JPS6345246A - N−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミドおよびその製法 - Google Patents
N−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミドおよびその製法Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、N−(置換オキサリル)アルキルアクリルア
ミドおよびその製法、特に反応性に浸れ、重合体製造用
モノマーとして有用な、式(I)。
ミドおよびその製法、特に反応性に浸れ、重合体製造用
モノマーとして有用な、式(I)。
CHy=CRCO NHCO CO OR’(式
中、Rは低級アルキル基、Roは炭化水素基を示す。)
で表されるN−(置換オキサリル)アルキルアクリルア
ミドおよびその製法に関する。
中、Rは低級アルキル基、Roは炭化水素基を示す。)
で表されるN−(置換オキサリル)アルキルアクリルア
ミドおよびその製法に関する。
(従来の技術)
式(A)。
CI(t = CRCON Ht
(式中、Rは前記と同Q義。)で表わされるα−アルキ
ルアクリルアミドは、種々の官能性誘導体を製造する場
合の原料物質として有用なものである。たとえば、これ
をオキサリルシバライドとさせることにより式(B): CH,=CR−CO−NCO (式中、Rは前記と同意義。)で表されるα−アルキル
アクリロイルイソシアネートが得られるが(特開昭60
−115557号公報)、このものはエチレン性二重結
合とイソシアナト基を有するので、種々の反応に参与す
ることができる。本発明もまた、α−アルキルアクリル
アミド(A)からそこに存在するエチレン性二重結合を
残したままこれをその誘導体に導き、新しい用途を開発
しようとして行なわれたものである。
ルアクリルアミドは、種々の官能性誘導体を製造する場
合の原料物質として有用なものである。たとえば、これ
をオキサリルシバライドとさせることにより式(B): CH,=CR−CO−NCO (式中、Rは前記と同意義。)で表されるα−アルキル
アクリロイルイソシアネートが得られるが(特開昭60
−115557号公報)、このものはエチレン性二重結
合とイソシアナト基を有するので、種々の反応に参与す
ることができる。本発明もまた、α−アルキルアクリル
アミド(A)からそこに存在するエチレン性二重結合を
残したままこれをその誘導体に導き、新しい用途を開発
しようとして行なわれたものである。
本発明の目的物質はN−(置換オキサリル)アルキルア
クリルアミド(I)であるが、R=水素、R°=エチル
であるN−エトキサリルアクリルアミトについては、ヨ
ーロッパ時開第0020000号明細書にアクリルアミ
ドとオキサリルジエチルまたはエトキサリルクロリドを
カリウムt−ブトキシドの存在下に反応させることによ
り、すなわちそれら試剤の混合物を室温で1〜5日間撹
拌することにより、該物質をN、N−ビス(エトキサリ
ルアクリルアミド)と共に生成せしめることができる旨
の記載が存在するが、さらに詳細な反応条件や生成物質
の物理化学的性状については何ら開示するところがない
。
クリルアミド(I)であるが、R=水素、R°=エチル
であるN−エトキサリルアクリルアミトについては、ヨ
ーロッパ時開第0020000号明細書にアクリルアミ
ドとオキサリルジエチルまたはエトキサリルクロリドを
カリウムt−ブトキシドの存在下に反応させることによ
り、すなわちそれら試剤の混合物を室温で1〜5日間撹
拌することにより、該物質をN、N−ビス(エトキサリ
ルアクリルアミド)と共に生成せしめることができる旨
の記載が存在するが、さらに詳細な反応条件や生成物質
の物理化学的性状については何ら開示するところがない
。
本発明者らが上記ヨーロッパ時開明細書の記載を追試し
たところ、そこに開示のない特定の反応条件を採用した
場合にはN−エトキサリルアクリルアミドを生成仕しめ
ろことが可能であるが、そうでない限り該物質の製造は
困難であること、さらにN 、N−ビス(エトキサリル
アクリルアミド)に至っては種々反応条件を変えて反応
を実施してもこれを製造することが不可能であることを
確認した。
たところ、そこに開示のない特定の反応条件を採用した
場合にはN−エトキサリルアクリルアミドを生成仕しめ
ろことが可能であるが、そうでない限り該物質の製造は
困難であること、さらにN 、N−ビス(エトキサリル
アクリルアミド)に至っては種々反応条件を変えて反応
を実施してもこれを製造することが不可能であることを
確認した。
(発明の目的)
本発明はα−アルキルアクリルアミド(A)から出発し
、新規物質であるN−(置換オキサリル)アルキルアク
リルアミド(+)を工業的に有利にかつ確実に提供しよ
うとするものである。
、新規物質であるN−(置換オキサリル)アルキルアク
リルアミド(+)を工業的に有利にかつ確実に提供しよ
うとするものである。
(発明の構成)
本発明によれば、一般に式(I)で表されるN−(置換
オキサリル)アルキルアクリルアミドが有利かっ確実に
提供されるが、前記の如<R=水素、R’=エチルであ
るN−エトキサリルアクリルアミドについてはヨーロッ
パ時開明細書に一応の言及が存在するものの、その他の
化合物についてはこれに言及した文献を見出だすことが
できない。
オキサリル)アルキルアクリルアミドが有利かっ確実に
提供されるが、前記の如<R=水素、R’=エチルであ
るN−エトキサリルアクリルアミドについてはヨーロッ
パ時開明細書に一応の言及が存在するものの、その他の
化合物についてはこれに言及した文献を見出だすことが
できない。
従って、N−(@換オキサリル)アルキルアクリルアミ
ド(I)は新規物質であると言うことができる。
ド(I)は新規物質であると言うことができる。
N−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミド(+)
において、置換基Rは低級アルキル基を示し、置換基R
゛は炭化水素基を表す。炭化水素基の例としては、アル
キル基(特にメチル、エチル、プロピル、ブチルのよう
な低級アルキル)、アルケニル基(特にアリル、ブテニ
ルのような低級アルケニル)、アルキニル基(特にプロ
ピニル、ブチニルのような低級アルキニル)、シクロア
ルキル基(特にペンチル、ヘキシルのようなシクロ低級
アルキル)、アリール基(特にフェニル)、アラルキル
基(特にベンジル、フェネチルのようなフェニル低級ア
ルキル)、不飽和基置換オキシアルキル基(特にアリル
オキシエチルのような低級アルケニルオキシ低級アルキ
ル)などがある。なお、本明細書において、「低級」と
は一般に炭素数8以下、好ましくは5以下の基を意味す
る。ただし、炭化水素基については必ずしも上記のよう
な低級の基に限らず、ステアリルのような比較的高級な
アルキル基などであってもよい。
において、置換基Rは低級アルキル基を示し、置換基R
゛は炭化水素基を表す。炭化水素基の例としては、アル
キル基(特にメチル、エチル、プロピル、ブチルのよう
な低級アルキル)、アルケニル基(特にアリル、ブテニ
ルのような低級アルケニル)、アルキニル基(特にプロ
ピニル、ブチニルのような低級アルキニル)、シクロア
ルキル基(特にペンチル、ヘキシルのようなシクロ低級
アルキル)、アリール基(特にフェニル)、アラルキル
基(特にベンジル、フェネチルのようなフェニル低級ア
ルキル)、不飽和基置換オキシアルキル基(特にアリル
オキシエチルのような低級アルケニルオキシ低級アルキ
ル)などがある。なお、本明細書において、「低級」と
は一般に炭素数8以下、好ましくは5以下の基を意味す
る。ただし、炭化水素基については必ずしも上記のよう
な低級の基に限らず、ステアリルのような比較的高級な
アルキル基などであってもよい。
本発明によりN (iZ置換オキサリルアルキルアク
リルアミド(I)を製造するには次のような各種の方法
が採用可能である。
リルアミド(I)を製造するには次のような各種の方法
が採用可能である。
製法l
α−アルキルアクリルアミド(A)と式(■)。
X−CO−CO−OR’
(式中、Xはハロゲン原子(たとえば塩素、臭素)を示
す。Roは前記と同意義。)で表わされるオキサリルモ
ノハライドモノエステルとの反応を経由する方法。
す。Roは前記と同意義。)で表わされるオキサリルモ
ノハライドモノエステルとの反応を経由する方法。
上記反応は適当な不活性溶媒中、塩基性物質の存在下ま
たは不存在下、約20〜200°Cにおいて行なわれる
。反応に使用するα−アルキルアクリルアミド(A)と
オキサリルモノハライドモノエステル(TI)のモル比
は約10−1〜1;lOl特に5 : I−1: 5が
好ましい。不活性溶媒は、一般に炭化水素(たとえばベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン)、ハロゲン化
炭化水素(たとえばクロロホルム、塩化メチレン、四塩
化炭素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン)、エステ
ル(たとえばセロソルブアセテート、酢酸エチル、酢酸
ブチル)、エーテル(たとえばジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン)などから選択して使用す
ればよい。
たは不存在下、約20〜200°Cにおいて行なわれる
。反応に使用するα−アルキルアクリルアミド(A)と
オキサリルモノハライドモノエステル(TI)のモル比
は約10−1〜1;lOl特に5 : I−1: 5が
好ましい。不活性溶媒は、一般に炭化水素(たとえばベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン)、ハロゲン化
炭化水素(たとえばクロロホルム、塩化メチレン、四塩
化炭素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン)、エステ
ル(たとえばセロソルブアセテート、酢酸エチル、酢酸
ブチル)、エーテル(たとえばジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン)などから選択して使用す
ればよい。
反応の途中において塩化水素が副生ずるが、これは一旦
生成したN−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミ
ド(I)に付加してその収量を低下せしめる可能性があ
る。従ってこのような収量の低下を避けるためにも、ま
た反応の進行を円滑化するためにも、反応系に塩化水素
捕捉物質を存在せしめたり、反応系から塩化水素の離脱
を促進する手段を適用することが望ましい。通常の場合
には、塩化水素捕捉物質として塩基性物質、特に無機ま
たは有機の塩基性物質(たとえばカリウムエトキシド、
カリウムし一ブトキシド、トリエチルアミン、ジメチル
アニリン、ピリジン)を反応系に添加する。これに代え
、α−アルキルアクリルアミド(A)を大過剰に使用し
て塩化水素捕捉の役割を兼ねさせてもよい。また、fこ
とえば反応をぶ流下にあるいは不活性ガス(たとえば窒
素ガス)を吹き込みながら実施することにより、反応系
から塩化水素を速やかに除去してもよい。
生成したN−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミ
ド(I)に付加してその収量を低下せしめる可能性があ
る。従ってこのような収量の低下を避けるためにも、ま
た反応の進行を円滑化するためにも、反応系に塩化水素
捕捉物質を存在せしめたり、反応系から塩化水素の離脱
を促進する手段を適用することが望ましい。通常の場合
には、塩化水素捕捉物質として塩基性物質、特に無機ま
たは有機の塩基性物質(たとえばカリウムエトキシド、
カリウムし一ブトキシド、トリエチルアミン、ジメチル
アニリン、ピリジン)を反応系に添加する。これに代え
、α−アルキルアクリルアミド(A)を大過剰に使用し
て塩化水素捕捉の役割を兼ねさせてもよい。また、fこ
とえば反応をぶ流下にあるいは不活性ガス(たとえば窒
素ガス)を吹き込みながら実施することにより、反応系
から塩化水素を速やかに除去してもよい。
反応混合物から反応成績体を回収、精製するには、抽出
、カラムクロマトグラフィー、再結晶、減圧蒸留など自
体常套の適当な分離精製手段が適用されてよい。
、カラムクロマトグラフィー、再結晶、減圧蒸留など自
体常套の適当な分離精製手段が適用されてよい。
製法2
α−アルキルアクリルアミド(A)と式(■):x−c
o−co−x (式中、Xは前記同意義。)で表わされるオキサリルシ
バライドとの反応を経由する方法。
o−co−x (式中、Xは前記同意義。)で表わされるオキサリルシ
バライドとの反応を経由する方法。
この方法は、α−アルキルアクリルアミド(A>とオキ
ザリルシバライド(III)との反応によりまず式(I
’/)・ (式中、RおよびXは前記と同意義。)で表されるオキ
サゾリンジオン・ヒドロハライドを生成せしめ、ついで
これを式(V): Ro −0l−1 (式中、Roは前記と同、意義。)で表されるアルコー
ルと反応させてN−(置換オキサリル)アルキルアクリ
ルアミド(I)を生成せしめることにより行なわれる。
ザリルシバライド(III)との反応によりまず式(I
’/)・ (式中、RおよびXは前記と同意義。)で表されるオキ
サゾリンジオン・ヒドロハライドを生成せしめ、ついで
これを式(V): Ro −0l−1 (式中、Roは前記と同、意義。)で表されるアルコー
ルと反応させてN−(置換オキサリル)アルキルアクリ
ルアミド(I)を生成せしめることにより行なわれる。
第1段の反応は、一般に不活性溶媒中、約−50℃から
オキサゾリンジオン・ヒドロハライド(■)の分解温度
まで、好ましくは0〜80℃の温度で実施される。反応
に使用するα−アルキルアクリルアミド(A)とオキサ
リルシバライド(III)のモル比は通常的l:1〜3
、好ましくは約1:l−1゜5である。不活性溶媒は、
炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、エステルな
どから選択すればよいが、好ましくはハロゲン化炭化水
素、たとえば四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、1.1−ジクロロエタン、l、2−ジクロロエタン
、1.1.1−トリクロロエタン、1,1.2−トリク
ロロエタン、l、2−ノクロロプロパン、l、4−ジク
ロロブタン、クロロベンゼン、四塩化エチレン、三塩化
エヂレンなどから選択したしのを使用する。
オキサゾリンジオン・ヒドロハライド(■)の分解温度
まで、好ましくは0〜80℃の温度で実施される。反応
に使用するα−アルキルアクリルアミド(A)とオキサ
リルシバライド(III)のモル比は通常的l:1〜3
、好ましくは約1:l−1゜5である。不活性溶媒は、
炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、エステルな
どから選択すればよいが、好ましくはハロゲン化炭化水
素、たとえば四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、1.1−ジクロロエタン、l、2−ジクロロエタン
、1.1.1−トリクロロエタン、1,1.2−トリク
ロロエタン、l、2−ノクロロプロパン、l、4−ジク
ロロブタン、クロロベンゼン、四塩化エチレン、三塩化
エヂレンなどから選択したしのを使用する。
第2段の反応は、不活性溶媒を使用するかまたは使用す
ることなく、約−30〜40℃、好ましくは一10〜3
0℃の温度で実施される。反応に使用されるオキサゾリ
ンジオン・ヒドロハライド(IV)とアルコール(V)
のモル比は通常的l:l〜20、好ましくは約1=5〜
15である。第2段の反応は第1段の反応に引き続いて
行うのが普通であるから、特に第2段の反応の際に不活
性溶媒を追加するには及ばない。また、反応試剤である
アルコール(V)は液体である場合が多いから、それ自
体に反応媒体としての役割を兼ねさせてもよい。不活性
溶媒を使用するとすれば、炭化水素、ハロゲン化炭化水
素、エーテル等から選択すればよい。
ることなく、約−30〜40℃、好ましくは一10〜3
0℃の温度で実施される。反応に使用されるオキサゾリ
ンジオン・ヒドロハライド(IV)とアルコール(V)
のモル比は通常的l:l〜20、好ましくは約1=5〜
15である。第2段の反応は第1段の反応に引き続いて
行うのが普通であるから、特に第2段の反応の際に不活
性溶媒を追加するには及ばない。また、反応試剤である
アルコール(V)は液体である場合が多いから、それ自
体に反応媒体としての役割を兼ねさせてもよい。不活性
溶媒を使用するとすれば、炭化水素、ハロゲン化炭化水
素、エーテル等から選択すればよい。
なお、この第2段の反応においてはハロゲン化水素が副
生ずるから製法1の場合と同様、ハロゲン化水素捕捉剤
を使用するのが望ましい。反応は通常オキサゾリンジオ
ン・ヒドロハライド(IV)をアルコール(V)、塩化
水素捕捉剤ならびに要すれば不活性溶媒の混合物に加え
ることによって行なわれる。
生ずるから製法1の場合と同様、ハロゲン化水素捕捉剤
を使用するのが望ましい。反応は通常オキサゾリンジオ
ン・ヒドロハライド(IV)をアルコール(V)、塩化
水素捕捉剤ならびに要すれば不活性溶媒の混合物に加え
ることによって行なわれる。
反応混合物から反応成績体を回収、精製するには、抽出
、カラムクロマトグラフィー、再結晶、減圧蒸留など自
体常套の適当な分離精製手段が適用されてよい。
、カラムクロマトグラフィー、再結晶、減圧蒸留など自
体常套の適当な分離精製手段が適用されてよい。
なお、最近のN xIRによる研究の結果、前記オキサ
ゾリンジオン・ヒドロハライドに対し式(IV)を与え
ることについて若干の疑問が生ずるに至り、むしろ式(
IV’): の方りく正しいのではないかとも考えられる。しかしな
がら、化学的挙動を考慮した場合には、式(■゛)より
も式(IV)の方が妥当であるようにも思われろ。従っ
て本明細書では式(■)を統一して使用している。
ゾリンジオン・ヒドロハライドに対し式(IV)を与え
ることについて若干の疑問が生ずるに至り、むしろ式(
IV’): の方りく正しいのではないかとも考えられる。しかしな
がら、化学的挙動を考慮した場合には、式(■゛)より
も式(IV)の方が妥当であるようにも思われろ。従っ
て本明細書では式(■)を統一して使用している。
なおまた、オキサゾリンジオン・ヒドロハライド(■)
、を不活性溶媒(たとえばノエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、アセトン)中、塩
基(たとえば水素化ナトリウム)の存在下、約O〜40
℃(好ましくは室温前後)において、α−アルキルアク
リルアミド(A)と反応させると、式(■): (CHt=CR−CO−N)I−CO−)=(式中、R
は前記と同意義。)で表されるビス(α−アルキルアク
リルアミド)体が得られる。このものもまた分子内に存
在するエチレン性二重結合の故に、重合体製造用のモノ
マー成分として有用なものである。
、を不活性溶媒(たとえばノエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、アセトン)中、塩
基(たとえば水素化ナトリウム)の存在下、約O〜40
℃(好ましくは室温前後)において、α−アルキルアク
リルアミド(A)と反応させると、式(■): (CHt=CR−CO−N)I−CO−)=(式中、R
は前記と同意義。)で表されるビス(α−アルキルアク
リルアミド)体が得られる。このものもまた分子内に存
在するエチレン性二重結合の故に、重合体製造用のモノ
マー成分として有用なものである。
製法3
α−アクリルアミドアクリルアミド(A)と式(■)・
rt’o−co−co−oR’
(式中、Roは前記と同意義。)で表されるオキサリル
ジエステルとの反応を経由する方法。
ジエステルとの反応を経由する方法。
上記反応は塩基性物質の存在下で行うことを必須とする
が、これを除けば製法1の反応、すなわちα−アクリル
アミドアクリルアミド(A)とオキサリルモノハライド
モノエステル(I[)の反応に際して採用された条件と
本質的に同様の条件下で実施されてよい。塩化水素捕捉
剤は無機または有機塩基から適宜に選択されてよいが、
一般に強塩基が好ましく、カリウムエトキシドやカリウ
ムt−ブトキシドのような無機塩基を使用するのが望ま
しい。反応は不活性溶媒中で実施するのが普通であり、
炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、アルコール
などから適宜に選択すればよい。不活性溶媒に代え、オ
キサリルジエステル(Vl)を過剰量で使用してもよい
。
が、これを除けば製法1の反応、すなわちα−アクリル
アミドアクリルアミド(A)とオキサリルモノハライド
モノエステル(I[)の反応に際して採用された条件と
本質的に同様の条件下で実施されてよい。塩化水素捕捉
剤は無機または有機塩基から適宜に選択されてよいが、
一般に強塩基が好ましく、カリウムエトキシドやカリウ
ムt−ブトキシドのような無機塩基を使用するのが望ま
しい。反応は不活性溶媒中で実施するのが普通であり、
炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、アルコール
などから適宜に選択すればよい。不活性溶媒に代え、オ
キサリルジエステル(Vl)を過剰量で使用してもよい
。
反応の結果、N−(置換オキサリル)アクリルアミドア
クリルアミド(Dが直接の成績体として生成するが、反
応条件によってはそれに加えてビス(α−アルキルアク
リルアミド)体(■)が副生ずることもあり、時にはこ
のビス(α−アルキルアクリルアミド)体(■)の方が
主成績体となることらある。
クリルアミド(Dが直接の成績体として生成するが、反
応条件によってはそれに加えてビス(α−アルキルアク
リルアミド)体(■)が副生ずることもあり、時にはこ
のビス(α−アルキルアクリルアミド)体(■)の方が
主成績体となることらある。
反応混合物から反応成績体を回収、精製するには、抽出
、カラムクロマトグラフィー、再結晶、減圧蒸留など自
体常套の適当な分離精製手段か適用されてよい。
、カラムクロマトグラフィー、再結晶、減圧蒸留など自
体常套の適当な分離精製手段か適用されてよい。
(効 果)
本発明のN−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミ
ド(I)は式 で表わされる官能部分を有する。官能部分aは共役二重
結合を有し、単独重合および共重合し得る部分である。
ド(I)は式 で表わされる官能部分を有する。官能部分aは共役二重
結合を有し、単独重合および共重合し得る部分である。
従ってスチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタ
クリレート等の共役二重結合をもったアクリルモノマー
と共重合することかできる。重合で得られたホモポリマ
ーまたはコポリマーは塗料、接着剤、プラスチック用の
樹脂として利用することができる。官能部分すはC,N
−ジアシルアミド結合を有しており、高い分子間凝集力
と高い分子間水素結合形成能力を持つ。従って、この化
合物の重合により得られfこポリマーは強靭かつ高付着
性の樹脂となる。官能部分Cはケトエステル結合を有し
ており、Rを容易に他の置換基に変えることができる。
クリレート等の共役二重結合をもったアクリルモノマー
と共重合することかできる。重合で得られたホモポリマ
ーまたはコポリマーは塗料、接着剤、プラスチック用の
樹脂として利用することができる。官能部分すはC,N
−ジアシルアミド結合を有しており、高い分子間凝集力
と高い分子間水素結合形成能力を持つ。従って、この化
合物の重合により得られfこポリマーは強靭かつ高付着
性の樹脂となる。官能部分Cはケトエステル結合を有し
ており、Rを容易に他の置換基に変えることができる。
従って、それぞれ異なった極性、重合特性、溶解性、機
能性官能基、反応特性等を持つモノマーを容易に得るこ
とができる。
能性官能基、反応特性等を持つモノマーを容易に得るこ
とができる。
本発明の化合物は上記のように種々のポリマーの出発原
料となるが、種々の医薬、農薬、化学試剤等の中間体と
しても使用できる。
料となるが、種々の医薬、農薬、化学試剤等の中間体と
しても使用できる。
(実施例)
以下、実施例により本発明の具体的な実施態様を説明す
る。
る。
実施例1
撹はん機、冷却器、窒素ガス導入口および滴下漏斗を備
えた反応容器内に、ベンゼン288.5zQおよびメタ
クリルアミド49.19<0.577モル)を充填し、
得られた混合物を加熱還流した。
えた反応容器内に、ベンゼン288.5zQおよびメタ
クリルアミド49.19<0.577モル)を充填し、
得られた混合物を加熱還流した。
還流および窒素の吹き込みを続け、その間にエトキシル
クロライド78.59(0,577ミリモル)をそこに
2.5時間滴下した。滴下完了後、還流を5時間続けた
。ベンゼンを留去し、ヒドロキノンをそこに添加し、減
圧蒸留を行ってN−エトキジルメタクリルアミド485
9を得た。収率43%1.弗り東110〜115°C1
0,3肩ストtg、屈折率1.473 Inν 3300(N−H)、l 760(C=C)、
1720(C=C)、+ 690(C=C)、l640
(C=C)、l l 90(C−0)、l I 60(
C−0)、1120(C−0)、l l 00 (C−
0)cx−’実施例2 実施例1と同じ反応容器内に、エトキシルクロライド1
2.31?(0,09モル)を充填し、反応容器を水浴
で冷却した。クロロホルム32.4zQ中メタクリルア
ミド7.79C0,09モル)の溶液をそこに10分間
滴下した。添加完了後、ピリジン7.29(0,09モ
ル)とクロロホルム1oRQのl混合物を底に滴下し、
得られた混合物を室温で1時間撹はんした。反応混合物
をクロロホルム5002Qおよび水500z(と共に振
とうし、クロロホルム層を分離し無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、ついでクロロホルムを除去した。ヒドロキ
ノン0.01gをそこに添加し、減圧蒸留を行ってN−
エトキシルメタクリルアミド5.39を得た。
クロライド78.59(0,577ミリモル)をそこに
2.5時間滴下した。滴下完了後、還流を5時間続けた
。ベンゼンを留去し、ヒドロキノンをそこに添加し、減
圧蒸留を行ってN−エトキジルメタクリルアミド485
9を得た。収率43%1.弗り東110〜115°C1
0,3肩ストtg、屈折率1.473 Inν 3300(N−H)、l 760(C=C)、
1720(C=C)、+ 690(C=C)、l640
(C=C)、l l 90(C−0)、l I 60(
C−0)、1120(C−0)、l l 00 (C−
0)cx−’実施例2 実施例1と同じ反応容器内に、エトキシルクロライド1
2.31?(0,09モル)を充填し、反応容器を水浴
で冷却した。クロロホルム32.4zQ中メタクリルア
ミド7.79C0,09モル)の溶液をそこに10分間
滴下した。添加完了後、ピリジン7.29(0,09モ
ル)とクロロホルム1oRQのl混合物を底に滴下し、
得られた混合物を室温で1時間撹はんした。反応混合物
をクロロホルム5002Qおよび水500z(と共に振
とうし、クロロホルム層を分離し無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、ついでクロロホルムを除去した。ヒドロキ
ノン0.01gをそこに添加し、減圧蒸留を行ってN−
エトキシルメタクリルアミド5.39を得た。
収率32%。
実施例3
実施例1と同じ反応容器内に、エトキシルクロライド1
2.3g(0,09モル)を充填し、反応容器を水浴で
冷却した。クロロホルム90.OxC中メタクリルアミ
ド20.39(0,24モル)の溶液をそこに30分間
滴下した。ついで室温で3日間撹はんした。反応混合物
をクロロホルム500村および水5001112と共に
振とうし、クロロホルム層を分離し、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、ついでクロロホルムを除去した。ヒド
ロキノン0.019をそこに添加し、減圧蒸留を行って
N−エトキシルメタクリルアミド4.89を得た。
2.3g(0,09モル)を充填し、反応容器を水浴で
冷却した。クロロホルム90.OxC中メタクリルアミ
ド20.39(0,24モル)の溶液をそこに30分間
滴下した。ついで室温で3日間撹はんした。反応混合物
をクロロホルム500村および水5001112と共に
振とうし、クロロホルム層を分離し、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、ついでクロロホルムを除去した。ヒド
ロキノン0.019をそこに添加し、減圧蒸留を行って
N−エトキシルメタクリルアミド4.89を得た。
収率29%。
実施例4
実施例1と同じ反応容器内に、トルエン20:n(Iお
よびメタクリルアミド2,1y(0,025モル)を充
填し、得られた反応混合物を90℃に加熱した。ベンジ
ルオキサリルクロライド509の10分間の滴下完了後
、得られた混合物を窒素ガスで激しく泡立て、ついで9
0℃で4時間撹はんした。反応混合物をクロロホルム3
00zffおよび水1000水と共に振とうし、有機相
を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ついでト
ルエンをクロロホルムを減圧下で除去した。得られた生
成物ンリカゲルクロマトグラフィーで精製してN−ペン
ジルオキサリルメタクリルアミド2.9gを無色、透明
粘稠液体として得た。
よびメタクリルアミド2,1y(0,025モル)を充
填し、得られた反応混合物を90℃に加熱した。ベンジ
ルオキサリルクロライド509の10分間の滴下完了後
、得られた混合物を窒素ガスで激しく泡立て、ついで9
0℃で4時間撹はんした。反応混合物をクロロホルム3
00zffおよび水1000水と共に振とうし、有機相
を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ついでト
ルエンをクロロホルムを減圧下で除去した。得られた生
成物ンリカゲルクロマトグラフィーで精製してN−ペン
ジルオキサリルメタクリルアミド2.9gを無色、透明
粘稠液体として得た。
IRν:3350(N−H)、1750(C=C)、+
730(C=C)、+ 690(C=C)、1630
(C=C)、1500(N−H1変形)、695(C−
H1変形)C肩−1 実施例5 実施例1と同じ反応容器に、エタノール230゜49(
5,0モル)およびピリジン39.6g(0゜5モル)
を充填し、反応容器を水浴で00Cに冷却した。2−イ
ソプロペニルオキサゾリン−4,5−ノオン塩酸塩87
.89(0,5モル)をそこに30分間、撹はん下に反
応温度を0〜10°Cに維持しながら滴下した。添加完
了後、過剰のエタノールを減圧下に除去した。反応混合
物を酢酸エチル1000、wCおよび多量の水と共に振
とうし、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、ついで酢酸エチルを除去した。ヒドロキノ
ン0、Qlgをそこに添加し、減圧蒸留を行ってN−エ
トキシルメタクリルアミド30.59を得た。
730(C=C)、+ 690(C=C)、1630
(C=C)、1500(N−H1変形)、695(C−
H1変形)C肩−1 実施例5 実施例1と同じ反応容器に、エタノール230゜49(
5,0モル)およびピリジン39.6g(0゜5モル)
を充填し、反応容器を水浴で00Cに冷却した。2−イ
ソプロペニルオキサゾリン−4,5−ノオン塩酸塩87
.89(0,5モル)をそこに30分間、撹はん下に反
応温度を0〜10°Cに維持しながら滴下した。添加完
了後、過剰のエタノールを減圧下に除去した。反応混合
物を酢酸エチル1000、wCおよび多量の水と共に振
とうし、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、ついで酢酸エチルを除去した。ヒドロキノ
ン0、Qlgをそこに添加し、減圧蒸留を行ってN−エ
トキシルメタクリルアミド30.59を得た。
収率33%。
実施例6
実施例1と同じ反応容器内に、ベンジルアルコール27
.09(0,25モル)およびピリジン409(0,0
5モル)を充填し、反応容器を水浴で0°Cに冷却した
。2−イソプロペニルオキサゾリン−!1.5−ジオン
塩酸塩8.8g(0,05モル)をそこに30分間、撹
はん下に反応温度を0〜lO°Cに維持しながら滴下し
た。添加完了後、過剰のベンジルアルコールを減圧下に
除去した。反応混合物をクロロホルム300.x12お
よび水1000.dと共に振とうし、クロロホルム層を
分離し、無水硫酸マグ不ノウム上で乾燥し、ついでクロ
ロホルムを除去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーで精製してN−ベンジルオキサリルメタクリルアミ
ド3.99を無色、透明粘稠液体として得た。
.09(0,25モル)およびピリジン409(0,0
5モル)を充填し、反応容器を水浴で0°Cに冷却した
。2−イソプロペニルオキサゾリン−!1.5−ジオン
塩酸塩8.8g(0,05モル)をそこに30分間、撹
はん下に反応温度を0〜lO°Cに維持しながら滴下し
た。添加完了後、過剰のベンジルアルコールを減圧下に
除去した。反応混合物をクロロホルム300.x12お
よび水1000.dと共に振とうし、クロロホルム層を
分離し、無水硫酸マグ不ノウム上で乾燥し、ついでクロ
ロホルムを除去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーで精製してN−ベンジルオキサリルメタクリルアミ
ド3.99を無色、透明粘稠液体として得た。
収率32%。
実施例7
実施例1と同じ反応容器内に、フェノール23゜59(
0,25モル)、ピリジン4.0y(0,05モル)お
よび酢酸エチル25.09を充填し、反応容器を水浴で
10℃に冷却した。2−イソプロペニルオキサゾリン−
4,5−ジオン塩酸塩8.89(0,05モル)をそこ
に30分間、撹はん下に反応温度を10〜20°Cに維
持しながら添加した。添加完了後、酢酸エチルおよびフ
ェノールを減圧蒸留で除去した。反応混合物をベンゼン
300m(および水1000xQと共に振とうし、ベン
ゼン層を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、つ
いでベンゼンを除去した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製してN−フェニルオキサリルメタクリル
アミド2.59を白色粉末として得た。
0,25モル)、ピリジン4.0y(0,05モル)お
よび酢酸エチル25.09を充填し、反応容器を水浴で
10℃に冷却した。2−イソプロペニルオキサゾリン−
4,5−ジオン塩酸塩8.89(0,05モル)をそこ
に30分間、撹はん下に反応温度を10〜20°Cに維
持しながら添加した。添加完了後、酢酸エチルおよびフ
ェノールを減圧蒸留で除去した。反応混合物をベンゼン
300m(および水1000xQと共に振とうし、ベン
ゼン層を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、つ
いでベンゼンを除去した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製してN−フェニルオキサリルメタクリル
アミド2.59を白色粉末として得た。
収率21%、融点83〜85℃。
IRν・3250(N−H)、3180(C−1()、
+ 785(C−0)、1725(C−0)、1690
(C= O)、1650(C=C)、I 48’O(C
−1−(。
+ 785(C−0)、1725(C−0)、1690
(C= O)、1650(C=C)、I 48’O(C
−1−(。
変形)、690(C−)t、変形)O「1実施例8
実施例1で用いた同様な反応容器内に、!、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート32.59(0゜25モル)
、ピリジン4.09(0,05モル)およびクロロホル
ム3009を充填し、反応容器を水浴で10℃に冷却し
た。2−イソプロペニルオキサゾリン−4,5−ジオン
塩酸塩8.8g(0,05モル)をそこに30分間、撹
はん下に反応温度を10〜20℃に維持しながら添加し
た。添加完了後、得られた混合物を室温で2時間撹はん
した。
キシエチルメタクリレート32.59(0゜25モル)
、ピリジン4.09(0,05モル)およびクロロホル
ム3009を充填し、反応容器を水浴で10℃に冷却し
た。2−イソプロペニルオキサゾリン−4,5−ジオン
塩酸塩8.8g(0,05モル)をそこに30分間、撹
はん下に反応温度を10〜20℃に維持しながら添加し
た。添加完了後、得られた混合物を室温で2時間撹はん
した。
反応混合物をクロロホルム500R&および水1000
酎と共に5分間振とうし、クロロホルム層を分離し、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ついでクロロホルムを
除去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製
してN−[(2−メタクリルロイルオキシエチル)オキ
サリル]メタクリルアミド3.49を無色、透明粘稠性
液体として得た。
酎と共に5分間振とうし、クロロホルム層を分離し、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ついでクロロホルムを
除去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製
してN−[(2−メタクリルロイルオキシエチル)オキ
サリル]メタクリルアミド3.49を無色、透明粘稠性
液体として得た。
収率25%、屈折率1.490゜
IRν:3370(N−H)、1170(C=C)、1
760(C=C)、l 730(C=C)、1700(
C=C)、1640(C=C)、l 500(C−H。
760(C=C)、l 730(C=C)、1700(
C=C)、1640(C=C)、l 500(C−H。
変形)、1160(C−0、変形)c+y−’実施例9
実施例1で用いた同様な反応容器内に、ステアリルアル
コール13.59C0,05モル)、ピリジン4.09
(0,05モル)および酢酸エチル13o、o9を充填
し、反応容器を水浴で20℃に維持した。2−イソプロ
ペニルオキサゾリン−4゜5−ジオン塩酸塩8.89(
0,05モル)をそこに30分間、撹はん下に反応温度
を20〜30℃に維持しながら添加した。添加完了後、
得られた混合物をクロロホルム300m17および水1
000x&と共に5分間振とうし、クロロホルム層を分
離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ついでクロロ
ホルムを除去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製してN−ステアリルオキサリルメタクリルアミ
ド08gを白色固体として得た。
コール13.59C0,05モル)、ピリジン4.09
(0,05モル)および酢酸エチル13o、o9を充填
し、反応容器を水浴で20℃に維持した。2−イソプロ
ペニルオキサゾリン−4゜5−ジオン塩酸塩8.89(
0,05モル)をそこに30分間、撹はん下に反応温度
を20〜30℃に維持しながら添加した。添加完了後、
得られた混合物をクロロホルム300m17および水1
000x&と共に5分間振とうし、クロロホルム層を分
離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ついでクロロ
ホルムを除去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製してN−ステアリルオキサリルメタクリルアミ
ド08gを白色固体として得た。
収率4%、融点67〜70℃
IRν:3300(N−H)、2950(C−)1)、
1820(C=C)、1765(C=C)、1720(
C= O)、1470(C−H,変形)、1170(C
−〇、変形)cx−1 実施例IO 実施例1で用いた同様な反応容器内に、メタノール16
09(5モル)およびピリジン39.69(0,5モル
)を充填し、反応容器を水浴で0°Cに冷却した。2−
イソプロペニルオキサゾリン−4,5−ジオン塩酸塩8
7.89(0,5モル)をそこに30分間、撹はん下に
反応温度を0−10℃に維持しながら滴下した。添加完
了後、過剰のメタノールを減圧蒸留で除去した。反応、
混合物を酢酸エチル30(I/jおよび水1000dと
共に振とうし、有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、ついで酢酸エチルを除去した。残渣をノリ
カゲルクロマトグラフ、r−で精製してN−メトキサリ
ルメタクリルアミド16.19を白色結晶として得た。
1820(C=C)、1765(C=C)、1720(
C= O)、1470(C−H,変形)、1170(C
−〇、変形)cx−1 実施例IO 実施例1で用いた同様な反応容器内に、メタノール16
09(5モル)およびピリジン39.69(0,5モル
)を充填し、反応容器を水浴で0°Cに冷却した。2−
イソプロペニルオキサゾリン−4,5−ジオン塩酸塩8
7.89(0,5モル)をそこに30分間、撹はん下に
反応温度を0−10℃に維持しながら滴下した。添加完
了後、過剰のメタノールを減圧蒸留で除去した。反応、
混合物を酢酸エチル30(I/jおよび水1000dと
共に振とうし、有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、ついで酢酸エチルを除去した。残渣をノリ
カゲルクロマトグラフ、r−で精製してN−メトキサリ
ルメタクリルアミド16.19を白色結晶として得た。
収率19%、融点48.0〜49.5℃IRν 330
0(N−1()、 l 760(C=C)、1740(
C−0)、 1695(C=C)、1640(C= C
)、1500 (N−H,変形)C「1実施例11 実施例IOと同様な方法により、n−ブタノール148
.29(2モル)、ピリジン15.89(02モル)お
よび2−イソプロペニルオキサゾリン−4,5−ジオン
塩酸塩35.19(0,2モル)を用い、N−n−プト
キサリルメタクリルアミドl、3gを無色の液体として
生成した。収率3%、反射率1.4693 IRν・3300(N−H)、1760(C=C)、1
730(C=C)、l 695(C=C)、1635(
C=C)、1500 (N−H,変形)ci−’実施例
12 実施例10と同様な方法により、アリルアルコール87
.19(I,5モル)、ピリノン11.99(0,15
モル)および2−イソプロペニルオキサゾリン−4,5
−ジオン塩酸塩26.39(0,15モル)を用い、N
−アリロキサリルメタクリルアミド46gを無色の液体
として生成した。収率16%、反射率1.4931 1Rν:3300(N−H)、l 760(cmo)、
1730(C=0)、1695(C=C)、1650(
C= C)、 1 6 3 5(C=C)、 1
500(さi−H。
0(N−1()、 l 760(C=C)、1740(
C−0)、 1695(C=C)、1640(C= C
)、1500 (N−H,変形)C「1実施例11 実施例IOと同様な方法により、n−ブタノール148
.29(2モル)、ピリジン15.89(02モル)お
よび2−イソプロペニルオキサゾリン−4,5−ジオン
塩酸塩35.19(0,2モル)を用い、N−n−プト
キサリルメタクリルアミドl、3gを無色の液体として
生成した。収率3%、反射率1.4693 IRν・3300(N−H)、1760(C=C)、1
730(C=C)、l 695(C=C)、1635(
C=C)、1500 (N−H,変形)ci−’実施例
12 実施例10と同様な方法により、アリルアルコール87
.19(I,5モル)、ピリノン11.99(0,15
モル)および2−イソプロペニルオキサゾリン−4,5
−ジオン塩酸塩26.39(0,15モル)を用い、N
−アリロキサリルメタクリルアミド46gを無色の液体
として生成した。収率16%、反射率1.4931 1Rν:3300(N−H)、l 760(cmo)、
1730(C=0)、1695(C=C)、1650(
C= C)、 1 6 3 5(C=C)、 1
500(さi−H。
変形)C11−1
実施例13
実施例10と同様な方法により、プロパルギルアルコー
ル84.19(I,5モル)、ピリジン11.99(0
,15モル)および2−イソプロペニルオキサゾリン−
4,5−ジオン塩酸塩26.39(0゜15モル)を用
い、N−プロパルギロキサリルメタクリルアミド4.0
9を白色針状結晶として生成した。収率14%、融点3
6.5〜38.0℃。
ル84.19(I,5モル)、ピリジン11.99(0
,15モル)および2−イソプロペニルオキサゾリン−
4,5−ジオン塩酸塩26.39(0゜15モル)を用
い、N−プロパルギロキサリルメタクリルアミド4.0
9を白色針状結晶として生成した。収率14%、融点3
6.5〜38.0℃。
IRν:3450(C=CH)、3300(N−1−1
)、2150(C=C)、1770(C=C)、174
0(C=C)、1695(C=C)、1640(C=C
)、1500 (N−H1変形)CI−’実施例14 実施例1で用いたと同様な反応容器内に、2−プロパツ
ール+89(0,3モル)およびジオキサン200tC
を充填し、反応容器を油浴で75℃に加熱した。金属ナ
トリウム3.49CO,15モル)をそこに撹はんしな
がら滴下した。金属ナトリウムの消費が完了した後、反
応系を水浴で10℃に冷却した。2−イソプロペニルオ
キサゾリン−4゜5−ジオン塩酸塩26.39(0,1
5モル)をそこに30分間、撹はん下に温度を0−10
℃に維持しながら添加した。添加完了後、反応混合物を
酢酸エチル301)+gおよび水1000++2と共に
振とうし、有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、ついで酢酸エチルを除去した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製してN−イソプロボキサリ
ルメタクリルアミド1.59を無色、透明の液体として
得た。収率5%、反射率1467.1 1 Itン:3300(N−)−1)、1760(C=
C)、1740(C=C)、1695(C=C)、16
40(C= C)、l 500 (N−H,変形)cm
−’実施例15 実施例1で用いたと同様な反応容器内に、テトラヒドロ
フランlOOλQおよびカリウムt−ブトキシドl 1
.29(0,1モル)を室温で充填した。
)、2150(C=C)、1770(C=C)、174
0(C=C)、1695(C=C)、1640(C=C
)、1500 (N−H1変形)CI−’実施例14 実施例1で用いたと同様な反応容器内に、2−プロパツ
ール+89(0,3モル)およびジオキサン200tC
を充填し、反応容器を油浴で75℃に加熱した。金属ナ
トリウム3.49CO,15モル)をそこに撹はんしな
がら滴下した。金属ナトリウムの消費が完了した後、反
応系を水浴で10℃に冷却した。2−イソプロペニルオ
キサゾリン−4゜5−ジオン塩酸塩26.39(0,1
5モル)をそこに30分間、撹はん下に温度を0−10
℃に維持しながら添加した。添加完了後、反応混合物を
酢酸エチル301)+gおよび水1000++2と共に
振とうし、有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、ついで酢酸エチルを除去した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製してN−イソプロボキサリ
ルメタクリルアミド1.59を無色、透明の液体として
得た。収率5%、反射率1467.1 1 Itン:3300(N−)−1)、1760(C=
C)、1740(C=C)、1695(C=C)、16
40(C= C)、l 500 (N−H,変形)cm
−’実施例15 実施例1で用いたと同様な反応容器内に、テトラヒドロ
フランlOOλQおよびカリウムt−ブトキシドl 1
.29(0,1モル)を室温で充填した。
混合物に、メタクリルアミド8.59(0,1モル)を
室温で添加し、ついでジエチルオキサレート14.69
(0,1モル)を滴下した。反応混合物は白色ペースト
になと共に僅かに発熱した。混合物を室温で3時間撹は
んし、ついでエタノール100x(および酢酸6.09
(0,1モル)を添加した。
室温で添加し、ついでジエチルオキサレート14.69
(0,1モル)を滴下した。反応混合物は白色ペースト
になと共に僅かに発熱した。混合物を室温で3時間撹は
んし、ついでエタノール100x(および酢酸6.09
(0,1モル)を添加した。
沈澱物をろ過し、水200i17をそこに添加した。
分離した有機相を減圧下に濃縮させてN 、 N ’−
ビス(l−オキソ−2−ブテニル)エタンジアミド5゜
49を得た。収率48.3%、融点159〜160℃ I nν:3250(N−H)、l 720(C=C)
、1690(C=C)、l 670(C=C)、162
5(C= C)cx−’ 実施例16 水素化ナトリウム2.09<油中60%、50ミリモル
)をジエチルエーテルで洗浄し、ジエチルエーテル20
1e中に懸濁した。得られた懸濁液、メタクリルアミド
4.35g(50ミリモル)を室、星で添加し、ついで
30分間撹はんした。2−イソプロペニルオキサゾリン
−4,5−ジオン塩酸塩8.759(50ミリモル)を
そこに添加し、得られた混合物を1時間撹はんし、つい
で慎重に水中に注いだ。沈澱物をろ取し、アセトンで洗
浄してN、N’−ビス(l−オキソ−2−ブテニル)エ
タンジアミド50巧を得た。収率0.4% 実施例17 実施例1で用いたと同様な反応容器内に、テトラヒドロ
フラン50xQ、メタクリアミド4.269(50ミリ
モル)およびエトキサリルクロリド6゜83g(50ミ
リモル)を充填し、4時間加熱還流させた。有機溶媒を
減圧下に留去して、N−エトキサリルメタクリルアミド
6.59を得た。収率70.6%。
ビス(l−オキソ−2−ブテニル)エタンジアミド5゜
49を得た。収率48.3%、融点159〜160℃ I nν:3250(N−H)、l 720(C=C)
、1690(C=C)、l 670(C=C)、162
5(C= C)cx−’ 実施例16 水素化ナトリウム2.09<油中60%、50ミリモル
)をジエチルエーテルで洗浄し、ジエチルエーテル20
1e中に懸濁した。得られた懸濁液、メタクリルアミド
4.35g(50ミリモル)を室、星で添加し、ついで
30分間撹はんした。2−イソプロペニルオキサゾリン
−4,5−ジオン塩酸塩8.759(50ミリモル)を
そこに添加し、得られた混合物を1時間撹はんし、つい
で慎重に水中に注いだ。沈澱物をろ取し、アセトンで洗
浄してN、N’−ビス(l−オキソ−2−ブテニル)エ
タンジアミド50巧を得た。収率0.4% 実施例17 実施例1で用いたと同様な反応容器内に、テトラヒドロ
フラン50xQ、メタクリアミド4.269(50ミリ
モル)およびエトキサリルクロリド6゜83g(50ミ
リモル)を充填し、4時間加熱還流させた。有機溶媒を
減圧下に留去して、N−エトキサリルメタクリルアミド
6.59を得た。収率70.6%。
参考例1
セロソルブアセテート1509と酢酸ブチル25.09
の混合物を100℃に保持し、これにN−エトキザリル
メタクリルアミド8 、89、メチルメタクリレート8
.89、スチレンt2.U、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート11.89、r+−ブチルアクリレート8.
29およびアゾビスイソブチロニトリル1.09の混合
物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、アゾビスイソ
ブチロニトリル059とセロソルブアセテート100g
の混合物を30分で滴下し、3時間エージングを行って
ポリマーを含む淡黄色の反応混合物を得た。不揮発分含
量50%。分子量(ゲルパーミエイションクロマトグラ
フィ(GPC)で測定)7,700゜参考例2 セロソルブアセテート15.09と酢酸ブチル25、O
gの混合物を100℃に保持し、これにN−エトキサリ
ルメタクリルアミド889、メチルメタクリレート8.
8g、スチレン6.99、メタクリル酸11.89、n
−ブチルアクリレート13.79およびアゾビスイソブ
チロニトリル1.09の混合物を2時間かけて滴下した
。滴下終了後、アゾビスイソブチロニトリル0.59と
セロソルブアセテート10.09の混合物を30分で滴
下し、3時間エージングを行ってポリマーを含む淡黄色
の反応混合物を得た。不揮発分含量50%。分子1k(
GPCで測定)3.900゜ 参考例3 セロソルブアセテート5.09と酢酸ブチル3゜89の
混合物を100℃に保持し、これにN−エトキサリルメ
タクリルアミド7.59、セロソルブアセテート7.5
gおよびアゾビスイソブチロニトリル0.159の混合
物を2時間かけて滴下した。
の混合物を100℃に保持し、これにN−エトキザリル
メタクリルアミド8 、89、メチルメタクリレート8
.89、スチレンt2.U、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート11.89、r+−ブチルアクリレート8.
29およびアゾビスイソブチロニトリル1.09の混合
物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、アゾビスイソ
ブチロニトリル059とセロソルブアセテート100g
の混合物を30分で滴下し、3時間エージングを行って
ポリマーを含む淡黄色の反応混合物を得た。不揮発分含
量50%。分子量(ゲルパーミエイションクロマトグラ
フィ(GPC)で測定)7,700゜参考例2 セロソルブアセテート15.09と酢酸ブチル25、O
gの混合物を100℃に保持し、これにN−エトキサリ
ルメタクリルアミド889、メチルメタクリレート8.
8g、スチレン6.99、メタクリル酸11.89、n
−ブチルアクリレート13.79およびアゾビスイソブ
チロニトリル1.09の混合物を2時間かけて滴下した
。滴下終了後、アゾビスイソブチロニトリル0.59と
セロソルブアセテート10.09の混合物を30分で滴
下し、3時間エージングを行ってポリマーを含む淡黄色
の反応混合物を得た。不揮発分含量50%。分子1k(
GPCで測定)3.900゜ 参考例3 セロソルブアセテート5.09と酢酸ブチル3゜89の
混合物を100℃に保持し、これにN−エトキサリルメ
タクリルアミド7.59、セロソルブアセテート7.5
gおよびアゾビスイソブチロニトリル0.159の混合
物を2時間かけて滴下した。
滴下終了後、アゾビスイソブチロニトリル0.079と
セロソルブアセテ−)6.29の混合物を30分で滴下
し、3時間エージングを行ってポリマーを含む淡黄色の
反応混合物を得た。不揮発分含量19%。分子量(G
P Cで測定)3.500゜参考例4〜12 ジオキサン1.639と酢酸ブチル0.709の混合物
を100℃に保持し、これにN−(置換オ千すリル)ア
ルキルアクリルアミド(I)1.009とアゾビスイソ
ブチロニトリル0.019を加え、同温度で3時間撹は
んした。得られたポリマーとその物性を第1表に示す。
セロソルブアセテ−)6.29の混合物を30分で滴下
し、3時間エージングを行ってポリマーを含む淡黄色の
反応混合物を得た。不揮発分含量19%。分子量(G
P Cで測定)3.500゜参考例4〜12 ジオキサン1.639と酢酸ブチル0.709の混合物
を100℃に保持し、これにN−(置換オ千すリル)ア
ルキルアクリルアミド(I)1.009とアゾビスイソ
ブチロニトリル0.019を加え、同温度で3時間撹は
んした。得られたポリマーとその物性を第1表に示す。
参考例13〜21
ジオキサン1.639と酢酸ブチル0.709の1昆合
物を100℃に保持し、これにN−(置換オキサリル)
アルキルアクリルアミド(I)0.339、メチルメタ
クリレート0.339およびアゾビスイソブチロニトリ
ル0019を加え、同温度で3時間撹はんした。得られ
たポリマーとその物性を第1表に示す。
物を100℃に保持し、これにN−(置換オキサリル)
アルキルアクリルアミド(I)0.339、メチルメタ
クリレート0.339およびアゾビスイソブチロニトリ
ル0019を加え、同温度で3時間撹はんした。得られ
たポリマーとその物性を第1表に示す。
第1表
CIll・C(C11,)−C(=O)−Nil−C(
=O)−C(・0)−OR’ (lR=cH,)参考
例 N−(置換j 4 ! 11ル) 不揮発分
分子量 My/Mn番号 フルNルアクリル
7ミド (%) (Mn
)(I:R=CI+3)(R”) 本七本0すv−4−C1ls
20.Q 3.540
3.285 −(CIl、)、CIl3
16.8 3.970
13.136 −CIl、Cl1=CI
+、 22.4 4゜93
0 4.207 −CIl、CミCI
+ 20.1 6.350 28
08 /C11・ 16・92・5501・9
7−CIl \。H3 12−CIl、C1l□oc−c=co、
(ケ゛ル化生成)0 C1+。
=O)−C(・0)−OR’ (lR=cH,)参考
例 N−(置換j 4 ! 11ル) 不揮発分
分子量 My/Mn番号 フルNルアクリル
7ミド (%) (Mn
)(I:R=CI+3)(R”) 本七本0すv−4−C1ls
20.Q 3.540
3.285 −(CIl、)、CIl3
16.8 3.970
13.136 −CIl、Cl1=CI
+、 22.4 4゜93
0 4.207 −CIl、CミCI
+ 20.1 6.350 28
08 /C11・ 16・92・5501・9
7−CIl \。H3 12−CIl、C1l□oc−c=co、
(ケ゛ル化生成)0 C1+。
(つづき)
参考例 N−(置換01鴨) 不揮発分 分子量
Mv/Mn番号 アルキルアクリルアミド
(2) (輩n)(I:
R=CH3XR’ ) コ本°リマー 13 〜CI1.
Ht、4
5.790 2.8514
−(CIll)ICI+3 18.0
6.190 2.5415
−C1l、CH:(Jlt
15.3 g、370 2.9
216 −C1l、C=CII
15.1 7.580
2.9121 −CIl、CII、QC−C=C
11,(ケ゛ル化生成)ll OC1+。
Mv/Mn番号 アルキルアクリルアミド
(2) (輩n)(I:
R=CH3XR’ ) コ本°リマー 13 〜CI1.
Ht、4
5.790 2.8514
−(CIll)ICI+3 18.0
6.190 2.5415
−C1l、CH:(Jlt
15.3 g、370 2.9
216 −C1l、C=CII
15.1 7.580
2.9121 −CIl、CII、QC−C=C
11,(ケ゛ル化生成)ll OC1+。
参考例22
パーコーターを用いて、参考例3.6.7、lOおよび
11で得たポリマーをブリキ板上に塗布し、ついで10
0℃で3時間加熱して膜厚20μの塗膜を得た。塗膜に
ついて鉛筆硬度試験を行い(剥離を生じない最大硬度)
、その結果を第2表に示す。
11で得たポリマーをブリキ板上に塗布し、ついで10
0℃で3時間加熱して膜厚20μの塗膜を得た。塗膜に
ついて鉛筆硬度試験を行い(剥離を生じない最大硬度)
、その結果を第2表に示す。
第2表
−CHIC二CH7tlB
−C、l−1、3!(B
−CH2CH=CH,6HB
特許出願人日本ペイント株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ): CH_2=CR−CO−NH−CO−CO−OR′(式
中、Rは低級アルキル基、R′は炭化水素基を示す。)
で表されるN−(置換オキサリル)アルキルアクリルア
ミド。 2、炭化水素基がアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基ま
たは不飽和基置換オキシアルキル基である特許請求の範
囲第1項記載のN−(置換オキサリル)アルキルアクリ
ルアミド。 3、α−低級アルキルアクリルアミドと式(II)X−C
O−CO−OR′ (式中、R′は炭化水素基、Xはハロゲン原子を示す。 )で表されるオキサリルモノハライドモノエステルを反
応させることを特徴とする、式( I ):CH_2=C
R−CO−NH−CO−CO−OR′(式中、Rは低級
アルキル基を示す。R′前記と同意義。)で表されるN
−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミドの製法。 4、反応をハロゲン化水素捕捉剤の存在下に実施する特
許請求の範囲第3項記載の製法。 5、α−低級アルキルアクリルアミドと式(III)X−
CO−CO−X (式中、Xはハロゲン原子を示す。)で表されるオキサ
リルジハライドを反応させて式(IV):▲数式、化学式
、表等があります▼ (式中、Rは低級アルキル基を示す。Xは前記と同意義
。)で表されるオキサゾリンジオン・ヒドロハライドを
製し、これを式(V): R′−OH (式中、R′は炭化水素基を示す。)で表されるアルコ
ールと反応させることを特徴とする、式( I ):CH
_2=CR−CO−NH−CO−CO−OR′(式中、
RおよびR′は前記と同意義。)で表されるN−(置換
オキサリル)アルキルアクリルアミドの製法。 6、第2段の反応をハロゲン化水素捕捉剤の存在下に実
施する特許請求の範囲第5項記載の製法。 7、α−低級アルキルアクリルアミドと式(IV)R′O
−CO−CO−OR′ (式中、R′は炭化水素基を示す。)で表されるオキサ
リルジエステルを反応させることを特徴とする、式(
I ): CH_2=CR−CO−NH−CO−CO−OR′(式
中、Rは低級アルキル基を示す。R′は前記と同意義。 )で表されるN−(置換オキサリル)アルキルアクリル
アミドの製法。 8、反応をハロゲン化水素捕捉剤の存在下に実施する特
許請求の範囲第7項記載の製法。 9、式(VII): (CH_2=CR−CO−NH−CO−)_2(式中、
Rは低級アルキル基を示す。)で表されるN−(置換オ
キサリル)アルキルアクリルアミド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-97760 | 1986-04-25 | ||
JP9776086 | 1986-04-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6345246A true JPS6345246A (ja) | 1988-02-26 |
Family
ID=14200829
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62102598A Pending JPS6345245A (ja) | 1986-04-25 | 1987-04-25 | N−(置換オキサリル)アクリルアミドおよびその製法 |
JP10259987A Pending JPS6345246A (ja) | 1986-04-25 | 1987-04-25 | N−(置換オキサリル)アルキルアクリルアミドおよびその製法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62102598A Pending JPS6345245A (ja) | 1986-04-25 | 1987-04-25 | N−(置換オキサリル)アクリルアミドおよびその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS6345245A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5591855B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物前駆体 |
JP5591857B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | (メタ)アクリルアミド化合物前駆体 |
JP5591858B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | (メタ)アクリルアミド化合物前駆体 |
JP5591856B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | (メタ)アクリルアミド化合物前駆体 |
JP6295702B2 (ja) * | 2014-02-14 | 2018-03-20 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 反応性単量体、およびそれを用いた重合性組成物 |
-
1987
- 1987-04-25 JP JP62102598A patent/JPS6345245A/ja active Pending
- 1987-04-25 JP JP10259987A patent/JPS6345246A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6345245A (ja) | 1988-02-26 |
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