JPS635053A - ビスフエノ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents
ビスフエノ−ル誘導体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、熱、光あるいは酸素による分解に対して有機
物質を安定化するための劣化防止剤として有用な一般式
(1) (式中、R1は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜
4のアルケニル基、フェニル基または2−フェニルエチ
ニル基を、R2、R3ハ炭素数1〜5のアルキル基を、
R4は炭素数1〜11のアルキル基またはフェニル基を
示す。)で示されるビスフェノール誘導体の製造方法に
関する。
物質を安定化するための劣化防止剤として有用な一般式
(1) (式中、R1は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜
4のアルケニル基、フェニル基または2−フェニルエチ
ニル基を、R2、R3ハ炭素数1〜5のアルキル基を、
R4は炭素数1〜11のアルキル基またはフェニル基を
示す。)で示されるビスフェノール誘導体の製造方法に
関する。
〈従来の技術〉
従来より、上記−般式(1)で示されるビスフェノール
誘導体の製造方法としてはカルボン酸を塩化チオニル、
三塩化リン、五塩化リン等の塩素化剤、三臭化リン等の
臭素化剤などのハロゲン化剤を用いて酸ハロゲン化物と
し、次いでその酸ハロゲン化物とビスフェノール類を脱
ノ)ロゲン化水素剤の存在下に反応させる方法(米国特
許第8.984172号明細書)やピリジン、応させる
方法(特開昭56−61828号公報)などが知られて
いる。
誘導体の製造方法としてはカルボン酸を塩化チオニル、
三塩化リン、五塩化リン等の塩素化剤、三臭化リン等の
臭素化剤などのハロゲン化剤を用いて酸ハロゲン化物と
し、次いでその酸ハロゲン化物とビスフェノール類を脱
ノ)ロゲン化水素剤の存在下に反応させる方法(米国特
許第8.984172号明細書)やピリジン、応させる
方法(特開昭56−61828号公報)などが知られて
いる。
〈発明がM決しようとする問題点〉
しかし、このような方法による場合には反応工程が二段
階となり、しかも−般に酸ハロゲン化物や酸無水物の収
率が低いため、ビスフェノール誘導体のカルボン酸から
みた収率は非常に低いものにならざるを得なかった。
階となり、しかも−般に酸ハロゲン化物や酸無水物の収
率が低いため、ビスフェノール誘導体のカルボン酸から
みた収率は非常に低いものにならざるを得なかった。
このようなことから、本発明者らはビスフェノール類側
からはもちろん、カルボン酸側からも好収率で前記−般
式(1)で示されるビスフェノール誘導体を製造する方
法について鋭意検討した結果、−段階でしかも荷投率で
目的化合物が得られる新規な製造法を見出し、本発明に
至った。
からはもちろん、カルボン酸側からも好収率で前記−般
式(1)で示されるビスフェノール誘導体を製造する方
法について鋭意検討した結果、−段階でしかも荷投率で
目的化合物が得られる新規な製造法を見出し、本発明に
至った。
く問題点を解決するための手段〉
本発明は、−般式(ff)
R+−C−OH
(式中、R+は前記と同じ意味を有する)で示されるカ
ルボン酸と一般式(り C式中、R2,R3およびR4は前記と同じ意味を有す
る) で示されるビスフェノール類を、脱ハロゲン化水素剤の
存在下にハロゲン化剤を用いて反応させることを特徴と
する前記−般式(I)で示されるビスフェノール誘導体
の製造法を提供するものである。
ルボン酸と一般式(り C式中、R2,R3およびR4は前記と同じ意味を有す
る) で示されるビスフェノール類を、脱ハロゲン化水素剤の
存在下にハロゲン化剤を用いて反応させることを特徴と
する前記−般式(I)で示されるビスフェノール誘導体
の製造法を提供するものである。
本発明において、−般式(n)で示されるカルボン酸と
し7て具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、8−ブテン酸、安息
香酸、ケイヒ酸等が例示される。才だ、−般式(1)で
示されるビスフェノール類として具体的には、2・2′
−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2・2′−エチリデンビス(4・6−ジーt−
ブチルフェノール)、2・2′−ブチリデンビス(4・
6−シメチルフエノール)、2・2′−ブチリデンビス
(6−L−ブチル−4−メチルフェノール)、2・2′
−ブチリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール
)、2・2′−ブチリデンビス(4・6−t−アミルフ
ェノール)、2・2′−オクチリデンビス(6−t−ブ
チル−4−メチルフェノール、2・2′−ドデシリデン
ビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)2・2
′−ベンジリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフ
ェノール)、2・2′−ベンジリデンビス(4・6−ジ
ーt−ブチルフェノール)等が例示される。
し7て具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、8−ブテン酸、安息
香酸、ケイヒ酸等が例示される。才だ、−般式(1)で
示されるビスフェノール類として具体的には、2・2′
−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2・2′−エチリデンビス(4・6−ジーt−
ブチルフェノール)、2・2′−ブチリデンビス(4・
6−シメチルフエノール)、2・2′−ブチリデンビス
(6−L−ブチル−4−メチルフェノール)、2・2′
−ブチリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール
)、2・2′−ブチリデンビス(4・6−t−アミルフ
ェノール)、2・2′−オクチリデンビス(6−t−ブ
チル−4−メチルフェノール、2・2′−ドデシリデン
ビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)2・2
′−ベンジリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフ
ェノール)、2・2′−ベンジリデンビス(4・6−ジ
ーt−ブチルフェノール)等が例示される。
脱ハロゲン化水素剤として具体的には、トリエチルアミ
ン、ジメチルアニリン、N、N−ジメチルベンジルアミ
ン、テトラメチル尿素などの三級アミン類、ピリジン、
4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジン等のピリジン
誘導体等が例示される。
ン、ジメチルアニリン、N、N−ジメチルベンジルアミ
ン、テトラメチル尿素などの三級アミン類、ピリジン、
4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジン等のピリジン
誘導体等が例示される。
ハロゲン化剤としてはオキシ塩化リン、オキシ臭化リン
、0−トルエンスルホニルクロリド、p−トルエンスル
ホニルクロリドなどが例示される。
、0−トルエンスルホニルクロリド、p−トルエンスル
ホニルクロリドなどが例示される。
本発明の反応は、通常は溶媒の存在下に行われ、この溶
媒としては、たとえばn−ヘキサン、n−へブタン等の
脂肪族炭化水素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢
酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、l + 2 *りo。
媒としては、たとえばn−ヘキサン、n−へブタン等の
脂肪族炭化水素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢
酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、l + 2 *りo。
エタン等のハロゲン化炭化水素類が挙げられ、また脱ハ
ロゲン化水素剤として例示したもののうち常温で液状の
ものなどが例示される。
ロゲン化水素剤として例示したもののうち常温で液状の
ものなどが例示される。
この反応において、カルボン酸およびビスフェノール類
の反応モル比は、通常0.7〜1.5:1でありより好
ましくは09〜1.2:1である。
の反応モル比は、通常0.7〜1.5:1でありより好
ましくは09〜1.2:1である。
また、ハロゲン化剤の使用量は、カルボン酸1モルに対
してオキシ塩化リンおよびオキシ臭化リンの場合は0.
5〜1.0モルの範囲であり、好ましくは、0.6〜0
.9モルの範囲であり、更に好ましくは0.65〜0.
8モルの範囲、0−またはp−トルエンスルホニルクロ
リドの場合は、0.8〜1.6モルの範囲であり好まし
くは0.9〜1.2の範囲である。
してオキシ塩化リンおよびオキシ臭化リンの場合は0.
5〜1.0モルの範囲であり、好ましくは、0.6〜0
.9モルの範囲であり、更に好ましくは0.65〜0.
8モルの範囲、0−またはp−トルエンスルホニルクロ
リドの場合は、0.8〜1.6モルの範囲であり好まし
くは0.9〜1.2の範囲である。
脱ハロゲン化水素剤の使用量は、ハロゲン化剤としてオ
キシ塩化リンおよびオキシ臭化リンを使用する場合は、
オキシ塩化リンまたはオキシ臭化リン1モルに対して2
.7〜8.6当量の範囲、好ましくは2.9〜3.2当
量の範囲であり、また、0−またはp−トルエンスルホ
ニルクロリドを使用する場合は、08〜2,4当量の範
囲、好ましくは0.9〜2.2当量の範囲である。ここ
で11という表現を用いたのは、テトラメチル尿累のよ
うに1分子でハロゲン化水素2分子を捕捉するものかあ
Iるためである。
キシ塩化リンおよびオキシ臭化リンを使用する場合は、
オキシ塩化リンまたはオキシ臭化リン1モルに対して2
.7〜8.6当量の範囲、好ましくは2.9〜3.2当
量の範囲であり、また、0−またはp−トルエンスルホ
ニルクロリドを使用する場合は、08〜2,4当量の範
囲、好ましくは0.9〜2.2当量の範囲である。ここ
で11という表現を用いたのは、テトラメチル尿累のよ
うに1分子でハロゲン化水素2分子を捕捉するものかあ
Iるためである。
反応温度は一20°C−150°Cの範囲であり、好ま
しくは0°C〜120°Cの範囲でありより好ましくは
、20℃〜100℃の範囲である。
しくは0°C〜120°Cの範囲でありより好ましくは
、20℃〜100℃の範囲である。
反応終了後は、脱ハロゲン化水素剤の酸塩を濾過等によ
りあらかじめ分離したのちあるいは分離することなく、
反応液を必要に応じて中和処理したのち水洗し、有機層
から溶媒を留去したり、反応液に水を加え、冷却して析
出晶を取り出す等の種々の方法により目的物を分離する
ことができ、更に再結晶、溶媒洗浄等の公知の方法;こ
より精製することができる。
りあらかじめ分離したのちあるいは分離することなく、
反応液を必要に応じて中和処理したのち水洗し、有機層
から溶媒を留去したり、反応液に水を加え、冷却して析
出晶を取り出す等の種々の方法により目的物を分離する
ことができ、更に再結晶、溶媒洗浄等の公知の方法;こ
より精製することができる。
〈発明の効果〉
カくシて、本発明の方法によればカルボン酸から一段階
で、高収率で、しかも工業的容易に一般式(I)で示さ
れるビスフェノール誘導体を製造することができる。
で、高収率で、しかも工業的容易に一般式(I)で示さ
れるビスフェノール誘導体を製造することができる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
温度計、攪拌装置、冷却管および滴下漏斗を備えた21
四ロフラスコに2.27−エチリデンビス(6−t−ブ
チル−4−メチルフェノール)854.59(1,0モ
ル)、アクリル酸72.067(1,0モル)、トルエ
ン500り及びトリエチルアミン209.472(2,
07モル)を仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、
攪拌しなからオキシ塩化リン105.8ノ(0,69モ
ル)を滴下する。滴下終了後80°Cで1時間保温する
。その後、有機層を中性になるまで水洗し、トルエンを
減圧留去する。蒸留残渣にn−ヘキサンを加えて再結晶
することによって融点161〜162°Cの白色結晶状
の2・2′−エチリデンビス(6−t−−/チルー4−
メチルフェノール)モノアクリレート888.2F(収
率95チ)を得た。
四ロフラスコに2.27−エチリデンビス(6−t−ブ
チル−4−メチルフェノール)854.59(1,0モ
ル)、アクリル酸72.067(1,0モル)、トルエ
ン500り及びトリエチルアミン209.472(2,
07モル)を仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、
攪拌しなからオキシ塩化リン105.8ノ(0,69モ
ル)を滴下する。滴下終了後80°Cで1時間保温する
。その後、有機層を中性になるまで水洗し、トルエンを
減圧留去する。蒸留残渣にn−ヘキサンを加えて再結晶
することによって融点161〜162°Cの白色結晶状
の2・2′−エチリデンビス(6−t−−/チルー4−
メチルフェノール)モノアクリレート888.2F(収
率95チ)を得た。
実施例2
実施例1で用いたと同様のフラスコに2・2′−エチリ
デンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)488
.79(1,0モル)、アクリル酸72.06y(1,
0モル)、n−へブタン4002及びトリエチルアミン
212.59 (2,10モル)を仕込み、容器内の空
気を窒素置換した後、攪拌しなからオキシ臭化リン20
0.7FJ(0,70モル)を滴下する。滴下終了後8
0°Cで1時間保温した後、水5002を仕込み、室温
まで冷却した後、性酸物を戸別する。得られた生成物を
、洗液が中性になるまで水洗することによって融点18
9〜190°Cの白色結晶状の2.27−ニチリデンビ
ス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)モノアクリレ
ート468.1yを得た。
デンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)488
.79(1,0モル)、アクリル酸72.06y(1,
0モル)、n−へブタン4002及びトリエチルアミン
212.59 (2,10モル)を仕込み、容器内の空
気を窒素置換した後、攪拌しなからオキシ臭化リン20
0.7FJ(0,70モル)を滴下する。滴下終了後8
0°Cで1時間保温した後、水5002を仕込み、室温
まで冷却した後、性酸物を戸別する。得られた生成物を
、洗液が中性になるまで水洗することによって融点18
9〜190°Cの白色結晶状の2.27−ニチリデンビ
ス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)モノアクリレ
ート468.1yを得た。
実施例8
2・2′−ブチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)882.6i1.0モル)を用いる以外
は実施例1と同様な条件で反応後処理することにより、
融点106〜108℃の白色結晶状の2・2′−ブチリ
デンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)モ
ノアクリレート410.4yを得た。
ルフェノール)882.6i1.0モル)を用いる以外
は実施例1と同様な条件で反応後処理することにより、
融点106〜108℃の白色結晶状の2・2′−ブチリ
デンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)モ
ノアクリレート410.4yを得た。
実施例4
実施例1で用いたと同様のフラスコに2・2′−ブチリ
デンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)466
.8y(1,0モル)、アクリル酸72.062(1,
0モル)、トルエン60(1’およびトリエチルアミン
242.86y(2,4モル)を仕込み、容器内の空気
を窒素置換した後、攪拌しなから0−)ルエンスルホニ
ルクロリド229.14y(1,2モル)をrm下する
。滴下終了後90°Cで1時間保温する。その後、有機
層を中性になるまで水洗し、トルエンを減圧留去する。
デンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)466
.8y(1,0モル)、アクリル酸72.062(1,
0モル)、トルエン60(1’およびトリエチルアミン
242.86y(2,4モル)を仕込み、容器内の空気
を窒素置換した後、攪拌しなから0−)ルエンスルホニ
ルクロリド229.14y(1,2モル)をrm下する
。滴下終了後90°Cで1時間保温する。その後、有機
層を中性になるまで水洗し、トルエンを減圧留去する。
蒸留残渣にn−ヘキサンを加えて再結晶することによっ
て融点198〜194°Cの白色結晶状の2・2′−ブ
チリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)モ
ノアクリレート497.49(収率95.5%)を得た
。
て融点198〜194°Cの白色結晶状の2・2′−ブ
チリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)モ
ノアクリレート497.49(収率95.5%)を得た
。
実施例5
2・2′−ブチリデンビス(4・6−ジ−t−アミルフ
ェノール)522.82(1,0モル)を用いる以外は
実施例4と同様な条件で反応、後処理することにより、
融点129〜111°Cの白色結晶状の2・2′−ブチ
リデンビス(4・6−ジーt−アミルフェノール)モノ
アクリレート5B9.49C収率98.5チ)を得た。
ェノール)522.82(1,0モル)を用いる以外は
実施例4と同様な条件で反応、後処理することにより、
融点129〜111°Cの白色結晶状の2・2′−ブチ
リデンビス(4・6−ジーt−アミルフェノール)モノ
アクリレート5B9.49C収率98.5チ)を得た。
実施例6 。
実施例1で用いたと同様のフラスコに2゜2′−ブチリ
デンビス(4・6−シメチルフエノール)298.4P
(1,0モル)、安息香酸122.12P(1,0モル
)、トルエン5002およびトリエチルアミン242.
86 y(2,4モル)を仕込み、容器内の空気を@素
置換した後、攪拌しなからO−)ルエンスルホニルクロ
リド229.155’(1,2モル)を滴下する。滴下
終了後は実施例4と同様に深淵、後処理することにより
、融点129〜130°Cの白色結晶状の2・2′−ブ
チリデンビス(4・6−シメチルフエノール)モノベン
ゾエート895.42(収率98.2チ)を得た。
デンビス(4・6−シメチルフエノール)298.4P
(1,0モル)、安息香酸122.12P(1,0モル
)、トルエン5002およびトリエチルアミン242.
86 y(2,4モル)を仕込み、容器内の空気を@素
置換した後、攪拌しなからO−)ルエンスルホニルクロ
リド229.155’(1,2モル)を滴下する。滴下
終了後は実施例4と同様に深淵、後処理することにより
、融点129〜130°Cの白色結晶状の2・2′−ブ
チリデンビス(4・6−シメチルフエノール)モノベン
ゾエート895.42(収率98.2チ)を得た。
実施例7
2・2′−オクチリデンビス(6−t−ブチル−4−メ
チルフェノール) 488.7 y(1,0モル)を用
いる以外は実施例1と同様な条件で反応、後処理するこ
とにより、融点106〜107℃の白色結晶状の2・2
′−オクチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフ
ェノール)モノアクリレート4789 (収率97%)
を得た。
チルフェノール) 488.7 y(1,0モル)を用
いる以外は実施例1と同様な条件で反応、後処理するこ
とにより、融点106〜107℃の白色結晶状の2・2
′−オクチリデンビス(6−t−ブチル−4−メチルフ
ェノール)モノアクリレート4789 (収率97%)
を得た。
実施例8
2・2′−オクチリデンビス(4・6−ジーt−ブチル
フェノール)522.9y(1,0モル)を用いる以外
は、実施例4と同様な条件で反応、後処理することによ
り、融点126〜127°Cの白色結晶状の2・2′−
オクチリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール
)モノアクリレート556.79(収率96.5チ)を
得た。
フェノール)522.9y(1,0モル)を用いる以外
は、実施例4と同様な条件で反応、後処理することによ
り、融点126〜127°Cの白色結晶状の2・2′−
オクチリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール
)モノアクリレート556.79(収率96.5チ)を
得た。
実施例9
温度計、攪拌装置、冷却管、仕込み口を備えた2!四ロ
フラスコに2.2′−ドデシリデンビス(6−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール)494.89(1,0モル
)アクリル酸72.069. (1,0モル)および
トリエチルアミン800S’を仕込み、容器内の空気を
窒素置換した後、攪拌しなからp−)ルエンスルホニル
クロリド805.525’(1,6モル)を少艦ずつ加
える。仕込終了後、60°Cで1時間攪拌保温し、その
後、室温で生成した塩酸トリエチルアミンをP別する。
フラスコに2.2′−ドデシリデンビス(6−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール)494.89(1,0モル
)アクリル酸72.069. (1,0モル)および
トリエチルアミン800S’を仕込み、容器内の空気を
窒素置換した後、攪拌しなからp−)ルエンスルホニル
クロリド805.525’(1,6モル)を少艦ずつ加
える。仕込終了後、60°Cで1時間攪拌保温し、その
後、室温で生成した塩酸トリエチルアミンをP別する。
塩酸トリエチルアミンは更にトルエンで洗浄し、F別お
よびトルエン洗液は混合して中性になるまで水洗する。
よびトルエン洗液は混合して中性になるまで水洗する。
その後、溶媒を減圧留去し、透明油状の2・2′−ドデ
シリデンビス(6−を−ブチル−4−メチルフェノール
)モノアクリレート587.99 (収率98チ)を得
た。
シリデンビス(6−を−ブチル−4−メチルフェノール
)モノアクリレート587.99 (収率98チ)を得
た。
実施例10
2・2′−ベンジリデンビス(6−t−ブチル−4−メ
チルフェノール) 416.6 ll(1,0モル)を
用いる以外は実施例1と同様な条件で反応、後処理する
ことにより、融点152〜158°Cの白色結晶状の2
・2′−ベンジリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)モノアクリレート458.9ノ(収率9
7.5%)を得た。
チルフェノール) 416.6 ll(1,0モル)を
用いる以外は実施例1と同様な条件で反応、後処理する
ことにより、融点152〜158°Cの白色結晶状の2
・2′−ベンジリデンビス(6−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール)モノアクリレート458.9ノ(収率9
7.5%)を得た。
実施例11
2・2′−ベンジリデンビス(4・6−ジーt−ブチル
フェノール)500.89(1,0モル)を用いる以外
は実施例4と同様な条件で反応、後処理することにより
、融点165〜167°Cの白色結晶状の2・2′−ベ
ンジリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)
モノアクリレート538.2P(収率97%)を得た。
フェノール)500.89(1,0モル)を用いる以外
は実施例4と同様な条件で反応、後処理することにより
、融点165〜167°Cの白色結晶状の2・2′−ベ
ンジリデンビス(4・6−ジーt−ブチルフェノール)
モノアクリレート538.2P(収率97%)を得た。
比較例1
温度計、攪拌装置、冷却管、滴下漏斗を備えた500m
/四ロフラスコに99.8%アクリル酸144.1y(
2,0モル)、N、N−ジメチルホルムアミド2.0y
(0,08モル)およびハイドロキノン1.44P(0
,01モル)を仕込み、内温を50°Cで攪拌しながら
塩化チオニル288.05’(2,0モル)を滴下する
。
/四ロフラスコに99.8%アクリル酸144.1y(
2,0モル)、N、N−ジメチルホルムアミド2.0y
(0,08モル)およびハイドロキノン1.44P(0
,01モル)を仕込み、内温を50°Cで攪拌しながら
塩化チオニル288.05’(2,0モル)を滴下する
。
滴下終了後30分保温し、次に塩化第一銅0、14 F
(0,OOl 8モル)を加え、常圧にて生成物を蒸
留する。71°C〜85°Cまでの留分をとって、70
.60F(収率39%)のアクリル酸クロリドを得た。
(0,OOl 8モル)を加え、常圧にて生成物を蒸
留する。71°C〜85°Cまでの留分をとって、70
.60F(収率39%)のアクリル酸クロリドを得た。
次に、温度計、攪拌装置、冷却管、滴下漏斗を備えた5
00−四ロフラスコに2.2’−エチリデンビス(6−
t−ブチル−4−メチルフェノール)85.4F(0,
241モル)、トルエン200Fおよびトリエチルアミ
ン28.9y(0,290モル)を仕込み、容器内の空
気を窒素置換し、攪拌しながらアクリル酸クロリド25
F(0,276モル)を滴下する。滴下終了後1時間攪
拌を継続した後、希塩酸で過剰のトリエチルアミンを中
和し、生成したトリエチルアミン塩酸塩は水洗して除く
。水洗の終了したトルエン層からトルエンを留去し、得
られた蒸留残渣にn−ヘキサン20りを加えて再結晶す
ると白色結晶(融点161〜162°C)の2.2′−
エチリデンビス(6−、t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)モノアクリレート93.1M’(収率95%)が
得られた。
00−四ロフラスコに2.2’−エチリデンビス(6−
t−ブチル−4−メチルフェノール)85.4F(0,
241モル)、トルエン200Fおよびトリエチルアミ
ン28.9y(0,290モル)を仕込み、容器内の空
気を窒素置換し、攪拌しながらアクリル酸クロリド25
F(0,276モル)を滴下する。滴下終了後1時間攪
拌を継続した後、希塩酸で過剰のトリエチルアミンを中
和し、生成したトリエチルアミン塩酸塩は水洗して除く
。水洗の終了したトルエン層からトルエンを留去し、得
られた蒸留残渣にn−ヘキサン20りを加えて再結晶す
ると白色結晶(融点161〜162°C)の2.2′−
エチリデンビス(6−、t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)モノアクリレート93.1M’(収率95%)が
得られた。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数2
〜4のアルケニル基、フェニル基または2−フェニルエ
テニル基を示す。) で示されるカルボン酸と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2、R_3は炭素数1〜5のアルキル基を
示し、R_4は炭素数1〜11のアルキル基またはフェ
ニル基を示す。) で示されるビスフェノール類を、脱ハロゲン化水素剤の
存在下にハロゲン化剤を用いて反応させることを特徴と
する一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3およびR_4は前記と
同じ意味を有する。) で示されるビスフェノール誘導体の製造方法。 - (2)ハロゲン化剤がオキシ塩化リン、オキシ臭化リン
、O−トルエンスルホニルクロリドまたはp−トルエン
スルホニルクロリドから選ばれた化合物である特許請求
の範囲第1項に記載の方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15056586A JPS635053A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ビスフエノ−ル誘導体の製造方法 |
US07/064,461 US4774274A (en) | 1986-06-25 | 1987-06-22 | Thermally stabilized butadiene resins containing a hindered phenolic acrylate or methacrylate |
CA000540344A CA1307604C (en) | 1986-06-25 | 1987-06-23 | Process for producing bisphenol compounds |
DE8787305695T DE3784566T2 (de) | 1986-06-25 | 1987-06-25 | Bisphenolverbindungen enthaltende zusammensetzungen. |
EP87305695A EP0251724B1 (en) | 1986-06-25 | 1987-06-25 | Compositions containing bisphenol compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15056586A JPS635053A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ビスフエノ−ル誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS635053A true JPS635053A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15499659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15056586A Pending JPS635053A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ビスフエノ−ル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS635053A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02273643A (ja) * | 1989-04-13 | 1990-11-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | フェノール系化合物およびこれを有効成分とするブタジエン系ポリマー用安定剤 |
JP2006176419A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-07-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ビスフェノールモノエステルの製造方法 |
WO2014084097A1 (ja) * | 2012-11-28 | 2014-06-05 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、フェノール性水酸基含有組成物、(メタ)アクリロイル基含有樹脂、硬化性組成物、その硬化物、及びレジスト材料 |
JP2015509513A (ja) * | 2012-03-05 | 2015-03-30 | エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングEvonik Roehm GmbH | 安定化(メタ)アクリルモノマー |
WO2018052026A1 (ja) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法 |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP15056586A patent/JPS635053A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02273643A (ja) * | 1989-04-13 | 1990-11-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | フェノール系化合物およびこれを有効成分とするブタジエン系ポリマー用安定剤 |
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WO2014084097A1 (ja) * | 2012-11-28 | 2014-06-05 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有化合物、フェノール性水酸基含有組成物、(メタ)アクリロイル基含有樹脂、硬化性組成物、その硬化物、及びレジスト材料 |
JP2015091954A (ja) * | 2012-11-28 | 2015-05-14 | Dic株式会社 | (メタ)アクリロイル基含有樹脂、硬化性組成物、その硬化物、及びレジスト材料 |
KR20150090094A (ko) * | 2012-11-28 | 2015-08-05 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 페놀성 수산기 함유 화합물, 페놀성 수산기 함유 조성물, (메트)아크릴로일기 함유 수지, 경화성 조성물, 그 경화물, 및 레지스트 재료 |
WO2018052026A1 (ja) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法 |
JPWO2018052026A1 (ja) * | 2016-09-13 | 2019-06-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法 |
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