフィルム用途に好適に用いることができるが、いず
れの用途に用いる場合も。
ースフィルム用途に好適に用いることができるが、いず
れの用途に用いる場合も。
走行性を与えるために微細な不活性微粒子を含有させて
、滑り性を付与する必要がある。又。
、滑り性を付与する必要がある。又。
該不活性微粒子の平均粒径は、0,7〜10μm。
粒子量は0.01〜IO重量%である必要がある。
好ましくは1粒径は、0.3〜3μの範囲1粒子量は、
0.02〜0.121チ、更に好ましくは0、OJ〜0
.3重量%の範囲から選択される。粒径が0.7μmよ
り小さい場合もし、くは0.0重重量%以下では、フィ
ルムの表面粗度が小さすぎて滑り性に寄与しないので不
適である。一方10μmより大きい場合もしくは10重
−m%より多い場合にはフィルムの表面粗度が荒れすぎ
て、不適である。
0.02〜0.121チ、更に好ましくは0、OJ〜0
.3重量%の範囲から選択される。粒径が0.7μmよ
り小さい場合もし、くは0.0重重量%以下では、フィ
ルムの表面粗度が小さすぎて滑り性に寄与しないので不
適である。一方10μmより大きい場合もしくは10重
−m%より多い場合にはフィルムの表面粗度が荒れすぎ
て、不適である。
かかる不活性微粒子をフィルム中に含有させる方法のひ
とつとして、ポリエチレンナフタレート製造時に反応系
内に溶存している金属化合物1例えばエステル交換反応
後系内に湿存し℃いる金属化合物にリン化合物を作用さ
せて微細な粒子を析出させる。いわゆる析出粒子法があ
る。該手法は、特に粗大粒子が少な(好ましい手法であ
るが、簡便な手法として今ひとつの手法いわゆる添加粒
子法がより好ましく用いられる。
とつとして、ポリエチレンナフタレート製造時に反応系
内に溶存している金属化合物1例えばエステル交換反応
後系内に湿存し℃いる金属化合物にリン化合物を作用さ
せて微細な粒子を析出させる。いわゆる析出粒子法があ
る。該手法は、特に粗大粒子が少な(好ましい手法であ
るが、簡便な手法として今ひとつの手法いわゆる添加粒
子法がより好ましく用いられる。
ここで添力ロ粒子法とは、ポリエチレンーー、6−ナフ
タレート製造工程から、fA腹膜前押出工程のいずれか
の工程でポリエチレンナフタレート重合体原料中に不活
性な微細粒子を配合させる方法であり、この不活性微粒
子としては1例えば、カオリン、ゼオライト、セライト
、タルク、炭酸マグネンウム、炭酸カルシウム、炭酸バ
リウム、硫酸カルシウム、リン酸リチウム。
タレート製造工程から、fA腹膜前押出工程のいずれか
の工程でポリエチレンナフタレート重合体原料中に不活
性な微細粒子を配合させる方法であり、この不活性微粒
子としては1例えば、カオリン、ゼオライト、セライト
、タルク、炭酸マグネンウム、炭酸カルシウム、炭酸バ
リウム、硫酸カルシウム、リン酸リチウム。
リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、酸化アルミニ
ウム、r52化ケイ素、酸化チタン、フッ化リチウム、
ンユウ酸カルシウム及びOa、Ba。
ウム、r52化ケイ素、酸化チタン、フッ化リチウム、
ンユウ酸カルシウム及びOa、Ba。
Z n 、 M n 9のテレフタル酸塩等から選ばれ
た7種以上の金属化合物あるいはカーボンブラック丑を
挙げろことができる。この不活性化合物の形状は球状、
塊状、あるいは偏平状等のいずれであっても良(、又そ
の硬度、比重1色等についても特に制限はない。
た7種以上の金属化合物あるいはカーボンブラック丑を
挙げろことができる。この不活性化合物の形状は球状、
塊状、あるいは偏平状等のいずれであっても良(、又そ
の硬度、比重1色等についても特に制限はない。
本発明において面配向度JPと平均屈折重石とは下記式
■及び■を満たさなければならない。
■及び■を満たさなければならない。
JP≦1.弘3・n−コ、/36 ・・・・・・・・
・・・・■i、tt、go≦n≦/、1.7!0
・・・・・・・・・・・・■ここで平均屈折重石は下記
式(イ)で表わされる量であり、一般に熱固定温度で決
まり、フィルムの密度と比例することが知られている。
・・・・■i、tt、go≦n≦/、1.7!0
・・・・・・・・・・・・■ここで平均屈折重石は下記
式(イ)で表わされる量であり、一般に熱固定温度で決
まり、フィルムの密度と比例することが知られている。
五 = //J (na +n7 + n、)
、・、、、、、、、、、、 (イ)netは
一軸配向熱固定後のフィルムの厚さ方向の屈折率s ”
rは同フィルムのフィルム面内での最大屈折率、nzは
フィルム面内にオ6いてr方向と直角方向の屈折率であ
る。五が/、61.、A;0未満の場合には、フィルム
の財熱性に劣り又熱収縮率が大きくなり不適である。−
万石が/、4り!0を超えるとフィルムの機械的強度が
低下するため不適である。
、・、、、、、、、、、、 (イ)netは
一軸配向熱固定後のフィルムの厚さ方向の屈折率s ”
rは同フィルムのフィルム面内での最大屈折率、nzは
フィルム面内にオ6いてr方向と直角方向の屈折率であ
る。五が/、61.、A;0未満の場合には、フィルム
の財熱性に劣り又熱収縮率が大きくなり不適である。−
万石が/、4り!0を超えるとフィルムの機械的強度が
低下するため不適である。
一方面配向度ΔPは、下記式(ロ)で表わされろ量であ
って、一般にフィルム面内の配向の度合を示している。
って、一般にフィルム面内の配向の度合を示している。
つまりポリエチレン−,2,A −ナフタレートのナフ
タレン環が面内に平行に配向している度合いを示してい
る。
タレン環が面内に平行に配向している度合いを示してい
る。
Δp = //2 (ny +”/ )−−・・
・・・・・・・ (ロ)JPと五の関係が上記式のを満
足したフィルムは上記式■を満たさないフィルムに比べ
て。
・・・・・・・ (ロ)JPと五の関係が上記式のを満
足したフィルムは上記式■を満たさないフィルムに比べ
て。
平坦易滑性に優れろものである。
面配向度JPと平均屈折重石が上記式■を満足するフィ
ルムは種々の方法で得られる。例えば1通常の手法で二
軸延伸したフィルムを。
ルムは種々の方法で得られる。例えば1通常の手法で二
軸延伸したフィルムを。
=60℃以上融点直下の温度で長時間熱固定することに
よっても得られる。又、二軸延伸後熱固定時幅方向に弛
緩させることによっても得られる。このような手法でJ
Pと五の関係が上記式■を満足するようにしたフィルム
においても。
よっても得られる。又、二軸延伸後熱固定時幅方向に弛
緩させることによっても得られる。このような手法でJ
Pと五の関係が上記式■を満足するようにしたフィルム
においても。
若干の平坦易滑化を達成することが出来るが。
その効果を強く発揮させるには、縦横逐次二軸延伸にお
いて、縦方向の配向をつまり縦−軸延伸フィルムの複屈
折率を低(押さえることにより上記式■を満足させるこ
とが必要である。か(して得られたフィルムは、突起の
周囲に該突起を核とした窪からなる凹凸単位が生じる。
いて、縦方向の配向をつまり縦−軸延伸フィルムの複屈
折率を低(押さえることにより上記式■を満足させるこ
とが必要である。か(して得られたフィルムは、突起の
周囲に該突起を核とした窪からなる凹凸単位が生じる。
それ故事発明においては突起と該突起を核とした長径が
少くともO9−μm以上の窪みとからなる凹凸単位のフ
ィルム表面積/xJ半りの数A(個1〜)が下記式[3
]を満足しなければならない。
少くともO9−μm以上の窪みとからなる凹凸単位のフ
ィルム表面積/xJ半りの数A(個1〜)が下記式[3
]を満足しなければならない。
o < A≦/よOOO・・・・・・・・・・・・・・
・■Aが零個では平坦易滑の効果がなく 1soo。
・■Aが零個では平坦易滑の効果がなく 1soo。
個を超えると、フィルムの耐摩耗性が悪化し不適である
。好ましくは3個以上5ooo個以下。
。好ましくは3個以上5ooo個以下。
更に好ましくは3個以上2!;00個以下である。
しかるに工業用素材特に磁気記録媒体素材として該フィ
ルムを用いる場合には、基本的特性として厚さ斑が良好
でなければならない。二軸延伸熱固定後のフィルムが満
足すべき厚さ斑としては、タテ、ヨコ共にx7Xでt%
以下好ましくは3%以下である。ここでRはjm&での
最大厚みと最小厚みの差、iは平均厚みである。
ルムを用いる場合には、基本的特性として厚さ斑が良好
でなければならない。二軸延伸熱固定後のフィルムが満
足すべき厚さ斑としては、タテ、ヨコ共にx7Xでt%
以下好ましくは3%以下である。ここでRはjm&での
最大厚みと最小厚みの差、iは平均厚みである。
さて上記■、■及び0式を満足するフィルムについて厚
さ斑を測定したところ、厚さ斑の良好なものと不良のも
のが混在した。それ故、厚さ斑の良好なものについて要
因を検討したところ。
さ斑を測定したところ、厚さ斑の良好なものと不良のも
のが混在した。それ故、厚さ斑の良好なものについて要
因を検討したところ。
フィルムの200℃での///2結晶化時間カ強り影響
することが判明した。つまりフィルムの200℃での/
/2結晶化時間が6分以下であることが必須である。好
ましくは5分以下、更に好ましくはダ分以下である。
することが判明した。つまりフィルムの200℃での/
/2結晶化時間が6分以下であることが必須である。好
ましくは5分以下、更に好ましくはダ分以下である。
ここでフィルムの200℃での//2結晶化時間を匂か
くする方法としては釉々あるが、一般的な処方としては
、結晶化促進剤を含有させろことである。結晶化促進剤
としては局級脂肪族カルボン酸又はその金属塩(?lJ
えはモンタン酸ナトリウム、ステアリン敵ナトリウム)
、芳香族カルボン酸又はその金属塩(例えば安息香酸ナ
トリウム)、アルキルスルホン酸、アルキルベンゼンス
ルホン酸、アイオノマー、ポリアルキレングリコール等
公知のものを用いれば良い。
くする方法としては釉々あるが、一般的な処方としては
、結晶化促進剤を含有させろことである。結晶化促進剤
としては局級脂肪族カルボン酸又はその金属塩(?lJ
えはモンタン酸ナトリウム、ステアリン敵ナトリウム)
、芳香族カルボン酸又はその金属塩(例えば安息香酸ナ
トリウム)、アルキルスルホン酸、アルキルベンゼンス
ルホン酸、アイオノマー、ポリアルキレングリコール等
公知のものを用いれば良い。
フィルム中の含有量は、コ00℃での//コ結晶化時間
が所定の範囲になるように含有させれば良いが一般には
0.01−!、0重−!1%である。しかしながら特に
磁気記録媒体用フィルムとして使用する際には、上記の
ごとき有機の結晶化促進剤は粗大プツの原因となったり
、ブリードアウトして接着性の低下をきたしたりするた
め。
が所定の範囲になるように含有させれば良いが一般には
0.01−!、0重−!1%である。しかしながら特に
磁気記録媒体用フィルムとして使用する際には、上記の
ごとき有機の結晶化促進剤は粗大プツの原因となったり
、ブリードアウトして接着性の低下をきたしたりするた
め。
必要最小限に止めると共に不純物を出きるだけ除いた精
製品を使用することが野ましい。200℃での//2結
晶化速度を速(する手法としては好ましくは、ポリエチ
レンーコ、6−ナフタレート重合時の特別な1合処方を
行なうことと無接の結晶化核剤例えばカオリン、炭カル
等を併用することが好ましい。
製品を使用することが野ましい。200℃での//2結
晶化速度を速(する手法としては好ましくは、ポリエチ
レンーコ、6−ナフタレート重合時の特別な1合処方を
行なうことと無接の結晶化核剤例えばカオリン、炭カル
等を併用することが好ましい。
か(して、厚さ斑、平坦易滑性に優れた画期的ナポリエ
チレン一一、6−ナフタレードフイ、IL/ムを見い出
すことができたが、以下具体的に製膜処方について記述
する。
チレン一一、6−ナフタレードフイ、IL/ムを見い出
すことができたが、以下具体的に製膜処方について記述
する。
重合時特殊なリンを用い不活性微粒子を所定量含有した
ポリエチレンーコ、6−ナフタレート重合体中に、有機
の結晶化促進剤を必要に応じて含有させた重合体組成物
を、公知の手段で乾燥し、弓融押出後冷却ドラム状にキ
ャストした実質的に無配向のポリエチレンーコ、6−ナ
フタレートの未延伸フィルムをまず縦方向に延伸する。
ポリエチレンーコ、6−ナフタレート重合体中に、有機
の結晶化促進剤を必要に応じて含有させた重合体組成物
を、公知の手段で乾燥し、弓融押出後冷却ドラム状にキ
ャストした実質的に無配向のポリエチレンーコ、6−ナ
フタレートの未延伸フィルムをまず縦方向に延伸する。
その際まず複屈折率Δnがo、oso以上o、oqo以
下となるよう延伸(前段延伸)する。
下となるよう延伸(前段延伸)する。
この前段延伸は、/段階で行なってもよいし多段階に分
けて行なってもよい。延伸温度はポリエチレンーコ、6
−ナフタレートの二次転移温度以上/10℃以下の湯度
でへg倍からa、O倍の範囲で延伸すれば良い。又、前
段延伸の途中又は前段延伸後に配向緩和のための熱緩和
工程を含めることも好ましい。熱緩和工程としてロール
で行なってもよいし、外部加熱で行なってもよいが、熱
緩和処理前の縦延伸温度以上でo、5〜3.0秒、/、
01倍以下で行なうのがよい。かくして得られたフィル
ムを更に縦方向に複屈折率Δnが0.090以上o、i
ao以下となるよう延伸(後段延伸)したのち、横延伸
し、/jθ℃以上コロ0℃以下の温度で熱固定して二軸
配向熱固定フィルムを製造する。フィルムの厚さ斑を所
定の範囲にするためには、上述のとと(縦延伸を多段延
伸とすることが必要である。又。
けて行なってもよい。延伸温度はポリエチレンーコ、6
−ナフタレートの二次転移温度以上/10℃以下の湯度
でへg倍からa、O倍の範囲で延伸すれば良い。又、前
段延伸の途中又は前段延伸後に配向緩和のための熱緩和
工程を含めることも好ましい。熱緩和工程としてロール
で行なってもよいし、外部加熱で行なってもよいが、熱
緩和処理前の縦延伸温度以上でo、5〜3.0秒、/、
01倍以下で行なうのがよい。かくして得られたフィル
ムを更に縦方向に複屈折率Δnが0.090以上o、i
ao以下となるよう延伸(後段延伸)したのち、横延伸
し、/jθ℃以上コロ0℃以下の温度で熱固定して二軸
配向熱固定フィルムを製造する。フィルムの厚さ斑を所
定の範囲にするためには、上述のとと(縦延伸を多段延
伸とすることが必要である。又。
フィルムの200℃での//コ結晶化時間が短い時にの
み厚さ斑が改良された理由としては、上記の後段延伸に
おいて、結晶化速度が速くなるため低倍率の延伸で配向
結晶化が進行し、厚さ斑の改良が行なわれたものと思わ
れる。
み厚さ斑が改良された理由としては、上記の後段延伸に
おいて、結晶化速度が速くなるため低倍率の延伸で配向
結晶化が進行し、厚さ斑の改良が行なわれたものと思わ
れる。
以上述べたごと(本発明によればポリ、エチレン−コツ
6−ナフタレートフィルムの面配向度を低下させても、
厚さ斑が良好でかつ平坦易滑性に優れたフィルムが得ら
れ、またポリエチレン一一、6−ナフタレートフィルム
が高品質のフィルム用途に適用可能となり、極めて工業
的価値に優れるものである。
6−ナフタレートフィルムの面配向度を低下させても、
厚さ斑が良好でかつ平坦易滑性に優れたフィルムが得ら
れ、またポリエチレン一一、6−ナフタレートフィルム
が高品質のフィルム用途に適用可能となり、極めて工業
的価値に優れるものである。
以下実施例により本発明を説明するが1本発明は、その
要旨を越えない限り以下の実施例によって限定されるも
のではない。なお、フィルムの諸物性の測定方法は次の
通りである。
要旨を越えない限り以下の実施例によって限定されるも
のではない。なお、フィルムの諸物性の測定方法は次の
通りである。
(1)厚さ斑
安立電気社製連続続フィルム厚さ測定器(を子マイクロ
メーター使用)により二軸延伸フィルムの縦及び横方向
に沿って測定し、3m長さについて次式により算出した
。
メーター使用)により二軸延伸フィルムの縦及び横方向
に沿って測定し、3m長さについて次式により算出した
。
(2)複屈折率Δn
カールツアイス社製偏光顕微鏡にて縦延伸フィルムのり
ターデーンヨンを測定し1次式により複屈折率Δnを求
めた。
ターデーンヨンを測定し1次式により複屈折率Δnを求
めた。
Δn=R/a R: リターデーンヨンd:フイ
ルム厚み (3)屈折率 アタゴ社製アツベ式屈折計にてコ5℃でγ方向、β方向
及び厚さ方向の屈折率を富法により測定した。
ルム厚み (3)屈折率 アタゴ社製アツベ式屈折計にてコ5℃でγ方向、β方向
及び厚さ方向の屈折率を富法により測定した。
(4)平均突起高さRa
JIB BOAO1〜/97A記載の方法により行なっ
た。測定は小坂研究所昨製表面粗さ測定機モデル8に−
jFを用いた。触針径コμ、触針圧30■、カットオフ
値o、og非、測定長はコ、juとした。測定は12点
行ない、最大値、最小値をカットし10点の平均値で示
した。
た。測定は小坂研究所昨製表面粗さ測定機モデル8に−
jFを用いた。触針径コμ、触針圧30■、カットオフ
値o、og非、測定長はコ、juとした。測定は12点
行ない、最大値、最小値をカットし10点の平均値で示
した。
(5)金属とのgdJ摩擦係数μd
固定した硬質クロムメッキ仕上げのビン(直径4 yx
x )に巻きつげ角/、3に°(θ)でフィルムを接触
させて、j−,71Tz)の荷重をフィルムの一端にか
げて、7m7分の速度で走行させ、他端の抵抗力(Tt
)を測定する。このときのマサツ係数を次式により求め
た。
x )に巻きつげ角/、3に°(θ)でフィルムを接触
させて、j−,71Tz)の荷重をフィルムの一端にか
げて、7m7分の速度で走行させ、他端の抵抗力(Tt
)を測定する。このときのマサツ係数を次式により求め
た。
(6)突起を核としその周辺に窪を有する凹凸単位の数
A カールツアイス社友微分干渉顕微鏡でアルミニウムを蒸
着したフィルムの表面を7!rθ倍で写真撮影し1合計
1〜のフィルムの表面積当り、長径がOo、2μm以上
の凹凸単位の数A(個1〜)を数えた。
A カールツアイス社友微分干渉顕微鏡でアルミニウムを蒸
着したフィルムの表面を7!rθ倍で写真撮影し1合計
1〜のフィルムの表面積当り、長径がOo、2μm以上
の凹凸単位の数A(個1〜)を数えた。
(7) フィルムの200℃での//2結晶化時間パ
ーキンエルマー社製D80 ニーBヲ用いた。
ーキンエルマー社製D80 ニーBヲ用いた。
試料を16℃/mi nで300℃まで昇温し。
300℃で5分間放置後A II ℃/minでコ00
℃まで急速降温させ、コ00℃で等温結晶化させたのち
、結晶化ピークまでの時間を測定した。
℃まで急速降温させ、コ00℃で等温結晶化させたのち
、結晶化ピークまでの時間を測定した。
比較例l
ナフタレン−コツ6−ジカルボン酸ジメチル100部、
エチレングリコール10部及び酢酸カルシウム−水塩0
.7部及び酢[IJチウムニ水塩0.77部を反応器に
仕込み、刀口熱昇温すると共にメタノールを留出させて
エステル交換反応を行ない1反応開始後約弘時間を要し
てコ30℃に達せしめ、実質的にエステル交換を終了し
た。
エチレングリコール10部及び酢酸カルシウム−水塩0
.7部及び酢[IJチウムニ水塩0.77部を反応器に
仕込み、刀口熱昇温すると共にメタノールを留出させて
エステル交換反応を行ない1反応開始後約弘時間を要し
てコ30℃に達せしめ、実質的にエステル交換を終了し
た。
次にこの反応生成物にトリエチルホスフェートo、Js
部を添加し、更に重縮合触媒として三散化アンチモン0
.0!部を添加した後、常法に従ってポリエステルを得
た。この時の〔n〕=0.53であった。これを固相重
合して〔n〕=0.63の重合体組成物を得た。
部を添加し、更に重縮合触媒として三散化アンチモン0
.0!部を添加した後、常法に従ってポリエステルを得
た。この時の〔n〕=0.53であった。これを固相重
合して〔n〕=0.63の重合体組成物を得た。
次に先の原料ポリエステルを乾燥後、浴融押出しを行い
、未延伸フィルムを得た。その際靜を密着法を採用した
。該未延伸フィルムをまず733℃でコ、グ倍延伸しΔ
m=0.010のフィルムとし更にtSO℃で/、2倍
延伸してΔn=0.200の縦−軸延伸フイルムを得た
。この時延伸ロールとしては弐面粗度/Sのセラミック
コートロールを使用した。次に該縦−軸延伸フイルムな
i!ro℃でテンターにて9.0倍延伸したのち、23
!T℃で熱固定して10μのフィルムを得た。か(して
得られたフィルムの物性を表/に示す。
、未延伸フィルムを得た。その際靜を密着法を採用した
。該未延伸フィルムをまず733℃でコ、グ倍延伸しΔ
m=0.010のフィルムとし更にtSO℃で/、2倍
延伸してΔn=0.200の縦−軸延伸フイルムを得た
。この時延伸ロールとしては弐面粗度/Sのセラミック
コートロールを使用した。次に該縦−軸延伸フイルムな
i!ro℃でテンターにて9.0倍延伸したのち、23
!T℃で熱固定して10μのフィルムを得た。か(して
得られたフィルムの物性を表/に示す。
実施例/
ナフタレン−コツ6−ジカルボン酸ジメチル100部、
エチレングリコ−Al2O部及び酢酸カルシウム−水塩
0.11部を反応器に仕込み加熱昇温すると共にメタノ
ールを留去させて、エステル交換反応を行ない反応開始
後約ダ時間を要して230℃に達せしめ、実質的にエス
テル交換を終了させたのち酢酸リチウムニ水塩Q、77
部を添加した。次にこの反応生成物にトリメチルホスフ
ェート0.2g部添加し、更に重縮合触媒として二酸化
アンチモン0.05部を添加した後、常法に従ってポリ
エステルを得た。比較例1と同様に固相重合を行ない(
n) = o、t sとした。
エチレングリコ−Al2O部及び酢酸カルシウム−水塩
0.11部を反応器に仕込み加熱昇温すると共にメタノ
ールを留去させて、エステル交換反応を行ない反応開始
後約ダ時間を要して230℃に達せしめ、実質的にエス
テル交換を終了させたのち酢酸リチウムニ水塩Q、77
部を添加した。次にこの反応生成物にトリメチルホスフ
ェート0.2g部添加し、更に重縮合触媒として二酸化
アンチモン0.05部を添加した後、常法に従ってポリ
エステルを得た。比較例1と同様に固相重合を行ない(
n) = o、t sとした。
製膜に関しては比較例1と同様に行ないサンプルを得た
。
。
実施例コ
実施例/において、トリメチルホスフェートを添加した
のち、平均粒径/、2μの炭酸カルシウム、7 o o
ppm添加する以外は実施例/と同様に重合し1重合
体組成物を得た。この重合体組成物な用い比較例/と同
様に製膜してフィルムを得た。
のち、平均粒径/、2μの炭酸カルシウム、7 o o
ppm添加する以外は実施例/と同様に重合し1重合
体組成物を得た。この重合体組成物な用い比較例/と同
様に製膜してフィルムを得た。
実施例3
実施例コと同様の重合体組成物を用い、押出製膜時、高
級脂肪酸す) IJウムを!; 000 ppmトライ
ブレンドし、洛硼押出しを行った後、実施例コと同様に
延伸してフィルムを得た。これらの結果を表1に示す。
級脂肪酸す) IJウムを!; 000 ppmトライ
ブレンドし、洛硼押出しを行った後、実施例コと同様に
延伸してフィルムを得た。これらの結果を表1に示す。
本塁発明方法によれば、厚さ斑、平坦易滑性ともに優れ
たフィルムが得られる。
たフィルムが得られる。
Claims (2)
- (1)平均粒径0.1〜10μの不活性微粒子を0.0
1〜10重量%含有するポリエチレン−2,6−ナフタ
レートフィルムであって、そのフィルムの200℃での
1/2結晶化時間が6.0分以下でありかつ面配向度Δ
Pと平均屈折率@n@が下記式[1]及び[2]を満た
すと共に突起と該突起を核とした長径が少くとも0.2
μm以上の窪みとからなる凹凸単位のフィルム表面積1
mm^2当りの数A(個/mm^2)が下記式[3]を
満たし、フィルムのタテ、ヨコの厚さ斑が共に8%以下
であることを特徴とする平坦易滑性、フィルムの厚さ斑
にすぐれたポリエチレン−2,6−ナフタレートフィル
ム。 ΔP≦1.43@n@−2.136…………[1]1.
6650≦@n@≦1.6750…………[2]0<A
≦15000…………[3] - (2)実質的に無配向のポリエチレン−2,6−ナフタ
レートの未延伸フィルムをまず縦方向に複屈折率Δnが
0.030以上0.090以下となるよう延伸(前段延
伸)し、更に縦方向に複屈折率Δnが0.090以上0
.140以下となるよう延伸(後段延伸)したのち、横
延伸する事を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のポ
リエチレン−2,6−ナフタレートフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20628886A JPS6360732A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | ポリエチレン−2,6−ナフタレ−トフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20628886A JPS6360732A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | ポリエチレン−2,6−ナフタレ−トフイルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6360732A true JPS6360732A (ja) | 1988-03-16 |
Family
ID=16520824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20628886A Pending JPS6360732A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | ポリエチレン−2,6−ナフタレ−トフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6360732A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0325724A (ja) * | 1989-06-23 | 1991-02-04 | Diafoil Co Ltd | 磁気ディスク用配向ポリエステルフィルム |
JPH05131538A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-05-28 | Teijin Ltd | ポリエチレン―2,6―ナフタレートフイルム |
-
1986
- 1986-09-02 JP JP20628886A patent/JPS6360732A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0325724A (ja) * | 1989-06-23 | 1991-02-04 | Diafoil Co Ltd | 磁気ディスク用配向ポリエステルフィルム |
JPH05131538A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-05-28 | Teijin Ltd | ポリエチレン―2,6―ナフタレートフイルム |
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