JPS63288630A - 放電加工装置における接触感知方法 - Google Patents
放電加工装置における接触感知方法Info
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- JPS63288630A JPS63288630A JP12305887A JP12305887A JPS63288630A JP S63288630 A JPS63288630 A JP S63288630A JP 12305887 A JP12305887 A JP 12305887A JP 12305887 A JP12305887 A JP 12305887A JP S63288630 A JPS63288630 A JP S63288630A
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- 238000003754 machining Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 3
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H2500/00—Holding and positioning of tool electrodes
- B23H2500/20—Methods or devices for detecting wire or workpiece position
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、放電加工装置における接触感知方法、特に例
えば放電加工の位置決めの基準点などを求めるために行
う加工電極と被接触感知体との接触感知方法において、
予め定められたパルス幅を有しかつ所定の周期を有する
パルス電圧を上記加工電極と被接触感知体との間に印加
した状態のもとで、当該加工電極と被接触感知体との接
触感知を行うようにした放電加工装置における接触感知
方法に関するものである。
えば放電加工の位置決めの基準点などを求めるために行
う加工電極と被接触感知体との接触感知方法において、
予め定められたパルス幅を有しかつ所定の周期を有する
パルス電圧を上記加工電極と被接触感知体との間に印加
した状態のもとで、当該加工電極と被接触感知体との接
触感知を行うようにした放電加工装置における接触感知
方法に関するものである。
放電加工装置においては、被加工体に対する加工電極の
位置決めを行う場合、加工基準点を設定し、当該加工基
準点を基準にして上記加工電極と被加工体とを相対的に
移動せしめることにより、位置決めを行うようにしてい
る０例えば、ダイス金型の加工をワイヤ放電加工装置を
用いて行うような場合、被加工体の加工を開始する位置
に、予め電極貫通孔を穿孔しておき、当該電極貫通孔か
ら加工が開始される。この場合、上記加工基準点は電極
貫通孔の中心位室となる。そして、当該加工基準点を求
める方法として、いわゆる接触感知方法が知られている
。即ち、上記電極貫通孔にワイヤ電極を挿入せしめ、被
加工体に接触しない状態で走行させる。そして、上記ワ
イヤ電極と被加工体との間に電圧を印加した状態のもと
で、上記被加工体が載置されている加工テーブルをＸ−
Ｙ方向へ移動させて行うワイヤ電極と被加工体との接触
感知により、少なくとも４箇所の接触位１を求め、当該
接触位置にもとづいて上記加工基準点を設定するように
していた。
位置決めを行う場合、加工基準点を設定し、当該加工基
準点を基準にして上記加工電極と被加工体とを相対的に
移動せしめることにより、位置決めを行うようにしてい
る０例えば、ダイス金型の加工をワイヤ放電加工装置を
用いて行うような場合、被加工体の加工を開始する位置
に、予め電極貫通孔を穿孔しておき、当該電極貫通孔か
ら加工が開始される。この場合、上記加工基準点は電極
貫通孔の中心位室となる。そして、当該加工基準点を求
める方法として、いわゆる接触感知方法が知られている
。即ち、上記電極貫通孔にワイヤ電極を挿入せしめ、被
加工体に接触しない状態で走行させる。そして、上記ワ
イヤ電極と被加工体との間に電圧を印加した状態のもと
で、上記被加工体が載置されている加工テーブルをＸ−
Ｙ方向へ移動させて行うワイヤ電極と被加工体との接触
感知により、少なくとも４箇所の接触位１を求め、当該
接触位置にもとづいて上記加工基準点を設定するように
していた。
また従来から、放電加工を行う途中における加工電極と
被加工体との相対的な移動によって、加工電極と被加工
体とが非所望に接触した状態になることを防止するため
にも、上記接触感知を行うようにされる。
被加工体との相対的な移動によって、加工電極と被加工
体とが非所望に接触した状態になることを防止するため
にも、上記接触感知を行うようにされる。
従来の接触感知方法は、接触感知が行われている間、加
工電極と被接触感知体との間に常時電圧を印加して接触
感知を行うようにするものであったため、特に加工液と
して水を用いるワイヤ放電加工装置の場合、上記加工電
極と被接触感知体との間に電流が流れることによって生
じる電解現象により、当該加工電極、被接触感知体等の
表面が電蝕されるという非所望な問題があった。 上記
の如き非所望な問題の解決を図る方法として、上記加工
電極と被接触感知体との間の印加電圧を出来るだけ小さ
くして接触感知を行うようにすることが考慮されるが、
印加電圧が小さくなると、上記加工電極と被接触感知体
とが接触した際の接触抵抗などの問題で、接触感知の確
実性が失われる。
工電極と被接触感知体との間に常時電圧を印加して接触
感知を行うようにするものであったため、特に加工液と
して水を用いるワイヤ放電加工装置の場合、上記加工電
極と被接触感知体との間に電流が流れることによって生
じる電解現象により、当該加工電極、被接触感知体等の
表面が電蝕されるという非所望な問題があった。 上記
の如き非所望な問題の解決を図る方法として、上記加工
電極と被接触感知体との間の印加電圧を出来るだけ小さ
くして接触感知を行うようにすることが考慮されるが、
印加電圧が小さくなると、上記加工電極と被接触感知体
とが接触した際の接触抵抗などの問題で、接触感知の確
実性が失われる。
従って、接触感知の確実性を求める上では、上記印加電
圧を成る程度高くしなければならない、しかし、印加電
圧を高くすると前述した電解現象が顕著に現れると言う
非所望な問題があった。
圧を成る程度高くしなければならない、しかし、印加電
圧を高くすると前述した電解現象が顕著に現れると言う
非所望な問題があった。
本発明は、上記の如き問題点を解決することを目的とし
ており、そのため本発明の放電加工装置における接触感
知方法は、加工テーブルに載置された被接触感知体と加
工電極との間に電圧を印加した状態のもとで、当該加工
電極と上記被接触感知体との接触感知を行う放電加工装
置における接触感知方法において、上記加工電極と被接
触感知体との間に電圧を供給する接触感知用電源部と、
予め定められたパルス幅を有しかつ所定の周期を有する
パルス電圧を発生するパルス電圧発生部と、当該パルス
電圧発生部から出力されるパルス電圧により制御される
トランジスタとをそなえ、上記トランジスタの出力を上
記加工電極と被接触感知体との間に印加した状態のもと
で、上記被接触感知体と加工電極との接触感知を行うよ
うにすることを特徴としている。以下、図面を参照しつ
つ説明する。
ており、そのため本発明の放電加工装置における接触感
知方法は、加工テーブルに載置された被接触感知体と加
工電極との間に電圧を印加した状態のもとで、当該加工
電極と上記被接触感知体との接触感知を行う放電加工装
置における接触感知方法において、上記加工電極と被接
触感知体との間に電圧を供給する接触感知用電源部と、
予め定められたパルス幅を有しかつ所定の周期を有する
パルス電圧を発生するパルス電圧発生部と、当該パルス
電圧発生部から出力されるパルス電圧により制御される
トランジスタとをそなえ、上記トランジスタの出力を上
記加工電極と被接触感知体との間に印加した状態のもと
で、上記被接触感知体と加工電極との接触感知を行うよ
うにすることを特徴としている。以下、図面を参照しつ
つ説明する。
第１図は本発明に用いられる接触感知回路の一実施例、
第２図は第１図図示実施例の動作を説明するための波形
図を示す。
第２図は第１図図示実施例の動作を説明するための波形
図を示す。
本発明の基本原理は、所定の周期と所定のパルス幅を有
するパルス電圧を加工電極と被接触感知体との間に印加
して接触感知を行うことにある。
するパルス電圧を加工電極と被接触感知体との間に印加
して接触感知を行うことにある。
即ち、接触感知実施中における電圧印加時間の実質的な
短縮を図ることにより、比較的に高い電圧を印加しても
本願明細書の冒頭に説明した電解現象の影響を殆ど受け
ることなく、接触感知の確実性を高めるようにするもの
である。以下、第２図を参照しつつ第１図図示実施例の
動作を説明する。
短縮を図ることにより、比較的に高い電圧を印加しても
本願明細書の冒頭に説明した電解現象の影響を殆ど受け
ることなく、接触感知の確実性を高めるようにするもの
である。以下、第２図を参照しつつ第１図図示実施例の
動作を説明する。
なお、図中の符号１は加工電極、２は被加工体、３は加
工用電源部、４ないし６はトランジスタ、７は抵抗、８
は接触感知用電源部、９は可変抵抗、１０−１および１
０−２は図示省略した切替スイッチの接点、ＩＩはクロ
ック入力端子、１２ないし１５はＮＡＮＤ回路、１６お
よび１７はカウンタ、１８ないし２０はフリップ・フロ
ップ、２１は接触検知部、２２はバッファ・アンプ、２
３および２４はＮ０７回路、２５および２６は抵抗、２
７および２８はコンデンサを表す、また、第２図■ない
し■は、第１図図示実施■ないし■における電圧波形図
を示す。
工用電源部、４ないし６はトランジスタ、７は抵抗、８
は接触感知用電源部、９は可変抵抗、１０−１および１
０−２は図示省略した切替スイッチの接点、ＩＩはクロ
ック入力端子、１２ないし１５はＮＡＮＤ回路、１６お
よび１７はカウンタ、１８ないし２０はフリップ・フロ
ップ、２１は接触検知部、２２はバッファ・アンプ、２
３および２４はＮ０７回路、２５および２６は抵抗、２
７および２８はコンデンサを表す、また、第２図■ない
し■は、第１図図示実施■ないし■における電圧波形図
を示す。
第１図において、図示省略した切替スイッチを操作して
接点１０−２をオフ状態、接点１０−１をオン状態にし
た上で、可変抵抗９とトランジスタ５とを介して接触感
知用電源部８からの電圧を加工電極１と被加工体２との
間に印加しつつ接触感知を実施する。そして、当該加工
電極１と被加工体２との間の電圧は、バッファ・アンプ
２２を介して印加される第２図■図示の如きパルス電圧
（フリ、プ・フロップ１８の出力）によって制御される
上記トランジスタ５とトランジスタ６との制御態様によ
って決まる。当該トランジスタ５および６の制御１態様
は、第２図■図示のパルス電圧におけるハイレベル時に
、トランジスタ５がオン状態、トランジスタ６がオフ状
態となり、上記第２図■図示のパルス電圧におけるロー
レベル時に、トランジスタ５がオフ状態、トランジスタ
６がオン状態となる。即ち、上記加工電極１と被加工体
２との間には、上記パルス電圧に対応する電圧を印加し
た状態のもとで、本発明の接触感知が行われる。なお、
上記トランジスタ６は、トランジスタ５がオフ状態にな
った時に上記加工電極ｌに残留する電蒲を速やかに放電
せしめるための６のである。以下、第１図図示実施例に
おける接触感知動作を具体的に説明する。
接点１０−２をオフ状態、接点１０−１をオン状態にし
た上で、可変抵抗９とトランジスタ５とを介して接触感
知用電源部８からの電圧を加工電極１と被加工体２との
間に印加しつつ接触感知を実施する。そして、当該加工
電極１と被加工体２との間の電圧は、バッファ・アンプ
２２を介して印加される第２図■図示の如きパルス電圧
（フリ、プ・フロップ１８の出力）によって制御される
上記トランジスタ５とトランジスタ６との制御態様によ
って決まる。当該トランジスタ５および６の制御１態様
は、第２図■図示のパルス電圧におけるハイレベル時に
、トランジスタ５がオン状態、トランジスタ６がオフ状
態となり、上記第２図■図示のパルス電圧におけるロー
レベル時に、トランジスタ５がオフ状態、トランジスタ
６がオン状態となる。即ち、上記加工電極１と被加工体
２との間には、上記パルス電圧に対応する電圧を印加し
た状態のもとで、本発明の接触感知が行われる。なお、
上記トランジスタ６は、トランジスタ５がオフ状態にな
った時に上記加工電極ｌに残留する電蒲を速やかに放電
せしめるための６のである。以下、第１図図示実施例に
おける接触感知動作を具体的に説明する。
クロック入力端子１１に入力されるクロック信号の周期
、カウンタ１６および１７の計数値、およびカウンタ１
６におけるＤＡＴＡを適当に設定することにより、クリ
ップ・クリップ１８から出力されるパルス電圧（第２図
■図示）の周期ｔおよびパルス幅τは任意に設定される
０例えば、上記クロック入力端子１１に入力されるクロ
ック信号の周期が１Ｏｎの時、上記パルス電圧の周期ｔ
を１００ｕｓとし、パルス幅τを１０ないし９０μの範
囲内に設定する場合、上記カウンタ１６および１７をＩ
Ｏ進カウンタとすると共に、上記カウンタ１６のＤＡＴ
Ａを「１」ないし「９」の範囲内の値に設定すれば良い
、このように、所望する周期ｔおよびパルス幅τを有す
る第２図■の如きパルス電圧が上記フリップ・フロップ
１８から出力され、当該パルス電圧により前述したトラ
ンジスタ５および６の制御が行われる。
、カウンタ１６および１７の計数値、およびカウンタ１
６におけるＤＡＴＡを適当に設定することにより、クリ
ップ・クリップ１８から出力されるパルス電圧（第２図
■図示）の周期ｔおよびパルス幅τは任意に設定される
０例えば、上記クロック入力端子１１に入力されるクロ
ック信号の周期が１Ｏｎの時、上記パルス電圧の周期ｔ
を１００ｕｓとし、パルス幅τを１０ないし９０μの範
囲内に設定する場合、上記カウンタ１６および１７をＩ
Ｏ進カウンタとすると共に、上記カウンタ１６のＤＡＴ
Ａを「１」ないし「９」の範囲内の値に設定すれば良い
、このように、所望する周期ｔおよびパルス幅τを有す
る第２図■の如きパルス電圧が上記フリップ・フロップ
１８から出力され、当該パルス電圧により前述したトラ
ンジスタ５および６の制御が行われる。
ＮＡＮＤ回路１３．ＮＯＴ回路２３．抵抗２５およびコ
ンデンサ２７により構成されている回路は、上記パルス
電圧の立ち上がりを検出するものであって、第２図■に
図示されている如く、上記パルス電圧の立ち上がり時（
時刻ＴＩ ＋ Ｔ ４ ＋ Ｔ ６ ＋・・・・）に立
ち上がり検出信号が上記ＮＡＮＤ回路１３から出力され
る。また、ＮＡＮＤ回路１４゜ＮＯＴ回路２４．抵抗２
６およびコンデンサ２８により構成されている回路は、
上記パルス電圧の立ち下がりを検出するものであって、
第２図■に図示されている如く、上記パルス電圧の立ち
下がり時（時刻Ｔ ’ｓ、 Ｔ Ｓ＋ Ｔ ＠＋・・・
・）に立ち下がり検出信号が上記ＮＡＮＤ回路１４から
出力される。
ンデンサ２７により構成されている回路は、上記パルス
電圧の立ち上がりを検出するものであって、第２図■に
図示されている如く、上記パルス電圧の立ち上がり時（
時刻ＴＩ ＋ Ｔ ４ ＋ Ｔ ６ ＋・・・・）に立
ち上がり検出信号が上記ＮＡＮＤ回路１３から出力され
る。また、ＮＡＮＤ回路１４゜ＮＯＴ回路２４．抵抗２
６およびコンデンサ２８により構成されている回路は、
上記パルス電圧の立ち下がりを検出するものであって、
第２図■に図示されている如く、上記パルス電圧の立ち
下がり時（時刻Ｔ ’ｓ、 Ｔ Ｓ＋ Ｔ ＠＋・・・
・）に立ち下がり検出信号が上記ＮＡＮＤ回路１４から
出力される。
接触検知部２１は、上記フリップ・クリップ１８の出力
がハイレベル状態の間に、上記加工電極１と被加工体２
との接触状態が発生した時、ローレベル信号を出力する
ものであって、当該接触検知部２１の出力を第２図■に
示している。
がハイレベル状態の間に、上記加工電極１と被加工体２
との接触状態が発生した時、ローレベル信号を出力する
ものであって、当該接触検知部２１の出力を第２図■に
示している。
第２図に図示されている如く、フリップ・クリップ１８
の出力（第２図■図示）がハイレベル状態の間の時刻Ｔ
２において、上記加工電極ｌと被加工体２との接触状態
が発生した時、接触検知部２１の出力はハイレベルから
ローレベルになる。
の出力（第２図■図示）がハイレベル状態の間の時刻Ｔ
２において、上記加工電極ｌと被加工体２との接触状態
が発生した時、接触検知部２１の出力はハイレベルから
ローレベルになる。
当該接触検知部２１の出力がローレベルになることによ
り、フリップ・フロップ１９の出力（第２図■図示）は
ハイレベルとなる。当該フリ、プ・クリップ１９の出力
のハイレベル状態は、上記フリップ・フロップ１８の次
の立ち上がり時点（時刻Ｔａ）まで継続される。即ち、
上記クリップ・フロップ１９の出力は、時刻Ｔ２から時
刻Ｔ４までハイレベルであるため、時刻Ｔ、における上
記フリップ・フロップ１８の立ち上がり時点において、
フリップ・フロップ２０の出力（第２図■図示）はハイ
レベルとなる。なお、上記時刻Ｔｔに発生した加工電極
１と被加工体２との接触感知は、加工電極ｌと被加工体
２との間の導電性浮遊物を介する瞬間的な放電に起因す
るものであった場合を表している。
り、フリップ・フロップ１９の出力（第２図■図示）は
ハイレベルとなる。当該フリ、プ・クリップ１９の出力
のハイレベル状態は、上記フリップ・フロップ１８の次
の立ち上がり時点（時刻Ｔａ）まで継続される。即ち、
上記クリップ・フロップ１９の出力は、時刻Ｔ２から時
刻Ｔ４までハイレベルであるため、時刻Ｔ、における上
記フリップ・フロップ１８の立ち上がり時点において、
フリップ・フロップ２０の出力（第２図■図示）はハイ
レベルとなる。なお、上記時刻Ｔｔに発生した加工電極
１と被加工体２との接触感知は、加工電極ｌと被加工体
２との間の導電性浮遊物を介する瞬間的な放電に起因す
るものであった場合を表している。
本発明においては、上記の如き導電性浮遊物を介する放
電に起因する見掛は上の接触と、上記加工電極１と被加
工体２との真の接触とを区別し、当該真の接触が生じた
時のみ接触感知と判定するような回路構成がとられてい
る。即ち、第１図図示実施例の構成より明らかなように
、第２図に図示されている時刻ＴＩに発生した瞬間的な
接触にもとづいて、時刻Ｔ３にハイレベルとなったフリ
ップ・フロップ１９の出力は、次のパルス電圧出力時（
時刻Ｔ、〜時刻Ｔ％間）に接触状態が発生しなければ、
当該パルス電圧の立ち下がり時（時刻Ｔｓ）にローレベ
ルに反転するような回路構成がとられている。第２図に
関連して具体的に説明すれば、第２図■に示されている
フリップ・フリップ１９の出力が上記パルス電圧の立ち
下がり時（時刻Ｔｓ）にローレベル状態であれば、上記
フリップ・フロップ２０の出力は上記時刻Ｔ、にハイレ
ベルからローレベルになる。そして、上記フリップ・フ
リップ２０の出力のハイレベル状態が所定の時間継続さ
れた時にのみ接触感知の判定がなされる。以下、接触感
知の判定がなされる場合について、第２図に関連して具
体的に説明する。
電に起因する見掛は上の接触と、上記加工電極１と被加
工体２との真の接触とを区別し、当該真の接触が生じた
時のみ接触感知と判定するような回路構成がとられてい
る。即ち、第１図図示実施例の構成より明らかなように
、第２図に図示されている時刻ＴＩに発生した瞬間的な
接触にもとづいて、時刻Ｔ３にハイレベルとなったフリ
ップ・フロップ１９の出力は、次のパルス電圧出力時（
時刻Ｔ、〜時刻Ｔ％間）に接触状態が発生しなければ、
当該パルス電圧の立ち下がり時（時刻Ｔｓ）にローレベ
ルに反転するような回路構成がとられている。第２図に
関連して具体的に説明すれば、第２図■に示されている
フリップ・フリップ１９の出力が上記パルス電圧の立ち
下がり時（時刻Ｔｓ）にローレベル状態であれば、上記
フリップ・フロップ２０の出力は上記時刻Ｔ、にハイレ
ベルからローレベルになる。そして、上記フリップ・フ
リップ２０の出力のハイレベル状態が所定の時間継続さ
れた時にのみ接触感知の判定がなされる。以下、接触感
知の判定がなされる場合について、第２図に関連して具
体的に説明する。
上記フリップ・フロップ１８からパルス電圧が出力され
ている時刻Ｔ、〜時刻Ｔ０間の時刻Ｔ。
ている時刻Ｔ、〜時刻Ｔ０間の時刻Ｔ。
において、接触感知が行われて接触検知部２１の出力信
号（第２図■図示）がローレベルとなることにより、フ
リップ・フロップ１９の出力信号（第２図■図示）はロ
ーレベルからハイレベルになる。そして、上記パルス電
圧の立ち下がり時の時刻Ｔ、において、上記フリップ・
フロップ１９の出力信号（第２図■図示）がハイレベル
状態であるため、フリップ・フロップ２０の出力（第２
図■図示）はローレベルからハイレベルになる。
号（第２図■図示）がローレベルとなることにより、フ
リップ・フロップ１９の出力信号（第２図■図示）はロ
ーレベルからハイレベルになる。そして、上記パルス電
圧の立ち下がり時の時刻Ｔ、において、上記フリップ・
フロップ１９の出力信号（第２図■図示）がハイレベル
状態であるため、フリップ・フロップ２０の出力（第２
図■図示）はローレベルからハイレベルになる。
そして、たとえ時刻Ｔ？において発生した接触が不安定
なものであって、時刻Ｔ、〜時刻Ｔ１１の間や時刻Ｔｌ
ｔ〜時刻ＴＩ４の間にチャタリングが生じることかあっ
ても、当該チャタリングのために次のパルス信号出力時
（時刻Ｔ、〜時刻Ｔｌ１間）の時刻Ｔ１．に接触感知が
行われた場合、また場合によって更に次のパルス信号出
力時（時刻Ｔ１．〜時刻ＴＩ４間）の時刻Ｔ１．に接触
感知が行われるような場合には、本来の接触感知が行わ
れたものとして、上記フリップ・フリップ２０の出力は
ハイレベル状態にホールドされる。このように、上記フ
リップ・フロップ２０の出力が、所定の時間継続してハ
イレベル状態となった時、真の接触が発生したものと判
定される。
なものであって、時刻Ｔ、〜時刻Ｔ１１の間や時刻Ｔｌ
ｔ〜時刻ＴＩ４の間にチャタリングが生じることかあっ
ても、当該チャタリングのために次のパルス信号出力時
（時刻Ｔ、〜時刻Ｔｌ１間）の時刻Ｔ１．に接触感知が
行われた場合、また場合によって更に次のパルス信号出
力時（時刻Ｔ１．〜時刻ＴＩ４間）の時刻Ｔ１．に接触
感知が行われるような場合には、本来の接触感知が行わ
れたものとして、上記フリップ・フリップ２０の出力は
ハイレベル状態にホールドされる。このように、上記フ
リップ・フロップ２０の出力が、所定の時間継続してハ
イレベル状態となった時、真の接触が発生したものと判
定される。
以上説明した如く、本発明の第１図図示実施例は、所定
の周期ｔと所定のパルス幅τを有するパルス電圧に対応
させて、加工電極１と被接触感知体である被加工体２と
の間に接触感知用電源部８から電圧を印加して接触感知
を行い、上記周期を毎に出力されるそれぞれのパルス電
圧発生時間内に、少なくとも１回でも接触感知が行われ
る状態が連続して発生すると、上記フリップ・フロップ
２０から出力される接触感知信号はホールドされ、当該
接触感知償号のホールド状態が所定の時間継続されるこ
とにより、上記加工電極１と被加工体２との間に接触状
態が生じたものと判定される。
の周期ｔと所定のパルス幅τを有するパルス電圧に対応
させて、加工電極１と被接触感知体である被加工体２と
の間に接触感知用電源部８から電圧を印加して接触感知
を行い、上記周期を毎に出力されるそれぞれのパルス電
圧発生時間内に、少なくとも１回でも接触感知が行われ
る状態が連続して発生すると、上記フリップ・フロップ
２０から出力される接触感知信号はホールドされ、当該
接触感知償号のホールド状態が所定の時間継続されるこ
とにより、上記加工電極１と被加工体２との間に接触状
態が生じたものと判定される。
以上説明した如く、本発明によれば、加工テーブルに載
置された被接触感知体と加工電極との間に電圧を印加し
た状態のもとで、当該加工電極と上記被接触感知体との
接触感知を行う放電加工装置における接触感知方法にお
いて、所定の周期と所定のパルス幅を有するパルス電圧
を加工電極と被接触感知体との間に印加して接触感知を
行うようにして、接触感知実施中における実質的な電圧
印加時間の短縮を図ることにより、接触感知実施中の平
均印加電圧を落して接触感知を行うことが可能となるた
め、電解現象による電蝕を防止することができ、また接
触感知の確実性を高めることが、できる。
置された被接触感知体と加工電極との間に電圧を印加し
た状態のもとで、当該加工電極と上記被接触感知体との
接触感知を行う放電加工装置における接触感知方法にお
いて、所定の周期と所定のパルス幅を有するパルス電圧
を加工電極と被接触感知体との間に印加して接触感知を
行うようにして、接触感知実施中における実質的な電圧
印加時間の短縮を図ることにより、接触感知実施中の平
均印加電圧を落して接触感知を行うことが可能となるた
め、電解現象による電蝕を防止することができ、また接
触感知の確実性を高めることが、できる。
第１図は本発明に用いられる接触感知回路の一実施例、
第２図は第１図図示実施例の動作を説明するための波形
図を示す。 図中、１は加工電極、２は被加工体、３は加工用電源部
、４ないし６はトランジスタ、７は抵抗、８は接触感知
用電源部、９は可変抵抗、１０−１および１０−２は接
点、１１はクロック入力端子、１２ないし１５はＮＡＮ
Ｄ回路、１６および１７はカウンタ、１８ないし２０は
フリップ・フロップ、２１は接触検知部、２２はバッフ
ァ・アンプ、２３および２４は８０７回路、２５および
２６は抵抗、２７および２８はコンデンサを表す。
第２図は第１図図示実施例の動作を説明するための波形
図を示す。 図中、１は加工電極、２は被加工体、３は加工用電源部
、４ないし６はトランジスタ、７は抵抗、８は接触感知
用電源部、９は可変抵抗、１０−１および１０−２は接
点、１１はクロック入力端子、１２ないし１５はＮＡＮ
Ｄ回路、１６および１７はカウンタ、１８ないし２０は
フリップ・フロップ、２１は接触検知部、２２はバッフ
ァ・アンプ、２３および２４は８０７回路、２５および
２６は抵抗、２７および２８はコンデンサを表す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 加工テーブルに載置された被接触感知体と加工電極との
間に電圧を印加した状態のもとで、当該加工電極と上記
被接触感知体との接触感知を行う放電加工装置における
接触感知方法において、上記加工電極と被接触感知体と
の間に電圧を供給する接触感知用電源部と、予め定めら
れたパルス幅を有しかつ所定の周期を有するパルス電圧
を発生するパルス電圧発生部と、当該パルス電圧発生部
から出力されるパルス電圧により制御されるトランジス
タとをそなえ、 上記トランジスタの出力を上記加工電極と被接触感知体
との間に印加した状態のもとで、上記被接触感知体と加
工電極との接触感知を行うようにする ことを特徴とする放電加工装置における接触感知方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12305887A JPS63288630A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 放電加工装置における接触感知方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12305887A JPS63288630A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 放電加工装置における接触感知方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63288630A true JPS63288630A (ja) | 1988-11-25 |
Family
ID=14851156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12305887A Pending JPS63288630A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 放電加工装置における接触感知方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63288630A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0488187A2 (en) * | 1990-11-29 | 1992-06-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrical discharge machine with machining gap voltage control |
| EP0689892A1 (en) * | 1994-06-27 | 1996-01-03 | Fanuc Ltd. | Method and apparatus for wire cutting electrical discharge machining |
-
1987
- 1987-05-20 JP JP12305887A patent/JPS63288630A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0488187A2 (en) * | 1990-11-29 | 1992-06-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrical discharge machine with machining gap voltage control |
| EP0689892A1 (en) * | 1994-06-27 | 1996-01-03 | Fanuc Ltd. | Method and apparatus for wire cutting electrical discharge machining |
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