JPS63289994A - 印刷多層配線基板の製造方法 - Google Patents
印刷多層配線基板の製造方法Info
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- JPS63289994A JPS63289994A JP12627287A JP12627287A JPS63289994A JP S63289994 A JPS63289994 A JP S63289994A JP 12627287 A JP12627287 A JP 12627287A JP 12627287 A JP12627287 A JP 12627287A JP S63289994 A JPS63289994 A JP S63289994A
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はスルーホール孔を有する印刷多層配線基板の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
従来の技術
近年、導体配線材料にCuを使用した印刷多層配線基板
は厚膜ペーストが手軽に入手できることや、工法そのも
のが筒車なため、比較的容易に作製ができるので、現在
多くの方面で実用されている。しかし、この厚膜印刷法
のほとんどの場合は、導体層および絶縁体層の印刷後、
その都度中性雰囲気中で焼成を行なうので、脱バインダ
が困難となりブリスタの発生や、絶縁性の劣化につなが
っている。また、設備コストのアンプそしてリートタイ
ムが長くなる等の欠点がある。そこで上記欠点を解決し
たのが、導体配線にCuOを使用する方法である。これ
により大気中で容易に脱バインダを行なうことができ、
印刷後その都度焼成を繰り返す必要がなく、1回の還元
−焼成の連続工程を行なうだけで良い。しかしながら、
この方法で得たCu配線は基板との接着強度や半田の濡
れ性がやや劣るので最上層配線には使用できない。しか
し内層配線では絶縁体層で被覆することにより表面には
露出させないので実用上充分である。この多層方法は、
特願昭59−147833.特願昭59−147832
に、そして酸化銅ペーストは、特願昭60−23846
.特願昭60−140816にそれぞれ述べられている
。
は厚膜ペーストが手軽に入手できることや、工法そのも
のが筒車なため、比較的容易に作製ができるので、現在
多くの方面で実用されている。しかし、この厚膜印刷法
のほとんどの場合は、導体層および絶縁体層の印刷後、
その都度中性雰囲気中で焼成を行なうので、脱バインダ
が困難となりブリスタの発生や、絶縁性の劣化につなが
っている。また、設備コストのアンプそしてリートタイ
ムが長くなる等の欠点がある。そこで上記欠点を解決し
たのが、導体配線にCuOを使用する方法である。これ
により大気中で容易に脱バインダを行なうことができ、
印刷後その都度焼成を繰り返す必要がなく、1回の還元
−焼成の連続工程を行なうだけで良い。しかしながら、
この方法で得たCu配線は基板との接着強度や半田の濡
れ性がやや劣るので最上層配線には使用できない。しか
し内層配線では絶縁体層で被覆することにより表面には
露出させないので実用上充分である。この多層方法は、
特願昭59−147833.特願昭59−147832
に、そして酸化銅ペーストは、特願昭60−23846
.特願昭60−140816にそれぞれ述べられている
。
以下図面を参照しながら、上述した従来の方法によるス
ルーホール孔を存する印刷多層配線基板の製造方法の一
例について説明する。第2図は従来のスルーホール孔を
存する印刷多層基板の断面を示すものである。第2図に
おいて、1はスルーホール孔6を有するアルミナ基板で
ある。前記基板上に内層導体の配線パターンを形成する
が、スルーホール孔6をCuOペーストで埋めるように
して配線パターンを形成すると、CuOペーストによる
印刷、乾燥の時点ではスルーホール孔内にCuO膜を作
るが、後の還元−焼成工程時に起こるCuOの体積収縮
のためスルーホール孔の工。
ルーホール孔を存する印刷多層配線基板の製造方法の一
例について説明する。第2図は従来のスルーホール孔を
存する印刷多層基板の断面を示すものである。第2図に
おいて、1はスルーホール孔6を有するアルミナ基板で
ある。前記基板上に内層導体の配線パターンを形成する
が、スルーホール孔6をCuOペーストで埋めるように
して配線パターンを形成すると、CuOペーストによる
印刷、乾燥の時点ではスルーホール孔内にCuO膜を作
るが、後の還元−焼成工程時に起こるCuOの体積収縮
のためスルーホール孔の工。
ジ部分に亀裂が発生する。したがって内層導体2は第2
図のようにスルーホール孔6を避けるようにパターン形
成を行なう。そして絶縁体3を内層導体2上およびアル
ミナ基Fie上の所望領域に形成し、最後に最上層導体
4でスルーホール孔6とバイアホール孔5を埋めるよう
に形成し、スルーホール孔6内にCu導電膜を形成する
。
図のようにスルーホール孔6を避けるようにパターン形
成を行なう。そして絶縁体3を内層導体2上およびアル
ミナ基Fie上の所望領域に形成し、最後に最上層導体
4でスルーホール孔6とバイアホール孔5を埋めるよう
に形成し、スルーホール孔6内にCu導電膜を形成する
。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記のような構成ではスルーホール孔6
内に導電膜を形成するには配線パターンの設計でバイア
ホール5を設け、しかも最上層導体4を使用しなければ
ならないので、作業が煩雑になるという問題がある。本
発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、
簡単な手順によりスルーホール孔内面にCu導電膜を有
する印刷多層配線基板の製造方法を提供するものである
。
内に導電膜を形成するには配線パターンの設計でバイア
ホール5を設け、しかも最上層導体4を使用しなければ
ならないので、作業が煩雑になるという問題がある。本
発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、
簡単な手順によりスルーホール孔内面にCu導電膜を有
する印刷多層配線基板の製造方法を提供するものである
。
問題点を解決するための手段
本発明は上記問題点を解決するために、スルーホール孔
内にCuO膜を形成し、さらにその上から絶縁体膜を被
覆することにより還元−焼成工程でスルーホール孔エツ
ジ部分に発生する内層導体の亀裂を抑え、かつ多層配線
を形成するとともにスルーホール孔内にCud電膜が形
成するようにしたものである。
内にCuO膜を形成し、さらにその上から絶縁体膜を被
覆することにより還元−焼成工程でスルーホール孔エツ
ジ部分に発生する内層導体の亀裂を抑え、かつ多層配線
を形成するとともにスルーホール孔内にCud電膜が形
成するようにしたものである。
作用
本発明は上記した構成によって、スルーホール孔内に形
成したCuO膜は絶縁体層に被覆されるので、還元−焼
成工程を行なっても、得られる導電膜はCuOの体積収
縮による断線がなくスルーホール孔内に形成される。
成したCuO膜は絶縁体層に被覆されるので、還元−焼
成工程を行なっても、得られる導電膜はCuOの体積収
縮による断線がなくスルーホール孔内に形成される。
実施例
以下本発明の一実施例の印刷多層配線基板の製造方法に
ついて図面を参照しながら説明する。第1図は本発明の
実施例における印刷多層配線基板の断面を示すものであ
る。第1図において、1はスルーホール孔6を有するア
ルミナ基板である。
ついて図面を参照しながら説明する。第1図は本発明の
実施例における印刷多層配線基板の断面を示すものであ
る。第1図において、1はスルーホール孔6を有するア
ルミナ基板である。
前記75板上に酸化銅ペーストによりスクリーン印刷を
施しながら、基板のスルーホール孔6がら上記ペースト
を吸引して孔内面に酸化銅層7を形成する。この時に使
用される酸化tM(cu□)は試薬特級の平均粒径5μ
mのものを用いた。ペースト作製のためのビヒクル組成
は、溶剤としてターピネオールとベンジルアルコールの
混合液を用い、を機バインダであるポリビニルブチラー
ルを溶かしたものを用い、上記酸化銅粉末と混練したも
のをペーストとした。一方絶縁体ペーストは、ホウケイ
酸鉛ガラス粉末とアルミナ粉末を重量比で50対50と
なるように配合した無機組成物(平均粒径2μm)を用
い、ビヒクル組成は溶剤としてDupont社製シンナ
ー9450を用い、有機バインダであるポリビニルブチ
ラールを用い、上記無機組成物を混練したものをペース
トとした。
施しながら、基板のスルーホール孔6がら上記ペースト
を吸引して孔内面に酸化銅層7を形成する。この時に使
用される酸化tM(cu□)は試薬特級の平均粒径5μ
mのものを用いた。ペースト作製のためのビヒクル組成
は、溶剤としてターピネオールとベンジルアルコールの
混合液を用い、を機バインダであるポリビニルブチラー
ルを溶かしたものを用い、上記酸化銅粉末と混練したも
のをペーストとした。一方絶縁体ペーストは、ホウケイ
酸鉛ガラス粉末とアルミナ粉末を重量比で50対50と
なるように配合した無機組成物(平均粒径2μm)を用
い、ビヒクル組成は溶剤としてDupont社製シンナ
ー9450を用い、有機バインダであるポリビニルブチ
ラールを用い、上記無機組成物を混練したものをペース
トとした。
前記酸化銅ペーストを基板lの両面にスクリーン印刷し
く第1図[al) 、乾燥の後、絶縁体ペーストを酸化
銅配線7上および基板1上の所望領域にスクリーン印刷
を施しながら、基板1のスルーホール孔6から上記絶縁
体ペーストを吸引して孔内面の酸化銅膜7を被覆した(
第1図(b))。
く第1図[al) 、乾燥の後、絶縁体ペーストを酸化
銅配線7上および基板1上の所望領域にスクリーン印刷
を施しながら、基板1のスルーホール孔6から上記絶縁
体ペーストを吸引して孔内面の酸化銅膜7を被覆した(
第1図(b))。
なお、前記酸化銅ペースト、絶縁体ペーストの作製にタ
ーピネオール、ヘンシルアルコール。
ーピネオール、ヘンシルアルコール。
Dupont社製シンナー、ポリビニルブチラールを用
いたが、有機バインダとしては、ブチラール系樹脂の代
わりにエトセル系樹脂、溶剤にはブチルカルピトール、
ブチルセルソルブのようなセルソルブ類を用いても良く
、さらにソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチ
レンアルキエーテル等の界面活性剤を用いることも有効
な手段である。
いたが、有機バインダとしては、ブチラール系樹脂の代
わりにエトセル系樹脂、溶剤にはブチルカルピトール、
ブチルセルソルブのようなセルソルブ類を用いても良く
、さらにソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチ
レンアルキエーテル等の界面活性剤を用いることも有効
な手段である。
次に印刷を完了した配線基板を空気中で500℃に加熱
し、ペースト中の有機成分を完全に除去(脱バインダを
行なった。続いて、水素ガスを30%含む窒素ガス雰囲
気中300℃で酸化銅を金属銅に還元した後、窒素ガス
雰囲気中900℃で金属銅と絶縁体を焼成した(第1図
(C))。
し、ペースト中の有機成分を完全に除去(脱バインダを
行なった。続いて、水素ガスを30%含む窒素ガス雰囲
気中300℃で酸化銅を金属銅に還元した後、窒素ガス
雰囲気中900℃で金属銅と絶縁体を焼成した(第1図
(C))。
上記の操作により、得られた印刷配線基板は第1図(C
)に示すように、スルーホール孔6内に導電膜2が絶縁
体層3に被覆され、断線な(形成されたものとなる。
)に示すように、スルーホール孔6内に導電膜2が絶縁
体層3に被覆され、断線な(形成されたものとなる。
発明の効果
本発明の構成および製造方法によれば、+11 スル
ーホール孔内に形成した酸化銅膜の上から絶縁体層を被
覆しているので、酸化銅を還元−焼成した際に生じる体
積収縮による配線の断線を抑えられる。
ーホール孔内に形成した酸化銅膜の上から絶縁体層を被
覆しているので、酸化銅を還元−焼成した際に生じる体
積収縮による配線の断線を抑えられる。
(2) スルーホール孔を絶縁体層で埋めるので、ス
ルーホール上にも配線が可能となり、多層化。
ルーホール上にも配線が可能となり、多層化。
高密度化に向いている。
第1図は本発明における印刷多層配線基板のスルーホー
ル孔部の断面図、第2図は従来方法によるスルーホール
孔部の断面図である。 l・・・・・・アルミナ基板、2・・・・・・内層導体
層、3・・・・・・絶縁体層、4・・・・・・最上層導
体層、5・・・・・・バイアホール孔、6・・・・・・
スルーホール孔、7・・・・・・酸化銅層。
ル孔部の断面図、第2図は従来方法によるスルーホール
孔部の断面図である。 l・・・・・・アルミナ基板、2・・・・・・内層導体
層、3・・・・・・絶縁体層、4・・・・・・最上層導
体層、5・・・・・・バイアホール孔、6・・・・・・
スルーホール孔、7・・・・・・酸化銅層。
Claims (1)
- スルーホール孔を有する配線基板上にスクリーンパター
ンを載せ、このスクリーンパターン上の銅の酸化物を主
成分とするペースト組成物により前記基板上に配線層の
印刷を施しながら基板のスルーホール孔から上記ペース
ト組成物を吸引して孔内面に膜を形成すること、および
前記配線層上および基板上の所望領域に厚膜絶縁体層を
形成し前記酸化銅ペーストと、絶縁ペーストを所望の回
数積層印刷し多層化して、大気または酸化性雰囲気中で
、かつ内部の有機成分を熱分解させるに充分な温度で熱
処理を行ない、しかる後、水素と窒素の混合ガス雰囲気
中で前記絶縁体層組成物が焼結する温度以下で、かつ酸
化銅が金属銅に還元される温度以上で熱処理を行ない、
さらに銅に対して非酸化性となる雰囲気とし、前記絶縁
体組成物の焼結を行なわしめることによってスルーホー
ル孔内に銅導体膜を形成することを特徴とする印刷多層
配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12627287A JPS63289994A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 印刷多層配線基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12627287A JPS63289994A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 印刷多層配線基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63289994A true JPS63289994A (ja) | 1988-11-28 |
Family
ID=14931090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12627287A Pending JPS63289994A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 印刷多層配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63289994A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60214591A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-26 | 松下電器産業株式会社 | スクリ−ン印刷機 |
JPS61113298A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-05-31 | 松下電器産業株式会社 | スル−ホ−ル印刷法 |
JPS62129A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | 集積回路 |
JPS622597A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-08 | 松下電器産業株式会社 | セラミツク配線基板の製造方法 |
-
1987
- 1987-05-22 JP JP12627287A patent/JPS63289994A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60214591A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-26 | 松下電器産業株式会社 | スクリ−ン印刷機 |
JPS61113298A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-05-31 | 松下電器産業株式会社 | スル−ホ−ル印刷法 |
JPS62129A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | 集積回路 |
JPS622597A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-08 | 松下電器産業株式会社 | セラミツク配線基板の製造方法 |
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