JPS6345220A - Platelet adhesion suppresser - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain a platelet adhesion suppresser useful for arteriosclerosis, etc., containing a specific carbostyril derivative or a salt thereof as an active ingredient. CONSTITUTION:A platelet adhesion suppresser containing a compound shown by formula 1 [R is (substituted) unsaturated heterocyclic residue containing 1-4 hetero atoms selected from N, O, S, etc.; R<1> is H, lower alkyl or phenyl lower alkyl; R<2> is H, halogen, etc.; Z is O, S, group -NH-, etc.; A is lower alkylene; X is O, S group -SO-, etc.; n is 0 or 1; carbon-carbon bond of carbostyril skeleton at 3- and 4-positions is single or double bond] or a salt thereof as an active ingredient. The compound shown formula 1 is obtained by various method and a compound shown by formula 1a is obtained by reacting a compound shown by formula 2 (Za is O, S, etc.) with a compound shown by formula 3 (X<1> is halogen, etc.) in the presence of NaOH, etc., according to the reaction formula.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、血小板粘着抑制剤に関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to a platelet adhesion inhibitor.

発明の開示 一般式 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
から選ばれたベテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フェ
ニル基；フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニル基ニジク
ロアルキル基；フェニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフェニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フェニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。Ｒ１は水
素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を
示す。Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキルス
ルホニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基示す。Disclosure of the Invention General formula [wherein R represents an unsaturated heterocyclic residue having 1 to 4 beta atoms selected from the group consisting of nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms. On the heterocycle, a group consisting of an oxo group; a thio group; a phenyl group; a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a lower alkylamino group, a carboxy group, and a lower alkoxy group on the phenyl ring. A phenyl group having 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a dichloroalkyl group; a phenylthio group; a lower alkyl group; having 1 to 2 substituents selected from the group consisting of an amino group, a lower alkylamino group, and a carboxyl group. lower alkyl group;
Amino group; hydroxyl group; cyano group; carboxyl group; lower alkoxycarbonyl group; phenyl lower alkyl group that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring; phenyl that may have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring It may have 1 to 3 substituents selected from the group consisting of sulfonyl group; lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl group; lower alkylthio group; lower alkenyl group; lower alkoxy group and pyridyl group. R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl lower alkyl group. R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, a lower alkoxy group, or a hydroxyl group.

Ｚは酸素原子、硫黄原子、基−Ｃ−１ 級アルキル基）又は基−ＮＨ−を示す。Ａは低級アルキ
レン基を示す。Ｘは酸素原子、硫黄原子、基−８〇−又
は基−５Ｏ２−を示す。ｎはＯ又は１を示す。カルボス
チリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は一重結合又は
二重結合を示す。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩は、血小
板粘着抑制作用を有し、例えば動脈硬化症、虚血性心疾
患、慢性動脈閉塞症、急性又は慢性の腎炎等の治療及び
予防薬として、或は人工透析時や人工臓器埋め込み時等
に使用し得る。Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a group (C-1-class alkyl group), or a group -NH-. A represents a lower alkylene group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom, a group -80- or a group -5O2-. n represents O or 1. The carbon-carbon bonds at the 3rd and 4th positions of the carbostyril skeleton represent a single bond or a double bond. ] The carbostyril derivative represented by or its salt has a platelet adhesion inhibitory effect, and can be used as a therapeutic and preventive agent for, for example, arteriosclerosis, ischemic heart disease, chronic arterial occlusion disease, acute or chronic nephritis, etc. It can be used during artificial dialysis, artificial organ implantation, etc.

上記一般式（１）において示される６基は、各々次の通
りである。The six groups shown in the above general formula (1) are as follows.

低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、
ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基を例示できる。Lower alkyl groups include methyl, ethyl, propyl,
Isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl,
Examples include straight chain or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as hexyl group.

ハロ低級アルキル基としては、クロロメチル、ブロモメ
チル、ヨードメチル、トリフルオロメチル、２−フルオ
ロエチル、２．２−ジフルオロエチル、２，２．２−ト
リフルオロエチル、３−クロロプロピル、４−クロロブ
チル、３，４−ジクロロブチル、３−フルオロペンチル
、２．３．４−トリフルオロペンチル、２．３−ジクロ
ロヘキシル、６．６−ジブロモヘキシル基等の置換基と
してハロゲン原子を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。Halo lower alkyl groups include chloromethyl, bromomethyl, iodomethyl, trifluoromethyl, 2-fluoroethyl, 2,2-difluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 3-chloropropyl, 4-chlorobutyl, 3 , 4-dichlorobutyl, 3-fluoropentyl, 2.3.4-trifluoropentyl, 2.3-dichlorohexyl, 6.6-dibromohexyl, etc., which have 1 to 3 halogen atoms as a substituent. Examples include 1 to 6 straight chain or branched alkyl groups.

ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
及び沃素原子を例示できる。、低級アルキルアミノ基と
しては、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ
、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシル
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ−ｎ−プ
ロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミノ、ジエチルアミノ
、ジエチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ
、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−
へキシルアミノ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を１又は２個有するアミノ基を
例示できる。Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. , lower alkylamino groups include methylamino, ethylamino, propylamino, tert-butylamino, pentylamino, hexylamino, dimethylamino, diethylamino, di-n-propylamino, di-n-butylamino, diethylamino, diethylamino , N-methyl-N-n-butylamino, N-methyl-N-pentylamino, N-ethyl-N-
Examples of substituents such as hexylamino groups include amino groups having one or two linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.

低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる。Examples of lower alkoxy groups include those having 1 to 1 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, tert-butoxy, pentyloxy, and hexyloxy groups.
6, a straight chain or branched alkoxy group can be exemplified.

シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロアルキ
ル基を例示できる。Examples of the cycloalkyl group include cycloalkyl groups having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl.

アミノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基な
る群から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル
基としては、アミノメチル、２−メチルアミノエチル、
１−エチルアミノエチル、３−プロピルアミノプロピル
、４−ｔｅｒｔ−ブチルアミノブチル、１．１−ジメチ
ル−２−ペンチルアミノエチル、５−へキシルアミノペ
ンチル、６−シメチルアミノヘキシル、ジメチルアミノ
メチル、２−ジエチルアミノエチル、１−ジ−ｎ−プロ
ピルアミノエチル、３−ジ−ｎ−ブチルアミノプロピル
、４−ジエチルアミノエチル、１，１−ジメチル−２−
ジエチルアミノエチル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブ
チルアミノ）ペンチル、６−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチ
ルアミノ）ヘキシル、２−メチル−５−（Ｎ−エチル−
Ｎ−へキシルアミノ）プロピル、カルボキシメチル、２
−力ルボキシエチル、１−カルボキシエチル、３−カル
ボキシプロピル、４−カルボキシブチル、１゜１−ジメ
チル−２−カルボキシエチル、５−カルボキシペンチル
、６−カルボキシヘキシル、２−メチル−３−カルボキ
シプロピル、２−アミノ−２−カルボキシエチル、１−
ジメチルアミノ−１−カルボキシメチル、３−アミノ−
２−カルボキシプロピル基等の炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群か
ら選ばれた置換基を１〜２個有する炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。Examples of the lower alkyl group having 1 to 2 substituents selected from the group consisting of an amino group, a lower alkylamino group, and a carboxyl group include aminomethyl, 2-methylaminoethyl,
1-ethylaminoethyl, 3-propylaminopropyl, 4-tert-butylaminobutyl, 1.1-dimethyl-2-pentylaminoethyl, 5-hexylaminopentyl, 6-dimethylaminohexyl, dimethylaminomethyl, 2-diethylaminoethyl, 1-di-n-propylaminoethyl, 3-di-n-butylaminopropyl, 4-diethylaminoethyl, 1,1-dimethyl-2-
Diethylaminoethyl, 5-(N-methyl-N-n-butylamino)pentyl, 6-(N-methyl-N-pentylamino)hexyl, 2-methyl-5-(N-ethyl-
N-hexylamino)propyl, carboxymethyl, 2
- carboxyethyl, 1-carboxyethyl, 3-carboxypropyl, 4-carboxybutyl, 1゜1-dimethyl-2-carboxyethyl, 5-carboxypentyl, 6-carboxyhexyl, 2-methyl-3-carboxypropyl, 2 -amino-2-carboxyethyl, 1-
dimethylamino-1-carboxymethyl, 3-amino-
A straight chain or branched chain having 1 to 6 carbon atoms having 1 to 2 substituents selected from the group consisting of a straight chain or branched alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms such as 2-carboxypropyl group, and a carboxyl group. Examples include branched alkyl groups.

低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル、ニドキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル
基を例示できる。Examples of lower alkoxycarbonyl groups include straight-chain or branched alkoxycarbonyl groups having 1 to 6 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, nidoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, and hexyloxycarbonyl groups. can be exemplified.

フェニル低級アルキル基としては、ベンジル、２−フェ
ニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプロピ
ル、４−フェニルブチル、１．１−ジメチル−２−フェ
ニルエチル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘキ
シル、２−メチル−３−フェニルブチル基等のアルキル
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であ
るフェニルアルキル基を例示できる。Examples of phenyl lower alkyl groups include benzyl, 2-phenylethyl, 1-phenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, 1.1-dimethyl-2-phenylethyl, 5-phenylpentyl, 6-phenylhexyl, Examples include phenylalkyl groups in which the alkyl moiety is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a 2-methyl-3-phenylbutyl group.

低級アルコキシ置換フェニル低級アルキル基としては、
３−メトキシベンジル、２−　（３，４−ジメトキシフ
ェニル）エチル、１−（４−エトキシフェニル）エチル
、３−　（２−プロポキシフェニル）プロピル、４−（
３−ブトキシフェニル）ブチル、１．１−ジメチル−２
−（４−ペンチルオキシフェニル）エチル、５−　（４
−へキシルオキシフェニル）ペンチル、６−　（３，４
，５−トリメトキシフェニル）ヘキシル、２−メチル−
３−（２，５−ジメトキシフェニル）プロピル基等のフ
ェニル環上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキ
シ基を１〜３個置換基として有し且つアルキル部分が炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェニ
ルアルキル基を例示できる。Lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl groups include:
3-Methoxybenzyl, 2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethyl, 1-(4-ethoxyphenyl)ethyl, 3-(2-propoxyphenyl)propyl, 4-(
3-butoxyphenyl)butyl, 1,1-dimethyl-2
-(4-pentyloxyphenyl)ethyl, 5- (4
-hexyloxyphenyl)pentyl, 6- (3,4
, 5-trimethoxyphenyl)hexyl, 2-methyl-
A phenyl ring such as a 3-(2,5-dimethoxyphenyl)propyl group has 1 to 3 linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms as substituents, and the alkyl moiety has 1 carbon number. -6 phenylalkyl groups which are straight chain or branched alkyl groups can be exemplified.

低級アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ｔｅ
ｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、へキシルチオ基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基を例示
できる。Lower alkylthio groups include methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, te
Examples include straight-chain or branched alkylthio groups having 1 to 6 carbon atoms, such as rt-butylthio, pentylthio, and hexylthio groups.

低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペンテニ
ル、２−へキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルケニル基を例示できる。Examples of lower alkenyl groups include linear or branched alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-methylallyl, 2-pentenyl, and 2-hexenyl groups. can.

フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、
ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ
基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１
〜３個有するフェニル基としては、２−クロロフェニル
、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２−フル
オロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフ
ェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモフェニル、４
−プロモフエニル、２−ヨードフェニル、３−ヨードフ
ェニル、４−ヨードフェニル、３．５−ジクロロフェニ
ル、２，６−ジクロロフェニル、３゜４−ジクロロフェ
ニル、３，４−ジフルオロフェニル、３．５−ジブロモ
フェニル、３，４．５−トリクロロフェニル、２−メチ
ルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル
、２−エチルフェニル、３−エチルフェニル、４−エチ
ルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−へキシル
フェニル、３．４−ジメチルフェニル、２．５−ジメチ
ルフェニル、３，４．５−トリメチルフェニル、２−メ
トキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシ
フェニル、２−エトキシフェニル、３−エトキシフェニ
ル、４−エトキシフェニル、４−イソプロポキシフェニ
ル、４−へキシルオキシフェニル、３，４−ジメトキシ
フェニル、３，４−ジェトキシフェニル、３，４．５−
トリメトキシフェニル、２，５−ジメトキシフェニル、
３−メチル−４−クロロフェニル、２−クロロ−６−メ
チルフェニル、２−メトキシ−３−クロロフェニル、２
−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−
ヒドロキシフェニル、３．４−ジヒドロキシフェニル、
３，４．５−トリヒドロキシフェニル、２−アミノフェ
ニル、３−アミノフェニル、４−アミノフェニル、２，
４−ジアミノフェニル、２−メチルアミノフェニル、３
−メチルアミノフェニル、４−メチルアミノフェニル、
２−エチルアミノフェニル、３−エチルアミノフェニル
、４−エチルアミノフェニル、４−イソプロピルアミノ
フェニル、４−へキシルアミノフェニル、３．４−ジメ
チルアミノフェニル、２−（ジメチルアミノ）フェニル
、３−（ジメチルアミノ）フェニル、４−（ジメチルア
ミノ）フェニル、２−（ジエチルアミノ）フェニル、３
−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）フェニル、４−　
（Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルアミノ）フェニル、４
−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−へキシルアミノ）フェニル
、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）フェニル、２−トリフ
ルオロメチルフェニル、３−（３−クロロプロピル）フ
ェニル、４−（２−フルオロエチル）フェニル、２−　
（４−クロロブチル）フェニル、３−　（３−ブロモペ
ンチル）フェニル、２−（ヨードメチル）フェニル、４
−（２，３−ジクロロヘキシル）フェニル、３−（２，
２，２−１リフルオロエチル）フェニル基等のフェニル
環上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、ハ
ロゲン原子を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１又は２
個有するアミノ基及び炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有す
るフェニル基を例示できる。Lower alkyl group, halo lower alkyl group on phenyl ring,
1 substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a lower alkylamino group, and a lower alkoxy group.
As phenyl groups having ~3, 2-chlorophenyl, 3-chlorophenyl, 4-chlorophenyl, 2-fluorophenyl, 3-fluorophenyl, 4-fluorophenyl, 2-bromophenyl, 3-bromophenyl, 4
-bromophenyl, 2-iodophenyl, 3-iodophenyl, 4-iodophenyl, 3.5-dichlorophenyl, 2,6-dichlorophenyl, 3゜4-dichlorophenyl, 3,4-difluorophenyl, 3.5-dibromophenyl, 3,4.5-trichlorophenyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 2-ethylphenyl, 3-ethylphenyl, 4-ethylphenyl, 3-isopropylphenyl, 4-hexylphenyl, 3.4-dimethylphenyl, 2.5-dimethylphenyl, 3,4.5-trimethylphenyl, 2-methoxyphenyl, 3-methoxyphenyl, 4-methoxyphenyl, 2-ethoxyphenyl, 3-ethoxyphenyl, 4- Ethoxyphenyl, 4-isopropoxyphenyl, 4-hexyloxyphenyl, 3,4-dimethoxyphenyl, 3,4-jethoxyphenyl, 3,4.5-
trimethoxyphenyl, 2,5-dimethoxyphenyl,
3-Methyl-4-chlorophenyl, 2-chloro-6-methylphenyl, 2-methoxy-3-chlorophenyl, 2
-Hydroxyphenyl, 3-hydroxyphenyl, 4-
Hydroxyphenyl, 3,4-dihydroxyphenyl,
3,4.5-trihydroxyphenyl, 2-aminophenyl, 3-aminophenyl, 4-aminophenyl, 2,
4-diaminophenyl, 2-methylaminophenyl, 3
-methylaminophenyl, 4-methylaminophenyl,
2-ethylaminophenyl, 3-ethylaminophenyl, 4-ethylaminophenyl, 4-isopropylaminophenyl, 4-hexylaminophenyl, 3.4-dimethylaminophenyl, 2-(dimethylamino)phenyl, 3-( dimethylamino)phenyl, 4-(dimethylamino)phenyl, 2-(diethylamino)phenyl, 3
-(N-methyl-N-ethylamino)phenyl, 4-
(N-methyl-N-isopropylamino)phenyl, 4
-(N-isopropyl-N-hexylamino)phenyl, 2-(di-n-butylamino)phenyl, 2-trifluoromethylphenyl, 3-(3-chloropropyl)phenyl, 4-(2-fluoroethyl) Phenyl, 2-
(4-chlorobutyl)phenyl, 3-(3-bromopentyl)phenyl, 2-(iodomethyl)phenyl, 4
-(2,3-dichlorohexyl)phenyl, 3-(2,
Straight chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms on the phenyl ring such as 2,2-1-trifluoroethyl) phenyl group, straight chain or branched chain alkyl group having 1 to 3 halogen atoms on the phenyl ring, or Branched alkyl group, halogen atom, hydroxyl group, amino group,
1 or 2 straight or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms
An example thereof is a phenyl group having 1 to 3 substituents selected from the group consisting of an amino group and a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.

窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれ
たベテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環残基として
は、１．　２．４−トリアゾリル、イミダゾリル、１，
２，３．５−テトラゾリル、１．２，３．４−テトラゾ
リル、ピロリル、ペンスイミダゾリル、１，３．４−ト
リアゾリル、イミダゾリニル、ピリジル、ピリミジニル
、ピラゾリル、ピラゾリニル、チアゾリル、チアゾリニ
ル、１．３．４−オキサジアゾリル、１，３．４−チア
ジアゾリル、チエニル、フリル、ピラニル、イソチアゾ
リル、イソキサゾリル、ピラジニル、ピリダジニル、イ
ンドリル、イソインドリル、３Ｈ−インドリル、イント
リジニル、イミダゾリル、キノリル、イソキノリル、フ
タラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾ
リニル、シンノリニル、ピロリニル、ピラゾリニル、イ
ンドリニル、イソインドリニル基等を例示できる。The unsaturated heterocyclic residue having 1 to 4 beta atoms selected from the group consisting of nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms includes 1. 2.4-triazolyl, imidazolyl, 1,
2,3.5-tetrazolyl, 1.2,3.4-tetrazolyl, pyrrolyl, pensimidazolyl, 1,3,4-triazolyl, imidazolinyl, pyridyl, pyrimidinyl, pyrazolyl, pyrazolinyl, thiazolyl, thiazolinyl, 1.3.4 -Oxadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, thienyl, furyl, pyranyl, isothiazolyl, isoxazolyl, pyrazinyl, pyridazinyl, indolyl, isoindolyl, 3H-indolyl, intridinyl, imidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, cinnolinyl , pyrrolinyl, pyrazolinyl, indolinyl, isoindolinyl groups, and the like.

複素環上にオキソ基、チオ基、フェニル基、フェニル環
上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲン原
子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボ
キシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基
を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基、フェ
ニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アルキル
アミノ基、カルボキシ基及びカルボキシル基なる群から
選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミ
ノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、フェニル環上に置換基として水酸基
を有することのあるフェニル低級アルキル基、フェニル
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
フェニルスルホニル基、低級アルコキシ置換フェニル低
級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級アルケニル基
、低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から選ば
れた置換基を１〜３個有する上記複素環残基としては、
２−フェニルチオピロリル、２−メチルイミダゾリル、
２−エチルイミダゾリル、２−プロピルイミダゾリル、
４−ｎ−ブチルイミダゾリル、４−ペンチルイミダゾリ
ル、４−ヘキシルイミダゾリル、２−フェニルイミダゾ
リル、２−フェニルチオイミダゾリル、２−フェニルチ
オ−１゜３．５−トリアゾリル、３−フェニルチオ−１
゜２．４−トリアゾリル、１−フェニルイミダゾリル、
１−エチルイミダゾリル、５−メチルイミダゾリル、５
−メトキシベンズイミダゾリル、１−エチルベンズイミ
ダゾリル、６−ニトキシベンズイミダゾリル、７−プロ
ポキシベンズイミダゾリル、４−ｎ−ブトキシベンズイ
ミダゾリル、５−ペンチルオキシベンズイミダゾリル、
６−ヘキジルオキシベンズイミダゾリル、１−フェニル
−１゜３．４−１リアゾリル、１−フェニル−１，２゜
３．４−テトラゾリル、１−（３−ピリジル）イミダゾ
リル、１−（２−メチルフェニル）イミダゾリル、１−
（２−メトキシフェニル）イミダゾリル、１−（４−メ
チルフェニル）イミダゾリル、１−（３−エチルフェニ
ル）イミダゾリル、１−（４−プロピルフェニル）イミ
ダゾリル、１−（２−ｎ−ブチルフェニル）イミダゾリ
ル、１−（３−ペンチルフェニル）イミダゾリル、１−
（４−へキシルフェニル）イミダゾリル、１−（３−エ
トキシフェニル）イミダゾリル、１−（４−メトキシフ
ェニル）イミダゾリル、１−（４−プロポキシフェニル
）イミダゾリル、１−（２−ｎ−ブトキシフェニル）イ
ミダゾリル、１−（３−ペンチルオキシフェニル）イミ
ダゾリル、１−（４−へキシルオキシフェニル）イミダ
ゾリル、１−アリルイミダゾリル、１−（２−ブテニル
）イミダゾリル、１−（３−ブテニル）イミダゾリル、
１−（１−メチルアリル）イミダゾリル、１−（２−ペ
ンテニル）イミダゾリル、１−（２−へキセニル）イミ
ダゾリル、１−ベンジルイミダゾリル、１−（２−フェ
ニルエチル）イミダゾリル、１−　（１−フェニルエチ
ル）イミダゾリル、１−（３−フェニルプロピル）イミ
ダゾリル、１−（４−フェニルブチル）イミダゾリル、
１−（６−フェニルヘキシル）イミダゾリル、１−（５
−フェニルペンチル）イミダゾリル、１−エチル−１，
３，４−１リアゾリル、４−エチル−１，３，４−トリ
アゾリル、１−メチル−１，３゜４−トリアゾリル、４
−プロピル−１，３，４−トリアゾリル、１−ベンジル
−１，３，４−）リアゾリル、４−ベンジル−１，３，
４−１リアゾリル、１−（２−フェニルエチル”）−１
，３，４−トリアゾリル、３−メチルピラゾリル、４−
エチルピラゾリル、３−プロピルピラゾリル、３−ｎ−
ブチルピラゾリル、１−エチルピロリル、１−メチルピ
ロリル、１−プロピルピロリル、１−ｎ−ブチルピロリ
ル、１−アリルベンズイミダゾリル、１−（２−ブテニ
ル）ベンズイミダゾリル、１−（３−ブテニル）ベンズ
イミダゾリル、１−（１−メチルアリル）ベンズイミダ
ゾリル、１−（２−ペンテニル）ベンズイミダゾリル、
１−（２−ヘキセニル）ベンズイミダゾリル、１−（２
−トリフルオロメチルフェニル）イミダゾリル、１−（
４−クロロフェニル）イミダゾリル、１−（４−ヒドロ
キシフェニル）イミダゾリル、１−（４−ジメチルアミ
ノフェニル）イミダゾリル、１−　（３，４−ジフルオ
ロフェニル）イミダゾリル、１−（３，４，５−）ジク
ロロフェニル）イミダゾリル、１−　（４−（２−フル
オロエチル）フェニル〕イミダゾリル、１−　［４−（
２，３−ジクロロヘキシル）フェニル〕イミダゾリル、
１−　Ｃ３−（３−クロロプロピル）フェニル〕イミダ
ゾリル、１−（２−アミノフェニル）イミダゾリル、１
−（２−エチルアミノフェニル）イミダゾリル、１−（
４−イソプロピルアミノフェニル）イミダゾリル、１−
　（４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル
〕イミダゾリル、２−シクロへキシル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、２−シクロプロピル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、２−シクロへブチル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、２−シクロオクチル−１，３，４−オ
キサジアゾリル、１−シクロヘキシルイミダゾリル、１
−シクロベンチルー１．３．４−トリアゾリル、１−シ
クロプロピル−ベンズイミダゾリル、２−メチルチオイ
ミダゾリル、４−エチルチオイミダゾリル、２−プロピ
ルチオイミダゾリル、４−ｎ−ブチルチオイミダゾリル
、４−ペンチルチオイミダゾリル、２−ヘキシルチオイ
ミダゾリル、１−エチル−５，６−シメトキシーベンズ
イミダゾリル、２−フェニル−３，４−ジメチルピロリ
ル、１，２．３−トリメチルイミダゾリル、２．４−ジ
クロロ−１，２，４−）リアゾリル、２．４．５−トリ
クロロピリジル、３．４．５−トリメトキシピリジル、
２−　（２−アミノ−２−カルボキシエチル）イミダゾ
リル、２−メチル−３−ジメチルアミノメチルイミダゾ
リル、２−カルボキシメチル−３−メチルイミダゾリル
、３−メチル−５−ピラゾロニル、３−メチル−４−ヒ
ドロモジピラゾリル、４−アミノ−５−シアノイミダゾ
リル、４−メチル−５−エトキシカルボニルイミダゾリ
ル、４−メチル−５−カルボキシイミダゾリル、１−［
２−（３，４−ジヒドロフェニル）エチル］−１，２，
３，４−テトラゾリル、１−（３−ピリジル）−５−チ
オ−１，２，３゜４−テトラゾリル、１−フェニル−５
−チオ−１゜２、　３．４−テトラゾリル、１−（４−
フェニルスルホニル）ピロリル、１−（４−カルボキシ
フェニル）イミダゾリル基等の複素環上にオキソ基、チ
オ基、フェニル基、フェニル環上に上記低級アルキル基
、上記へロ低級アルキル基、上記ハロゲン原子、水酸基
、アミノ基、上記低級アルキルアミノ基、カルボキシ基
及び上記低級アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を
１〜３個有するフェニル基、上記シクロアルキル基、フ
ェニルチオ基、上記低級アルキル基、アミノ基、上記低
級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ば
れた置換基を１〜２個有する上記低級アルキル基、アミ
ノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、上記低級ア
ルコキシカルボニル基、上記フェニル環上に置換基とし
て水酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基、
上記フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有す
ることのあるフェニルスルホニル基、上記低級アルコキ
シ置換フェニル低級アルキル基、上記低級アルキルチオ
基、上記低級アルケニル基、上記低級アルコキシ基及び
ピリジル基からなる群から選ばれた置換基を１〜３個有
する上記複素環残基を例示できる。An oxo group, a thio group, a phenyl group on the heterocyclic ring, a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a lower alkylamino group, a carboxy group, and a lower alkoxy group on the phenyl ring. having 1 to 2 substituents selected from the group consisting of a phenyl group, a cycloalkyl group, a phenylthio group, a lower alkyl group, an amino group, a lower alkylamino group, a carboxyl group, and a carboxyl group, which have 1 to 3 substituents. Lower alkyl groups, amino groups, hydroxyl groups, cyano groups, carboxyl groups, lower alkoxycarbonyl groups, phenyl lower alkyl groups that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring, and lower alkyl groups that have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring. As the above-mentioned heterocyclic residue having 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a phenylsulfonyl group, a lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl group, a lower alkylthio group, a lower alkenyl group, a lower alkoxy group, and a pyridyl group. teeth,
2-phenylthiopyrrolyl, 2-methylimidazolyl,
2-ethylimidazolyl, 2-propylimidazolyl,
4-n-butylimidazolyl, 4-pentylimidazolyl, 4-hexylimidazolyl, 2-phenylimidazolyl, 2-phenylthioimidazolyl, 2-phenylthio-1°3.5-triazolyl, 3-phenylthio-1
゜2.4-triazolyl, 1-phenylimidazolyl,
1-ethylimidazolyl, 5-methylimidazolyl, 5
-methoxybenzimidazolyl, 1-ethylbenzimidazolyl, 6-nitoxybenzimidazolyl, 7-propoxybenzimidazolyl, 4-n-butoxybenzimidazolyl, 5-pentyloxybenzimidazolyl,
6-hexyloxybenzimidazolyl, 1-phenyl-1°3.4-1 riazolyl, 1-phenyl-1,2°3.4-tetrazolyl, 1-(3-pyridyl)imidazolyl, 1-(2-methyl phenyl)imidazolyl, 1-
(2-methoxyphenyl)imidazolyl, 1-(4-methylphenyl)imidazolyl, 1-(3-ethylphenyl)imidazolyl, 1-(4-propylphenyl)imidazolyl, 1-(2-n-butylphenyl)imidazolyl, 1-(3-pentylphenyl)imidazolyl, 1-
(4-hexylphenyl)imidazolyl, 1-(3-ethoxyphenyl)imidazolyl, 1-(4-methoxyphenyl)imidazolyl, 1-(4-propoxyphenyl)imidazolyl, 1-(2-n-butoxyphenyl)imidazolyl , 1-(3-pentyloxyphenyl)imidazolyl, 1-(4-hexyloxyphenyl)imidazolyl, 1-allylimidazolyl, 1-(2-butenyl)imidazolyl, 1-(3-butenyl)imidazolyl,
1-(1-methylallyl)imidazolyl, 1-(2-pentenyl)imidazolyl, 1-(2-hexenyl)imidazolyl, 1-benzylimidazolyl, 1-(2-phenylethyl)imidazolyl, 1-(1-phenylethyl) ) imidazolyl, 1-(3-phenylpropyl)imidazolyl, 1-(4-phenylbutyl)imidazolyl,
1-(6-phenylhexyl)imidazolyl, 1-(5
-phenylpentyl)imidazolyl, 1-ethyl-1,
3,4-1 riazolyl, 4-ethyl-1,3,4-triazolyl, 1-methyl-1,3°4-triazolyl, 4
-propyl-1,3,4-triazolyl, 1-benzyl-1,3,4-)riazolyl, 4-benzyl-1,3,
4-1 riazolyl, 1-(2-phenylethyl")-1
, 3,4-triazolyl, 3-methylpyrazolyl, 4-
Ethylpyrazolyl, 3-propylpyrazolyl, 3-n-
Butylpyrazolyl, 1-ethylpyrrolyl, 1-methylpyrrolyl, 1-propylpyrrolyl, 1-n-butylpyrrolyl, 1-allylbenzimidazolyl, 1-(2-butenyl)benzimidazolyl, 1-(3-butenyl)benzimidazolyl, 1 -(1-methylallyl)benzimidazolyl, 1-(2-pentenyl)benzimidazolyl,
1-(2-hexenyl)benzimidazolyl, 1-(2
-trifluoromethylphenyl)imidazolyl, 1-(
4-chlorophenyl)imidazolyl, 1-(4-hydroxyphenyl)imidazolyl, 1-(4-dimethylaminophenyl)imidazolyl, 1-(3,4-difluorophenyl)imidazolyl, 1-(3,4,5-)dichlorophenyl ) imidazolyl, 1-(4-(2-fluoroethyl)phenyl)imidazolyl, 1-[4-(
2,3-dichlorohexyl)phenyl]imidazolyl,
1-C3-(3-chloropropyl)phenyl]imidazolyl, 1-(2-aminophenyl)imidazolyl, 1
-(2-ethylaminophenyl)imidazolyl, 1-(
4-isopropylaminophenyl)imidazolyl, 1-
(4-(N-methyl-N-hexylamino)phenyl]imidazolyl, 2-cyclohexyl-1,3,4-oxadiazolyl, 2-cyclopropyl-1,3,4-oxadiazolyl, 2-cyclohebutyl- 1,3,4-oxadiazolyl, 2-cyclooctyl-1,3,4-oxadiazolyl, 1-cyclohexylimidazolyl, 1
-Cyclobenyl-1.3.4-triazolyl, 1-cyclopropyl-benzimidazolyl, 2-methylthioimidazolyl, 4-ethylthioimidazolyl, 2-propylthioimidazolyl, 4-n-butylthioimidazolyl, 4-pentylthioimidazolyl , 2-hexylthioimidazolyl, 1-ethyl-5,6-simethoxybenzimidazolyl, 2-phenyl-3,4-dimethylpyrrolyl, 1,2.3-trimethylimidazolyl, 2,4-dichloro-1, 2,4-) riazolyl, 2.4.5-trichloropyridyl, 3.4.5-trimethoxypyridyl,
2-(2-amino-2-carboxyethyl)imidazolyl, 2-methyl-3-dimethylaminomethylimidazolyl, 2-carboxymethyl-3-methylimidazolyl, 3-methyl-5-pyrazolonyl, 3-methyl-4-hydro Modipyrazolyl, 4-amino-5-cyanoimidazolyl, 4-methyl-5-ethoxycarbonylimidazolyl, 4-methyl-5-carboximidazolyl, 1-[
2-(3,4-dihydrophenyl)ethyl]-1,2,
3,4-tetrazolyl, 1-(3-pyridyl)-5-thio-1,2,3゜4-tetrazolyl, 1-phenyl-5
-thio-1゜2, 3.4-tetrazolyl, 1-(4-
oxo group, thio group, phenyl group on a heterocyclic ring such as phenylsulfonyl)pyrrolyl, 1-(4-carboxyphenyl)imidazolyl group, the above lower alkyl group on the phenyl ring, the above heterolower alkyl group, the above halogen atom, A phenyl group having 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, the above lower alkylamino group, a carboxy group, and the above lower alkoxy group, the above cycloalkyl group, a phenylthio group, the above lower alkyl group, and an amino group. , the above lower alkyl group having 1 to 2 substituents selected from the group consisting of the above lower alkylamino group and carboxyl group, the above lower alkyl group, amino group, hydroxyl group, cyano group, carboxyl group, the above lower alkoxycarbonyl group, the above phenyl ring phenyl lower alkyl group that may have a hydroxyl group as a substituent,
From the group consisting of the phenylsulfonyl group, which may have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring, the lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl group, the lower alkylthio group, the lower alkenyl group, the lower alkoxy group, and the pyridyl group. The above-mentioned heterocyclic residues having 1 to 3 selected substituents can be exemplified.

低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、２−メチルトリメチレン、２゜２−ジメチル
トリメチレン、１−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキレン基を例示できる。Examples of lower alkylene groups include carbon groups such as methylene, ethylene, trimethylene, 2-methyltrimethylene, 2゜2-dimethyltrimethylene, 1-methyltrimethylene, methylmethylene, ethylmethylene, tetramethylene, pentamethylene, and hexamethylene groups. Examples include 1 to 6 straight chain or branched alkylene groups.

フェニル環上に置換基として水酸基を有することのある
フェニル低級アルキル基としては、前記フェニル低級ア
ルキル基に加えて、３−ヒドロキシベンジル、２−　（
３，４〜ジヒドロキシフエニル）エチル、１−（４−ヒ
ドロキシフェニル）エチル、３−（２−ヒドロキシフェ
ニル）プロピル、４−（３−ヒドロキシフェニル）ブチ
ル、１．１−ジメチル−２−（４−ヒドロキシフェニル
）エチル、５−（４−ヒドロキシフェニル）ペンチル、
６−（３，４，５−トリヒドロキシフェニル）ヘキシル
、２−メチル−３−（２，５−ジヒドロキシフェニル）
プロピル基等のフェニル環上に水酸基を１〜３個有する
ことのある且つアルキル部分の炭素数が１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を例示
できる。Examples of phenyl lower alkyl groups that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring include 3-hydroxybenzyl, 2-(
3,4-dihydroxyphenyl)ethyl, 1-(4-hydroxyphenyl)ethyl, 3-(2-hydroxyphenyl)propyl, 4-(3-hydroxyphenyl)butyl, 1,1-dimethyl-2-(4 -hydroxyphenyl)ethyl, 5-(4-hydroxyphenyl)pentyl,
6-(3,4,5-trihydroxyphenyl)hexyl, 2-methyl-3-(2,5-dihydroxyphenyl)
Examples include phenylalkyl groups which may have 1 to 3 hydroxyl groups on the phenyl ring, such as propyl groups, and which are linear or branched alkyl groups in which the alkyl moiety has 1 to 6 carbon atoms.

フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有するこ
とのあるフェニルスルホニル基としては、２−メチルフ
ェニルスルホニル、３−メチルフェニルスルホニル、４
−メチルフェニルスルホニル、２−エチルフェニルスル
ホニル、３−イソプロピルフェニルスルホニル、４−ヘ
キシルフェニルスルホニル、２−ペンチルフェニルスル
ホニル、３゜４−ジメチルフェニルスルホニル、２．５
−ジメチルフェニルスルホニル、３．４．５−）ジメチ
ルフェニルスルホニル等のフェニル環上に置換基として
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜３個
有することのあるフェニルスルホニル基を例示できる。Examples of the phenylsulfonyl group that may have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring include 2-methylphenylsulfonyl, 3-methylphenylsulfonyl, 4-methylphenylsulfonyl,
-Methylphenylsulfonyl, 2-ethylphenylsulfonyl, 3-isopropylphenylsulfonyl, 4-hexylphenylsulfonyl, 2-pentylphenylsulfonyl, 3゜4-dimethylphenylsulfonyl, 2.5
-Dimethylphenylsulfonyl, 3.4.5-) Phenylsulfonyl which may have 1 to 3 linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms as a substituent on the phenyl ring, such as dimethylphenylsulfonyl. Examples include groups.

低級アルキルスルホニルオキシ基としては、メチルスル
ホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスル
ホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチル
スルホニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルオキシ
、ペンチルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオキ
シ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスル
ホニルオキシ基を例示できる。Examples of lower alkylsulfonyloxy groups include those having 1 to 6 carbon atoms, such as methylsulfonyloxy, ethylsulfonyloxy, propylsulfonyloxy, isopropylsulfonyloxy, butylsulfonyloxy, tert-butylsulfonyloxy, pentylsulfonyloxy, and hexylsulfonyloxy groups. Examples include straight-chain or branched alkylsulfonyloxy groups.

また側鎖−Ｚ−Ａ　−（Ｘ）　ｎ−Ｒは、カルボスチリ
ル骨格の３位、４位、５位、６位、７位及び８位のいず
れに置換していてもよい。Further, the side chain -Z-A-(X)n-R may be substituted at any of the 3rd, 4th, 5th, 6th, 7th, and 8th positions of the carbostyril skeleton.

上記一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体は
、種々の方法により製造され得るが、その好ましい一例
を挙げれば例えば下記に反応式に示す方法に従い製造さ
れる。The carbostyryl derivative represented by the above general formula (1) can be produced by various methods, and one preferred example thereof is, for example, produced by the method shown in the reaction formula below.

反応式−１ Ｒ／ｌ　　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１（２）　
　　　　　　　　　　　　　　（ｌａ）〔式中Ｒ，Ｒ’
　、Ｒ”　、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリル骨格の
３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｚａは酸素原
子、硫黄原子又は基−ＮＨ−を示す。Ｘｌはハロゲン原
子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホ
ニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を示す
。〕 Ｘｌで示される低級アルカンスルホニルオキシ基として
は、具体的にはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、イソプロパン
スルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ、ｔｅｒｔ
−ブタンスルホニルオキシ、ペンタンスルホニルオキシ
、ヘキサンスルホニルオキシ基等を例示でき、アリール
スルホニルオキシ基としては、具体的にはフェニルスル
ホニルオキシ、４−メチルフェニルスルホニルオキシ、
２−メチルフェニルスルホニルオキシ、４−ニトロフェ
ニルスルホニルオキシ、４−メトキシフェニルスルホニ
ルオキシ、３−タロロフェニルスルホニルオキシ、α−
ナフチルスルホニルオキシ基″７を例示でき、またアラ
ルキルスルホニルオキシ基としては、具体的にはベンジ
ルスルホニルオキシ、２−フェニルエチルスルホニルオ
キシ、４−フェニルブチルスルホニルオキシ、４−メチ
ルベンジルスルホニルオキシ、２−メチルベンジルスル
ホニルオキシ、４−ニトロベンジルスルホニルオキシ、
４−メトキシベンジルスルホニルオキシ、３−クロロベ
ンジルスルホニルオキシ、α−ナフチルメチルスルホニ
ルオキシ基等を例示できる。Reaction formula-1 R/l R1(2)
(la) [in the formula R, R'
, R'', A, It represents an alkanesulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, or an aralkylsulfonyloxy group.] Examples of the lower alkanesulfonyloxy group represented by Xl include methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, propanesulfonyloxy, and isopropanesulfonyloxy. , butanesulfonyloxy, tert
Examples include -butanesulfonyloxy, pentanesulfonyloxy, hexanesulfonyloxy groups, etc., and specific examples of the arylsulfonyloxy group include phenylsulfonyloxy, 4-methylphenylsulfonyloxy,
2-methylphenylsulfonyloxy, 4-nitrophenylsulfonyloxy, 4-methoxyphenylsulfonyloxy, 3-thalolophenylsulfonyloxy, α-
Specific examples of the aralkylsulfonyloxy group include benzylsulfonyloxy, 2-phenylethylsulfonyloxy, 4-phenylbutylsulfonyloxy, 4-methylbenzylsulfonyloxy, 2-methyl benzylsulfonyloxy, 4-nitrobenzylsulfonyloxy,
Examples include 4-methoxybenzylsulfonyloxy, 3-chlorobenzylsulfonyloxy, and α-naphthylmethylsulfonyloxy groups.

一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物との反応
は、適当な溶媒中又は無溶媒下、塩基性化合物の存在下
に行なうことができる。塩基性化合物としては、従来公
知のものを広く使用でき、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基
、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウム
メチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラード、
トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミン
、Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジン
、１，５−ジアザビシクロ〔４゜３．０〕ノネン−５（
ＤＢＮ）　、１．８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウ
ンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ（２
，２，２）オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基を挙げ
ることができる。また溶媒としては、反応に悪影響を与
えない不活性のものをいずれも使用でき、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、エチレ
ングリコール等のアルコール類、ジメチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグラ
イム等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルス
ルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド（ＨＭＰＡ）等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ
る。また該反応は、沃化ナトリウム、沃化カリウム等の
金属沃化物の存在下に行なってもよい。上記反応におけ
る化合物（２）と化合物（３）との使用割合としては、
特に制限がなく広い範囲内から適宜選択し得るが、通常
前者に対して後者を等モル−５倍モル程度、好ましくは
等モル−２倍モル程度使用するのがよい。上記反応の反
応温度も特に限定されないが、通常室温〜２００℃程度
、好ましくは５０〜１５０℃程度で行なわれ、一般に５
分〜３０時間程度にて該反応は完結する。The reaction between the compound of general formula (2) and the compound of general formula (3) can be carried out in a suitable solvent or in the absence of a solvent in the presence of a basic compound. As the basic compound, a wide variety of conventionally known compounds can be used, such as inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, silver carbonate, etc. Alcolades such as alkali metals, sodium methylate, sodium ethylate,
Triethylamine, pyridine, N,N-dimethylamine, N-methylmorpholine, 4-dimethylaminopyridine, 1,5-diazabicyclo[4°3.0]nonene-5(
DBN), 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7(DBU), 1,4-diazabicyclo(2
, 2,2) octane (DABCO) and the like. As the solvent, any inert solvent that does not adversely affect the reaction can be used, such as alcohols such as methanol, ethanol, propatool, butanol, and ethylene glycol, and ethers such as dimethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, monoglyme, and diglyme. Ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, esters such as methyl acetate and ethyl acetate,
Examples include aprotic polar solvents such as N,N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), and hexamethylphosphoric acid triamide (HMPA). Further, the reaction may be carried out in the presence of a metal iodide such as sodium iodide or potassium iodide. The ratio of compound (2) and compound (3) used in the above reaction is as follows:
Although there are no particular limitations and they can be appropriately selected from within a wide range, it is generally advisable to use the latter in an amount of about 5 to 5 times the mole of the former, preferably about 2 to 2 times the mole of the former. The reaction temperature of the above reaction is also not particularly limited, but it is usually carried out at room temperature to about 200°C, preferably about 50 to 150°C, and generally
The reaction is completed in about minutes to 30 hours.

反応式−２ Ｒｌ　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１（４）　　　　
　　　　　　　　　（１ｂ）〔式中Ｒ５Ｒ１、Ｒ２、Ｚ
、Ａ、並びにカルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素
間結合は前記に同じ。Ｘ２及びＸ３は夫々Ｘ１又は基−
ＹＨを示す。ここでＸＩは前記に同じであり、Ｙは酸素
原子又は硫黄原子を示す。但しＸ２がＸｌである場合に
は　Ｘ３は基−ＹＨを、Ｘ２が基−ＹＨである場合には
Ｘ３はＸｌを示すものとする。〕 一般式（４）の化合物と一般式（５）の化合物との反応
は、前記一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物
との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。Reaction formula-2 Rl R1 (4)
(1b) [In the formula, R5R1, R2, Z
, A, and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. X2 and X3 are each X1 or a group -
Indicates YH. Here, XI is the same as above, and Y represents an oxygen atom or a sulfur atom. However, when X2 is Xl, X3 represents a group -YH, and when X2 is a group -YH, X3 represents Xl. ] The reaction between the compound of general formula (4) and the compound of general formula (5) can be carried out under the same reaction conditions as the reaction between the compound of general formula (2) and the compound of general formula (3). .

反応式−３ 〔式中Ｒ１、Ｒ２、ＺＳＡ、ＸＩ　、並ヒニカルホスチ
リル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前原子、酸素原
子又は硫黄原子を１〜４個有する不飽和複素環残基を示
す。但し該複素環には少なくとも１個の窒素原子を含ん
でいるものとする。また該複素環上には、オキソ基、チ
オ基、フェニル基、フェニル環上に低級アルキル基、ハ
ロ低級アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、
低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキ
シ基なる群から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニ
ル基、シクロアルキル基、フェニルチオ基、低級アルキ
ル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシ
ル基なる群から選ばれた置換基を１〜２個有する低級ア
ルキル基、アミノ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル環上に置換
基として水酸基を有することのあるフェニル低級アルキ
ル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を有
することのあるフェニルスルホニル基、低級アルコキシ
置換フェニル低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低
級アルケニル基、低級アルコキシ基及びピリジル基から
なる群から選ばれた置−Ｎ　を示す。〕 一般式（６）の化合物と一般式（７）の化合物との反応
は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、好ましくは塩
基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行なわれる。塩基
性化合物としては、従来公知のものを広く使用でき、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート、カリウムメチラート、カリウムエチラート等のア
ルカリ金属アルコラード、ナトリウムアミド、カリウム
アミド等のアルカリ金属アミド、ナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等のアルカリ金属の水素化物、ＤＢＵ等を挙げることが
できる。斯かる塩基性化合物の使用量としては、特に限
定されず広い範囲内で適宜選択し得るが、通常化合物（
６）に対して等モル−過剰量、好ましくは等モル−３倍
モル量程度使用するのがよい。また溶媒としては、慣用
の不活性溶媒を広く使用でき、例えばメタノール、エタ
ノール、イソプロパツール等の低級アルコール類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、アセトフェノン等のケトン類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、ＤＭＦＳＨＭＰＡ、アセトニ
トリル等が挙げられる。また該反応は、沃化ナトリウム
、沃化カリウム等の金属沃化物の存在下に行なってもよ
い。上記反応における化合物（６）と化合物（７）との
使用割合としては、特に制限がなく広い範囲内から適宜
選択し得るが、通常前者に対して後者を等モル−過剰量
、好ましくは等モル−２倍モル程度使用するのがよい。Reaction formula-3 [In the formula, R1, R2, ZSA, Residues are shown. However, the heterocycle shall contain at least one nitrogen atom. Further, on the heterocycle, an oxo group, a thio group, a phenyl group, a lower alkyl group on the phenyl ring, a halo-lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group,
A phenyl group, a cycloalkyl group, a phenylthio group, a lower alkyl group, an amino group, a lower alkylamino group, and a carboxyl group having 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a lower alkylamino group, a carboxy group, and a lower alkoxy group. A lower alkyl group having 1 to 2 substituents selected from the group, an amino group, a hydroxyl group, a cyano group, a carboxyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a phenyl lower alkyl group that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring. , a phenylsulfonyl group which may have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring, a lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl group, a lower alkylthio group, a lower alkenyl group, a lower alkoxy group and a pyridyl group. -N is shown. ] The reaction between the compound of general formula (6) and the compound of general formula (7) is carried out in the presence or absence of a basic compound, preferably in the presence of a basic compound, in a suitable solvent. As the basic compound, a wide variety of conventionally known compounds can be used, such as alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metals such as sodium methylate, sodium ethylate, potassium methylate, and potassium ethylate. Examples include alkali metal amides such as alcolade, sodium amide and potassium amide, alkali metals such as sodium and potassium, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, and DBU. The amount of the basic compound to be used is not particularly limited and can be appropriately selected within a wide range, but usually the amount of the compound (
It is preferable to use an equimolar excess amount, preferably about an equimolar to three times the molar amount relative to 6). As a solvent, a wide variety of conventional inert solvents can be used, including lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and acetophenone. Examples include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, DMFSHMPA, and acetonitrile. Further, the reaction may be carried out in the presence of a metal iodide such as sodium iodide or potassium iodide. The ratio of compound (6) and compound (7) to be used in the above reaction is not particularly limited and can be appropriately selected within a wide range, but usually the latter is used in equimolar to excess amount, preferably equimolar. -It is best to use about 2 times the mole.

上記反応は、通常０〜２００℃程度、好ましくは室温〜
１５０℃程度で好適に進行し、一般に１０分〜２４時間
程度で該反応は終了する。The above reaction is usually carried out at about 0 to 200°C, preferably from room temperature to
The reaction proceeds suitably at about 150° C. and is generally completed in about 10 minutes to 24 hours.

上記反応において、Ｚが基−Ｃ−を示す化合物！１ （６）を使用する場合には、まず化合物（６）をエチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のジヒドロキシ
低級アルキレン類と反応させてＺを換させて保護した後
、次に化合物（７）と反応させ、続いて脱保護基化する
ことによりＺが基−Ｃ−を示す一般式（１ｃ）の化合物
を製造し得Ｉ る。A compound in which Z represents a group -C- in the above reaction! 1 When using (6), first react compound (6) with a dihydroxy lower alkylene such as ethylene glycol or propylene glycol to convert and protect Z, and then react with compound (7). , followed by deprotection to produce a compound of general formula (1c) in which Z represents a group -C-.

ここで上記保護化反応は、酸の存在下適当な溶媒中で行
なわれる。酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等の鉱酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、ピリジン　ｐ−ト
ルエンスルホネート、酢酸、プロピオン酸等の有機酸等
を例示できる。また溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール等の低級アルコール類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、アセトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ｎ−オ
クタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸プロピオン酸等のア
ルカン酸類、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒等を
挙げることができる。ジヒドロキシ低級アルキレン類の
使用量としては、通常化合物（６）に対して少なくとも
等モル量、好ましくは等モル−５倍モル量程度とするの
がよい。該反応は、通常０〜１５０°Ｃ程度、好ましく
は０〜１００℃にて好適に進行し、一般に０．　５〜１
０時間程時間誤反応は完了する。Here, the above-mentioned protection reaction is carried out in a suitable solvent in the presence of an acid. Examples of acids include mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, and sulfuric acid, and organic acids such as p-)luenesulfonic acid, pyridine p-toluenesulfonate, acetic acid, and propionic acid. Examples of solvents include lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, ketones such as acetone, benzene, toluene,
Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-octane, alkanoic acids such as acetic acid propionic acid, acetonitrile, and mixed solvents thereof. The amount of dihydroxy lower alkylene to be used is usually at least an equimolar amount, preferably about an equimolar amount to about 5 times the molar amount of compound (6). The reaction normally proceeds suitably at a temperature of about 0 to 150°C, preferably 0 to 100°C, and generally at a temperature of about 0 to 100°C. 5-1
The false reaction is completed after about 0 hours.

また脱保護基化反応は、酸の存在下適当な溶媒中又は無
溶媒下で行なわれる。酸としては、上記保護化反応に使
用される酸をいずれも使用することができる。酸の使用
量としては、原料化合物に対して通常少なくとも等モル
量程度、好ましくは大過剰量とするのがよい。また溶媒
としては、上記保護化反応に使用される溶媒に加えて、
水、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等を挙げることができる。該反応
は、通常−３０〜２００℃程度、好ましくは一３０〜１
００℃にて好適に進行し、一般に０．　５〜１２時間程
度で該反応は完了する。Further, the deprotection reaction is carried out in the presence of an acid in a suitable solvent or in the absence of a solvent. As the acid, any acid used in the above-mentioned protection reaction can be used. The amount of acid to be used is usually at least an equimolar amount, preferably in large excess, relative to the raw material compound. In addition to the solvent used in the above protection reaction, as a solvent,
Water, DMF, DMSO, etc. can be mentioned. The reaction is usually carried out at a temperature of about -30 to 200°C, preferably -30 to 1
00°C, generally 0.0°C. The reaction is completed in about 5 to 12 hours.

反応式−４ 〔式中ＲＳＲ’　、Ｒ２、ＡＳＸ、ｎ、並びにカルボス
チリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Reaction Formula-4 [In the formula, RSR', R2, ASX, n, and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above.

〕 一般式（１ｄ）の化合物の還元は、水素化還元剤を用い
る還元法、接触還元法等の方法により行なわれる。] The reduction of the compound of general formula (1d) is carried out by a method such as a reduction method using a hydrogenation reducing agent or a catalytic reduction method.

水素化還元剤を用いる還元法を採用する場合、水素化還
元剤としては例えば水素化硼素ナトリウム、水素化アル
ミニウムリチウム等、好ましくは−水素化硼素ナトリウ
ムが用いられる。水素化還元剤は、通常化合物（１ｄ）
に対して少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル−
３倍モル量程度用いるのがよい。水素化還元剤による還
元反応は、例えば水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパツール等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル類、ＤＭＦ等やこれら
の混合溶媒中、通常−６０〜１００℃程度、好ましくは
一３０〜７０°Ｃ程度にて行なわれ、一般に該反応は１
０分〜３時間程度で終了する。When a reduction method using a hydrogenation reducing agent is employed, the hydrogenation reducing agent used is, for example, sodium borohydride, lithium aluminum hydride, etc., preferably sodium borohydride. The hydrogenation reducing agent is usually compound (1d)
at least equimolar amount, preferably equimolar amount to
It is preferable to use about 3 times the molar amount. The reduction reaction using a hydrogenation reducing agent is usually carried out at about -60 to 100°C in a solvent such as water, lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether, DMF, etc., or a mixed solvent thereof. , preferably at about -30 to 70°C, and generally the reaction is carried out at about 1
It will be completed in about 0 minutes to 3 hours.

尚、水素化アルミニウムリチウムを還元剤として用いる
場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
無水溶媒を用いるのがよい。In addition, when using lithium aluminum hydride as a reducing agent, it is preferable to use an anhydrous solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran.

また接触還元法を採用する場合、還元触媒として例えば
酸化白金、パラジウム黒、パラジウム炭素、ラネーニッ
ケル等の通常用いられる接触還元用触媒が用いられる。Further, when a catalytic reduction method is employed, a commonly used catalyst for catalytic reduction such as platinum oxide, palladium black, palladium carbon, Raney nickel, etc. is used as a reduction catalyst.

使用される触媒の量は、化合物（１ｄ）に対して通常的
０．２〜０．５倍重量とするのがよい。この接触還元は
、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ル等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル類等の溶媒中、通常１〜１０気
圧、好ましくは１〜３気圧の水素雰囲気中でよく振り混
ぜることにより行なわれる。該還元は、通常−３０℃〜
溶媒の沸点範囲、好ましくは０℃〜室温付近にて行なわ
れる。The amount of catalyst used is preferably 0.2 to 0.5 times the weight of compound (1d). This catalytic reduction is carried out in a solvent such as water, lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, and ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether, usually in a hydrogen atmosphere of 1 to 10 atm, preferably 1 to 3 atm. This is done by shaking well. The reduction is usually carried out at -30℃~
The reaction is carried out within the boiling point range of the solvent, preferably from 0°C to around room temperature.

反応式−３ ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１（１ｆ）　　　
　　　　　　　　　（１ｇ）〔式中Ｒ’　、Ｒ２、Ｚ−
、ＡＳＸ％　ｎ−並びにカルボスチリル骨格の３位及び
４位の炭素間結合は素原子又は硫黄原子を１〜４個有す
る不飽和複素環残基を示す。但し該複素環には少なくと
も゛　１個の窒素原子を含んでいるものとする。また該
複素環上には、オキソ基、チオ基、フェニル基、フェニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基、
フェニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基及びカルボキシル基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、水酸
基、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フェニル環上に置換基として水酸基を有するこ
とのあるフェニル低級アルキル基、フェニル環上に置換
基として低級アルキル基を有することのあるフェニルス
ルホニル基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級
アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基
及びピリジル基からなる群から選ばれた置換基を１〜３
個有していてもよい。上記−Ｂｂ−は−ＮＨ−を、−Ｂ
Ｃ−は−Ｎ−を示す。ここでＲ４はフエニル基、フェニ
ル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カ
ルボキシ基、及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた
置換基を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基
、フェニルチオ基、低級アルキル基、フェニル環上に置
換基として水酸基を有することのあるフェニル低級アル
キル基、フェニル環上に置換基として低級アルキル基を
有することのあるフェニルスルホニル基、低級アルケニ
ル基、置換基として低級アルキルアミノ基及びカルボキ
シ基からなる群から選ばれた基を１〜２個有する低級ア
ルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキ
シ置換フェニル低級アルキル基又はピリジル基を示す。Reaction formula-3 RI R1 (1f)
(1g) [in the formula R', R2, Z-
, ASX% n- and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton represent elementary atoms or unsaturated heterocyclic residues having 1 to 4 sulfur atoms. However, the heterocycle shall contain at least one nitrogen atom. Further, on the heterocycle, there are oxo groups, thio groups, phenyl groups, lower alkyl groups, halo lower alkyl groups, halogen atoms, hydroxyl groups, amino groups, lower alkylamino groups, carboxy groups, and lower alkoxy groups on the phenyl ring. A phenyl group, a cycloalkyl group having 1 to 3 substituents selected from the group,
A lower alkyl group having 1 to 2 substituents selected from the group consisting of a phenylthio group, a lower alkyl group, an amino group, a lower alkylamino group, and a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, a cyano group, a carboxyl group, and a lower alkoxycarbonyl group. , phenyl lower alkyl group that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring, phenylsulfonyl group that may have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring, lower alkoxy-substituted lower alkyl group, lower alkylthio group, lower 1 to 3 substituents selected from the group consisting of alkenyl groups, lower alkoxy groups, and pyridyl groups;
It may be owned individually. -Bb- above represents -NH-, -B
C- represents -N-. Here, R4 is a phenyl group, a substituent on the phenyl ring selected from the group consisting of a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a lower alkylamino group, a carboxy group, and a lower alkoxy group. ~3 phenyl groups, cycloalkyl groups, phenylthio groups, lower alkyl groups, phenyl lower alkyl groups that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring, and lower alkyl groups that have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring. A phenylsulfonyl group, a lower alkenyl group, a lower alkyl group having 1 to 2 groups selected from the group consisting of a lower alkylamino group and a carboxy group as a substituent, a lower alkoxycarbonyl group, a lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl group, or Indicates a pyridyl group.

〕 一般式（１ｆ）の化合物と一般式（８）の化合物との反
応は、例えば塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行
なわれる。塩基性化合物としては、例えば水素化ナトリ
ウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、カリ
ウムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙
げることができる。] The reaction between the compound of general formula (1f) and the compound of general formula (8) is carried out, for example, in the presence of a basic compound in a suitable solvent. Examples of the basic compound include sodium hydride, potassium, sodium, sodium amide, potassium amide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like.

また溶媒としては、例えばジオキサン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭ
ＰＡ等を挙げることができる。該反応の反応系内には、
必要に応じて沃化鋼等のハロゲン化鋼、沃化ナトリウム
、沃化カリウム等の金属沃化物、銅粉等を添加してもよ
い。Examples of solvents include ethers such as dioxane and diethylene glycol dimethyl ether, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, DMF, DMSO, HM
Examples include PA. In the reaction system of the reaction,
If necessary, halogenated steel such as iodized steel, metal iodides such as sodium iodide and potassium iodide, copper powder, etc. may be added.

化合物（１ｆ）と化合物（８）との使用割合としては、
特に制限がなく広い範囲内から適宜選択し得るが、通常
前者に対して後者を少なくとも等モル程変量、好ましく
は等モル−３倍モル量程度使用するのがよい。該反応は
、通常０〜１００℃程゛度、好ましくは０〜７０℃付近
にて好適に進行し、一般に該反応は５分〜１２時間程度
で完結する。The usage ratio of compound (1f) and compound (8) is as follows:
Although there are no particular limitations and they can be appropriately selected from within a wide range, it is usually preferable to use the latter in an amount of at least equimolar to the former, preferably equimolar to 3 times the molar amount. The reaction normally proceeds suitably at about 0 to 100°C, preferably around 0 to 70°C, and is generally completed in about 5 minutes to 12 hours.

反応式−６ （１ｈ） 〔式中Ｒ’　、Ｒ２、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨
格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｒ５は基
−ＣＯＲ６又は基−Ｃ３Ｒ６（Ｒ６はフェニル基、フェ
ニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、ハロ
ゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群から選ばれた
置換基を１〜３個有するフェニル基、シクロアルキル基
、フェニルチオ基、低級アルキル基、アミノ基、低級ア
ルキルアミノ基及びカルボキシ基なる群から選ばれた置
換基を１〜２個有する低級アルキル基、アミノ基、シア
ノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
フェニル環上に置換基として水酸基を有することのある
フェニル低級アルキル基、フェニル環上に置換基として
低級アルキル基を有することのあるフェニルスルホニル
基、低級アルコキシ置換フェニル低級アルキル基、低級
アルキルチオ基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基
又はピリジル基を示す。Ｂｄは酸素原子又は硫黄原子を
示す。〕 一般式（９）の化合物と一般式（１０）の化合物との反
応には、公知のアミド結合生成反応条件を容易に適用す
ることができる。本発明では化合物（９）に代えて、そ
のカルボキシル基が活性化された化合物を使用してもよ
い。代表的な方法としては、例えば（イ）混合酸無水物
法、即ちカルボン酸（９）にアルキルハロカルボン酸を
反応させて混合酸無水物とし、これにヒドラジン誘導体
（１０）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法、即
ちカルボン酸（９）をｐ−ニトロフェニルエステル、Ｎ
−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾールエステル等の活性エステルとし、こ
れにヒドラジン誘導体（１０）を反応させる方法、（ハ
）カルボジイミド法、即ちカルボン酸（９）にヒドラジ
ン誘導体（１０）をジシクロへキシルカルボジイミド、
カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合
させる方法、（ニ）その他の方法として、カルボン酸（
９）を無水酢酸等の脱水剤によりカルボン酸無水物とし
、これにヒドラジン誘導体（１０）を反応させる方法、
カルボン酸（９）と低級アルコールとのエステルにヒド
ラジン誘導体（１０）を高温高圧下に反応させる方法、
カルボン酸（９）の酸ハロゲン化物、即ちカルボン酸ハ
ライドにヒドラジン誘導体（１０）を反応させる方法等
を挙げることができる。これらの中で混合酸無水物法が
好ましい。Reaction formula-6 (1h) [In the formula, R', R2, Z, A, and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. R5 is a group -COR6 or a group -C3R6 (R6 is a phenyl group, a lower alkyl group on the phenyl ring, a halo-lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a lower alkylamino group,
A group selected from the group consisting of a phenyl group, a cycloalkyl group, a phenylthio group, a lower alkyl group, an amino group, a lower alkylamino group, and a carboxy group having 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a carboxyl group and a lower alkoxy group. A lower alkyl group having 1 to 2 substituents, an amino group, a cyano group, a carboxyl group, a lower alkoxycarbonyl group,
Phenyl lower alkyl group that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring, phenylsulfonyl group that may have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring, lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl group, lower alkylthio group, lower Indicates an alkenyl group, a lower alkoxy group, or a pyridyl group. Bd represents an oxygen atom or a sulfur atom. ] Known amide bond forming reaction conditions can be easily applied to the reaction between the compound of general formula (9) and the compound of general formula (10). In the present invention, a compound whose carboxyl group is activated may be used instead of compound (9). Typical methods include, for example, (a) mixed acid anhydride method, that is, a method in which carboxylic acid (9) is reacted with an alkylhalocarboxylic acid to form a mixed acid anhydride, and this is reacted with hydrazine derivative (10); (b) Active ester method, that is, carboxylic acid (9) is converted into p-nitrophenyl ester, N
- A method in which an active ester such as hydroxysuccinimide ester or 1-hydroxybenzotriazole ester is reacted with a hydrazine derivative (10), (c) Carbodiimide method, that is, a method in which a hydrazine derivative (10) is reacted with a carboxylic acid (9). dicyclohexylcarbodiimide,
(2) Other methods include condensation in the presence of an activator such as carbonyldiimidazole,
A method of converting 9) into a carboxylic acid anhydride with a dehydrating agent such as acetic anhydride, and reacting this with a hydrazine derivative (10),
A method of reacting a hydrazine derivative (10) with an ester of a carboxylic acid (9) and a lower alcohol under high temperature and pressure,
Examples include a method in which an acid halide of carboxylic acid (9), that is, a carboxylic acid halide, is reacted with a hydrazine derivative (10). Among these, the mixed acid anhydride method is preferred.

混合酸無水物法において、使用されるアルキルハロカル
ボン酸としては例えばクロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メ
チル、クロロ蟻酸エチル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻
酸イソブチル等が挙げられる。In the mixed acid anhydride method, examples of the alkylhalocarboxylic acids used include methyl chloroformate, methyl bromoformate, ethyl chloroformate, ethyl bromoformate, isobutyl chloroformate, and the like.

混合酸無水物は通常のショツテン−バウマン反応により
得られ、これを通常単離することなく、ヒドラジン誘導
体（１０）と反応させることにより一般式（１１）の化
合物が製造される。The mixed acid anhydride is obtained by the usual Schotten-Baumann reaction, and the compound of general formula (11) is produced by reacting it with the hydrazine derivative (10) without isolation.

ショツテン−バウマン反応は、塩基性化合物の存在下に
行なわれる。用いられる塩基性化合物としては、ショツ
テン−バウマン反応に慣用の化合物をいずれも使用でき
、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＮ
、ＤＢＵ。The Schotten-Baumann reaction is carried out in the presence of a basic compound. As the basic compound used, any compound commonly used in the Schotten-Baumann reaction can be used, such as triethylamine, trimethylamine, pyridine, dimethylaniline, N-methylmorpholine, DBN.
, D.B.U.

ＤＡＢＣＯ等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩
基等が挙げられる。該ショツテン−バウマン反応は、通
常−２０〜１００℃、好ましくは０〜５０°Ｃにおいて
行なわれ、反応時間に一般に５分〜１０時間程度である
。Examples include organic bases such as DABCO, and inorganic bases such as potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, and sodium hydrogen carbonate. The Schotten-Baumann reaction is usually carried out at -20 to 100°C, preferably 0 to 50°C, and the reaction time is generally about 5 minutes to 10 hours.

上記で得られる混合酸無水物と化合物（１０）との反応
は、一般に溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒として
は、混合酸無水物法に慣用の溶媒をいずれも使用でき、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族〜炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸
メチル、酢酸エチル等のエステル類、ＤＭＦ’、ＤＭＳ
ｏＳＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒等を挙げること
ができる。該反応は、通常−２０〜１５０℃、好ましく
は１０〜５０℃において行なわれ、反応時間に一般に５
分〜１０時間程度である。The reaction between the mixed acid anhydride obtained above and compound (10) is generally carried out in a solvent. As the solvent used, any solvent commonly used in the mixed acid anhydride method can be used.
For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and dichloroethane, aromatic to hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dimethoxyethane, and esters such as methyl acetate and ethyl acetate. , DMF', DMS
Examples include aprotic polar solvents such as oSHMPA. The reaction is usually carried out at -20 to 150°C, preferably 10 to 50°C, and the reaction time is generally 5 to 50°C.
It takes about 10 minutes to 10 hours.

上記反応における化合物（９）、アルキルハロカルボン
酸及び化合物（１０）の使用割合としては、通常当モル
ずつ使用されるが、化合物（９）に対してアルキルハロ
カルボン酸及び化合物（１０）を１〜１．５倍モル使用
してもよい。The ratio of Compound (9), Alkylhalocarboxylic acid and Compound (10) used in the above reaction is usually equivalent molar ratio, but 1 molar ratio of Compound (9) to Compound (9) is used. You may use 1.5 times mole.

一般式（１１）の化合物を環化して一般式（１ｈ）の化
合物を得る反応は、従来公知の各種環化反応に準じて行
ない得る。例えば加熱による方法、オキシ塩化リン、五
塩化リン、三塩化リン、塩化アセチル、ｐ−トルエンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、チオニルクロライド、
濃硫酸、塩酸、無水酢酸、ポリリン酸等の脱水剤を用い
る環化法等を例示できる。加熱による環化法を採用する
場合には、高沸点炭化水素類及び高沸点エーテル類、例
えばテトラリン酸ジフェニルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、デカリン、テトラリン、トル
エン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ブロモ
ベンゼン等の溶媒を用い、通常１００〜２５０°Ｃ程度
、好ましくは１５０〜２００°Ｃの加熱条件を採用でき
る。また、脱水剤を用いる環化法を採用する場合には、
脱水剤としてポリリン酸を使用するのが特に好ましい。The reaction of cyclizing the compound of general formula (11) to obtain the compound of general formula (1h) can be carried out according to various conventionally known cyclization reactions. For example, heating method, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, acetyl chloride, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, thionyl chloride,
Examples include cyclization methods using dehydrating agents such as concentrated sulfuric acid, hydrochloric acid, acetic anhydride, and polyphosphoric acid. When employing the cyclization method by heating, solvents such as high-boiling hydrocarbons and high-boiling ethers, such as tetraphosphate diphenyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, decalin, tetralin, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and bromobenzene, are used. heating conditions, usually about 100 to 250°C, preferably 150 to 200°C. In addition, when adopting a cyclization method using a dehydrating agent,
Particular preference is given to using polyphosphoric acid as dehydrating agent.

ポリリン酸は、化合物（１１）に対して通常等モル〜大
過剰量、好ましくは１０〜２０倍量用いるのがよく、ま
た該反応は、通常１００〜２５０℃程度で行なわれ、一
般に５分〜６時間程度で終了する。Polyphosphoric acid is usually used in equimolar to large excess amounts, preferably 10 to 20 times the amount of compound (11), and the reaction is usually carried out at about 100 to 250°C, generally for 5 minutes to It will be completed in about 6 hours.

上記反応式−６において出発原料として用いられる化合
物（９）は公知の化合物であり、また化合物（１“０）
の一部は公知の化合物であるが新規化合物も含み、それ
ら新規化合物は公知のものと同様に製造され、例えば下
記反応式−７に示す方法により製造される。Compound (9) used as a starting material in the above reaction formula-6 is a known compound, and compound (1"0)
Some of these are known compounds, but also include new compounds, and these new compounds are produced in the same manner as the known compounds, for example, by the method shown in Reaction Scheme-7 below.

反応式−７ Ｒ３０Ｈ＋　Ｎ８２　Ｎ）＋２・Ｒ２０−４Ｒ５ＮＨＮ
Ｈ２〔式中Ｒ５は前記に同じ。〕 一般式（１２）の化合物と一般式（１３）の化合物との
反応は、前記反応式−６における化合物（９）と化合物
（１０）との反応と同様の反応条件下にて製造される。Reaction formula-7 R30H+ N82 N)+2・R20-4R5NHN
H2 [wherein R5 is the same as above. ] The reaction between the compound of general formula (12) and the compound of general formula (13) is produced under the same reaction conditions as the reaction between compound (9) and compound (10) in Reaction Formula-6 above. .

反応式−８ 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｚ、Ａ、並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｒ７は低級
アルキル基を示す。〕 一般式（１４）の化合物と一般式（１５）の化合物との
反応は、無溶媒下又は適当な溶媒中にて行なわれる。使
用される溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジメトキシエタン、ジフ
ェニルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の高沸点
溶媒等を挙げることができる。化合物（１４）と化合物
（１５）との使用割合としては、通常前者に対して後者
を等モル−大過剰量、好ましくは２〜５０倍モル程度と
するのがよい。上記反応は、通常５０〜２５０℃、好ま
しくは８０〜２００°Ｃで好適に進行し、一般に１〜４
０時間程度で完了する。Reaction Formula-8 [In the formula, R1, R2, Z, A, and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. R7 represents a lower alkyl group. ] The reaction between the compound of general formula (14) and the compound of general formula (15) is carried out without a solvent or in a suitable solvent. Examples of the solvent used include high boiling point solvents such as aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, and ethers such as dimethoxyethane, diphenyl ether, and dioxane. The ratio of compound (14) and compound (15) to be used is usually an equimolar to large excess of the latter relative to the former, preferably about 2 to 50 times the molar amount. The above reaction normally proceeds suitably at 50 to 250°C, preferably 80 to 200°C, and generally
Completed in about 0 hours.

反応式−９ 〔式中Ｒ，Ｒ１、Ｒ２，２％　Ａ、Ｘ及びｎは前記に同
じ。〕 一般式（１ｊ）の化合物の脱水素反応は、常法により、
適当な溶媒中酸化剤を用いて脱水素反応に付すことによ
り行なわれる。用いられる酸化剤としては、例えば２，
３−ジクロロ−５，６−ジシアツベンゾキノン（ＤＤＱ
）　、クロラニル（２゜３．５．６−チトラクロロペン
ゾキノン）等のベンゾキノン類、二酸化セレン、パラジ
ウム炭素等の金属触媒、Ｎ−プロモサクシンイミド、臭
素等のブロム化剤等が挙げられる。酸化剤の使用量とし
ては、例えば酸化剤としてベンゾキノン類又はブロム化
剤を使用する場合には、化合物（１ｊ）に対して通常部
モル〜５倍モル程度、好ましくは等モル−２倍モル程度
の酸化剤を使用するのがよい。また溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メトキシエタ
ノール、ジメトキシエタン等のエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ブタノール、アミルアルコール
、ヘキサノール等のアルコール類、ＤＭＦＳＤＭＳＯＳ
ＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることがで
きる。上記反応は、通常室温〜３００℃程度、好ましく
は５０〜２００℃程度で好適に進行し、一般に１〜４８
時間程度で完結する。Reaction Formula-9 [In the formula, R, R1, R2, 2% A, X and n are the same as above. ] The dehydrogenation reaction of the compound of general formula (1j) is carried out by a conventional method,
This is carried out by subjecting it to a dehydrogenation reaction using an oxidizing agent in a suitable solvent. Examples of the oxidizing agent used include 2,
3-dichloro-5,6-dicyazbenzoquinone (DDQ
), benzoquinones such as chloranil (2°3.5.6-titrachloropenzoquinone), metal catalysts such as selenium dioxide and palladium on carbon, and brominating agents such as N-promosuccinimide and bromine. The amount of the oxidizing agent to be used is, for example, when benzoquinones or a brominating agent is used as the oxidizing agent, the amount is usually about 5 times the mole, preferably about 1 mole to 2 times the mole of compound (1j). It is recommended to use an oxidizing agent of Examples of solvents include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, 2-methoxyethanol, and dimethoxyethane, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, alcohols such as butanol, amyl alcohol, hexanol, DMFSDM SOS
Examples include aprotic polar solvents such as HMPA. The above reaction normally proceeds suitably at room temperature to about 300°C, preferably about 50 to 200°C, and generally 1 to 48°C.
It will be completed in about an hour.

一般式（１ｋ）の化合物の接触還元は、常法に従い、適
当な溶媒中触媒を用いて水素添加することにより行なわ
れる。触媒としては、従来公知のものを広く使用でき、
例えば白金線、白金板、白金海綿、白金黒、酸化白金、
コロイド白金等の白金触媒、パラジウム海綿、パラジウ
ム黒、酸化パラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パ
ラジウム炭酸バリウム、パラジウム炭素、パラジウムシ
リカゲル、コロイドパラジウム等のパラジウム触媒、石
綿つきロジウム、イリジウム、コロイドロジウム、ルテ
ニウム触媒、コロイドイリジウム等の白金族触媒、還元
ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル、漆原ニッケ
ル、蟻酸ニッケルの熱分解で生じるニッケル触媒、硼化
ニッケル等のニッケル触媒、還元コバルト、ラネーコバ
ルト、漆原コバルト等のコバルト触媒、還元鉄、ラネー
鉄等の鉄触媒、還元銅、ラネー銅、ウルマン銅等の銅触
媒、更に亜鉛のようなその他の金属触媒が挙げられる。Catalytic reduction of the compound of general formula (1k) is carried out by hydrogenation using a catalyst in a suitable solvent according to a conventional method. As the catalyst, a wide variety of conventionally known catalysts can be used.
For example, platinum wire, platinum plate, platinum sponge, platinum black, platinum oxide,
Platinum catalysts such as colloidal platinum, palladium sponge, palladium black, palladium oxide, palladium-barium sulfate, palladium barium carbonate, palladium carbon, palladium silica gel, palladium catalysts such as colloidal palladium, rhodium with asbestos, iridium, colloidal rhodium, ruthenium catalysts, Platinum group catalysts such as colloidal iridium, reduced nickel, nickel oxide, Raney nickel, nickel catalysts produced by thermal decomposition of nickel lacquer, nickel formate, nickel catalysts such as nickel boride, cobalt catalysts such as reduced cobalt, Raney cobalt, urushihara cobalt, etc. Examples include iron catalysts such as reduced iron and Raney iron, copper catalysts such as reduced copper, Raney copper, and Ullmann copper, and other metal catalysts such as zinc.

用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロパツール等の低級アルコール類、水、酢酸、酢酸
メチル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、エチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン等のシクロアルカン類、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ペンタン等のｎ−アルカン類等を例示できる。The solvents used include lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol; water; acetic acid esters such as acetic acid, methyl acetate, and ethyl acetate; ethers such as ethylene glycol diethyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane; Examples include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, cycloalkanes such as cyclopentane and cyclohexane, and n-alkanes such as n-hexane and n-pentane.

上記反応は、通常水素圧常圧又は加圧下、好ましくは１
〜２０気圧にて、通常室温〜溶媒の沸点、好ましくは室
温〜１００℃で行なうのがよい。The above reaction is usually carried out under hydrogen pressure, normal pressure or increased pressure, preferably 1
The reaction is preferably carried out at a pressure of ~20 atm, usually at room temperature to the boiling point of the solvent, preferably at room temperature to 100°C.

反応式−１Ｏ （ＩＩ）　　　　　　　　　　　　（１ｍ）〔式中Ｒ，
Ｒ２、Ｚ、Ａ、Ｘ、ｎ、Ｘ’　、並びにカルボスチリル
骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。Ｒ１／
　は低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示す
。〕 一般式（１１）の化合物と一般式（１６）の化合物との
反応は、前記反応式−５における化合物（１ｆ）と化合
物（８）との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。Reaction formula-1O (II) (1m) [in the formula R,
R2, Z, A, X, n, X' and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyryl skeleton are the same as above. R1/
represents a lower alkyl group or a phenyl lower alkyl group. ] The reaction between the compound of general formula (11) and the compound of general formula (16) can be carried out under the same reaction conditions as the reaction between compound (1f) and compound (8) in Reaction Scheme-5 above.

該反応において、Ｒの複素環残基中糸−ＮＨ−を有する
化合物（１１）は、鎖糸が同時に化合物（１６）と反応
することもあるが、この化合物は容易に化合物（１ｍ）
と分離することができる。In this reaction, the compound (11) having the intermediate thread -NH- of the heterocyclic residue of R may react with the compound (16) at the same time as the chain thread, but this compound easily reacts with the compound (1m).
and can be separated.

反応式−１ｌ （１ｎ）　　　　　　　　　　　　（１０）〔式中Ｒ，
Ｒ’　、Ｒ２、Ａ、Ｘ、ｎ、並びにカルボスチリル骨格
の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（１ｎ）の化合物とヒドロキシルアミン（１７）
との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下又は
不存在下に行なわれる。ここで使用される塩基性化合物
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ピペリジ
ン、ピリジン、トリエチルアミン、ＤＢＮＳＤＢＵ、Ｄ
ＡＢＣＯ等の有機塩基等を挙げることができる。また溶
媒としては、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパツール等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の極性溶媒
等を例示できる。化合物（（ｉｎ）とヒドロキシルアミ
ン（１７）との使用割合としては、通常前者に対して後
者を少なくとも等モル、好ましくは等モル−５倍モル量
とするのがよい。上記反応は、通常０〜１５０℃、好ま
しくはＯ〜１００″Ｃにて好適に進行し、一般に１０分
〜１０時間程度で終了する。Reaction formula-1l (1n) (10) [In the formula, R,
R', R2, A, X, n, and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. ] Compound of general formula (1n) and hydroxylamine (17)
The reaction with is carried out in a suitable solvent in the presence or absence of a basic compound. The basic compounds used here include, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide,
Inorganic bases such as sodium carbonate and potassium carbonate, piperidine, pyridine, triethylamine, DBNSDBU, D
Examples include organic bases such as ABCO. Examples of solvents include water, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, and ethylene glycol dimethyl ether, benzene, toluene,
Examples include aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and polar solvents such as DMF, DMSO, and HMPA. The ratio of the compound (in) and hydroxylamine (17) to be used is usually at least equimolar, preferably equimolar to 5 times the molar amount of the latter to the former. The process proceeds suitably at ~150°C, preferably 0~100''C, and is generally completed in about 10 minutes to 10 hours.

反応式−１２ （ｌｐ）　　　　　　　　　　　　　＜１ｑ）Ｒ３ （１ｒ） 〔式中Ｒ，Ｒ’　、Ｒ２、Ｒ３、ＡＳＸＳｎＳＸ’、並
びにカルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は
前記に同じ。〕 一般式（１ｐ）の化合物のハロゲン化反応は、ハロゲン
化剤の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒下にて行なわれ
る。ハロゲン化剤としては、塩酸、臭化水素酸等のハロ
ゲン化水素酸、Ｎ、Ｎ−ジエチル−１）　　２１　２−
トリクロロビニルアミド、五塩化リン、五臭化リン、オ
キシ塩化リン、チオニルクロリド等を例示できる。斯か
るハロゲン化剤の使用全としては、化合物（１ｐ）に対
して少なくとも等モル、通常大過剰世とするのがよい。Reaction formula-12 (lp) <1q) R3 (1r) [In the formula, R, R', R2, R3, ASXSnSX', and the carbon-carbon bonds at the 3rd and 4th positions of the carbostyril skeleton are the same as above. ] The halogenation reaction of the compound of general formula (1p) is carried out in the presence of a halogenating agent, in a suitable solvent or in the absence of a solvent. Examples of the halogenating agent include hydrohalic acids such as hydrochloric acid and hydrobromic acid, N,N-diethyl-1) 21 2-
Examples include trichlorovinylamide, phosphorus pentachloride, phosphorus pentabromide, phosphorus oxychloride, and thionyl chloride. The halogenating agent is preferably used in an amount of at least equimolar, usually in large excess, relative to compound (1p).

溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等を
例示できる。上記反応は、通常−２０〜１５０°Ｃ１好
ましくは一２０〜８０℃にて好適に進行し、一般に１０
分〜６時間程度で完了する。Examples of the solvent include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, and diethyl ether, and halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride. The above reaction normally proceeds suitably at -20 to 150°C, preferably at -20 to 80°C, and generally at 10 to 150°C.
It will be completed in about 6 minutes to 6 hours.

一般式（１ｑ）の化合物と一般式（１８）の化合物との
反応は、塩基性化合物の存在下又は不存在下、適当な溶
媒中又は無溶媒下にて行なわれる。The reaction between the compound of general formula (1q) and the compound of general formula (18) is carried out in the presence or absence of a basic compound, in a suitable solvent or in the absence of a solvent.

用いられる塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウム
アミド、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等のアルコール類、ト
リエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン
等の有機塩基等を挙げることができる。また溶媒として
は、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツ
ール等の低級アルコール類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、オクタン、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、アセトニ
トリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯＳＨＭＰＡ等の極性溶媒やこ
れらの混合溶媒等を例示できる。化合物（１ｑ）と化合
物（１８）との使用割合としては、前者に対して後者を
少なくとも等モル、通常大過剰量とするのがよい。上記
反応は、通常Ｏ〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃に
て好適に進行し、一般に１０分〜１０時間程度で完結す
る。Examples of the basic compounds used include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium amide, sodium hydride, sodium methylate, sodium ethylate, etc. and organic bases such as triethylamine, pyridine, and N,N-dimethylaniline. Examples of solvents include water, lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane; Examples include aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane, and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, polar solvents such as acetone, acetonitrile, DMF, and DMSOSHMPA, and mixed solvents thereof. The ratio of compound (1q) and compound (18) to be used is preferably at least equimolar, usually in large excess, of the latter to the former. The above reaction normally proceeds suitably at 0 to 150°C, preferably 0 to 100°C, and is generally completed in about 10 minutes to 10 hours.

反応式−１３ （１ｓ）　　　　　　　　　　　　（１ｕ）〔式中Ｒ，
Ｒ’　、Ｒ２、ＺＳＡ、並びにカルボスチリル骨格の３
位及び４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（１ｓ）の化合物を酸化して一般式（１ｔ）の化
合物を得る反応、一般式（１ｓ）の化合物を酸化して一
般式（１ｕ）の化合物を得る反応及び一般式（１ｔ）の
化合物を酸化して一般式（１ｕ）の化合物を得る反応は
、酸化剤の存在下適当な溶媒中にて行なわれる。ここで
使用される酸化剤としては、スルフィド基をスルホキシ
ド基又はスルホン基に酸化し得るものである限り従来公
知のものをいずれも使用でき、例えば過蟻酸、過酢酸、
過トリフルオロ酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香
酸、０−カルボニル安息香酸等の過酸類、過酸化水素、
重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウ
ム等の重クロム酸塩、過マンガン酸、過マンガン酸ナト
リウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩等を
ＥＦ１１示できる。また溶媒としては、水、蟻酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸等の有機酸、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類、クロロホルム、ジクロ口メタン等
のハロゲン化炭化水素類やこれらの混合溶媒等を挙げる
ことができる。上記反応は、通常−２０〜４０°Ｃ１好
ましくは一り０℃〜室温付近にて好適に進行し、一般に
０．５〜５０時間程度で完了する。Reaction formula-13 (1s) (1u) [in the formula R,
R', R2, ZSA, and 3 of the carbostyril skeleton
The carbon-carbon bond at position and 4-position is the same as above. ] Reaction to oxidize a compound of general formula (1s) to obtain a compound of general formula (1t), reaction to oxidize a compound of general formula (1s) to obtain a compound of general formula (1u), and general formula (1t) The reaction of oxidizing the compound to obtain the compound of general formula (1u) is carried out in a suitable solvent in the presence of an oxidizing agent. As the oxidizing agent used here, any conventionally known oxidizing agent can be used as long as it can oxidize a sulfide group to a sulfoxide group or a sulfone group, such as performic acid, peracetic acid,
Peracids such as pertrifluoroacetic acid, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, 0-carbonylbenzoic acid, hydrogen peroxide,
EF11 can include dichromates such as dichromic acid, sodium dichromate, and potassium dichromate, and permanganates such as permanganic acid, sodium permanganate, and potassium permanganate. Examples of the solvent include water, organic acids such as formic acid, acetic acid, and trifluoroacetic acid, alcohols such as methanol and ethanol, halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane, and mixed solvents thereof. . The above reaction normally proceeds suitably at a temperature of -20 to 40°C, preferably 0°C to around room temperature, and is generally completed in about 0.5 to 50 hours.

化合物（１ｓ）を酸化して化合物（１ｔ）を得る場合に
は、上記酸化剤を化合物（１ｓ）に対して通常少なくと
も等モル、好ましくは等モル〜１．５倍モル量程度使用
するのがよい。When compound (1s) is oxidized to obtain compound (1t), the above-mentioned oxidizing agent is usually used in an amount of at least equimolar, preferably equimolar to 1.5 times the molar amount of compound (1s). good.

化合物（１ｓ）を酸化して化合物（１ｕ）を得る場合に
は、上記酸化剤を化合物（１ｓ）に対して通常少なくと
も２倍モル、好ましくは２〜４倍モル全程度使用するの
がよい。When compound (1s) is oxidized to obtain compound (1u), the oxidizing agent is generally used in an amount of at least 2 times, preferably 2 to 4 times, the amount of compound (1s).

化合物（１ｔ）を酸化して化合物（１ｕ）を得る場合に
は、上記酸化剤を化合物（１ｔ）に対して通常少なくと
も等モル、好ましくは等モル−４倍モル全程度使用する
のがよい。When compound (1t) is oxidized to obtain compound (1u), the oxidizing agent is usually used in an amount of at least equimolar, preferably equimolar to 4 times the amount of compound (1t).

反応式−１４ 〔式中Ｒ，Ｒ’　、Ｒ２、ＡＳＸ、ｎ、Ｘ’　、及びカ
ルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に
同じ。〕 一般式（１９）の化合物と一般式（２ｏ）の化合物との
反応は、一般にフリーデル−クラフト反応と呼ばれてい
るものであり、ルイス酸の存在下適当な溶媒中にて行な
われる。ここでルイス酸としては、例えば塩化アルミニ
ウム、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第二錫、三臭化硼素
、三弗化硼素、濃硫酸等を挙げることができる。斯がる
ルイス酸の使用全としては、化合物（１９）に対して通
常等モル〜６倍モル量、好ましくは等モル−４倍モル足
とするのがよい。また溶媒としては、例えば二硫化炭素
、ニトロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。化合物（１９
）と化合物（２０）との使用割合としては、通常前者に
対して後者を少なくとも等モル、好ましくは等モル−４
倍モルとするのがよい。上記反応は、通常０〜１２０℃
、好ましくは０°Ｃ〜７０°Ｃ付近にて好適に進行し、
一般に０．５〜６時間程度で終了する。Reaction Formula-14 [In the formula, R, R', R2, ASX, n, X' and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. ] The reaction between the compound of general formula (19) and the compound of general formula (2o) is generally called a Friedel-Crafts reaction, and is carried out in a suitable solvent in the presence of a Lewis acid. Examples of the Lewis acid include aluminum chloride, zinc chloride, ferric chloride, tin chloride, boron tribromide, boron trifluoride, and concentrated sulfuric acid. The total amount of Lewis acid to be used is usually from 1 to 6 times the molar amount of compound (19), preferably from 1 to 4 times the molar amount of compound (19). Examples of solvents include aromatic hydrocarbons such as carbon disulfide, nitrobenzene, and chlorobenzene, dichloromethane, dichloroethane, chloroform,
Examples include halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, trichloroethane, and tetrachloroethane. Compound (19
) and compound (20), the ratio of the latter to the former is usually at least equimolar, preferably equimolar -4
It is better to double the molar amount. The above reaction is usually carried out at 0 to 120°C.
, preferably proceeding suitably at around 0°C to 70°C,
Generally, the process is completed in about 0.5 to 6 hours.

上記反応式−３において出発原料として用いられる化合
物（６）及び上記反応式−６において出発原料として用
いられる化合物（９）は、例えば下記に示す方法によっ
ても製造される。Compound (6) used as a starting material in Reaction Scheme-3 above and compound (9) used as a starting material in Reaction Scheme-6 above can also be produced, for example, by the method shown below.

反応式−１５ ぺ２１ （６ｅ） 〔式中Ｒ，Ｒ’　、Ｒ２、Ｒ３、Ａ、ＸＩ　、Ｘ’、並
びにカルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は
前記に同じ。〕 一般式（６ａ）の化合物の還元反応は、前記化合物（１
ｄ）の還元反応と同様の反応条件下にて行ない得る。Reaction formula-15 Pe21 (6e) [In the formula, R, R', R2, R3, A, XI, X' and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. ] The reduction reaction of the compound of general formula (6a) is carried out using the compound (1
It can be carried out under the same reaction conditions as the reduction reaction in d).

一般式（６ｂ）の化合物のハロゲン化反応は、前記化合
物（１ｐ）のハロゲン化反応と同様の反応条件下にて行
ない得る。The halogenation reaction of the compound of general formula (6b) can be carried out under the same reaction conditions as the halogenation reaction of the compound (1p).

一般式（６ｄ）の化合物と化合物（１８）との反応は、
前記化合物（１ｑ）と化合物（１８）との反応と同様の
反応条件下にて行ない得る。尚、該反応において、化合
物（６ｄ）のＸｌが基Ｒ３０−で置換された化合物及び
化合物（６ｄ）のＸｌ及びＸｉがそれぞれ基Ｒ３０−で
置換された化合物が生成するが、これらの化合物は化合
物（６ｅ）から容易に分離することができる。The reaction between the compound of general formula (6d) and compound (18) is
The reaction can be carried out under the same reaction conditions as the reaction between compound (1q) and compound (18). In addition, in this reaction, a compound in which Xl of compound (6d) is substituted with a group R30- and a compound in which Xl and Xi of compound (6d) are each substituted with a group R30- are produced, but these compounds are It can be easily separated from (6e).

一般式（６ａ）の化合物とヒドロキシルアミン（１７）
との反応は、前記化合物（１ｑ）とヒドロキシルアミン
（１７）との反応と同様の反応条件下にて行ない得る。Compound of general formula (6a) and hydroxylamine (17)
The reaction with hydroxylamine (1q) can be carried out under the same reaction conditions as the reaction between compound (1q) and hydroxylamine (17).

尚、該反応において、化合物（６ａ）のＸｌがヒドロキ
シルアミン（１７）と反応した化合物が生成するが、該
化合物は化合物（６Ｃ）から容易に分離することができ
る。In this reaction, a compound is produced in which Xl of compound (6a) reacts with hydroxylamine (17), but this compound can be easily separated from compound (6C).

反応式−１６ ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ
１（６ｆ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
２２）ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　Ｒ１（２４＞　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　（９ｂ）（９ａ） ＜２９＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　　＜６
ｈ）〔式中Ｒ１、Ｒ２、ＺｌＸｌ、Ｘム、並びにカルボ
スチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は前記に同じ
。Ｒ８及びＲ９は低級アルキル基を示す。Ａ′は低級ア
ルキレン基を示す。〕一般式（６ｆ）の化合物と一般式
（２３）の化合物との反応は、適当な溶媒中で行なわれ
る。ここで化合物（２３）としては、例えばシアン化カ
リウム、シアン化ナトリウム、シアン化銀、シアン化銅
、シアン化カルシウム等のシアン化物を例示できる。ま
た溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノール、
イソプロパツール等のアルコール類やこれらの混合溶媒
等を挙げることができる。化合物（１ｆ）と化合物（２
３）との使用割合としては、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル、好ましくは等モル−１，５倍モル量と
するのがよい。該反応は、通常室温〜１５０°Ｃ１好ま
しくは５０〜１２０℃付近にて好適に進行し、一般に３
０分〜１０時間程度で終了する。Reaction formula-16 RI R
1 (6f) (
22) R.I.
R1(24>
(9b) (9a) <29><6
h) [In the formula, R1, R2, ZlXl, X, and the carbon-carbon bonds at the 3- and 4-positions of the carbostyril skeleton are the same as above. R8 and R9 represent lower alkyl groups. A' represents a lower alkylene group. ] The reaction between the compound of general formula (6f) and the compound of general formula (23) is carried out in a suitable solvent. Examples of the compound (23) include cyanides such as potassium cyanide, sodium cyanide, silver cyanide, copper cyanide, and calcium cyanide. Examples of solvents include water, methanol, ethanol,
Examples include alcohols such as isopropanol and mixed solvents thereof. Compound (1f) and compound (2
The ratio of the latter to the former is usually at least equimolar, preferably equimolar - 1.5 times the molar amount of the former. The reaction normally proceeds suitably at room temperature to 150°C, preferably around 50 to 120°C, and generally
It completes in about 0 minutes to 10 hours.

一般式（２４）の化合物の加水分解反応は、塩酸、臭化
水素酸等のハロゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の鉱酸、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩乃至炭酸水素塩等の加水分
解触媒の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒にて行なわれ
る。使用される溶媒としては、例えば水、メタノール、
エタノール等のアルコール類やこれらの混合溶媒等が挙
げられる。該反応は、通常５０〜１５０°Ｃ１好ましく
は７０〜１００°Ｃ付近にて好適に進行し、一般に１〜
２４時間程時間路了する。斯くして一般式（９ａ）の化
合物が収得される。The hydrolysis reaction of the compound of general formula (24) can be carried out using hydrohalic acids such as hydrochloric acid and hydrobromic acid, mineral acids such as sulfuric acid and phosphoric acid, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and carbonic acid. The reaction is carried out in the presence of a hydrolysis catalyst such as an alkali metal carbonate or hydrogen carbonate such as sodium, potassium carbonate, or sodium hydrogen carbonate, in a suitable solvent or without a solvent. Examples of solvents used include water, methanol,
Examples include alcohols such as ethanol and mixed solvents thereof. The reaction normally proceeds suitably at 50 to 150°C, preferably around 70 to 100°C, and generally at 1 to 150°C.
It will take about 24 hours. In this way, a compound of general formula (9a) is obtained.

化合物（６ｆ）と一般式（２１）の化合物との反応は、
塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中にて行なわれる。The reaction between compound (6f) and the compound of general formula (21) is
It is carried out in a suitable solvent in the presence of a basic compound.

使用される塩基性化合物としては、例えば炭酸カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムア
ミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウム
メチラート、ナトリウムエチラート等の無機塩基、トリ
エチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリ
ン等のアミン類等を挙げることができる。また用いられ
る溶媒としては、例えばジオキサン、テチラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、イソ
プロパツール等の低級アルコール類、ＤＭＦＳＤＭＳＯ
等の極性溶媒等を例示できる。該反応は、反応系内に沃
化カリウム、沃化ナトリウム等のアルカリ金属沃化物等
を存在させることにより有利に進行する。化合物（６ｆ
）と化合物（１つ）との使用割合としては、通常前者に
対して後者を等モル−大過剰量、好ましくは等モル−５
倍モル量、より好ましくは等モル−１，２倍モル量とす
るのがよい。該反応は、通常室温〜２００°Ｃ１好まし
くは６０〜１２０°Ｃ付近にて好適に進行し、一般に１
、〜２４時間時間下終了する。Basic compounds used include, for example, calcium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium amide, sodium hydride, potassium hydride, sodium methylate, sodium ethylate, etc. and amines such as triethylamine, tripropylamine, pyridine, and quinoline. Examples of solvents that can be used include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and diethyl ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, and lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol. ,DMFSDMSO
Examples include polar solvents such as. The reaction proceeds advantageously in the presence of an alkali metal iodide such as potassium iodide or sodium iodide in the reaction system. Compound (6f
) and the compound (one) are usually used in an equimolar large excess of the latter to the former, preferably equimolar -5
It is preferable to use twice the molar amount, more preferably 1 to 2 times the molar amount. The reaction normally proceeds suitably at room temperature to 200°C, preferably around 60 to 120°C, and generally at 1
, ~24 hours or less.

一般式（２２）の化合物の加水分解反応は、上記化合物
（２４）の加水分解反応と同様の反応条件下にて行ない
得る。斯くして一般式（９ｂ）の化合物を収得し得る。The hydrolysis reaction of the compound of general formula (22) can be carried out under the same reaction conditions as the hydrolysis reaction of the compound (24). In this way, a compound of general formula (9b) can be obtained.

化合物（９ａ）又は化合物（９ｂ）と一般式（２５）の
化合物との反応は、通常のエステル化反応の条件が適用
され、例えば（１）適当な溶媒中、脱水剤の存在下に行
なう方法、（２）適当な溶媒中、酸又は塩基性化合物の
存在下に行なう方法等を挙げることができる。For the reaction between compound (9a) or compound (9b) and the compound of general formula (25), ordinary esterification reaction conditions are applied, such as (1) a method in which it is carried out in an appropriate solvent in the presence of a dehydrating agent. (2) A method in which the reaction is carried out in an appropriate solvent in the presence of an acid or a basic compound.

上記（１）の方法において使用される溶媒としては、例
えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒド口フラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯＳＨＭＰＡ等の極性溶媒等を例
示できる。また使用される脱水剤としては、例えばジシ
クロへキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾー
ル等が挙げられる。斯かる脱水剤の使用量としては、化
合物（９ａ）又は（９ｂ）に対して通常少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル−１，５倍モル量とするのがよい
。化合物（９ａ）又は（９ｂ）と化合物（２５）との使
用割合としては、通常前者に対して後者を少なくとも等
モル、好ましくは等モル−１，５倍モル全とするのがよ
い。該反応は、通常室温〜１５０℃、好ましくは５０〜
１００°Ｃ付近にて好適に進行し、一般に１〜１０時間
程時間路了する。Examples of the solvent used in the method (1) above include dichloromethane, chloroform, dichloroethane,
Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, dimethoxyethane, DMF, DMSOSHMPA, etc. Examples include polar solvents. Further, examples of the dehydrating agent used include dicyclohexylcarbodiimide, carbonyldiimidazole, and the like. The amount of such a dehydrating agent to be used is usually at least equimolar, preferably equimolar - 1.5 times the molar amount of compound (9a) or (9b). The ratio of compound (9a) or (9b) and compound (25) to be used is usually at least an equimolar amount of the latter to the former, preferably an equimolar to 1.5 times the total molar amount. The reaction is usually carried out at room temperature to 150°C, preferably at 50°C to 150°C.
It progresses suitably at around 100°C and generally takes about 1 to 10 hours.

上記（２）の方法において使用される酸としては、例え
ば塩酸ガス、硫酸、燐酸、ポリリン酸、三弗化硼素、過
塩素酸等の無機酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸等
の有機酸、トリクロロメタンスルホン酸無水物、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物等の酸無水物、チオニル
クロライド、アセトンジメチルアセタール等を例示でき
る。更に酸性イオン交換樹脂も使用することができる。Examples of acids used in the method (2) above include hydrochloric acid gas, sulfuric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, boron trifluoride, inorganic acids such as perchloric acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and naphthalenesulfonic acid. Examples include organic acids such as p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid and ethanesulfonic acid, acid anhydrides such as trichloromethanesulfonic anhydride and trifluoromethanesulfonic anhydride, thionyl chloride, and acetone dimethyl acetal. Furthermore, acidic ion exchange resins can also be used.

また塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀等の無機塩基、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
ラード類等を例示できる。該反応は無溶媒下でも行ない
得るが、前記（１）の方法で例示した溶媒を用いて有利
に行なわれる。更に該反応は、無水塩化カルシウム、無
水硫酸銅、無水硫酸カルシウム、五酸化リン等の乾燥剤
を使用すると有利に進行する。化合物（２５）の使用量
としては、無溶媒の時には通常大過剰量使用するのがよ
く、溶媒の存在下の時には通常等モル−５倍モル士、好
ましくは等モル−２倍モルロ使用するのがよい。該反応
は、通常−２０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃付
近にて好適に進行し、一般に１〜２０時間程時間路了す
る。Examples of basic compounds include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, and silver carbonate, and alcoholades such as sodium methylate and sodium ethylate. can. Although the reaction can be carried out without a solvent, it is advantageously carried out using the solvents exemplified in the method (1) above. Furthermore, the reaction proceeds advantageously when a drying agent such as anhydrous calcium chloride, anhydrous copper sulfate, anhydrous calcium sulfate, phosphorus pentoxide, or the like is used. The amount of compound (25) to be used is usually a large excess in the absence of a solvent, and in the presence of a solvent, it is usually equivalent to 5 times the molar amount, preferably equimolar to 2 times the molar amount. Good. The reaction normally proceeds suitably at -20 to 200°C, preferably around 0 to 150°C, and generally takes about 1 to 20 hours.

化合物（９ａ）、化合物（９ｂ）、化合物（２６）又は
化合物（２８）の還元反応は、適当な溶媒中、水素化還
元剤の存在下に行なわれる。The reduction reaction of compound (9a), compound (9b), compound (26) or compound (28) is carried out in a suitable solvent in the presence of a hydrogenation reducing agent.

使用される還元剤としては、水素化硼素ナトリウム、水
素化アルミニウムリチウム、ジボラン等を例示できる。Examples of the reducing agent used include sodium borohydride, lithium aluminum hydride, and diborane.

斯かる還元剤の使用量としては、処理すべき化合物に対
して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル−３倍モ
ル量とするのがよい。The amount of such a reducing agent to be used is usually at least equimolar, preferably equimolar to 3 times the molar amount of the compound to be treated.

特に水素化アルミニウムリチウムを還元剤として使用す
る場合には、処理すべき化合物に対して等重量使用する
のが好ましい。また用いられる溶媒としては、例えば水
、メタノール、エタノール、イソプロパツール等の低級
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、ジグライム等のエーテル類等を挙げることができる。Particularly when lithium aluminum hydride is used as a reducing agent, it is preferable to use it in an equal weight to the compound to be treated. Examples of the solvent that can be used include water, lower alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, and ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, and diglyme.

特に還元剤として水素化アルミニウムリチウムやジボラ
ンを使用する場合には、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジグライム等の無水溶媒を使用するのがよい
。該反応は、通常−６０〜５０６Ｃ１好ましくは一５０
０Ｃ〜室温付近にて好適に進行し、一般に１０分〜５時
間程度で終了する。Particularly when lithium aluminum hydride or diborane is used as the reducing agent, it is preferable to use an anhydrous solvent such as diethyl ether, tetrahydrofuran, diglyme, or the like. The reaction usually involves -60 to 506C1, preferably -50
It progresses suitably at 0C to around room temperature, and generally finishes in about 10 minutes to 5 hours.

一般式（２７）の化合物又は一般式（２つ）の化合物の
ハロゲン化は、上記化合物（１ｐ）のハロゲン化反応と
同様の反応条件下にて行ない得る。The halogenation of the compound of general formula (27) or the compound of general formula (2) can be carried out under the same reaction conditions as the halogenation reaction of compound (1p).

上記反応式−１６の反応を順次繰り返すことにより、所
望の化合物（６）又は化合物（９）を製造し得る。The desired compound (6) or compound (9) can be produced by sequentially repeating the reaction of Reaction Formula-16 above.

上記一般式（１）のカルボスチリル誘導体は、薬理的に
許容される酸と塩を形成させることができる。斯かる酸
としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、
蓚酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、酢酸、リン
ゴ酸、クエン酸、乳酸等の有機酸を例示できる。The carbostyril derivative of general formula (1) above can form a salt with a pharmacologically acceptable acid. Such acids include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, and phosphoric acid;
Examples include organic acids such as oxalic acid, succinic acid, maleic acid, fumaric acid, acetic acid, malic acid, citric acid, and lactic acid.

また上記一般式（１）のカルボスチリル誘導体の内、酸
性基を有する化合物は、薬理的に許容される塩基と塩を
形成させることができる。斯かる塩基としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のア
ルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物を例示でき
る。Further, among the carbostyryl derivatives of the above general formula (1), a compound having an acidic group can form a salt with a pharmacologically acceptable base. Examples of such bases include hydroxides of alkali metals and alkaline earth metals such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and calcium hydroxide.

本発明の化合物は、当然に光学異性体、立体異性体を含
有するものである。The compounds of the present invention naturally contain optical isomers and stereoisomers.

本発明の化合物は通常、一般的な医薬製剤の形態で用い
られる。製剤は通常使用される充填剤、増旦剤、結合剤
、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤ある
いは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤としては
各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的な
ものとして錠剤、光列、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆
粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）等
が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては、担体
としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例え
ば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デン
プン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケ
イ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツール、単シ
ロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カル
ボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース
、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、
乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラ
ミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポ
リオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デン
プン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバタ
ー、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩
基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリ
ン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、
ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タル
ク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコー
ル等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必要に応じ
通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包
錠、腸溶破錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠
、多層錠とすることができる。光列の形態に成形するに
際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く
使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂
、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビア
ゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等が例示できる。坐
剤の形態に成形するに際しては、担体として従来公知の
ものを広く使用でき、例えばポリエチレングリコール、
カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル
類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げることがで
きる。注射剤として調製される場合には、液剤、乳剤及
び懸濁剤は殺菌され、かっ血液と等張であるのが好まし
く、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成形するに際
しては、希釈剤としてこの分野において慣用されている
ものをすべて使用でき、例えば水、乳酸水溶液、エチル
アルコール、プロピレングリコール、エトキシ化イソス
テアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアル
コール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
類等を挙げることができる。なお、この場合等強性の溶
液を調製するに充分な盆の食塩、ブドウ糖あるいはグリ
セリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の
溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更
に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤
等や池の医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペ
ースト、クリーム及びゲルの形態に成形するに陛しては
、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフィン、グリ
セリン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、
シリコン、ベントナイト等を使用できる。The compounds of the present invention are normally used in the form of common pharmaceutical formulations. The formulation is prepared using commonly used diluents or excipients such as fillers, thickeners, binders, wetting agents, disintegrants, surfactants, and lubricants. Various forms of this pharmaceutical preparation can be selected depending on the therapeutic purpose, and representative examples include tablets, photons, powders, liquids, suspensions, emulsions, granules, capsules, suppositories, and injections ( solutions, suspensions, etc.). When forming tablets, a wide variety of carriers conventionally known in this field can be used, such as lactose, sucrose, sodium chloride, glucose, urea, starch, calcium carbonate, kaolin, crystalline cellulose, silicic acid, etc. Excipients, water, ethanol, propatool, simple syrup, glucose solution, starch solution, gelatin solution, binders such as carboxymethylcellulose, shellac, methylcellulose, potassium phosphate, polyvinylpyrrolidone,
Dried starch, sodium alginate, agar powder, laminaran powder, sodium bicarbonate, calcium carbonate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, sodium lauryl sulfate, stearic acid monoglyceride, starch, disintegrants such as lactose, white sugar, stearin, cocoa butter, Disintegration inhibitors such as hydrogenated oils, absorption enhancers such as quaternary ammonium bases and sodium lauryl sulfate, humectants such as glycerin and starch, starch, lactose, kaolin,
Examples include adsorbents such as bentonite and colloidal silicic acid, purified talc, stearate, boric acid powder, and lubricants such as polyethylene glycol. Furthermore, the tablets can be made into tablets with conventional coatings as required, such as sugar-coated tablets, gelatin-encapsulated tablets, enteric-coated tablets, film-coated tablets, double tablets, or multilayer tablets. When forming the shape into a light string, a wide variety of carriers conventionally known in this field can be used, such as excipients such as glucose, lactose, starch, cocoa butter, hydrogenated vegetable oil, kaolin, and talc, powdered gum arabic, Examples include tragacanth powder, gelatin, binders such as ethanol, and disintegrants such as laminar agar. When forming into a suppository, a wide variety of conventionally known carriers can be used, such as polyethylene glycol,
Examples include cocoa butter, higher alcohols, esters of higher alcohols, gelatin, and semi-synthetic glycerides. When prepared as injections, solutions, emulsions and suspensions are preferably sterilized and isotonic with blood stasis, and when formed into the form of solutions, emulsions and suspensions, diluents are used. All those commonly used in this field can be used as the solvent, such as water, aqueous lactic acid solution, ethyl alcohol, propylene glycol, ethoxylated isostearyl alcohol, polyoxylated isostearyl alcohol, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, etc. can. In this case, the pharmaceutical preparation may contain enough salt, glucose, or glycerin to prepare an iso-strength solution, and the usual solubilizing agents, buffers, soothing agents, etc. may be added. You can. Furthermore, coloring agents, preservatives, perfumes, flavoring agents, sweeteners, and other pharmaceuticals may be included in the pharmaceutical preparation, if necessary. For forming pastes, creams and gels, diluents such as white petrolatum, paraffin, glycerin, cellulose derivatives, polyethylene glycols,
Silicon, bentonite, etc. can be used.

本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式（１）の化
合物又はその塩の量は、特に限定されず広範囲に適宜選
択されるが、通常全組成物中１〜７０重量％とするのが
よい。The amount of the compound of general formula (1) or its salt to be contained in the pharmaceutical preparation of the present invention is not particularly limited and can be appropriately selected within a wide range, but is usually 1 to 70% by weight of the total composition. Good.

本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じた方法で投与される。例えば錠剤、火剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投
与される。また注射剤の場合には単独であるいはブドウ
糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され
、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしく
は腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される
。There are no particular restrictions on the method of administering the pharmaceutical preparation of the present invention, and the method is determined depending on the various preparation forms, age, sex and other conditions of the patient, the severity of the disease, and the like. For example, tablets, gunpowder, liquid,
Suspensions, emulsions, granules and capsules are administered orally. In the case of an injection, it is administered intravenously alone or mixed with a normal replacement fluid such as glucose or amino acids, and furthermore, if necessary, it is administered alone intramuscularly, intradermally, subcutaneously, or intraperitoneally. Suppositories are administered rectally.

本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別そ
の他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通
常有効成分である一般式（１）の化合物のｉは１日当り
体重１ｋｇ当り約０．０６〜１００１１１ｇとするのが
よく、該製剤は１日に２〜４回に分けて投与することが
できる。The dosage of the pharmaceutical preparation of the present invention is appropriately selected depending on the usage, age, sex and other conditions of the patient, degree of disease, etc., but usually i of the compound of general formula (1), which is the active ingredient, is 1 kg of body weight per day. The dosage is preferably about 0.06 to 100111 g per day, and the preparation can be administered in 2 to 4 divided doses per day.

実施例 以下に製剤例、参考例、実施例、及び薬理試験を掲げる
。Examples Below are formulation examples, reference examples, working examples, and pharmacological tests.

製剤例１ 錠剤の調製 配　　合　　　　　　　　　　量（ｇ）６−　（２−（
１−フェニル− ２−イミダゾリル）チオアセ チル］−３，４−ジヒドロカ ルボスチリル　　　　　　　　　　　５乳糖（日本薬局
方晶）５０ コーンスターチ（日本薬局方晶）２５ 結晶セルローズ（日本薬局方晶）２５ メチルセルローズ（日本薬局方晶）１．５ステアリン酸
マグネシウム （日本薬局方晶）　　　　　　　　１ 上記本発明の化合物、乳糖、コーンスターチ及び結晶セ
ルローズを充分混合し、メチルセルローズの５％水溶液
で顆粒化し、２００メツシユの篩に通して注意深く乾燥
し、これを常法により打錠して錠剤１０００錠を調製す
る。Formulation Example 1 Preparation of tablets Amount (g) 6- (2-(
1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl]-3,4-dihydrocarbostyryl 5 Lactose (Japanese Pharmacopoeia) 50 Cornstarch (Japanese Pharmacopoeia) 25 Crystalline cellulose (Japanese Pharmacopoeia) 25 Methylcellulose (Japanese Pharmacopoeia) Crystal) 1.5 Magnesium Stearate (Japanese Pharmacopoeia Crystal) 1 The above compound of the present invention, lactose, corn starch and crystalline cellulose were thoroughly mixed, granulated with a 5% aqueous solution of methyl cellulose, and carefully passed through a 200 mesh sieve. After drying, this is compressed into tablets by a conventional method to prepare 1000 tablets.

製剤例２ カプセル剤の調製 配　　　合　　　　　　　　　　　量　（ｇ）６−　（
３−［：１−　（３−ピリ ジル）−２−イミダゾリル） チオプロポキシ）−３，４− ジヒドロカルボスチリル　　　　　１０乳糖（日本薬局
方晶）８０ 澱粉（日本薬局方晶）３０ 滑石（日本薬局方晶）　　　　　　　　５ステアリン酸
マグネシウム （日本薬局方晶）　　　　　　　　１ 上記成分を細かく粉末にし、均一な混合物になるように
充分攪拌したのち所望の寸法を有する経口投与用のゼラ
チンカプセルに充填し、カプセル１０００個を調製する
。Formulation Example 2 Preparation of capsules Amount (g) 6- (
3-[:1- (3-pyridyl)-2-imidazolyl) thiopropoxy)-3,4- dihydrocarbostyryl 10 Lactose (Japanese Pharmacopoeia) 80 Starch (Japanese Pharmacopoeia) 30 Talc (Japanese Pharmacopoeia) ) 5 Magnesium Stearate (Japanese Pharmacopoeia Crystal) 1 The above ingredients were made into a fine powder, stirred thoroughly to form a homogeneous mixture, and then filled into gelatin capsules for oral administration having the desired dimensions to prepare 1000 capsules. do.

製剤例３ 注射剤の調製 配　　合　　　　　　　　　　全（ｇ）６−　［２−（
１−フェニル− ２−イミダゾリル）チオアセ チル〕−３，４−ジヒドロカ ルボスチリル　　　　　　　　　　　１ポリエチレング
リコール（分子量： ４０００）（日本薬局方晶）ｏ、３ 塩化ナトリウム（日本薬局方晶）ｏ、９ポリオキシエチ
レンソルビタン モノオレート（日本薬局方晶）　　　０．４メタ重亜硫
酸ナトリウム　　　　　　０．　１メチル−パラベン（
日本薬局方品）０．１８プロピル−パラベン（日本薬局
方品）０．０２注射用蒸留水　　　　　　　　　　１０
１００（り上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及
び塩化ナトリウムを攪拌しながら８０℃で上記の約半全
の蒸留水に溶解し、その溶液を４０°Ｃまで冷却し、本
発明の化合物、ポリエチレングリコール及びポリオキシ
エチレンソルビタンモノオレエートをその溶液中に溶解
し、その溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量゛に調
製し、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾過する
ことにより滅菌して注射剤を調製する。Formulation example 3 Preparation of injection formulation Total (g) 6- [2-(
1-Phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl]-3,4-dihydrocarbostyryl 1 Polyethylene glycol (molecular weight: 4000) (Japanese Pharmacopoeia crystal) o, 3 Sodium chloride (Japanese Pharmacopoeia crystal) o, 9 Polyoxyethylene sorbitan Monooleate (Japanese Pharmacopoeia) 0.4 Sodium metabisulfite 0. 1 methyl-paraben (
Japanese Pharmacopoeia product) 0.18 Propyl-paraben (Japanese Pharmacopoeia product) 0.02 Distilled water for injection 10
The above parabens, sodium metabisulfite and sodium chloride are dissolved in about half of the above distilled water at 80°C with stirring, the solution is cooled to 40°C, and the compound of the present invention, polyethylene glycol and polyoxyethylene sorbitan monooleate are dissolved in the solution, the solution is adjusted to the final volume by adding distilled water for injection, and sterilized by sterile filtration using a suitable filter paper for injection. Prepare the agent.

参考例１ ６−（４−クロロブチリル）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル１０ｇ　（３９，７ｍモル）をベンゼン３００
　ｍＱに溶解させ、これにエチレングリコール７．４ｇ
　（１２０ｍモル）、ｐ−トルエンスルホン酸３００ｍ
ｇを加え、ディーンスターク中、脱水しながら６時間加
熱還流する。冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水で中和
し、クロロホルムにて抽出する。水洗、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を濃縮する。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：
メタノール＝４０　：　１）で精製して、１０．５ｇの
６−（１−エチレンジオキシ−４−クロロブチル）−３
，４−ジヒドロカルボスチリルを得る。Reference Example 1 10 g (39.7 mmol) of 6-(4-chlorobutyryl)-3,4-dihydrocarbostyryl was added to 300 g of benzene.
Dissolve in mQ and add 7.4 g of ethylene glycol to this.
(120 mmol), p-toluenesulfonic acid 300 m
g and heated under reflux for 6 hours while dehydrating in Dean-Stark. After cooling, neutralize with saturated sodium bicarbonate water and extract with chloroform. After washing with water and drying with magnesium sulfate, the solvent is concentrated. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; chloroform:
Purified with methanol = 40:1) to yield 10.5 g of 6-(1-ethylenedioxy-4-chlorobutyl)-3
, 4-dihydrocarbostyryl.

参考例２ メチルシクロｔ＼キシルカルボキシレート２８ｇと８５
％Ｎ　Ｈ２Ｎ　Ｈ２・Ｈ２Ｏ１５ｇをイソプロピルアル
コール５０ｍ１２に溶解し、１０時間加熱還流する。濃
縮後、水を加えて析出する結晶をか取し、水洗後、水か
ら再結晶すると無色針状晶のシクロヘキサンカルボヒド
ラジド２０ｇを得る。Reference example 2 Methylcyclot\xylcarboxylate 28g and 85
Dissolve 15 g of %N H2N H2.H2O in 50 ml of isopropyl alcohol and heat under reflux for 10 hours. After concentration, water is added and the precipitated crystals are collected, washed with water, and then recrystallized from water to obtain 20 g of cyclohexane carbohydrazide in the form of colorless needles.

融点１５５．５〜１５６．５℃ 実施例１ ６−（３−ブロモプロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル２−　　Ｏｇ　（７，０ｍモル）、２−メチ
ルイミダゾール２−　２ｇ　（７，７ｍモル）及びＤＢ
Ｕｌ、３ｍＱ　（８，４ｍモル）をイソプロパツール８
０ｍ１２に加え、２０時間加熱還流する。Melting point 155.5-156.5°C Example 1 6-(3-bromopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 2-Og (7.0 mmol), 2-methylimidazole 2-2g (7.7 mmol) ) and DB
Ul, 3mQ (8.4 mmol) isopropanol 8
0ml and heated under reflux for 20 hours.

濃縮後、残渣に水を加え、クロロホルムにて抽出する。After concentration, water is added to the residue and extracted with chloroform.

水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥、続いて濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
液；ジクロロメタン：メタノール−２０：　１）にて精
製後、エタノール−ｎ−ヘキサンより再結晶して、１．
０ｇの６−　Ｃ３−（２−メチル−１−イミダゾリル）
プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリルを得る
。Wash with water, dry over sodium sulfate, and then concentrate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: dichloromethane:methanol-20:1), and then recrystallized from ethanol-n-hexane to obtain 1.
0g of 6-C3-(2-methyl-1-imidazolyl)
Propoxy]-3,4-dihydrocarbostyryl is obtained.

白色粉末状 ｍｐ、１４１．５−１４２．５°Ｃ 実施例２ ６−メルカブトー３，４−ジヒドロカルボスチリル２．
４ｇ　（１３，４モル）、１−（３−ブロモプロピル）
−１，２，４−）−リアゾール３．３ｇ（１７，４ｍモ
ル）及びＤＢＵ２．６ｍｆ２（１７，４ｍモル）をイソ
プロパツール６０　ｍＱに加え、２時間加熱還流する。White powder mp, 141.5-142.5°C Example 2 6-mercabuto 3,4-dihydrocarbostyryl 2.
4g (13,4 mol), 1-(3-bromopropyl)
3.3 g (17.4 mmol) of -1,2,4-)-riazole and 2.6 mf2 (17.4 mmol) of DBU are added to 60 mQ of isopropanol and heated under reflux for 2 hours.

反応終了後、濃縮し、残渣をクロロホルムにて抽出する
。水、飽和炭酸水素ナトリウム水、水の順に洗浄し、硫
酸ナトリウ１４にて乾燥する。溶媒を濃縮後、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；
ジクロロメタン：メタノール＝２０　＋　１）にて精製
後、エタノール−ｎ−ヘキサンより再結晶して、２．５
ｇの６−［３−（ＩＨ−１，２，４−トリアゾール−１
−イル）プロピルチオ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルを得る。After the reaction is completed, it is concentrated and the residue is extracted with chloroform. Wash with water, saturated sodium bicarbonate water, and water in this order, and dry with 14 ml of sodium sulfate. After concentrating the solvent, the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent;
After purification with dichloromethane: methanol = 20 + 1), recrystallization from ethanol-n-hexane yielded 2.5
g of 6-[3-(IH-1,2,4-triazole-1
-yl)propylthio)-3,4-dihydrocarbostyryl is obtained.

ｍｐ、１１４．５〜１１５．５°Ｃ 無色針状晶 適当な出発原料を用い、実施例１及び２と同様にして下
記第１表に示す化合物を得る。mp, 114.5-115.5°C Colorless needle crystals The compounds shown in Table 1 below are obtained in the same manner as in Examples 1 and 2 using appropriate starting materials.

１）　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）δ：１．　８２〜
２．　２４　　（２Ｈ，ｍ）２、　２５〜２．　６０　
　（２Ｈ，ｍ）２、　６５〜３．　００　　（２ＨＳ　
ｍ）３、　２０　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）４、　０
２　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）６、　５６〜６．　９
７　　（３Ｈ，ｍ）７、　０７〜７．８８　　（６ＨＳ
　ｍ）９、　８８　　（ＩＨ，ｂｒｓ　） 実施例６９ ６−（１−エチレンジオキシ−４−クロロブチル）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル１０．５ｇ　（３５，５
ｍモル）をジメチルホルムアミド１７０ｍＱに溶解させ
、沃化ナトリウム１０．６ｇ（７１ｍモル）　、ＩＨ−
１，２，４−）リアゾール５．４ｇ　（７８，１ｍモル
）及びＤＢＵ６．５ｍＧ（４６，２ｍモル）を加え、８
０℃にて７時間加熱攪拌する。溶媒を減圧下濃縮後、残
渣をクロロホルムにて抽出する。水洗、硫酸マグネシウ
ムにて乾燥後、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：メタ
ノール−４０：１）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキ
サンより再結晶して、８．Ｏｇの無色粒状晶の６−〔１
−エチレンジオキシ−４−（ＩＨ−１，２，４−トリア
ゾール−１−イル）ブチル］−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。次に、ここで得られた６−〔１−エチ
レンジオキシ−４−（ＩＨ−１，２，４−）リアゾール
−１−イル）ブチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルＩｇ　（３，０ｍモル）のＤＭＦ１０ｍｆ２溶液に５
％塩酸３鵬を加え、室温下、２時間攪拌する。溶媒を濃
縮後、得られた残渣をクロロホルム：メタノール−３：
１で抽出する。水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、続いて
溶媒を濃縮する。クロロホルム−エタノールより再結晶
して、６−（４−（ＩＨ−１，２，４−）リアゾール−
１−イル）ブチリル）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルを得る。1) NMR (DMSO-d6) δ: 1. 82～
2. 24 (2H, m)2, 25-2. 60
(2H, m)2, 65~3. 00 (2HS
m) 3, 20 (IH, t, J=7Hz) 4, 0
2 (2H, t, J=6Hz)6, 56-6. 9
7 (3H, m) 7, 07~7.88 (6HS
m)9, 88 (IH, brs) Example 69 6-(1-ethylenedioxy-4-chlorobutyl)-3
,4-dihydrocarbostyryl 10.5g (35,5
mmol) in 170 mQ of dimethylformamide, 10.6 g (71 mmol) of sodium iodide, IH-
Add 5.4 g (78.1 mmol) of 1,2,4-) lyazole and 6.5 mG (46.2 mmol) of DBU,
Heat and stir at 0°C for 7 hours. After concentrating the solvent under reduced pressure, the residue is extracted with chloroform. After washing with water and drying with magnesium sulfate, concentrate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: chloroform:methanol-40:1), and then recrystallized from ethanol-n-hexane to obtain 8. 6-[1 of colorless granular crystals of Og
-ethylenedioxy-4-(IH-1,2,4-triazol-1-yl)butyl]-3,4-dihydrocarbostyryl is obtained. Next, 6-[1-ethylenedioxy-4-(IH-1,2,4-)lyazol-1-yl)butyl)-3,4-dihydrocarbostyryl Ig (3,0m 5 molar) in a DMF 10mf2 solution
Add 3% hydrochloric acid and stir at room temperature for 2 hours. After concentrating the solvent, the obtained residue was mixed with chloroform:methanol-3:
Extract with 1. Wash with water, dry over magnesium sulfate, and then concentrate the solvent. Recrystallized from chloroform-ethanol to give 6-(4-(IH-1,2,4-)lyazole-
1-yl)butyryl)-3,4-dihydrocarbostyryl is obtained.

無色針状晶 ｍｐ、１９４．０〜１９５．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例６９と同様にして前記実
施例５．７〜１２．１４．１８〜２０．２６．２８．３
４．３６．３７．４１．４３〜５１．１６９．１７０の
化合物及び下記第２表に示す化合物を得る。Colorless needle crystals mp, 194.0-195.0°C Preparation of Examples 5.7-12.14.18-20.26.28.3 in the same manner as in Example 69 using appropriate starting materials
Compounds 4.36.37.41.43 to 51.169.170 and the compounds shown in Table 2 below are obtained.

実施例８５ ６−α−クロロアセチル−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル２．２４ｇ　（１０ｍモル）、１−フェニル−２−
メルカプトイミダゾール１．　９４ｇ（１１ｍモル）及
びＤＢＵｌ、７５１１Ｇ（１２ｍモル）をイソプロパツ
ール８０ｍＱに加え、１ｏ分間加熱還流する。冷浸、析
出晶を炉取、イソプロパツールで洗浄する。エタノール
より再結晶して、６−　（２−（１−フェニル−２−イ
ミダゾリル）チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。Example 85 6-α-chloroacetyl-3,4-dihydrocarbostyryl 2.24 g (10 mmol), 1-phenyl-2-
Mercaptoimidazole 1. Add 94 g (11 mmol) and DBUL, 7511G (12 mmol) to 80 mQ of isopropanol and heat under reflux for 10 minutes. Cooling, remove the precipitated crystals with a furnace, and wash with isopropanol. Recrystallization from ethanol yields 6-(2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl.

淡黄色針状晶 ｍｐ、２０９．０〜２１０．０’Ｃ 実施例８６ ６−（２−ブロモブチリル）　−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル２．０ｇ　（６，８ｍモル）、１−フェニル
−２−メルカプトイミダゾール１．４ｇ　（８，１ｍモ
ル）及びＤＢＵｌ、　　１１１１０（８，１ｍモル）を
イソプロパツール６０ｍ（ｌに加え、３時間加熱還流す
る。反応終了後、溶媒を濃縮し、得られた残渣をクロロ
ホルムにて抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後
、溶媒を濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメタン：メタノー
ル＝２０＝１）にて精製後、クロロホルム−ｎ−ヘキサ
ンより再結晶して、２ｇの６−（２−（１−フェニル−
２−イミダゾリル）チオブチリル）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルを得る。Pale yellow needles mp, 209.0-210.0'C Example 86 6-(2-bromobutyryl)-3,4-dihydrocarbostyryl 2.0 g (6.8 mmol), 1-phenyl-2- Add 1.4 g (8.1 mmol) of mercaptoimidazole and DBUL, 11110 (8.1 mmol) to 60 ml (l) of isopropanol and heat under reflux for 3 hours. After the reaction is complete, the solvent is concentrated and the resulting residue is is extracted with chloroform. After washing with water and drying with sodium sulfate, the solvent is concentrated. The obtained residue is purified by silica gel column chromatography (eluent; dichloromethane:methanol = 20 = 1), and then extracted with chloroform-n -2g of 6-(2-(1-phenyl-)
2-imidazolyl)thiobutyryl)-3,4-dihydrocarbostyryl is obtained.

無色針状晶 ｍｐ、８２．０〜８４．５℃ 適当な出発原料を用い、実施例８５及び８６と同様にし
て前記実施例３．１３．１５〜１７．２１〜２５．２７
．２９〜３３．３５．３８〜４０．４２．５２〜６５．
１７５〜２０２の化合物及び下記第３表に示す化合物を
得る。Colorless needle crystals mp, 82.0-84.5°C Preparation of Examples 3.13.15-17.21-25.27 in the same manner as in Examples 85 and 86 using appropriate starting materials
．． 29-33.35.38-40.42.52-65.
Compounds 175 to 202 and the compounds shown in Table 3 below are obtained.

２）　　ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）　　δ：１．　８７〜
２．　３０　　（２ＨＳ　ｍ）２．４８〜２．　７５　
　（２Ｈ，ｔｒｌｐｌｅｔｏｉｄ　　ｍ）２、　８０〜
３．　１０　　（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　　ｍ）
３、　１０〜３．　６７　　（２Ｈ，ｍ）４、　７４〜
４．　９７　　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ−９Ｈｚ。2) NMR (CDCQ3) δ:1. 87~
2. 30 (2HS m) 2.48~2. 75
(2H, trlpletoid m) 2, 80~
3. 10 (2H, tripletoid m)
3, 10-3. 67 (2H, m)4, 74~
4. 97 (LH, dd, J-9Hz.

４．５Ｈｚ） ６．７３　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）７、　０７〜７
．　７５　　（ＩＯＨ，ｍ）８、　４７〜８．　８０　
　（ＩＨ，ｂｒｏａｄ　）実施例１４１ ６−　［３−（２−イミダゾリル）チオプロポキシ］−
３，４−ジヒドロカルボスチリル２ｇ（６，６ｍモル）
のＤＭＦ５０ｍＧ溶液に水酸化カリウム５２０ｍｇ（７
，９ｍモル）を加え、室温下２０分攪拌する。次にエチ
ルブロマイド１．　５１１１０（１９，８ｍモル）を水
冷工法下し、４０〜５０℃で１０分間攪拌する。溶媒を
減圧下濃縮し、残渣に水を加え、クロロホルムで抽出す
る。水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を濃縮する。4.5Hz) 6.73 (IH, d, J-9Hz) 7, 07~7
．． 75 (IOH, m)8, 47-8. 80
(IH, broad) Example 141 6-[3-(2-imidazolyl)thiopropoxy]-
3,4-dihydrocarbostyryl 2 g (6,6 mmol)
Potassium hydroxide 520mg (7
, 9 mmol) and stirred at room temperature for 20 minutes. Next, ethyl bromide 1. 51110 (19.8 mmol) was cooled with water and stirred at 40-50°C for 10 minutes. The solvent was concentrated under reduced pressure, water was added to the residue, and the mixture was extracted with chloroform. After washing with water and drying with sodium sulfate, the solvent is concentrated.

得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
溶出液；クロロホルム：メタノール：酢酸エチル−１０
：１：２０）にて精製後、エタノール−ｎ−ヘキサンよ
り再結晶して、１．２ｇ（７）６−（３−（１−エチル
−２−イミダゾリル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。無色針状晶 ｍｐ、１２０．５〜１２１．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例１０８と同様にして前記
実施例３．１３．１５．２５．２９．３０．３１．３２
．３５．３８〜４０．４２．５５〜６５．８５〜１０３
．１０７．１０９〜１１０．１１２〜１３７．１７３〜
１７９．１８２．１８５〜１８８．１９０〜１９１．１
９５〜１９９及び２０２の化合物を得る。The resulting residue was subjected to silica gel column chromatography (
Eluent; Chloroform: Methanol: Ethyl acetate-10
:1:20) and recrystallized from ethanol-n-hexane to give 1.2g (7) 6-(3-(1-ethyl-2-imidazolyl)thiopropoxy)-3,4-dihydro Obtain Carbostyril. Colorless needle crystals mp, 120.5-121.0°C Preparation of Example 3.13.15.25.29.30.31.32 in the same manner as in Example 108 using appropriate starting materials
．． 35.38~40.42.55~65.85~103
．． 107.109~110.112~137.173~
179.182.185-188.190-191.1
Compounds 95-199 and 202 are obtained.

実施例１４２ ６−（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオア
セチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル２ｇ　（５
，５ｍモル）のＤＭＦ　：メタノール−３：１混合溶液
８０Ｉｒｌ１２に水素化ホウ素ナトリウム２０８Ｂ（５
，５ｍモル）を加え、５０〜６０℃にて１時間加熱攪拌
する。溶媒を濃縮後、残渣をＩＮ−塩酸５０ｍＧに注ぎ
込む。ＩＮ−水酸化ナトリウムでアルカリ性とした後、
析出晶を炉取、水洗、乾燥する。エタノールより再結晶
して、１．５ｇの６−〔１−ヒドロキシ−２−（ｌ−フ
ェニル−２−イミダゾリル）チオエチル〕−３゜４−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。Example 142 6-(2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 2g (5
Sodium borohydride 208B (5 mmol) was added to a DMF:methanol-3:1 mixed solution of 80 Irl
, 5 mmol) and heated and stirred at 50 to 60°C for 1 hour. After concentrating the solvent, the residue is poured into 50 mg of IN-hydrochloric acid. After making it alkaline with IN-sodium hydroxide,
The precipitated crystals are taken out in a furnace, washed with water, and dried. Recrystallization from ethanol yields 1.5 g of 6-[1-hydroxy-2-(l-phenyl-2-imidazolyl)thioethyl]-3°4-dihydrocarbostyryl.

黄色針状晶 ｍｐ、１９７．０〜１９８．５℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４２と同様にして前記
実施例９１．９２．１７２．１８５及び１９０の化合物
を得る。Yellow needles mp, 197.0-198.5°C Compounds of Examples 91, 92, 172, 185 and 190 are obtained in the same manner as in Example 142 using appropriate starting materials.

実施例１４３ Ｎ′−シクロヘキシカルボニル−４−（６−（１，２−
ジヒドロ−２−オキソキノリルオキシ）〕ブチロヒドラ
ジド３ｇにポリリン酸１２０ｇを加え、油浴の温度１９
０〜２１０℃にて１０分間時々攪拌しながら加熱する。Example 143 N'-cyclohexycarbonyl-4-(6-(1,2-
120 g of polyphosphoric acid was added to 3 g of dihydro-2-oxoquinolyloxy)]butyrohydrazide, and the temperature of the oil bath was 19.
Heat at 0-210°C for 10 minutes with occasional stirring.

冷浸、反応液を氷水４００ｍＧに注ぎ、クロロホルムで
抽出する。クロロホルム層を水洗後、硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム：メタノール−２０：　１）で精
製する。クロロホルム−石油エーテルより再結晶して、
黄色針状晶の６−　［３−（２−シクロへキシル−１，
３，４−オキサジアゾール−５−イル）プロポキシ］カ
ルボスチリル０．４ｇを得る。Cool immersion, pour the reaction solution into 400 mg of ice water, and extract with chloroform. The chloroform layer is washed with water, dried over sodium sulfate, concentrated, and the residue is purified by silica gel column chromatography (chloroform:methanol-20:1). Recrystallized from chloroform-petroleum ether,
6-[3-(2-cyclohexyl-1,
0.4 g of 3,4-oxadiazol-5-yl)propoxy]carbostyryl is obtained.

ｍｐ１６０〜１６１．５℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４３と同様にして前記
実施例４及び１５０〜１６６の化合物を得る。mp 160-161.5°C Compounds of Examples 4 and 150-166 are obtained in the same manner as in Example 143 using appropriate starting materials.

実施例１４４ ６−　［３−（１，２，４−１リアゾール−１−イル）
プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル２ｇ　
（７，３５ｍモル）のＤＭＦ溶液２０−に、水素化ナト
リウム（６０％油性）３５０ｍｇ（８，８ｍモル）を加
え、６０℃で３０分加熱する。その後水冷下、エチルブ
ロマイド０．６回（８，１ｍモル）を滴下する。室温下
、３時間攪拌後、反応混合物に水を加え、クロロホルム
で抽出する。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後、溶媒を
留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出液；ジクロロメタン：メタノール＝３０
　：　１）にて精製後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより
再結晶して、１．８ｇの１−エチル−６−（５−（１，
２，４−トリアゾール−１−イル）プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルを得る。Example 144 6-[3-(1,2,4-1 riazol-1-yl)
Propoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 2g
350 mg (8.8 mmol) of sodium hydride (60% oil) is added to a DMF solution of (7.35 mmol) 20- and heated at 60° C. for 30 minutes. Thereafter, 0.6 times (8.1 mmol) of ethyl bromide was added dropwise while cooling with water. After stirring for 3 hours at room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with chloroform. After washing with water and drying with sodium sulfate, the solvent was distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent; dichloromethane:methanol = 30
: After purification in 1), recrystallization from ethyl acetate-n-hexane yielded 1.8 g of 1-ethyl-6-(5-(1,
2,4-triazol-1-yl)propoxy)-3,
4-dihydrocarbostyryl is obtained.

無色針状晶 ｍｐ、９７．０〜９８．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４４と同様にして前記
実施例４４及び１００の化合物を得る。Colorless needle crystals mp, 97.0-98.0°C Compounds of Examples 44 and 100 are obtained in the same manner as in Example 144 using appropriate starting materials.

実施例１４５ ６−（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオア
セチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル３．６３ｇ
　（１０ｍモル）及びヒドロキシルアミン塩酸塩１．０
９ｇ　（１５ｍモル）をエタノール１００戒及び水２０
回の混液に懸濁し、水酸化ナトリウムの粉末２．０ｇ　
（５０ｍモル）を激しく攪拌しながら加え、室温下に３
０分攪拌する。Example 145 6-(2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 3.63 g
(10 mmol) and hydroxylamine hydrochloride 1.0
9g (15mmol) of ethanol 100 and water 20
2.0 g of sodium hydroxide powder suspended in a mixture of
(50 mmol) was added with vigorous stirring, and 3
Stir for 0 minutes.

反応終了後、反応液を５％塩酸にて中和後、クロロホル
ム：メタノール−８：１にて抽出、硫酸マグネシウムで
乾燥、溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：メタノ
ール−２０：１）にて精製後、エタノールより再結晶し
て、３．　３４ｇの６−〔１−ヒドロキシイミノ−２−
（ｌ−フェニル−２−イミダゾリル）チオエチル）−３
，４−ジヒドロカルボスチリルを得る。After completion of the reaction, the reaction solution was neutralized with 5% hydrochloric acid, extracted with chloroform:methanol (8:1), dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: chloroform:methanol-20:1), and then recrystallized from ethanol.3. 34 g of 6-[1-hydroxyimino-2-
(l-phenyl-2-imidazolyl)thioethyl)-3
, 4-dihydrocarbostyryl.

白色粉末状 ｍｐ２０１．０〜２０２．０℃ 実施例１４６ ６−〔１−ヒドロキシ−２−（ｌ−フェニル−２−イミ
ダゾリル）チオエチル）　−３，４−ジヒドロカルボス
チリル３．０ｇ　（８，１７ｍモル）を、−１０℃にて
チオニルクロリド９ｍＱ中に加え、３０分同温度にて攪
拌後、メタノール５０−を滴下する。その後室温にて３
０分攪拌する。反応終了後、反応液を炭酸水素ナトリウ
ムにてアルカリ性とし、クロロホルムで抽出する。硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。エタノールよ
り再結晶して、１．５ｇの６−〔１−メトキシ−２−（
ｌ−フェニル−２−イミダゾリル）チオエチル）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルを得る。White powder mp 201.0-202.0°C Example 146 6-[1-hydroxy-2-(l-phenyl-2-imidazolyl)thioethyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 3.0 g (8.17 mmol) ) was added to 9mQ of thionyl chloride at -10°C, and after stirring at the same temperature for 30 minutes, 50m of methanol was added dropwise. Then at room temperature 3
Stir for 0 minutes. After the reaction is completed, the reaction solution is made alkaline with sodium hydrogen carbonate and extracted with chloroform. After drying with magnesium sulfate, the solvent is distilled off. Recrystallized from ethanol to obtain 1.5 g of 6-[1-methoxy-2-(
l-phenyl-2-imidazolyl)thioethyl)-3,
4-dihydrocarbostyryl is obtained.

無色プリズム状 ｍｐ、１９３．０〜１９４．０℃ 実施例１４７ ６−　（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル４．４７
ｇ　（１２，３ｍモル）をクロロホルム２０〇−及び酢
酸４５戒に溶解し、水冷下ｍ−クロロ過安息香酸３．Ｏ
ｇ　（１５，０ｍモル）を加え、同温度にて１時間攪拌
する。反応終了後、炭酸水素ナトリウムにてアルカリ性
とし、クロロホルムにて抽出する。クロロホルム層より
析出する結晶を炉取後、エタノールにて洗浄して、４．
　０ｇの６−　（２−（１−フェニル−２−イミダゾリ
ル）スルフィニルアセチル］−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。Colorless prismatic mp, 193.0-194.0°C Example 147 6-(2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 4.47
g (12.3 mmol) was dissolved in 200 mmol of chloroform and 45 mmoles of acetic acid, and 3.0 mmol of m-chloroperbenzoic acid was added under cooling with water. O
g (15.0 mmol) and stirred at the same temperature for 1 hour. After the reaction is completed, the mixture is made alkaline with sodium hydrogen carbonate and extracted with chloroform. 4. After removing the crystals precipitated from the chloroform layer in the furnace, the crystals are washed with ethanol.
0 g of 6-(2-(1-phenyl-2-imidazolyl)sulfinylacetyl]-3,4-dihydrocarbostyryl are obtained.

白色粉末状 ｍｐ、１９５℃（分解） 適当な出発原料を用い、実施例１４７と同様にして後記
実施例１９１．１９３．１９６．１９９〜２００の化合
物を得る。White powder mp, 195°C (decomposed) Compounds of Examples 191, 193, 196, and 199 to 200 described below are obtained in the same manner as in Example 147 using appropriate starting materials.

実施例１４８ ６−　Ｃ２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）スル
フィニルアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
３．７９ｇ　（１０ｍモル）を酢酸２４０　ｍＱ及び水
１００ｍ１の混液に溶かし、過マンガン酸カリウム５．
０６ｇ　（３２ｍモル）を加え、室温下に２日間攪拌す
る。反応終了後、反応液にクロロホルムを加え、セライ
トにて濾過する。炉液を水洗、硫酸マグネシウムにて乾
燥する。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム：メタノ
ール−３０：１）にて精製後、エタノール−クロロホル
ムより再結晶して、０．６ｇの６−　（２−（１−フェ
ニル−２−イミダゾリル）スルホニルアセチル］−３，
４−ジヒドロカルボスチリルを得る。Example 148 3.79 g (10 mmol) of 6-C2-(1-phenyl-2-imidazolyl)sulfinylacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl was dissolved in a mixture of 240 mQ of acetic acid and 100 ml of water, and potassium permanganate was dissolved. 5.
06 g (32 mmol) was added and stirred at room temperature for 2 days. After the reaction is completed, chloroform is added to the reaction solution, and the mixture is filtered through Celite. Wash the furnace liquid with water and dry with magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel column chromatography (eluent; chloroform:methanol - 30:1), and then recrystallized from ethanol-chloroform to obtain 0.6 g of 6- (2- (1-phenyl-2-imidazolyl)sulfonylacetyl]-3,
4-dihydrocarbostyryl is obtained.

淡黄色粒状 ｍｐ、１９９〜２０１℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４８と同様にして後記
実施例１９４〜１９５．１９７．２０１〜２０２の化合
物を得る。Pale yellow granular mp, 199-201°C Compounds of Examples 194-195, 197, 201-202 below are obtained in the same manner as in Example 148 using appropriate starting materials.

実施例１４９ ２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオアセチル
クロリド２３．３ｇ　（０，０９６モル）、及び塩化ア
ルミニウム１２．８ｇ　（０，０９６モル）の二硫化炭
素６０鵬溶液中、室温、攪拌下、３．４−ジヒドロカル
ボスチリル３．５ｇ（０，０２４モル）を少量ずつ添加
する。添加終了後、２．５時間加熱還流する。二硫化炭
素をデカントして除き、残渣を氷水に注ぎ込む。析出晶
を炉取、水洗後、エタノールより再結晶して、１７ｇの
６−　［２−（１−フェニル−２−イミダゾリル）チオ
アセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを得る。Example 149 23.3 g (0,096 mol) of 2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl chloride and 12.8 g (0,096 mol) of aluminum chloride in a solution of 60% carbon disulfide at room temperature. While stirring, 3.5 g (0,024 mol) of 3,4-dihydrocarbostyryl are added in small portions. After the addition is complete, the mixture is heated under reflux for 2.5 hours. Decant off the carbon disulfide and pour the residue into ice water. The precipitated crystals were collected in a furnace, washed with water, and then recrystallized from ethanol to obtain 17 g of 6-[2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl.

淡黄色針状晶 ｍｐ、２０９．０〜２１０．０℃ 適当な出発原料を用い、実施例１４９と同様にして前記
実施例６９〜８４．８６〜８７．８９〜９０．９３〜９
４．９７〜１４０．１７１．１７３〜１８４．１８６〜
１８９及び１９１〜２０２の化合物を得る。Pale yellow needle crystals mp, 209.0-210.0°C Produced in the same manner as in Example 149 using appropriate starting materials, Examples 69-84.86-87.89-90.93-9
4.97~140.171.173~184.186~
Compounds 189 and 191-202 are obtained.

適当な出発原料を用い、実施例１及び２と同様にして下
記第４表に示す化合物を得る。The compounds shown in Table 4 below are obtained in the same manner as in Examples 1 and 2 using appropriate starting materials.

第　　　４　　　表 適当な出発原料を用い、実施例６９と同様にして下記第
５表に示す化合物を得る。Table 4 Using appropriate starting materials, the compounds shown in Table 5 below are obtained in the same manner as in Example 69.

第　　　５　　　表 Ｒ′！Ｉ 適当な出発原料を用い、実施例８５及び８６と同様にし
て下記第６表に示す化合物を得る。Table 5 R'! I Using appropriate starting materials, the compounds shown in Table 6 below are obtained in the same manner as in Examples 85 and 86.

第　　　６　　　表 ＮＭＲ３）（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ；　２．０？＜３Ｈ，
ｓ）、２．３７−２．７２（ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ
、２Ｈ）、２．８０−３．１５（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔ
ｏｌｄ　０１）、５４８（２Ｈ，ｓ）、５．３３（ＬＨ
，ｓ）、６．９３（ＬＨ，ｄ、Ｊ−９１１２）、７．６
７−８．１０（２Ｈ，ｍ）　　、１０．５０（ＩＨ，Ｓ
）、 ９．６７−１１．００（ＩＨ，ｂｒｏａｄ）、ＮＭＲ４
）　　ＣＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ；　１．９０−２．１４
（３Ｈ，ｓ　ｏｆ　ｔｗｏ　ｐｅａｋｓ）、２．４０−
２．７０（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ）、２．８
０−３．１２（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ）、４
．４０−４．７２（２）］、ｂｒｏａｄ）、８．５２−
８．９０（２）１．ｓｌｎｇｌｅｔ　ｏｆ　ｔｗ。Table 6 NMR3) (DMSO-d6) δ; 2.0? <3H,
s), 2.37-2.72 (tripletoid m
, 2H), 2.80-3.15 (2H, triplet
old 01), 548 (2H, s), 5.33 (LH
, s), 6.93 (LH, d, J-9112), 7.6
7-8.10 (2H, m), 10.50 (IH, S
), 9.67-11.00 (IH, broad), NMR4
) CDMSO-ds ) δ; 1.90-2.14
(3H, so of two peaks), 2.40-
2.70 (2H, tripletoid m), 2.8
0-3.12 (2H, tripletoid m), 4
．． 40-4.72(2)], broad), 8.52-
8.90(2)1. slnglet of tw.

ｐｅａｋｓ＞、 ６．９６（ＬＨ，ｄ、Ｊ−８，８Ｈ２）、７．７２−７
．９６（２Ｈ，ｍ）、 １０．４８（ＩＨ，ｓ）、 １１．８４−１２．２２（ｌ）１．ｂｒｏａｄ　ｔｗ。peaks>, 6.96 (LH, d, J-8, 8H2), 7.72-7
．． 96 (2H, m), 10.48 (IH, s), 11.84-12.22 (l) 1. broad tw.

ｐｅａｋｓ）、 ＮＭＲ５）（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ；　１．２７（３Ｈ，
ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｍ）、２．２４−２．４８（３
Ｈ，ｔｗｏ　ｐｅａｋｓ）、２．４６−２．８４（２１
１，ｔｒｉｐ！ｅｔｏｉｄ　ｍ）、２．８４−２．８４
（２Ｈ，ｔｒｉｐｌｅｔｏｉｄ　ｌ１１）、４．０６−
４Ｊ４（２Ｈ，ｑｕａｒｔｅｔｏｉｄ　！Ｉり、４．５
２−４．９２（２Ｈ，ｔｗｏ　ｐｅａｋｓ）、６．９６
（ＩＨ，ｄ、Ｊ４．８Ｈｚ）、８．７０−８．９４（２
！！、ｍ）、 薬理試験方法 血小板粘着抑制率はＳａｌＺｍａｎガラスピース法を用
いて測定した。peaks), NMR5) (DMSO-ds) δ; 1.27 (3H,
tripletoid m), 2.24-2.48 (3
H, two peaks), 2.46-2.84 (21
1, trip! etoid m), 2.84-2.84
(2H, tripletoid l11), 4.06-
4J4 (2H, quartetoid! Iri, 4.5
2-4.92 (2H, two peaks), 6.96
(IH, d, J4.8Hz), 8.70-8.94 (2
! ! , m), Pharmacological test method The platelet adhesion inhibition rate was measured using the SalZman glass piece method.

供試化合物をアラビアゴムに懸濁し、生後６週令のウィ
スター系雄性ラット（体重１５０〜２００　ｇ）に１０
０　ｍｇ／　ｋｇ／　５　ｍＱ経口投与し、約３時間後
エーテル麻酔下に開腹し、腹部下行大静脈よりガラスピ
ーズカラム（医学書院器械社製）を介し、定時間血液吸
引装置（医学書院器械社製）を用いて１ｍＱ／ｍｉｎの
速度で採血した。対照群は１％アラビアゴム溶液を経口
投与し、同様にして採血した。採取した血液を直ちにＥ
ＤＴＡ入りプラスチックボトル（東亜医用電子社製、シ
スメックス５Ｂ−４１）に移し、ローリングミキサー（
サーマル科学産業製）にて回転混和した。血液中の血小
板数を自動血球計数器（オルソダイアグノスティック社
製、ＥＬＴ−８）により計数し血小板粘着率を次式より
算出した。The test compound was suspended in gum arabic and administered to 6-week-old Wistar male rats (body weight 150-200 g) for 10 minutes.
0 mg/kg/5 mQ was administered orally, and approximately 3 hours later, the abdomen was opened under ether anesthesia, and blood was injected from the descending abdominal vena cava through a glass beads column (manufactured by Igaku Shoin Kikai Co., Ltd.) for a fixed period of time. Blood was collected at a rate of 1 mQ/min using a blood sampler (manufactured by J.D. Co., Ltd.). For the control group, a 1% gum arabic solution was orally administered, and blood was collected in the same manner. Immediately put the collected blood into E
Transfer to a plastic bottle containing DTA (manufactured by Toa Medical Electronics Co., Ltd., Sysmex 5B-41) and mix with a rolling mixer (
The mixture was mixed by rotation using a Thermal Kagaku Sangyo (manufactured by Thermal Science Industry). The number of platelets in the blood was counted using an automatic hemocytometer (ELT-8, manufactured by Ortho Diagnostics), and the platelet adhesion rate was calculated using the following formula.

血小板粘着抑制率は次式から算出した。The platelet adhesion inhibition rate was calculated from the following formula.

供試化合物Ｎｏ。Test compound no.

１　６−［３−（１−メチル−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イル）チオプロポキシ〕−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル ２　６−［３−（２−シクロへキシル−１，３゜４−オ
キサジアゾール−５−イル）プロポキシ〕−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル ３　６−（３−（１−イミダゾリル）プロポキン〕カル
ボスチリル・塩酸塩 ４　６−（３−（２−シクロへキシル−１，３゜４−オ
キサジアゾール−５−イル）プロポキシ〕カルボスチリ
ル ５　６−ＣＢ−（１，２，４−トリアゾール−１−イル
）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ６　６−　（３−（１，２，３，４−テトラゾール−１
−イル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル ７　６−［３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ８　６−　［３−（１，２，４−）リアゾール−１−イ
ル）プロポキシ〕カルボスチリル ９　６−（３−（２−メチル−１−イミダゾリル）プロ
ポキシ〕カルボスチリル １０　６−　ＣＢ−（１，２，４，５−テトラゾール−
１−イル）プロポキシ〕カルボスチリル１１　６−　（
３−（１，，２，３，４−テトラゾール−１−イル）プ
ロポキシ〕カルボスチリル１２　６−［３−（１−フェ
ニル−２−イミダゾリル）チオプロポキシ］−３，４−
ジヒドロカルボスチリル １３　６−　ＣＢ−（１−イミダゾリル）プロポキシ］
−３，４−ジヒドロカルボスチリル１４　６−　（３−
（１−フェニル−１，３，４−トリアゾール−２−イル
）チオプロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル １５　６−　［３−（２−イミダゾリル）チオプロポキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル１６　６−　Ｃ
Ｂ−（１−エチル−２−イミダゾリル）チオプロポキシ
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル １７　８−　［３−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）プロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル １８　７−　［３−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）プロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル １９　５−　［３−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ２０　６−　（３−（５−メチル−２−イミダゾリル）
チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ２１　６−　ＣＢ−（５−メトキシベンズイミダゾール
−２−イル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル・１水和物 ２２　６−　［３−（５−フェニル−２−イミダゾリル
）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
・　１／２蓚酸塩 ２３　７−　ＣＢ−（１，３，４−トリアゾール−２−
イル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル ２４６−ＣＢ−（１−エチル−ベンズイミダゾール−２
−イル）チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル・　１／２水和物２５　７−　（２−（１，２，
４−）−リアゾール−１−イル）エトキシ）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル ２６　７−　Ｃ３−（２−チアゾリニル）チオプロポキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル２７　７−　Ｃ
４−（１，２，４−）−リアゾール−１−イル）ブトキ
シゴー３．４−ジヒドロカルボスチリル ２８　７−　Ｃ３−（１−ベンジル−２−イミダゾリル
）チオプロポキン］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ２９　７−　Ｃ３−（１−アリル−２−イミダゾリル）
チオプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３０　７−　Ｃ３−（１−エチル−１，３，４−トリア
ゾール−２−イル）チオプロポキシ〕−３゜４−ジヒド
ロカルボスチリル ３１　７−　（３−（１−エチル−１，２，４−１リア
ゾール−３−イル）チオプロポモジ〕−３゜４−ジヒド
ロカルボスチリル ３２　７−　Ｃ３−（２−ピリジル）チオプロポキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル３３　７−　［５−
（１，２，４−トリアゾール−１−イル）ペンチルオキ
シ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３４　６−　Ｃ４−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）ブチリル］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３５　６−　（３−［：１−　（２−メチルフェニル）
−２−イミダゾリルコチオプロポキン）　−３゜４−ジ
ヒドロカルボスチリル ３６　６−　（２−（１，２，４−）リアゾール−１−
イル）エトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３７　６−　Ｃ４−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ３８　６−　　（３−［１−（３−ピリジル）−２−イ
ミダゾリルコチオプロポキシｌ　−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル ３９　６−　＋３−　Ｃ１−（２−メトキシフェニル）
−２−イミダゾリルコチオプロポキシ）−３゜４−ジヒ
ドロカルボスチリル ４０　６−　（３−［１−（４−メチルフェニル）−２
−イミダゾリルコチオプロポキシ）−３゜４−ジヒドロ
カルボスチリル ４１　６−　ｆ［３−（１，２，４−トリアゾール−１
−イル）プロピルコアミノｌ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル ４２　６−　ｉ　（３−（１，２，４−トリアゾール−
１−イル）プロピル〕チオ＋−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル ４３　６−　（２−（１，２，４−トリアゾール−１−
イル）アセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ４４　６−　Ｃ２−（１−フェニル−２−イミダゾリル
）チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ４５　６−　［２−（１−フェニル−２−イミダゾリル
）チオアセチル］カルボスチリル ４６６〜［２−（１−イミダゾリル）アセチルクー３．
４−ジヒドロカルボスチリル・臭素水素酸塩 ４７　６−　（２−（３−メチル−１−ピラゾリル）ア
セチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル４８　６−
　［２−（２−メチルチオ−４−メチル−１−イミダゾ
リル）アセチル］−３，４−ジヒドロカルボスチリル ４９　６−ＣＩ−ヒドロ干ン−２−（Ｌ−フェニル−２
−イミダゾリル）チオエチル〕−３，４−ジヒドロ力ル
ポスチリル ５０　６−　（２−（１−エチル−２−イミダゾリル）
チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５１　６−　（２−（１−アリル−２−イミダゾリル）
チオアセチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５２　６−［１−ヒドロキシ−４−（ｌ−フェニル−２
−イミダゾリル）チオブチル］−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル ５３　６−ＣＩ−ヒドロキシ−５−（１−フェニル−２
−イミダゾリル）チオプロピル〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル ５４　６−　＋２−（１−（３−）リフルオロメチルフ
ェニル）−２−イミダゾリルコチオアセチルｌ−３，４
−ジヒドロカルボスチリル５５　６−　＋２−　（１−
（２−メチルフェニル）−２−イミダゾリルコチオアセ
チル）　−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５６　６−　（２−（１−フェニル−２−イミダゾリル
）チオブチリル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５７　７−（３−（１，２，４−トリアゾール−１−イ
ル）プロポキシ〕カルボスチリル第　　　７　　　表1 6-[3-(1-methyl-1,2,3,4-tetrazol-5-yl)thiopropoxy]-3,4-dihydrocarbostyryl 2 6-[3-(2-cyclohexyl-1 ,3゜4-oxadiazol-5-yl)propoxy]-3,4-dihydrocarbostyryl 3 6-(3-(1-imidazolyl)propoquine)carbostyryl hydrochloride 4 6-(3-(2- Cyclohexyl-1,3゜4-oxadiazol-5-yl)propoxy]carbostyryl 5 6-CB-(1,2,4-triazol-1-yl)propoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 6 6- (3-(1,2,3,4-tetrazole-1
-yl)propoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 7 6-[3-(2-methyl-1-imidazolyl)propoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 8 6-[3-(1,2,4 -) riazol-1-yl)propoxy]carbostyryl 9 6-(3-(2-methyl-1-imidazolyl)propoxy]carbostyryl 10 6-CB-(1,2,4,5-tetrazole-
1-yl)propoxy]carbostyryl 11 6- (
3-(1,,2,3,4-tetrazol-1-yl)propoxy]carbostyryl 12 6-[3-(1-phenyl-2-imidazolyl)thiopropoxy]-3,4-
dihydrocarbostyryl 13 6-CB-(1-imidazolyl)propoxy]
-3,4-dihydrocarbostyryl 14 6- (3-
(1-phenyl-1,3,4-triazol-2-yl)thiopropoxy]-3,4-dihydrocarbostyryl 15 6- [3-(2-imidazolyl)thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 16 6-C
B-(1-ethyl-2-imidazolyl)thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 17 8- [3-(1,2,4-triazole-1-
propoxy]-3,4-dihydrocarbostyryl 18 7- [3-(1,2,4-triazole-1-
propoxy]-3,4-dihydrocarbostyryl 19 5- [3-(1,2,4-triazole-1-
propoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 20 6- (3-(5-methyl-2-imidazolyl)
thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 21 6- CB-(5-methoxybenzimidazol-2-yl)thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl monohydrate 22 6- [3-( 5-phenyl-2-imidazolyl)thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 1/2 oxalate 23 7-CB-(1,3,4-triazole-2-
yl)thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 246-CB-(1-ethyl-benzimidazole-2
-yl)thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl hemihydrate 25 7- (2-(1,2,
4-)-Riazol-1-yl)ethoxy)-3,4-
Dihydrocarbostyryl 26 7- C3-(2-thiazolinyl)thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 27 7- C
4-(1,2,4-)-Riazol-1-yl)butoxygo3,4-dihydrocarbostyryl 28 7-C3-(1-benzyl-2-imidazolyl)thiopropoquine]-3,4-dihydrocarbostyryl 29 7-C3-(1-allyl-2-imidazolyl)
thiopropoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 30 7- C3-(1-ethyl-1,3,4-triazol-2-yl)thiopropoxy]-3゜4-dihydrocarbostyryl 31 7- (3- (1-ethyl-1,2,4-1lyazol-3-yl)thiopropomodi]-3゜4-dihydrocarbostyryl 32 7-C3-(2-pyridyl)thiopropoxy)
-3,4-dihydrocarbostyryl 33 7- [5-
(1,2,4-triazol-1-yl)pentyloxy]-3,4-dihydrocarbostyryl 34 6- C4-(1,2,4-triazole-1-
yl)butyryl]-3,4-dihydrocarbostyryl35 6- (3-[:1- (2-methylphenyl)
-2-imidazolylcothiopropoquine) -3゜4-dihydrocarbostyryl 36 6- (2-(1,2,4-)riazole-1-
yl)ethoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl37 6-C4-(1,2,4-triazole-1-
yl)butoxy)-3,4-dihydrocarbostyryl 38 6- (3-[1-(3-pyridyl)-2-imidazolylcothiopropoxyl -3,4-dihydrocarbostyryl 39 6- +3- C1-( 2-methoxyphenyl)
-2-imidazolylcothiopropoxy)-3゜4-dihydrocarbostyryl40 6- (3-[1-(4-methylphenyl)-2
-imidazolylcothiopropoxy)-3゜4-dihydrocarbostyryl 41 6-f[3-(1,2,4-triazole-1
-yl) propylcoamino l-3,4-dihydrocarbostyryl 42 6- i (3-(1,2,4-triazole-
1-yl)propyl]thio+-3,4-dihydrocarbostyryl 43 6- (2-(1,2,4-triazole-1-
acetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 44 6- C2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 45 6- [2-(1-phenyl-2-imidazolyl) ) thioacetyl]carbostyryl 466-[2-(1-imidazolyl)acetyl 3.
4-dihydrocarbostyryl hydrobromate 47 6- (2-(3-methyl-1-pyrazolyl)acetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 48 6-
[2-(2-Methylthio-4-methyl-1-imidazolyl)acetyl]-3,4-dihydrocarbostyryl 49 6-CI-hydrocarbostyryl-2-(L-phenyl-2
-imidazolyl)thioethyl]-3,4-dihydrolupostyryl 50 6- (2-(1-ethyl-2-imidazolyl)
thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 51 6- (2-(1-allyl-2-imidazolyl)
thioacetyl)-3,4-dihydrocarbostyryl 52 6-[1-hydroxy-4-(l-phenyl-2
-imidazolyl)thiobutyl]-3,4-dihydrocarbostyryl 53 6-CI-hydroxy-5-(1-phenyl-2
-imidazolyl)thiopropyl]-3゜4-dihydrocarbostyryl54 6- +2-(1-(3-)lifluoromethylphenyl)-2-imidazolylcothioacetyl l-3,4
-dihydrocarbostyryl 55 6- +2- (1-
(2-methylphenyl)-2-imidazolylcothioacetyl) -3,4-dihydrocarbostyryl56 6- (2-(1-phenyl-2-imidazolyl)thiobutyryl)-3,4-dihydrocarbostyryl57 7- (3-(1,2,4-triazol-1-yl)propoxy)carbostyril Table 7

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群
から選ばれたヘテロ原子を１〜４個有する不飽和複素環
残基を示す。該複素環上には、オキソ基；チオ基；フェ
ニル基；フェニル環上に低級アルキル基、ハロ低級アル
キル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、低級アルキ
ルアミノ基、カルボキシ基及び低級アルコキシ基なる群
から選ばれた置換基を１〜３個有するフェニル基；シク
ロアルキル基；フェニルチオ基；低級アルキル基；アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基及びカルボキシル基なる群
から選ばれた置換基を１〜２個有する低級アルキル基；
アミノ基；水酸基；シアノ基；カルボキシル基；低級ア
ルコキシカルボニル基；フェニル環上に置換基として水
酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェ
ニル環上に置換基として低級アルキル基を有することの
あるフェニルスルホニル基；低級アルコキシ置換フェニ
ル低級アルキル基；低級アルキルチオ基；低級アルケニ
ル基；低級アルコキシ基及びピリジル基からなる群から
選ばれた置換基を１〜３個有していてもよい。Ｒ＾１は
水素原子、低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基
を示す。Ｒ＾２は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
ルスルホニルオキシ基、低級アルコキシ基又は水酸基を
示す。Ｚは酸素原子、硫黄原子、基 ▲数式、化学式、表等があります▼、基▲数式、化学式
、表等があります▼、基▲数式、化学式、表等がありま
す▼（Ｒ＾３は水素原子又は低級アルキル基）又は基−
ＮＨ−を示す。Ａは低級アルキレン基を示す。Ｘは酸素
原子、硫黄原子、基−ＳＯ−又は基 −ＳＯ＿２−を示す。ｎは０又は１を示す。カルボスチ
リル骨格の３位及び４位の炭素間結合は一重結合又は二
重結合を示す。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩を有効成
分として含有することを特徴とする血小板粘着抑制剤。(1) General formula▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc.▼ [In the formula, R is an unsaturated heterocyclic residue having 1 to 4 heteroatoms selected from the group consisting of nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms. show. On the heterocycle, a group consisting of an oxo group; a thio group; a phenyl group; a lower alkyl group, a halo-lower alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a lower alkylamino group, a carboxy group, and a lower alkoxy group on the phenyl ring. A phenyl group having 1 to 3 substituents selected from; a cycloalkyl group; a phenylthio group; a lower alkyl group; having 1 to 2 substituents selected from the group consisting of an amino group, a lower alkylamino group, and a carboxyl group. lower alkyl group;
Amino group; hydroxyl group; cyano group; carboxyl group; lower alkoxycarbonyl group; phenyl lower alkyl group that may have a hydroxyl group as a substituent on the phenyl ring; phenyl that may have a lower alkyl group as a substituent on the phenyl ring It may have 1 to 3 substituents selected from the group consisting of sulfonyl group; lower alkoxy-substituted phenyl lower alkyl group; lower alkylthio group; lower alkenyl group; lower alkoxy group and pyridyl group. R^1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl lower alkyl group. R^2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, a lower alkoxy group, or a hydroxyl group. Z is oxygen atom, sulfur atom, group ▲ has mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, group ▲ has mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, group ▲ has mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (R^3 is hydrogen atom or lower alkyl group) or group -
Indicates NH-. A represents a lower alkylene group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom, a group -SO- or a group -SO_2-. n represents 0 or 1. The carbon-carbon bonds at the 3rd and 4th positions of the carbostyril skeleton represent a single bond or a double bond. ] A platelet adhesion inhibitor comprising a carbostyril derivative or a salt thereof as an active ingredient.