JPS6358348A - レクチルの表面保護用具 - Google Patents

レクチルの表面保護用具

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Publication number
JPS6358348A
JPS6358348A JP61203034A JP20303486A JPS6358348A JP S6358348 A JPS6358348 A JP S6358348A JP 61203034 A JP61203034 A JP 61203034A JP 20303486 A JP20303486 A JP 20303486A JP S6358348 A JPS6358348 A JP S6358348A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
frame
chambers
hollow chamber
surface protection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61203034A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Ohori
大堀 一雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP61203034A priority Critical patent/JPS6358348A/ja
Publication of JPS6358348A publication Critical patent/JPS6358348A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 レチクルの表面を保護する保護用具であって、レチクル
の表面に設置され、所定の位置に空洞状の室を設けた枠
状のフレームと、このフレーム上に貼着された樹脂膜と
よりなり、このフレームをレチクル上に設置した後、空
洞状の室に設けたバルブを用いて空洞状の室を減圧状態
に保つことで前記フレームをレチクル上に固定し、また
前記バルブを用いて前記空洞状の室をフレームの外側の
空間部と同様な圧力にすることでレチクル上よりフレー
ムを取り外すようにすることで、着脱の容易なレチクル
の表面の保護用具を提供する。
〔産業上の利用分野〕
本発明はレチクルの表面の保護用具に係り、特に簡単な
操作で取りつけ、および取り外しが容易なレチクル表面
の保護用具に関する。
半導体装置の製造に用いるホトマスクを形成するには、
まずガラス基板上にクロム(Cr)等の金属膜を所定の
パターンに形成した被膜を設けてレチクルを形成し、こ
のレチクルを縮小露光してホトマスクを形成している。
ところで、このレチクルを形成する金属膜は微細なパタ
ーンに形成されており、その表面に傷がつきやすく、ま
た大気中の塵埃が付着しやすい問題があり、このような
塵埃の付着したレチクルを用いてホトマスクを形成する
と、形成されるホトマスクに塵埃の部分が転写されたり
して正確なパターンが形成されない問題がある。
そこで、このレチクルの表面に塵埃が付着しないような
、レチクルの表面保護用具が使用されているが、この用
具が容易にレチクルに対してM説自在に設置できる構造
のものが要望されている。
〔従来の技術〕
第3図に従来のレチクルの表面保護用具を、レチクル上
に設置した状態の平面図を示し、第4図に第3図をIV
 −rV“線に沿った断面図を示す。
第3図および第4図に示すように、従来のレチクルの表
面保護用具は、アルミニウム(Ag)等の金属製の枠状
のフレーム1と、このフレーム1の上に貼着されたニト
ロセルローズ等の樹脂膜2とより成り、このフレーム1
が接着材3を用いてレチクル4に貼着されている。
そして通常このフレーム1の下部には、両面接着テープ
と、この両面接着テープの接着部分を被覆する樹脂膜が
設けられており、この被覆用の樹脂膜を剥がした状態で
、両面接着テープの接着材を用いてフレーム1をレチク
ル4上に接着している。
〔発明が解決しようとする問題点] ところで、この接着材3は強固で、−旦レチクル4上に
フレーム1を接着した後、このフレーム1を取り外して
、フレーム1と樹脂膜2より成るレチクルの表面保護用
具を再使用しようとする際、このフレーム1の下部にド
ライバー等を挿入して、このドライバーを移動させなか
ら、レチクル4よりフレーム1を取り外している。
そのため、フレーム1をレチクル4より取り外す時に、
フレームlが変形する問題があり、取り外しの作業が困
難となる問題がある。
このようなレチクルの表面保護用具は高価で、そのため
、マスク製作のコストが大となる問題があった。
またフレーム1を接着材でレチクル4上に貼着する際、
レチクル4の表面が損傷したり、接着材で汚損したりす
る問題もある。
本発明は上記した問題点を解決し、レチクルの表面に対
して着脱が容易なレチクル表面保護用具の提供を目的と
する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明のレチクル表面の保護用具は、レチクルの表面に
設置される枠状のフレームと、該フレームの所定の位置
に設けられた空洞状の室と、 該空洞状の室に設置され、前記空洞状の室とフレームの
外側の空間部間とを接続し、前記空洞状の室を減圧に保
つためのバルブと、 該フレーム上に貼着された樹脂膜とより成る。
〔作用〕
本発明のレチクルの表面保護用具は、フレームの所定の
位置に空洞状の室を設け、この室にフレームの外側の空
間部の間に通じるバルブを設け、このバルブを用いてフ
レームに設けた空洞状の室を、減圧状態に保つことで容
易にレチクルの表面保護用具をレチクル上に固定するよ
うにする。
またこの空洞状の室をフレームの外(illの大気圧と
同様な圧力にすることで、このレチクルの表面保護用具
をレチクルより容易に取り外せるようにする。
C実施例〕 以下、図面を用いて本発明の一実施例につき詳細に説明
する。
第1図は本発明のレチクルの表面保護用具の平面図で、
第2図は第1図のn−n ’線に沿った断面図である。
第1図、および第2図に図示するように、本発明のレチ
クルの表面保護用具11は、前記したように〜等のフレ
ーム12の所定の位置に空洞状の室13を設け、この空
洞状の室13とフレーム12の外側の空間との間を接続
するバルブ14を設置する。
そしてフレーム12上には、ニトロセルローズのような
樹脂膜15が貼着されている。
このようなフレーム12をレチクル16上に設置した後
、バルブ13を開いてこのバルブ13に連なる真空ポン
プ等を用いて空洞状の室13内を排気して、この室13
内を減圧状態にして、フレーム12をレチクル16上に
固定する。
またレチクル16の表面に固定したレチクルの表面保護
用具11を、レチルクル16より取り外す時には、この
バルブ14を開放にして、フレーム12の外部の空間と
同様な大気圧とすることで容易に取り外せる。
このようにすれば、レチクル16の表面を傷つけること
なく、また複数回繰り返して使用できるレチクルの表面
保護用具が得られる。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、レチクル表面をH
1傷することなく、容易にレチクル表面より取り外しが
可能で、複数回繰り返して使用することのできるレチク
ルの表面保護用具が得られる効果があり、本発明の用具
を用いればマスクの製造コストが低下できる利点がある
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のレチクルの表面保護用具の一実施例の
平面図、 第2図は第1図のn−n ’線に沿った断面図、第3図
は従来のレチクルの表面保護用具の斜視図、 第4図は第3図のIV−IV ’線に沿った断面図であ
る。 図に於いて、 11はレチクルの表面保護用具、12はフL/−ム、1
3は室、14はバルブ、15は樹脂膜、16はレチクル
室13 7杢仝ロア帖し千フル表酉1了はm臭!早悄田酊第1図 i+j  、7カ4□−ユ凍1,5う7゜、ヶヵヮ第2
区 状踏4レチフル表狛4子枦1刊もsF面図第3図 i3 mtp= IV −IV ’!Rt= 5’t;
 坪9fnrA第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 レチクル(16)の表面に設置される枠状のフレーム(
    12)と、 該フレーム(12)の所定の位置に設けられた空洞状の
    室(13)と、 該空洞状の室(13)に設置され、前記空洞状の室(1
    3)とフレーム(12)の外側の空間部間とを接続し、
    前記空洞状の室(13)を減圧に保つためのバルブ(1
    4)と、 該フレーム(12)上に貼着された樹脂膜(15)とよ
    り成ることを特徴とするレチクルの表面保護用具。
JP61203034A 1986-08-28 1986-08-28 レクチルの表面保護用具 Pending JPS6358348A (ja)

Priority Applications (1)

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JP61203034A JPS6358348A (ja) 1986-08-28 1986-08-28 レクチルの表面保護用具

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JP61203034A JPS6358348A (ja) 1986-08-28 1986-08-28 レクチルの表面保護用具

Publications (1)

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JPS6358348A true JPS6358348A (ja) 1988-03-14

Family

ID=16467253

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JP61203034A Pending JPS6358348A (ja) 1986-08-28 1986-08-28 レクチルの表面保護用具

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101930167A (zh) * 2009-06-24 2010-12-29 信越化学工业株式会社 防护膜框架及光刻用防护膜
CN106233201A (zh) * 2014-05-02 2016-12-14 三井化学株式会社 防护膜组件框、防护膜组件及其制造方法、曝光原版及其制造方法、曝光装置以及半导体装置的制造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101930167A (zh) * 2009-06-24 2010-12-29 信越化学工业株式会社 防护膜框架及光刻用防护膜
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