JPS63281219A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
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- JPS63281219A JPS63281219A JP11535387A JP11535387A JPS63281219A JP S63281219 A JPS63281219 A JP S63281219A JP 11535387 A JP11535387 A JP 11535387A JP 11535387 A JP11535387 A JP 11535387A JP S63281219 A JPS63281219 A JP S63281219A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は垂直磁気記録媒体に係り、特に強磁性Co−
Cr系合金薄膜からなる記録層を有する垂直磁気記録媒
体に関する。
Cr系合金薄膜からなる記録層を有する垂直磁気記録媒
体に関する。
(従来の技術)
情報処理技術の発達に伴って、フロッピーディスク等の
磁気記録媒体に対する大容量化の要求はますます高まっ
ている。この要求に対し、膜面に垂直な方向の磁化を利
用して記録を行なう垂直磁気記録用の媒体、即も垂直磁
気記録媒体の研究・開発が活発になされている。
磁気記録媒体に対する大容量化の要求はますます高まっ
ている。この要求に対し、膜面に垂直な方向の磁化を利
用して記録を行なう垂直磁気記録用の媒体、即も垂直磁
気記録媒体の研究・開発が活発になされている。
垂直磁気記録媒体は垂直磁気異方性を備えた媒体であり
、現在実用されている面内記録用の磁気記録媒体の多く
を構成している塗布型媒体よりも、Co−Cr系合金等
からなる強磁性金属薄膜を真空蒸着法やスパッタ法によ
り形成して記録層とした金属薄膜型媒体が、より高密度
記録に適した媒体として期待されている。
、現在実用されている面内記録用の磁気記録媒体の多く
を構成している塗布型媒体よりも、Co−Cr系合金等
からなる強磁性金属薄膜を真空蒸着法やスパッタ法によ
り形成して記録層とした金属薄膜型媒体が、より高密度
記録に適した媒体として期待されている。
ところで、垂直磁気記録方式で高密度記録を達成するに
は、垂直磁気異方性の大きな記録層が必要であり、その
ためには強磁性金属薄膜の結晶配向性を良くしなければ
ならない。一方、高密度領域で大きな再生出力と良好な
S/Nを得るためには、記録層を構成する単位磁性粒子
をできるだけ微細にする必要がある。例えばスパッタ法
で形成したCo−Cr系合金等の強磁性金属薄膜におい
ては、個々の結晶粒が単位磁性粒子に対応するため、結
晶粒を微細化しなければならない。
は、垂直磁気異方性の大きな記録層が必要であり、その
ためには強磁性金属薄膜の結晶配向性を良くしなければ
ならない。一方、高密度領域で大きな再生出力と良好な
S/Nを得るためには、記録層を構成する単位磁性粒子
をできるだけ微細にする必要がある。例えばスパッタ法
で形成したCo−Cr系合金等の強磁性金属薄膜におい
ては、個々の結晶粒が単位磁性粒子に対応するため、結
晶粒を微細化しなければならない。
酸素のような不純物ガスを導入したアルゴン雰囲気中で
のスパッタを行なう等の方法により、結晶粒を微細化す
ることは可能であるが、この方法の場合には結晶配向性
の極度の低下を引起こし、垂直磁気異方性も劣化してし
まう。
のスパッタを行なう等の方法により、結晶粒を微細化す
ることは可能であるが、この方法の場合には結晶配向性
の極度の低下を引起こし、垂直磁気異方性も劣化してし
まう。
強磁性Co−Cr系合金薄膜の結晶配向性を良くするた
めに、GeまたはTiからなる下地層を用いる方法が知
られている(特開昭61−113122号公報)。しか
し、下地層に用いられるこれらの金属元素は酸素と結合
し易いため、均一性や再現性の点で問題がある。
めに、GeまたはTiからなる下地層を用いる方法が知
られている(特開昭61−113122号公報)。しか
し、下地層に用いられるこれらの金属元素は酸素と結合
し易いため、均一性や再現性の点で問題がある。
記録層の下側に記録層を構成する強磁性Co−Cr系合
金薄膜よりもCr濃度の高い、即ち非磁性のCo−Cr
系合金薄膜層を形成して垂直配向性を良好にする方法も
提案されている(特開昭55−12232号公報)。こ
の場合、垂直配向性を改善するには非磁性Co−Cr系
合金薄膜層の膜厚を大きくする必要があり、従ってその
内部応力が記録層の強磁性Co−Cr系合金薄膜よりも
大きくなるため、媒体に大きなカールが生じるおそれが
ある。カールが発生すると、媒体に対する磁気ヘッドの
接触状態が不安定となり、良好な記録再生特性は望めな
い。
金薄膜よりもCr濃度の高い、即ち非磁性のCo−Cr
系合金薄膜層を形成して垂直配向性を良好にする方法も
提案されている(特開昭55−12232号公報)。こ
の場合、垂直配向性を改善するには非磁性Co−Cr系
合金薄膜層の膜厚を大きくする必要があり、従ってその
内部応力が記録層の強磁性Co−Cr系合金薄膜よりも
大きくなるため、媒体に大きなカールが生じるおそれが
ある。カールが発生すると、媒体に対する磁気ヘッドの
接触状態が不安定となり、良好な記録再生特性は望めな
い。
(発明が解決しようとする問題点)
このように従来の強磁性Co−Cr系合金薄膜からなる
記録層を有する垂直磁気記録媒体においては、強磁性C
o−Cr系合金薄膜の結晶配向性を損なわずに、結晶粒
を微細化することが難しく、高密度記録とS/Nの向上
を同時に実現することが困難であった。
記録層を有する垂直磁気記録媒体においては、強磁性C
o−Cr系合金薄膜の結晶配向性を損なわずに、結晶粒
を微細化することが難しく、高密度記録とS/Nの向上
を同時に実現することが困難であった。
また、結晶配向性を良くするためにGeまたはTi薄膜
からなる下地層を用いたものでは、均一性、再現性の点
で問題があり、さらに非磁性C0−Cr系合金薄膜から
なる下地層を用いたものでは、カールの発生を招くこと
なしに結晶配向性を向上させることが難しいという問題
があった。
からなる下地層を用いたものでは、均一性、再現性の点
で問題があり、さらに非磁性C0−Cr系合金薄膜から
なる下地層を用いたものでは、カールの発生を招くこと
なしに結晶配向性を向上させることが難しいという問題
があった。
従って、本発明は強磁性Co−Cr系合金薄膜の結晶配
向性を損なわずに結晶粒を微細化し、S/Nを犠牲にす
ることなく高密度記録を達成できる垂直磁気記録媒体を
提供することを目的とする。
向性を損なわずに結晶粒を微細化し、S/Nを犠牲にす
ることなく高密度記録を達成できる垂直磁気記録媒体を
提供することを目的とする。
また、本発明は均一性・再現性に優れ、下地層の膜厚を
カールが発生しやすい程度に大きくすることなく強磁性
Co−Cr系薄膜の結晶配向性を良好にでき、高密度記
録の可能な垂直磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。
カールが発生しやすい程度に大きくすることなく強磁性
Co−Cr系薄膜の結晶配向性を良好にでき、高密度記
録の可能な垂直磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
本発明は、記録層を構成する強磁性Co−Cr系合金薄
膜の結晶粒を微細化するために、基体と記録層との間に
非磁性Co−Cr−0系合金薄膜を下地層として形成す
ることを特徴とする。
膜の結晶粒を微細化するために、基体と記録層との間に
非磁性Co−Cr−0系合金薄膜を下地層として形成す
ることを特徴とする。
また、本発明は記録層を構成する強磁性Co−Cr系合
金薄膜の結晶配向性を効率的に向上させるために、基体
と記録層との間に下地層としてGeまたはTiの薄膜か
らなる第1の下地層および非磁性Co−Cr系合金薄膜
からなる第2の下地層を順次形成することを特徴とする
。
金薄膜の結晶配向性を効率的に向上させるために、基体
と記録層との間に下地層としてGeまたはTiの薄膜か
らなる第1の下地層および非磁性Co−Cr系合金薄膜
からなる第2の下地層を順次形成することを特徴とする
。
(作用)
非磁性Co−Cr−0系合金薄膜からなる下地層を形成
すると、記録層である強磁性Co−Cr系合金薄膜の結
晶粒が微細となり、高密度記録を行なった場合でも大き
な再生出力、従って高いS/Nが得られる。即ち、非磁
性Co−Cr系合金薄膜中に酸素が混入することにより
下地層の結晶粒が微細化し、その上に形成される強磁性
Co−Cr系合金薄膜の結晶粒も下地層の影響を受けて
微細化される。また、下地層としての非磁性Co−Cr
−0系合金薄膜は、酸素を含むために結晶配向性が若干
低下するものの、C「濃度がより低い強磁性Co−Cr
系合金薄膜に比較すれば良好な結晶配向性を示す。従っ
て、セルフエピタキシー効果によって、下地層の上に形
成される強磁性Co−Cr系合金薄膜も比較的良好な結
晶配向性を示す。
すると、記録層である強磁性Co−Cr系合金薄膜の結
晶粒が微細となり、高密度記録を行なった場合でも大き
な再生出力、従って高いS/Nが得られる。即ち、非磁
性Co−Cr系合金薄膜中に酸素が混入することにより
下地層の結晶粒が微細化し、その上に形成される強磁性
Co−Cr系合金薄膜の結晶粒も下地層の影響を受けて
微細化される。また、下地層としての非磁性Co−Cr
−0系合金薄膜は、酸素を含むために結晶配向性が若干
低下するものの、C「濃度がより低い強磁性Co−Cr
系合金薄膜に比較すれば良好な結晶配向性を示す。従っ
て、セルフエピタキシー効果によって、下地層の上に形
成される強磁性Co−Cr系合金薄膜も比較的良好な結
晶配向性を示す。
このように強磁性Co−Cr系合金薄膜の下地層として
非磁性Co−Cr−0系合金薄膜を形成することにより
、記録層の強磁性Co−Cr系合金薄膜が微細な結晶粒
と大きな垂直磁気異方性を併せ持つようになり、高密度
記録と高S/Nが同時に達成される。
非磁性Co−Cr−0系合金薄膜を形成することにより
、記録層の強磁性Co−Cr系合金薄膜が微細な結晶粒
と大きな垂直磁気異方性を併せ持つようになり、高密度
記録と高S/Nが同時に達成される。
また、下地層は非磁性であるため、磁性Co−Cr系合
金薄膜を下地層として用いた場合のように、記録層との
界面で飽和磁化量の違いにより体禎磁荷が発生して記録
再生特性に悪影響を与えることはない。
金薄膜を下地層として用いた場合のように、記録層との
界面で飽和磁化量の違いにより体禎磁荷が発生して記録
再生特性に悪影響を与えることはない。
一方、GeまたはTiの薄膜からなる第1の下地層と、
非磁性Co−Cr系合金薄膜からなる第2の下地層を積
層形成すると、記録層である強磁性Co−Cr系合金薄
膜の結晶配向性が著しく高まり、大きな垂直磁気異方性
が得られる。即ち、第2の磁性層である非磁性Co−C
r系合金薄膜はCr濃度がより低い強磁性Co−Cr系
合金薄膜に比較すれば良好な結晶配向性を示すので、第
2の下地層の上に形成される強磁性Co−Cr系合金薄
膜もセルフエピタキシー効果によって比較的良好な結晶
配向性を示す。そして、この非磁性Co−Cr系合金薄
膜からなる第2の下地層をより結晶配向性の良いGeま
たはTiの薄膜からなる第1の下地層の上に形成すれば
、第2の下地層の配向性、ひいては記録層の結晶配向性
は実用上十分にまで向上する。
非磁性Co−Cr系合金薄膜からなる第2の下地層を積
層形成すると、記録層である強磁性Co−Cr系合金薄
膜の結晶配向性が著しく高まり、大きな垂直磁気異方性
が得られる。即ち、第2の磁性層である非磁性Co−C
r系合金薄膜はCr濃度がより低い強磁性Co−Cr系
合金薄膜に比較すれば良好な結晶配向性を示すので、第
2の下地層の上に形成される強磁性Co−Cr系合金薄
膜もセルフエピタキシー効果によって比較的良好な結晶
配向性を示す。そして、この非磁性Co−Cr系合金薄
膜からなる第2の下地層をより結晶配向性の良いGeま
たはTiの薄膜からなる第1の下地層の上に形成すれば
、第2の下地層の配向性、ひいては記録層の結晶配向性
は実用上十分にまで向上する。
また、記録層と接する第2の下地層は非磁性であるため
、磁性Co−Cr系合金薄膜を下地層として用いた場合
のように、記録層との界面で飽和磁化量の違いにより体
積磁荷が発生して記録再生特性に悪影響を与えることは
ない。
、磁性Co−Cr系合金薄膜を下地層として用いた場合
のように、記録層との界面で飽和磁化量の違いにより体
積磁荷が発生して記録再生特性に悪影響を与えることは
ない。
(実施例)
まず、特許請求の範囲第1項に記載された発明に係る実
施例について説明する。
施例について説明する。
第1図は本発明の一実施例に係る垂直磁気記録媒体の構
成を模式的に示す断面図である。第1図において、基体
11は樹脂製のフィルム状基体であり、この基体11の
両面に下地層として厚さ300人程炭層非磁性Co−C
r−0合金薄膜12がそれぞれ形成され、さらにその上
に記録層として厚さ0.3μm程度の強磁性Go−Cr
合金薄膜13がそれぞれ形成されている。
成を模式的に示す断面図である。第1図において、基体
11は樹脂製のフィルム状基体であり、この基体11の
両面に下地層として厚さ300人程炭層非磁性Co−C
r−0合金薄膜12がそれぞれ形成され、さらにその上
に記録層として厚さ0.3μm程度の強磁性Go−Cr
合金薄膜13がそれぞれ形成されている。
非磁性Co−Cr−0合金薄膜12はCr濃度が27w
t%を超える値、例えば30wt%程度であり、Co−
Crターゲットを用い、酸素を含むA「雰囲気中でRF
マグネトロンスパパワ法により形成される。この際、酸
素濃度が高いとCo−Crの酸化物薄膜が形成されてし
まうため、酸素濃度が10%以下の酸素・Ar雰囲気中
でスパッタを行なうことが望ましい。Cr濃度が27シ
t%を超えるCo−Cr−0合金薄膜は飽和磁化量Ms
が記録層のそれより小さく、非磁性と見なすことができ
る。
t%を超える値、例えば30wt%程度であり、Co−
Crターゲットを用い、酸素を含むA「雰囲気中でRF
マグネトロンスパパワ法により形成される。この際、酸
素濃度が高いとCo−Crの酸化物薄膜が形成されてし
まうため、酸素濃度が10%以下の酸素・Ar雰囲気中
でスパッタを行なうことが望ましい。Cr濃度が27シ
t%を超えるCo−Cr−0合金薄膜は飽和磁化量Ms
が記録層のそれより小さく、非磁性と見なすことができ
る。
記録層としての強磁性Co−Cr合金薄膜13はC「濃
度が27wt%以下、例えば20wt%であり、例えば
DCマグネトロンスパッタ法により形成される。この強
磁性Co−Cr合金薄膜13は膜面に垂直方向に磁化容
易軸を持つように配向され、いわゆる垂直磁気異方性を
有する。
度が27wt%以下、例えば20wt%であり、例えば
DCマグネトロンスパッタ法により形成される。この強
磁性Co−Cr合金薄膜13は膜面に垂直方向に磁化容
易軸を持つように配向され、いわゆる垂直磁気異方性を
有する。
このように構成された垂直磁気記録媒体では、Co−C
r合金薄膜13が微細な結晶粒を有し、またCo−Cr
の結晶軸であるC軸が膜面(基体11の主面)に対して
垂直方向に良く配向して、高密度記録に適したものであ
ると同時に、大きな再生出力と高いS/Nが得られる。
r合金薄膜13が微細な結晶粒を有し、またCo−Cr
の結晶軸であるC軸が膜面(基体11の主面)に対して
垂直方向に良く配向して、高密度記録に適したものであ
ると同時に、大きな再生出力と高いS/Nが得られる。
第1表は、種々の材料の下地層の上に形成したCo−C
r合金薄膜の結晶粒径と、S/Nおよび記録密度特性を
調べた実験結果を示したものである。結晶粒径は強磁性
Co−Cr合金薄膜表面を高分解能の走査型電子顕微鏡
で観察して測定した。
r合金薄膜の結晶粒径と、S/Nおよび記録密度特性を
調べた実験結果を示したものである。結晶粒径は強磁性
Co−Cr合金薄膜表面を高分解能の走査型電子顕微鏡
で観察して測定した。
S/Nと記録密度特性は、3.5インチ径のフロッピー
ディスク状に作製した媒体を毎分3oo回転で回転させ
ながら、ギャップ長0.3μmのフェライト製リングヘ
ッドを接触させて測定した。記録信号にはNRZ Iパ
ターンのオール1°S信号を用い、低記録密度(1kB
PI)における再生出力の50%の再生出力を与える記
録密度(D5o)を測定して記録密度特性を評価した。
ディスク状に作製した媒体を毎分3oo回転で回転させ
ながら、ギャップ長0.3μmのフェライト製リングヘ
ッドを接触させて測定した。記録信号にはNRZ Iパ
ターンのオール1°S信号を用い、低記録密度(1kB
PI)における再生出力の50%の再生出力を与える記
録密度(D5o)を測定して記録密度特性を評価した。
p5Gはこれが大きい程、高密度の記録ができることを
示している。また、S/Nは70kBP+の記録、密度
における再生出力とノイズとの比である。
示している。また、S/Nは70kBP+の記録、密度
における再生出力とノイズとの比である。
第1表
第1表から明らかなように、C「濃度が27.0w1%
を超える非磁性Co−Cr−0合金薄膜を下地層とする
と、強磁性co−Cr合金薄膜の結晶粒径が微細となり
、S/Nが高<、D50の値も大きいため、良好な高密
度記録が可能である。
を超える非磁性Co−Cr−0合金薄膜を下地層とする
と、強磁性co−Cr合金薄膜の結晶粒径が微細となり
、S/Nが高<、D50の値も大きいため、良好な高密
度記録が可能である。
第2図は本発明の他の実施例に係る垂直磁気記録媒体の
断面図であり、耐熱性フィルム状基体21の両面に例え
ば厚さ 0.5μmの軟磁性層22がそれぞれ形成され
、その上に例えば厚さ 150人でCr9度が28wt
%の非磁性Co−Cr−Mo−0合金薄膜23が下地層
としてそれぞれ形成され、さらにその上に記録層として
の強磁性Co−Cr合金薄膜24がそれぞれ形成されて
いる。軟磁性層22としては例えばパーマロイ薄膜が形
成される。また、軟磁性層22.非磁性Co−Cr−M
o−0合金薄膜23および強磁性Co−Cr合金薄膜2
4は真空蒸着法によって形成される。
断面図であり、耐熱性フィルム状基体21の両面に例え
ば厚さ 0.5μmの軟磁性層22がそれぞれ形成され
、その上に例えば厚さ 150人でCr9度が28wt
%の非磁性Co−Cr−Mo−0合金薄膜23が下地層
としてそれぞれ形成され、さらにその上に記録層として
の強磁性Co−Cr合金薄膜24がそれぞれ形成されて
いる。軟磁性層22としては例えばパーマロイ薄膜が形
成される。また、軟磁性層22.非磁性Co−Cr−M
o−0合金薄膜23および強磁性Co−Cr合金薄膜2
4は真空蒸着法によって形成される。
このように構成された垂直磁気記録媒体においても、先
の実施例で説明した垂直磁気記録媒体と同様に、良好な
結晶配向性と高密度記録特性が得られた。
の実施例で説明した垂直磁気記録媒体と同様に、良好な
結晶配向性と高密度記録特性が得られた。
なお、上記2つの実施例においては記録層として強磁性
Co−Cr合金薄膜を用いたが、例えばCo−Cr1.
:V、Rh、Ni、W等の第3元素を含むものでもよく
、要するにCo、Crを主成分とする強磁性Co−Cr
系合金薄膜であればよい。
Co−Cr合金薄膜を用いたが、例えばCo−Cr1.
:V、Rh、Ni、W等の第3元素を含むものでもよく
、要するにCo、Crを主成分とする強磁性Co−Cr
系合金薄膜であればよい。
また、下地層として非磁性(o−Cr−0合金薄膜を用
いたが、Co、CrおよびOに第3元素または第4元素
を添加したもの、例えばCo−Cr−V−,0,Co−
Cr−Rh−0,Co−Cr−N1−W−0等の合金薄
膜でもよく、要は非磁性Co−Cr−0系合金薄膜であ
ればよい。基体の材質も例えばAI製、ガラス基体等種
々選択することができる。また、基体の片面にのみ記録
層が形成されている媒体にも適用することができる。
いたが、Co、CrおよびOに第3元素または第4元素
を添加したもの、例えばCo−Cr−V−,0,Co−
Cr−Rh−0,Co−Cr−N1−W−0等の合金薄
膜でもよく、要は非磁性Co−Cr−0系合金薄膜であ
ればよい。基体の材質も例えばAI製、ガラス基体等種
々選択することができる。また、基体の片面にのみ記録
層が形成されている媒体にも適用することができる。
次に、特許請求の範囲第5項に記載された発明に係る実
施例について説明する。
施例について説明する。
第3図は本発明の実施例に係る垂直磁気記録媒体の構成
を模式的に示す断面図である。第3図において、基体3
1は樹脂製のフィルム状基体であリ、この基体31の両
9面に第1の下地層として厚さ 300人程炭層Ge薄
膜32、および第2の下地層として厚さ 300人程炭
層非磁性Co−Cr系合金の非磁性Co−Cr−0合金
薄膜33がそれぞれ形成され、さらにその上に記録層と
して厚さ0.3μ尻程度の強磁性Co−Cr合金薄膜3
4がそれぞれ形成されている。尚、本発明においては非
磁性Co−Cr系合金薄膜は非磁性Co−Cr合金薄膜
であってもよい。
を模式的に示す断面図である。第3図において、基体3
1は樹脂製のフィルム状基体であリ、この基体31の両
9面に第1の下地層として厚さ 300人程炭層Ge薄
膜32、および第2の下地層として厚さ 300人程炭
層非磁性Co−Cr系合金の非磁性Co−Cr−0合金
薄膜33がそれぞれ形成され、さらにその上に記録層と
して厚さ0.3μ尻程度の強磁性Co−Cr合金薄膜3
4がそれぞれ形成されている。尚、本発明においては非
磁性Co−Cr系合金薄膜は非磁性Co−Cr合金薄膜
であってもよい。
非磁性Co−Cr−0合金薄膜33はCr濃度が27w
t%を超える値、例えば30wt%程度であり、Co−
Crターゲットを用い、酸素を含むAr雰囲気中でRF
マグネトメンスパパワ法により形成される。この際、酸
素濃度が高いとCo−Crの酸化物薄膜が形成されてし
まうため、酸素濃度が10%以下の酸素・A「雰囲気中
でスパッタを行なうことが望ましい。Cr濃度が27w
t%を超えるCo−Cr−0合金薄膜は飽和磁化量Ms
が記録層のそれより小さく、非磁性と見なすことができ
る。
t%を超える値、例えば30wt%程度であり、Co−
Crターゲットを用い、酸素を含むAr雰囲気中でRF
マグネトメンスパパワ法により形成される。この際、酸
素濃度が高いとCo−Crの酸化物薄膜が形成されてし
まうため、酸素濃度が10%以下の酸素・A「雰囲気中
でスパッタを行なうことが望ましい。Cr濃度が27w
t%を超えるCo−Cr−0合金薄膜は飽和磁化量Ms
が記録層のそれより小さく、非磁性と見なすことができ
る。
記録層としての強磁性Co−Cr合金薄膜34はC「濃
度が27wt%以下、例えば19wt%であり、例えば
DCマグネトロンスパッタ法により形成される。この強
磁性Co−Cr合金薄膜34は膜面に垂直方向に磁化容
易軸を持つように配向され、いわゆる垂直磁気異方性を
有する。
度が27wt%以下、例えば19wt%であり、例えば
DCマグネトロンスパッタ法により形成される。この強
磁性Co−Cr合金薄膜34は膜面に垂直方向に磁化容
易軸を持つように配向され、いわゆる垂直磁気異方性を
有する。
このように構成された垂直磁気記録媒体では、強磁性C
o−Cr合金薄膜34が、Co−Crの結晶軸であるC
軸が膜面(基体11の主面)に対して垂直方向に極めて
良く配向しており、かつ優れた記録密度特性を有してい
る。
o−Cr合金薄膜34が、Co−Crの結晶軸であるC
軸が膜面(基体11の主面)に対して垂直方向に極めて
良く配向しており、かつ優れた記録密度特性を有してい
る。
第2表は、種々の材料の下地層の上に形成した強磁性C
o−Cr合金薄膜の結晶配向性と、記録密度特性を調べ
た実験結果を示したものである。
o−Cr合金薄膜の結晶配向性と、記録密度特性を調べ
た実験結果を示したものである。
結晶配向性は、強磁性Co−Cr結晶の(002)面に
対するX線回折強度■ を測定して評価した。
対するX線回折強度■ を測定して評価した。
■ が大きい程、結晶配向性が良好であることを示す
。なお、非磁性Co−Cr薄膜上に形成した強磁性Co
−Cr合金薄膜の結晶配向性は、非磁性Co−Cr合金
薄膜のI とその上に強磁性Co−Cr合金薄膜を形
成したときのI と差を評価したものである。また、
記録密度特性は、3.5インチ径のフロッピーディスク
状に作製した媒体を毎分300回転で回転させながら、
ギャップ長0.3μmのフェライト製リングヘッドを接
触させて測定した。記録信号にはNRZ Iパターンの
オール1°S信号を用い、低記録密度(1kBPl)に
おける再生出力の50%の再生出力を与える記録密度(
D5o)を測定して記録密度特性を評価した。
。なお、非磁性Co−Cr薄膜上に形成した強磁性Co
−Cr合金薄膜の結晶配向性は、非磁性Co−Cr合金
薄膜のI とその上に強磁性Co−Cr合金薄膜を形
成したときのI と差を評価したものである。また、
記録密度特性は、3.5インチ径のフロッピーディスク
状に作製した媒体を毎分300回転で回転させながら、
ギャップ長0.3μmのフェライト製リングヘッドを接
触させて測定した。記録信号にはNRZ Iパターンの
オール1°S信号を用い、低記録密度(1kBPl)に
おける再生出力の50%の再生出力を与える記録密度(
D5o)を測定して記録密度特性を評価した。
D5oはこれが大きい程、高密度の記録ができることを
示している。
示している。
第2表から明らかなように、GeまたはTiの薄膜から
なる第1の下地層と、Cr濃度が27wt%を超える非
磁性Co−Cr合金薄膜からなる第2の下地層を形成す
ると、非常に良好な結晶配向性が得られ、D5oの値も
大きいため、良好な高密度記録が可能である。
なる第1の下地層と、Cr濃度が27wt%を超える非
磁性Co−Cr合金薄膜からなる第2の下地層を形成す
ると、非常に良好な結晶配向性が得られ、D5oの値も
大きいため、良好な高密度記録が可能である。
第4図は本発明の他の実施例に係る垂直磁気記録媒体の
断面図であり、耐熱性フィルム状基体41の両面に例え
ば厚さ0.4μmの軟磁性層42がそれぞれ形成され、
その上に第1の下地層としての例えば厚さ 200人の
Ti薄膜43と、第2の下地層としての例えば厚さ 2
50人でC「濃度が27.5wt%の非磁性Co−Cr
−Nb合金薄膜44がそれぞれ形成され、さらにその上
に記録層としての強磁性Co−Cr合金薄膜45がそれ
ぞれ形成されている。軟磁性層42としては例えばパー
マロイ薄膜が形成される。また、軟磁性層42゜Ti薄
膜43.非磁性Co−Cr−Nb合金薄膜44および強
磁性Co−Cr合金薄膜45は真空蒸着法によって形成
される。
断面図であり、耐熱性フィルム状基体41の両面に例え
ば厚さ0.4μmの軟磁性層42がそれぞれ形成され、
その上に第1の下地層としての例えば厚さ 200人の
Ti薄膜43と、第2の下地層としての例えば厚さ 2
50人でC「濃度が27.5wt%の非磁性Co−Cr
−Nb合金薄膜44がそれぞれ形成され、さらにその上
に記録層としての強磁性Co−Cr合金薄膜45がそれ
ぞれ形成されている。軟磁性層42としては例えばパー
マロイ薄膜が形成される。また、軟磁性層42゜Ti薄
膜43.非磁性Co−Cr−Nb合金薄膜44および強
磁性Co−Cr合金薄膜45は真空蒸着法によって形成
される。
このように構成された垂直磁気記録媒体においても、先
の実施例で説明した垂直磁気記録媒体と同様に、良好な
結晶配向性と高密度記録特性が得られた。
の実施例で説明した垂直磁気記録媒体と同様に、良好な
結晶配向性と高密度記録特性が得られた。
なお、上記2つの実施例においては記録層として強磁性
Co−Cr合金薄膜を用いたが、例えばCo−CrにV
、Rh、Ni、W等の第3元素を含むものでもよく、要
するにCo、Crを主成分とする強磁性Co−Cr系合
金薄膜であればよい。
Co−Cr合金薄膜を用いたが、例えばCo−CrにV
、Rh、Ni、W等の第3元素を含むものでもよく、要
するにCo、Crを主成分とする強磁性Co−Cr系合
金薄膜であればよい。
また、下地層として非磁性Co−Cr−0合金薄膜を用
いたが、Co、Crに第3元素または第4元素を添加し
たもの、例えばCo−Cr−V。
いたが、Co、Crに第3元素または第4元素を添加し
たもの、例えばCo−Cr−V。
Co−Cr −Rh、Co−Cr−Ni −W等の合金
薄膜でもよく、要は非磁性Co−Cr−0系合金薄膜で
あればよい。基体の材質も種々選択することができる。
薄膜でもよく、要は非磁性Co−Cr−0系合金薄膜で
あればよい。基体の材質も種々選択することができる。
また、基体の片面にのみ記録層が形成されている媒体に
も適用することができる。
も適用することができる。
[発明の構成コ
本発明によれば、強磁性Co−Cr系合金薄膜からなる
記録層の下地層として非磁性Co=Cr−〇系合金薄膜
を形成することにより、大きな垂直磁気異方性を維持し
たまま結晶粒を微細化し、高S/Nおよび高記録密度特
性が得られる。
記録層の下地層として非磁性Co=Cr−〇系合金薄膜
を形成することにより、大きな垂直磁気異方性を維持し
たまま結晶粒を微細化し、高S/Nおよび高記録密度特
性が得られる。
本発明によれば、強磁性Co−Cr系合金からなる記録
層の下地層として、GeまたはTiの薄膜からなる第1
の下地層と、非磁性Co−Cr系合金薄膜からなる第2
の下地層を形成することにより、下地層が単層のものに
比べ結晶配向性が著しく良好で、かつ均一で優れた高密
度記録特性が得られる。
層の下地層として、GeまたはTiの薄膜からなる第1
の下地層と、非磁性Co−Cr系合金薄膜からなる第2
の下地層を形成することにより、下地層が単層のものに
比べ結晶配向性が著しく良好で、かつ均一で優れた高密
度記録特性が得られる。
また、本発明では下地層が非磁性であるため、記録層内
部に体積磁荷を発生させて記録再生特性を損なうことが
ない。
部に体積磁荷を発生させて記録再生特性を損なうことが
ない。
さらに、本発明によれば記録層と同系、即ちCo−Cr
系合金を下地層として使用していることにより、記録層
と下地層とで熱膨張係数等の特性が近いため、スパッタ
法や真空蒸着法のように基体が高温となる成膜方法を用
いた場合においても、記録層・下地層間での剥離が生じ
難く、従って耐久性を向上させることができる。
系合金を下地層として使用していることにより、記録層
と下地層とで熱膨張係数等の特性が近いため、スパッタ
法や真空蒸着法のように基体が高温となる成膜方法を用
いた場合においても、記録層・下地層間での剥離が生じ
難く、従って耐久性を向上させることができる。
第1図、第2図、第3図および第4図はそれぞれ本発明
の実施例に係る垂直磁気記録媒体の構成を模式的に示す
断面図である。 11、’21・・・基体、12.23・・・非磁性Co
−C「−0合金薄膜(下地層)、13.24・・・強磁
性Co−Cr合金薄膜(記録層)、22・・・軟磁性層
、31.41・・・基体、32・・・Ge薄膜(第1の
下地層)、33.44・・・非磁性Co−Cr合金薄膜
(第2の下地層)、34.45・・・強磁性Co−Cr
合金薄膜(記録層)、42・・・軟磁性層、43・・・
Ti薄膜(第1の下地層)。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図
の実施例に係る垂直磁気記録媒体の構成を模式的に示す
断面図である。 11、’21・・・基体、12.23・・・非磁性Co
−C「−0合金薄膜(下地層)、13.24・・・強磁
性Co−Cr合金薄膜(記録層)、22・・・軟磁性層
、31.41・・・基体、32・・・Ge薄膜(第1の
下地層)、33.44・・・非磁性Co−Cr合金薄膜
(第2の下地層)、34.45・・・強磁性Co−Cr
合金薄膜(記録層)、42・・・軟磁性層、43・・・
Ti薄膜(第1の下地層)。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図
Claims (8)
- (1)基体上に非磁性Co−Cr−O系合金薄膜からな
る下地層を介して強磁性Co−Cr系合金薄膜からなる
記録層を形成してなることを特徴とする垂直磁気記録媒
体。 - (2)下地層を構成する非磁性Co−Cr−O系合金薄
膜は27wt%を超えるCrを含有することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の垂直磁気記録媒体。 - (3)基体と下地層との間に軟磁性層を有することを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の垂直磁気記録媒体
。 - (4)下地層および記録層はスパッタ法また真空蒸着法
により形成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の垂直磁気記録媒体。 - (5)基体上にGeまたはTiの薄膜からなる第1の下
地層および非磁性Co−Cr系合金薄膜からなる第2の
下地層を介して強磁性Co−Cr系合金薄膜からなる記
録層を形成してなることを特徴とする垂直磁気記録媒体
。 - (6)第2の下地層を構成する非磁性Co−Cr系合金
薄膜は27wt%を超えるCrを含有することを特徴と
する特許請求の範囲第5項記載の垂直磁気記録媒体。 - (7)基体と第1の下地層との間に軟磁性層を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の垂直磁気記
録媒体。 - (8)第2の下地層および記録層はスパッタ法または真
空蒸着法により形成されていることを特徴とする特許請
求の範囲第5項記載の垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62115353A JP2557381B2 (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62115353A JP2557381B2 (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63281219A true JPS63281219A (ja) | 1988-11-17 |
JP2557381B2 JP2557381B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=14660425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62115353A Expired - Lifetime JP2557381B2 (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2557381B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7862913B2 (en) | 2006-10-23 | 2011-01-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Oxide magnetic recording layers for perpendicular recording media |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62162222A (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-18 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPS6398827A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-30 | Sony Corp | 垂直磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-05-12 JP JP62115353A patent/JP2557381B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62162222A (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-18 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPS6398827A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-30 | Sony Corp | 垂直磁気記録媒体 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7862913B2 (en) | 2006-10-23 | 2011-01-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Oxide magnetic recording layers for perpendicular recording media |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2557381B2 (ja) | 1996-11-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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