JPS63278020A - レーザビームスキャナ - Google Patents
レーザビームスキャナInfo
- Publication number
- JPS63278020A JPS63278020A JP62253463A JP25346387A JPS63278020A JP S63278020 A JPS63278020 A JP S63278020A JP 62253463 A JP62253463 A JP 62253463A JP 25346387 A JP25346387 A JP 25346387A JP S63278020 A JPS63278020 A JP S63278020A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- scanning
- light guide
- laser beam
- scanned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 101150089254 epd2 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/024—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
- H04N1/028—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
- H04N1/02815—Means for illuminating the original, not specific to a particular type of pick-up head
- H04N1/0282—Using a single or a few point light sources, e.g. a laser diode
- H04N1/0283—Using a single or a few point light sources, e.g. a laser diode in combination with a light deflecting element, e.g. a rotating mirror
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/024—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
- H04N1/028—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
- H04N1/0281—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up with means for collecting light from a line or an area of the original and for guiding it to only one or a relatively low number of picture element detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/113—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors
- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/12—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using the sheet-feed movement or the medium-advance or the drum-rotation movement as the slow scanning component, e.g. arrangements for the main-scanning
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/0471—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors
- H04N2201/04712—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors using unbroken arrays of detectors, i.e. detectors mounted on the same substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04729—Detection of scanning velocity or position in the main-scan direction
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04731—Detection of scanning velocity or position in the sub-scan direction
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04734—Detecting at frequent intervals, e.g. once per line for sub-scan control
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04744—Detection of scanning velocity or position by detecting the scanned beam or a reference beam
- H04N2201/04746—Detection of scanning velocity or position by detecting the scanned beam or a reference beam after modulation by a grating, mask or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Lasers (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
この発明は一般的にはレーザビーム走査装置、レーザビ
ーム又はレーザ光検知装置に関し、さらに具体的にはレ
ーザプロッタ又はレーザスキャナに有用な上記検知装置
に関する。
ーム又はレーザ光検知装置に関し、さらに具体的にはレ
ーザプロッタ又はレーザスキャナに有用な上記検知装置
に関する。
発明の背景
レーザビームを測定し正確に位置付ける方法には種々の
ものがある。以下に挙げる今までの刊行物は従来技術の
一般的状態を表わしている。
ものがある。以下に挙げる今までの刊行物は従来技術の
一般的状態を表わしている。
［空間的誤差を補償したレーザ記碌法ＪＳ。
Ｂｏｕｓｋｙ ａｓｄ Ｌ、 Ｔｅｍｐｌｅ、 ＳＰ
ＩＥ、 Ｖｏｌ、 ５３．１９７３゜この論文では、ポ
リゴン偏向器と共に基準線（デげ・デー５ｓａｓ Ｌｉ
％＃）を使用してクロススキャン誤差を測定している。
ＩＥ、 Ｖｏｌ、 ５３．１９７３゜この論文では、ポ
リゴン偏向器と共に基準線（デげ・デー５ｓａｓ Ｌｉ
％＃）を使用してクロススキャン誤差を測定している。
差動的に測定されたビーム位置は２次元的に補正される
。
。
「高精度かつ精密なビーム偏向Ｊ Ｄ、Ｐ、Ｊαｂ−１
ｏｓｏ−ｗａｋｉ ａｎｄ Ｊ、 Ｒａａｔｎｏｔ、
５ＰＩＥ 、 Ｖｏｌ、 ８４．１９７６゜この論文は
ガルバノメータ駆動ミラー又はポリゴンを使用するＸ−
Ｙ偏向について記述し、交差した格子を使用して２次元
位置情報を測定する。参照ビームが位置測定のために偏
向され、書き込み中のビームの２次元位置を測定するの
に使用される。
ｏｓｏ−ｗａｋｉ ａｎｄ Ｊ、 Ｒａａｔｎｏｔ、
５ＰＩＥ 、 Ｖｏｌ、 ８４．１９７６゜この論文は
ガルバノメータ駆動ミラー又はポリゴンを使用するＸ−
Ｙ偏向について記述し、交差した格子を使用して２次元
位置情報を測定する。参照ビームが位置測定のために偏
向され、書き込み中のビームの２次元位置を測定するの
に使用される。
「超高解像データターミナルＪ Ｍ、Ｒ，５ｔｎｉｔｈ
。
。
Ｒ，Ｈ，Ｂｓｒｓａ ａｓｄ Ｒ，Ｃ，Ｔａａｉ、
５ＰＩＥ 、Ｖｏｌ。
５ＰＩＥ 、Ｖｏｌ。
２００．１９７９゜この論文は、レーザな用いて液晶ゲ
ートをアドレスする高−９解像デイスプレイについて述
べている。偏向はガルバノメータ駆動ミラーによって行
なわれる。参照ビームは交差したロンキー格子に当たり
、そこから得られる情報を用いてビームの２次元座標が
瞬時に測定される。
ートをアドレスする高−９解像デイスプレイについて述
べている。偏向はガルバノメータ駆動ミラーによって行
なわれる。参照ビームは交差したロンキー格子に当たり
、そこから得られる情報を用いてビームの２次元座標が
瞬時に測定される。
高品質レーザビーム走査で遭遇する主要な問題の１つは
、文献（たとえばＪｏｘｒｔｓａｌ ｏｆ Ａｐｐｌ。
、文献（たとえばＪｏｘｒｔｓａｌ ｏｆ Ａｐｐｌ。
ＰＩＬｏｔ 、 Ｅｎｇ、 Ｖｏｌ、 ２．１９７６中
のＥｍｓｔｇｎｈａｉ−ｍａｒらの論文）中に言及され
ているように、レーザで発生したドツトを隣接するドツ
トに対して正確に位置づけることに関するものである。
のＥｍｓｔｇｎｈａｉ−ｍａｒらの論文）中に言及され
ているように、レーザで発生したドツトを隣接するドツ
トに対して正確に位置づけることに関するものである。
人間の目はビームの行間隔の周期的誤差に対して高い感
度を有する。強度変化又は位置変動に起因する周期的誤
差によって高ビジビリティの縞（６α％ｄｉｓσ）が発
生することがある。これらの誤差を最小にするために、
これまで受動的な方法及び能動的な方法が採用されてき
た。
度を有する。強度変化又は位置変動に起因する周期的誤
差によって高ビジビリティの縞（６α％ｄｉｓσ）が発
生することがある。これらの誤差を最小にするために、
これまで受動的な方法及び能動的な方法が採用されてき
た。
レーザビームスキャナの応用の１つは、前もって記録さ
れたデータから情報を読み出すことである。照明レーザ
ビームは普通指向性が強いので、スペックルノイズを最
小にし、信号対雑音比を高め、グラフィックアート貼り
込み台紙（２６１１ｇ−’ｕｐｓ）のカットライン（ｃ
ｕｔ−１ｉｎｅｓ） を見えなくするためには、光線
を可能な限り広い角度から反射させなければならない。
れたデータから情報を読み出すことである。照明レーザ
ビームは普通指向性が強いので、スペックルノイズを最
小にし、信号対雑音比を高め、グラフィックアート貼り
込み台紙（２６１１ｇ−’ｕｐｓ）のカットライン（ｃ
ｕｔ−１ｉｎｅｓ） を見えなくするためには、光線
を可能な限り広い角度から反射させなければならない。
この発明の１つの目的は、これら２つの問題を解決する
ことである。
ことである。
発明の概要
この発明は、従来のレーザビームスキャナに比較して高
い性能を有するレーザビーム走査装置を提供しようとす
るものである。
い性能を有するレーザビーム走査装置を提供しようとす
るものである。
この発明の１つの好適な実施例に従うと、レーザ光源と
、大略平行な走査ビームと参照ビームを発生するための
装置と、走査される表面に走査ビームを向けるための装
置と、参照ビームの位置を検知するこ・とによって走査
ビームの２次元位置を実時間で測定するための手段とを
含むレーザビームスキャナであって、上記参照ビームの
位置を検知するための装置は、走査軸に沿って配置され
かつ走査軸に沿って多数の周期的パターンを画成し、そ
のパターンによって第１の次元での参照ビームの位置を
決定可能にする格子と、上記多数の周期的パターンを横
切るように配置された格子線と、該格子線の両側に配置
されて格子線の上下に入射する光線の相対量を検知して
第２の次元での参照ビーム位置を決定可能にする第１及
び第２のセンサーからなり、それによって走査軸に沿う
全ての位置で走査軸方向及びそれに垂直な方向での参照
ビーム位置を決定できるようにしたレーザビームスキャ
ナが提供される。
、大略平行な走査ビームと参照ビームを発生するための
装置と、走査される表面に走査ビームを向けるための装
置と、参照ビームの位置を検知するこ・とによって走査
ビームの２次元位置を実時間で測定するための手段とを
含むレーザビームスキャナであって、上記参照ビームの
位置を検知するための装置は、走査軸に沿って配置され
かつ走査軸に沿って多数の周期的パターンを画成し、そ
のパターンによって第１の次元での参照ビームの位置を
決定可能にする格子と、上記多数の周期的パターンを横
切るように配置された格子線と、該格子線の両側に配置
されて格子線の上下に入射する光線の相対量を検知して
第２の次元での参照ビーム位置を決定可能にする第１及
び第２のセンサーからなり、それによって走査軸に沿う
全ての位置で走査軸方向及びそれに垂直な方向での参照
ビーム位置を決定できるようにしたレーザビームスキャ
ナが提供される。
さらにこの発明の好適な実施例に従うと、走査軸に沿っ
て配置されかつ走査軸に沿って多数の第１の格子線を画
成し、この第１の格子線によって第１の次元でのビーム
位置を決定可能にする格子と、上記多数の第１の格子線
を横切るように配置された第２の格子線と、該第２の格
子線の両側に配置されて第２の格子線の上下に入射する
光線の相対量を検知して第２の次元でのビーム位置を測
定可能にする第１及び第２のセンサーとからなり、それ
によって走査軸に沿５−ｉての位置で走査軸方向及びそ
れに垂直な方向でのビーム位置を測定できるようにした
、レーザビームの２次元位置を実時間で測定するための
装置が提供される。
て配置されかつ走査軸に沿って多数の第１の格子線を画
成し、この第１の格子線によって第１の次元でのビーム
位置を決定可能にする格子と、上記多数の第１の格子線
を横切るように配置された第２の格子線と、該第２の格
子線の両側に配置されて第２の格子線の上下に入射する
光線の相対量を検知して第２の次元でのビーム位置を測
定可能にする第１及び第２のセンサーとからなり、それ
によって走査軸に沿５−ｉての位置で走査軸方向及びそ
れに垂直な方向でのビーム位置を測定できるようにした
、レーザビームの２次元位置を実時間で測定するための
装置が提供される。
さら罠この発明の好適な実施例に従うと、レーザ光源と
、走査ビームを発生するための装置と、走査される表面
上の走査線に走査ビームを向けるための装置と、走査さ
れる表面から反射された光線を受光するための装置とか
らなり、該受光手段は、走査される表面に対して受光関
係におかれて走査線の一方の側に走査線に並べて配置さ
れたライトガイドと、走査される表面から受光した光線
をライトガイド中に反射するために走査される表面に対
して受光関係におかれて走査線の反対側に走査線に並べ
て配置された円柱ミラーとからなっているレーザビーム
スキャナが提供される。
、走査ビームを発生するための装置と、走査される表面
上の走査線に走査ビームを向けるための装置と、走査さ
れる表面から反射された光線を受光するための装置とか
らなり、該受光手段は、走査される表面に対して受光関
係におかれて走査線の一方の側に走査線に並べて配置さ
れたライトガイドと、走査される表面から受光した光線
をライトガイド中に反射するために走査される表面に対
して受光関係におかれて走査線の反対側に走査線に並べ
て配置された円柱ミラーとからなっているレーザビーム
スキャナが提供される。
さらにこの発明の実施例に従うと、走査される表面に対
して受光関係におかれて走査線の一方の側に走査線に並
べて配置されたライトガイドと、走査される表面から受
光した光線をライトガイド中に反射するために走査され
る表面に対して受光関係におかれて走査線の反対側に走
査線に並べて配置された円柱ミラーとからなる、走査さ
れる表面から反射された光線を受光するための装置が提
供される。
して受光関係におかれて走査線の一方の側に走査線に並
べて配置されたライトガイドと、走査される表面から受
光した光線をライトガイド中に反射するために走査され
る表面に対して受光関係におかれて走査線の反対側に走
査線に並べて配置された円柱ミラーとからなる、走査さ
れる表面から反射された光線を受光するための装置が提
供される。
さらにこの発明の実施例に従うと、上記ライトガイドは
走査線に平行に配置された細長い部分と、ライトガイド
に沿って通過する光線を隣接する軸方向端部から出射さ
せるように軸方向に通すライトパイプとからなる。光検
出器がライトガイドの軸方向端部に隣接して配置され、
ライトガイドを通過する光線を受光する。
走査線に平行に配置された細長い部分と、ライトガイド
に沿って通過する光線を隣接する軸方向端部から出射さ
せるように軸方向に通すライトパイプとからなる。光検
出器がライトガイドの軸方向端部に隣接して配置され、
ライトガイドを通過する光線を受光する。
さらにこの発明の実施例に従うと、走査線に平行に配置
された細長い部分を含むライトガイドと、ライトガイド
に沿って通過する光線を隣接する軸方向端部から出射さ
せるように軸方向に通すライトパイプと、ライトガイド
を通過する光線を受光するためにライトガイドの軸方向
端部に隣接して配置された光検出器からなる、走査線に
沿って物体から反射された光線を受光するための受光装
置が提供される。
された細長い部分を含むライトガイドと、ライトガイド
に沿って通過する光線を隣接する軸方向端部から出射さ
せるように軸方向に通すライトパイプと、ライトガイド
を通過する光線を受光するためにライトガイドの軸方向
端部に隣接して配置された光検出器からなる、走査線に
沿って物体から反射された光線を受光するための受光装
置が提供される。
さらにライトガイドは、集光されたレーザ波長の光線を
異なる波長に変換して光検出器に集光されるエネルギー
を最大化するように螢光材料で作ることかできる。
異なる波長に変換して光検出器に集光されるエネルギー
を最大化するように螢光材料で作ることかできる。
好適な実施例の詳細な説明
この発明の好適な実施例に従って構成されかつ作動する
スキャナ装置な略示する第１Ａ図及び第１Ｂ図を参照す
る。このスキャナ装置は、光学テーブル１０上にマウン
トされてレーザビームの光路中に配置されている光学要
素、電気光学的要素及び音響光学的要素を含む。光学要
素及びレーザビームの光路中におけるその位置は第１Ｂ
図に示されている。
スキャナ装置な略示する第１Ａ図及び第１Ｂ図を参照す
る。このスキャナ装置は、光学テーブル１０上にマウン
トされてレーザビームの光路中に配置されている光学要
素、電気光学的要素及び音響光学的要素を含む。光学要
素及びレーザビームの光路中におけるその位置は第１Ｂ
図に示されている。
レーザ１２の出力ビームは、最初にビームスプリッタ１
８によってお照ビーム１４と露光ビーム１６に分割され
る。参照ビームは、走査線の２軸及びＶ軸の双方で露光
ビームの位置をトラッキングするのに利用される。これ
は、フィルム２０に到達するまで２本のビームを平行な
経路に沿って進ませることによって達成される。露光ビ
ーム１６はフィルム上に反射されるが、一方、参照ビー
ム１４はビーム位置検出器（ＢＰＤ） ２２上に投射さ
れる。
８によってお照ビーム１４と露光ビーム１６に分割され
る。参照ビームは、走査線の２軸及びＶ軸の双方で露光
ビームの位置をトラッキングするのに利用される。これ
は、フィルム２０に到達するまで２本のビームを平行な
経路に沿って進ませることによって達成される。露光ビ
ーム１６はフィルム上に反射されるが、一方、参照ビー
ム１４はビーム位置検出器（ＢＰＤ） ２２上に投射さ
れる。
参照ビーム１４は音響光学的小角偏向器２４に入る。こ
の偏向器は、回転ポリゴンミラー２６からのビームの反
射角度を絶えず調整し、そうしてビーム位置検出器２２
上のビーム位置を決定する。
の偏向器は、回転ポリゴンミラー２６からのビームの反
射角度を絶えず調整し、そうしてビーム位置検出器２２
上のビーム位置を決定する。
この調整は、閉じたフィードバックループ中のＥＰＤ２
２からもたらされる情報に従って電圧制御発掘器、ＶＣ
０３６（第１Ａ図）によって実行される。偏向後、参照
ビーム及び露光ビームの光路は、残りの光路の大部分に
わたって空間的にほぼ完全にオーバーラツプするように
結合される。
２からもたらされる情報に従って電圧制御発掘器、ＶＣ
０３６（第１Ａ図）によって実行される。偏向後、参照
ビーム及び露光ビームの光路は、残りの光路の大部分に
わたって空間的にほぼ完全にオーバーラツプするように
結合される。
露光ビーム１６は、最初にデータ変調を行う音響光学的
変調器２８に入る。次に、露光ビームの一部をビームス
プリッタ３０で分割して取出すことにより、露光ビーム
強度が光検出器組立体２９によって測定される。光検出
器組立体２９の出力は、ビーム強度調整のためのフィー
ドバックシステムで利用される。
変調器２８に入る。次に、露光ビームの一部をビームス
プリッタ３０で分割して取出すことにより、露光ビーム
強度が光検出器組立体２９によって測定される。光検出
器組立体２９の出力は、ビーム強度調整のためのフィー
ドバックシステムで利用される。
光検出器組立体２９は、また実際の露光に先立ってレー
ザ強度を設定し、参照ビーム強度がＢＰＤ２２の動作の
ために最適となり、露光ビー“ム強度が露出解像度に適
合しフィルムの仕様に合致することを確実ならしめる。
ザ強度を設定し、参照ビーム強度がＢＰＤ２２の動作の
ために最適となり、露光ビー“ム強度が露出解像度に適
合しフィルムの仕様に合致することを確実ならしめる。
露光ビーム１６は次に、参照ビーム１４の偏向器２４と
同一の音響光学的小角偏向器２５に入射する。この偏向
器は、偏向器２４と同じＶＣＯ信号で駆動され、偏向器
２４と全く同様にしてビーム角度を調整する。
同一の音響光学的小角偏向器２５に入射する。この偏向
器は、偏向器２４と同じＶＣＯ信号で駆動され、偏向器
２４と全く同様にしてビーム角度を調整する。
参照ビームと露光ビームは、露光ビームカフイルムコ０
上に反射されるまで結合されているのであるが、ビーム
エキスパンダ組、立体４０に入射す、る。この組立体は
、各々ピンホールシート４５によって分離された２個の
レンズ４１及び４３からなる。拡大されたビームは、大
きなミラー４２によって回転ミラー２６上に反射される
。回転ミラー２６で反射されたビームはｆシータレンズ
（ｆ −ｔｈｅｔａ １ａｆＬｓ ） ４４を介して投
射される。
上に反射されるまで結合されているのであるが、ビーム
エキスパンダ組、立体４０に入射す、る。この組立体は
、各々ピンホールシート４５によって分離された２個の
レンズ４１及び４３からなる。拡大されたビームは、大
きなミラー４２によって回転ミラー２６上に反射される
。回転ミラー２６で反射されたビームはｆシータレンズ
（ｆ −ｔｈｅｔａ １ａｆＬｓ ） ４４を介して投
射される。
このｆシータレンズはビームの焦点距離を円弧の両端の
方に向けて伸張し、円弧の大部分を平坦化して直線にす
る。直線の両端での最終的調整は、ビーム強度を増すこ
とによって電子的に行なわれる。従って、このｆシータ
レンズは、走査線全体にわたってビームがフィルム２０
及びＥＰＤ２２上でシャープにフォーカスすることを保
証し、広角歪を実質的に除去する。
方に向けて伸張し、円弧の大部分を平坦化して直線にす
る。直線の両端での最終的調整は、ビーム強度を増すこ
とによって電子的に行なわれる。従って、このｆシータ
レンズは、走査線全体にわたってビームがフィルム２０
及びＥＰＤ２２上でシャープにフォーカスすることを保
証し、広角歪を実質的に除去する。
ｆシータレンズ４４から、参照ビーム１４はＢＰＤ２２
上に直接投射されるが、露光ビーム１６はミラー４８に
よってフィルム２０上に反射される。
上に直接投射されるが、露光ビーム１６はミラー４８に
よってフィルム２０上に反射される。
データ変調がビーム位置に同期している場合、直線走査
が各走査線に沿って実行されねばならない。隣接点の中
心間距離及び点密度も走査線に沿って一様でなければな
らない。このことを実現するために、ＢＰＤ２２は参照
ビーム１４をフィルム２０のＸ軸及びＶ軸の両方向でト
ラッキングし、その位置情報を電気光学的電子制御（Ｅ
ｔ−Ｏｐ ）サブシステムに供給する。
が各走査線に沿って実行されねばならない。隣接点の中
心間距離及び点密度も走査線に沿って一様でなければな
らない。このことを実現するために、ＢＰＤ２２は参照
ビーム１４をフィルム２０のＸ軸及びＶ軸の両方向でト
ラッキングし、その位置情報を電気光学的電子制御（Ｅ
ｔ−Ｏｐ ）サブシステムに供給する。
トラッキング及びそれに続くｙ軸方向のビーム調整によ
り、直線走査が確実に行なわれる。Ｖ軸上の参照ビーム
位置は、空気の乱れ及び構造上の限界による変動を調整
する閉ループに供給される。
り、直線走査が確実に行なわれる。Ｖ軸上の参照ビーム
位置は、空気の乱れ及び構造上の限界による変動を調整
する閉ループに供給される。
最大の変動は回転ミラー２６によってもたらされる、と
いうのも各ファセットの物理的特性が１つ１つ異なるか
らである。他の因子にはレーザの指向誤差、ミラーの動
揺、振動、タイミング誤差、及びシステム中の熱的変動
が含まれる。閉ループについては以下に説明する。
いうのも各ファセットの物理的特性が１つ１つ異なるか
らである。他の因子にはレーザの指向誤差、ミラーの動
揺、振動、タイミング誤差、及びシステム中の熱的変動
が含まれる。閉ループについては以下に説明する。
２軸方向のビーム位置は、データ変調をビーム位置に同
期させるために、また走査線に沿ってビーム強度を調整
するために連続的にトラッキングしなければならず、こ
れは一様な点密度を保証するために必要である。２軸上
のビーム位置はＥｌ−ｏｐ サブシステムに入力され
る。Ｅｔ−Ｏｐサブシステムはデータ変調を実行し、ま
た走査線中の各点に対する強度値を記憶し、読み出し、
そして゛適用する。
期させるために、また走査線に沿ってビーム強度を調整
するために連続的にトラッキングしなければならず、こ
れは一様な点密度を保証するために必要である。２軸上
のビーム位置はＥｌ−ｏｐ サブシステムに入力され
る。Ｅｔ−Ｏｐサブシステムはデータ変調を実行し、ま
た走査線中の各点に対する強度値を記憶し、読み出し、
そして゛適用する。
ＥＰＤ２２上の参照ビーム町１４の位置は、フィルム２
０上の露光ビーム１６の位置に対応する。
０上の露光ビーム１６の位置に対応する。
従って、参照ビームをトラッキングすることは、露光ビ
ームをフィルム上に位置決めするという目的に対して必
要かつ十分である。換言すると、必要な全ての位置情報
は参照ビームをトラッキングすることによって得られる
。走査線に沿っての参照ビーム位置の調整は全て露光ビ
ームに対しても等しく行なわれる。露光ビーム自体はト
ラッキングされない。
ームをフィルム上に位置決めするという目的に対して必
要かつ十分である。換言すると、必要な全ての位置情報
は参照ビームをトラッキングすることによって得られる
。走査線に沿っての参照ビーム位置の調整は全て露光ビ
ームに対しても等しく行なわれる。露光ビーム自体はト
ラッキングされない。
第１Ａ図に戻って、フィルム２０はキャリッジ５０上に
支持されている。キャリッジ５０は、リニヤＤＣモータ
−５４（第６図）、たとえば米国ニューヨーク州ロング
７ イラン）”、 Ｈａ％ｐａｑｓｍ所在のＡｎｏｒａ
ｄ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製作のモーター、を含んで
いてもよい、駆動機構によって移動軸５２に沿って駆動
される。駆動機構に加えて、軸５２に沿ってキャリッジ
５０の位置を監視するためにリニヤエンコーダ５６（第
６図）を設置してもよい。
支持されている。キャリッジ５０は、リニヤＤＣモータ
−５４（第６図）、たとえば米国ニューヨーク州ロング
７ イラン）”、 Ｈａ％ｐａｑｓｍ所在のＡｎｏｒａ
ｄ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製作のモーター、を含んで
いてもよい、駆動機構によって移動軸５２に沿って駆動
される。駆動機構に加えて、軸５２に沿ってキャリッジ
５０の位置を監視するためにリニヤエンコーダ５６（第
６図）を設置してもよい。
万一データフローの中断が生じた場合にキャリッジ５０
を正確に整復又は再設定できるように、位置及び速度制
御ループが設けられている。整復もまた最初の走査のと
きの速度と正確に同じ速度で実行される。速度制御ルー
プと位置制御ループを両方備えることにより、キャリッ
ジの移動が間欠的な場合であっても縞（ｓｔｒｉｐｉｎ
ｇ ）が出現することはない。この装置は第６図に示さ
れている。
を正確に整復又は再設定できるように、位置及び速度制
御ループが設けられている。整復もまた最初の走査のと
きの速度と正確に同じ速度で実行される。速度制御ルー
プと位置制御ループを両方備えることにより、キャリッ
ジの移動が間欠的な場合であっても縞（ｓｔｒｉｐｉｎ
ｇ ）が出現することはない。この装置は第６図に示さ
れている。
第２図は、走査ビーム及び参照ビームを発生しかつ利用
する装置を簡略化した光学線図で表わしている。レーザ
光源１００から発せられたレーザビームは従来のビーム
分割光学系１０２を通って、以後参照ビーム１０４及び
走査ビーム１０６と呼ばれる２本の平行なレーザビーム
になる。両ビームは回転ポリゴンミラー１０８に入射す
る。
する装置を簡略化した光学線図で表わしている。レーザ
光源１００から発せられたレーザビームは従来のビーム
分割光学系１０２を通って、以後参照ビーム１０４及び
走査ビーム１０６と呼ばれる２本の平行なレーザビーム
になる。両ビームは回転ポリゴンミラー１０８に入射す
る。
参照ビーム１０４は、のちに第５Ａ図及び第５Ｂ図を参
照して詳細に説明される位置測定装置１１０上に反射さ
れる。
照して詳細に説明される位置測定装置１１０上に反射さ
れる。
走査ビーム１０６は長い折り返しミラー１１２で遮断さ
れ、そこから典型的には幅０．０２５＋ｍ（０，００１
インチ）の明確な走査線１１６に沿って走査すべき表面
１１４上に反射される。表面１１４の走査線１１６位置
で表面１１４から反射された光線は、第３図及び第４図
に詳細に図示されている受光組立体１１８によって受光
される。
れ、そこから典型的には幅０．０２５＋ｍ（０，００１
インチ）の明確な走査線１１６に沿って走査すべき表面
１１４上に反射される。表面１１４の走査線１１６位置
で表面１１４から反射された光線は、第３図及び第４図
に詳細に図示されている受光組立体１１８によって受光
される。
受光組立体１１８は、走査線１１６に沿って延びる一般
に細長いライトガイド１２０を含む。ライトガイド１２
０は、走査線１１６に面し表面１１４の平面から約４５
°の角度をなし走査線１１６から典型的には０．１５イ
ンチ離して配置されている、凹面湾曲端１２３を有する
大略平面状の部分１２２を含む。この平面状の部分１２
２は、軸方向端部１２６．１２８を有する大略円柱状の
ライトパイプ１２４に終結しており、該端部１２６．１
２８には各々光検出器１３０及び１３２、たとえば浜松
光電子増倍管が、受光関係において隣接配置されている
。
に細長いライトガイド１２０を含む。ライトガイド１２
０は、走査線１１６に面し表面１１４の平面から約４５
°の角度をなし走査線１１６から典型的には０．１５イ
ンチ離して配置されている、凹面湾曲端１２３を有する
大略平面状の部分１２２を含む。この平面状の部分１２
２は、軸方向端部１２６．１２８を有する大略円柱状の
ライトパイプ１２４に終結しており、該端部１２６．１
２８には各々光検出器１３０及び１３２、たとえば浜松
光電子増倍管が、受光関係において隣接配置されている
。
ライトガイド１２０は、柔科をドープしたポリカーボネ
ートのような螢光材料で作ってもよい。
ートのような螢光材料で作ってもよい。
染料は、レーザ波長での吸収が最大で螢光波長での吸収
が最小となるように反射レーザビームの波長に応じて選
択される。こうすることにより、受光された光は実質的
に全てより長い波長に変換され、ライトガイド中で実質
的に吸収を受けることなく反射体に伝達される。こうす
ることによって高い集光効率が保証される。
が最小となるように反射レーザビームの波長に応じて選
択される。こうすることにより、受光された光は実質的
に全てより長い波長に変換され、ライトガイド中で実質
的に吸収を受けることなく反射体に伝達される。こうす
ることによって高い集光効率が保証される。
走査［１１６のライトガイド１２０とは反対の側にも円
柱ミラー１３４を配置するのが、この発明の１つの特徴
である。ミラー１３４は、表面１１４の走査線１１６位
置から飛来する光線をライトガイド１２０甲に反射する
ように配置されている。このようにして高い集光効率、
スペックルノイズ除去及びカットライン（ｃｌＬｔ ｌ
ｉｎｅ）Ｍ号の減少が達成される。２個の光検出器を使
用してそれからの信号を加算すると、信号が走査線全体
にわたって実質的に一様になる。
柱ミラー１３４を配置するのが、この発明の１つの特徴
である。ミラー１３４は、表面１１４の走査線１１６位
置から飛来する光線をライトガイド１２０甲に反射する
ように配置されている。このようにして高い集光効率、
スペックルノイズ除去及びカットライン（ｃｌＬｔ ｌ
ｉｎｅ）Ｍ号の減少が達成される。２個の光検出器を使
用してそれからの信号を加算すると、信号が走査線全体
にわたって実質的に一様になる。
ライトガイド１２０は一体的に作ってもよいし、或いは
別々の平面状要素及び円柱状要素を光学セメントで適当
に接着して作ってもよい。
別々の平面状要素及び円柱状要素を光学セメントで適当
に接着して作ってもよい。
第５Ａ図及び第５Ｂ図は、この発明の好適な実施例に従
って構成されかつ作動するレーザビーム位置検出装置を
示す。この装置は、第１の基準軸１４２に沿って配置さ
れた多数の直立する格子線１１４を含む格子１４０を有
する。格子１４０と交差し格子＠１４４を横切って、典
型的には格子線１４４を２等分する横格子線１４６が配
置されている。格子１４０及び格子線１４６の下流側に
は一対の細長いセンサー１４８及び１４９、たとえば米
国カリフォルニア州ロサンゼルス所在のＵｎｉｔｅｄ
ＤｍＬｍｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｊｓａ、から入
手可能な直線検出器が、格子線１４６の上下に配置され
てい工、格子の上下における相対的受光量を検知する。
って構成されかつ作動するレーザビーム位置検出装置を
示す。この装置は、第１の基準軸１４２に沿って配置さ
れた多数の直立する格子線１１４を含む格子１４０を有
する。格子１４０と交差し格子＠１４４を横切って、典
型的には格子線１４４を２等分する横格子線１４６が配
置されている。格子１４０及び格子線１４６の下流側に
は一対の細長いセンサー１４８及び１４９、たとえば米
国カリフォルニア州ロサンゼルス所在のＵｎｉｔｅｄ
ＤｍＬｍｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｊｓａ、から入
手可能な直線検出器が、格子線１４６の上下に配置され
てい工、格子の上下における相対的受光量を検知する。
格子１４０はセンサー１４８及び１４９と協働して１１
１１４２方向のビーム位置の出力指示を発生し、一方セ
ンサー１４８及び１４９に入射する相対的光量を差動モ
ードで評価すると、検出器１４８及び１４９０面に平行
で軸１４２に垂直な軸方向でのビーム位置の出力指示が
同時に得られるということが理解されるであろう。
１１４２方向のビーム位置の出力指示を発生し、一方セ
ンサー１４８及び１４９に入射する相対的光量を差動モ
ードで評価すると、検出器１４８及び１４９０面に平行
で軸１４２に垂直な軸方向でのビーム位置の出力指示が
同時に得られるということが理解されるであろう。
センサー１４８及び１４９かもの出力信号は、走査ビー
ム１０６及び参照ビーム１０４の両方の位置を同時にそ
れぞれ補正することのできる位置補正機構に供給される
ということが理解されるであろう。
ム１０６及び参照ビーム１０４の両方の位置を同時にそ
れぞれ補正することのできる位置補正機構に供給される
ということが理解されるであろう。
第１Ａ図及びｆｇＩＢ図に戻ると、閉じたフィードバッ
クループは、ビーム位置検出器２２、増幅゛器回路（図
示せず）、ビーム位置ＶＣＯ３６、及び音響光学的偏向
器２４．２５からなることが示されている。増幅器回路
は、センサー１４９の電圧からセンサー１４８の電圧を
差引く。この電圧差は正（すなわちＡ−Ｂ）Ｏ）又は＊
（すなわちＡ−ｊ９（０）のいずれかであジうる。この
電圧は、和（Ａ十Ｂ）で割ることによって局所的強度に
正規化される。
クループは、ビーム位置検出器２２、増幅゛器回路（図
示せず）、ビーム位置ＶＣＯ３６、及び音響光学的偏向
器２４．２５からなることが示されている。増幅器回路
は、センサー１４９の電圧からセンサー１４８の電圧を
差引く。この電圧差は正（すなわちＡ−Ｂ）Ｏ）又は＊
（すなわちＡ−ｊ９（０）のいずれかであジうる。この
電圧は、和（Ａ十Ｂ）で割ることによって局所的強度に
正規化される。
ＶＣ０３６ｋＳ、ＢＰＤ２２かもの印加電圧がなければ
（露光性の最初又は最後でビームが存在しないと＠）
８９ＭＨｚ の出力周波数を発生する。
（露光性の最初又は最後でビームが存在しないと＠）
８９ＭＨｚ の出力周波数を発生する。
この出力周波数はＲＦ旧号である。電圧差がＶＣＯに印
加されると、このＲＦ周波数は印加電圧に比例して変化
する。変化の方向は電圧の符号（正又は負）によって決
まる。
加されると、このＲＦ周波数は印加電圧に比例して変化
する。変化の方向は電圧の符号（正又は負）によって決
まる。
ＶＣＯ３６からの同−ＲＦ周波数が両方の音響光学的偏
向器２４及び２５に印加される。一方の偏向器は露光ビ
ーム１６の偏向角度を調整し、他方の偏向器は参照ビー
ム１４の角度を調整する。
向器２４及び２５に印加される。一方の偏向器は露光ビ
ーム１６の偏向角度を調整し、他方の偏向器は参照ビー
ム１４の角度を調整する。
ＲＦ周波数が印加されていないときレーザビームが偏向
器に入射すると、ビームは乱されることなく偏向器から
射出する。偏向器にＲＦ偏号が印加されていれば、ビー
ムはＲＦ旧号の周波数に正比例する角度の偏向を受ける
。
器に入射すると、ビームは乱されることなく偏向器から
射出する。偏向器にＲＦ偏号が印加されていれば、ビー
ムはＲＦ旧号の周波数に正比例する角度の偏向を受ける
。
ＢＰＤ２２から印加される電圧がないと、偏向角は一定
で８０ＭＨｚのＲＦ周波数に対応する。
で８０ＭＨｚのＲＦ周波数に対応する。
ＶＣＯ３６に印加される電圧に基づ（ＲＦ周波数の変化
は、偏向器を通して投射されるビームの偏向角度変化に
比例的に変換される。
は、偏向器を通して投射されるビームの偏向角度変化に
比例的に変換される。
音響光学的偏向器２４及び２５かものビームは、次に回
転ポリゴン１０８ （ｉ２図）からフィルム２０及びＢ
ＰＤ２２に反射されて、フィードバックループが閉じら
れる。音響光学的偏向器からのビーム偏向角が変化する
と、ミラー１０８からのビームの反射角がそれに応じて
変化する。これは、フィルム及びＢＰＤのＶ軸方向にお
ける露光ビーム及び参照ビームの各々の位置変化となっ
て現われる。
転ポリゴン１０８ （ｉ２図）からフィルム２０及びＢ
ＰＤ２２に反射されて、フィードバックループが閉じら
れる。音響光学的偏向器からのビーム偏向角が変化する
と、ミラー１０８からのビームの反射角がそれに応じて
変化する。これは、フィルム及びＢＰＤのＶ軸方向にお
ける露光ビーム及び参照ビームの各々の位置変化となっ
て現われる。
要約すると、もし参照ビーム１４がＢＰＤ２２の中心線
よジ下方にあれば（すなわちａ−Ｂ＞ｏ）、ビームはそ
のずれに比例してフィルム２０及びＢＰＤ２２上を上方
に移動させられる。もし参照ビーム１４が中心線より上
方にあれば（すなわちＡ−Ｂ（０）、ビームは下方に移
動させられる。
よジ下方にあれば（すなわちａ−Ｂ＞ｏ）、ビームはそ
のずれに比例してフィルム２０及びＢＰＤ２２上を上方
に移動させられる。もし参照ビーム１４が中心線より上
方にあれば（すなわちＡ−Ｂ（０）、ビームは下方に移
動させられる。
参照ビーム１４は、ストリップからの電圧を加算（Ａ十
Ｂ ）することによってフィルム２０の２軸方向にトラ
ッキングされる。この和は、Ｖ＠上のビーム位置によら
ず、参照ビームの全強度に比例する。そのため、参照ビ
ームが中心線からずれていても参照ビームをＢＰＤ２２
の２軸方向に連続的にトラッキングすることができる。
Ｂ ）することによってフィルム２０の２軸方向にトラ
ッキングされる。この和は、Ｖ＠上のビーム位置によら
ず、参照ビームの全強度に比例する。そのため、参照ビ
ームが中心線からずれていても参照ビームをＢＰＤ２２
の２軸方向に連続的にトラッキングすることができる。
このトラッキングは、行方向の露光ビームの位置にデー
タ変調を同期させ、またそのビーム位置に応じて強度変
調を行なうために必要である。
タ変調を同期させ、またそのビーム位置に応じて強度変
調を行なうために必要である。
ｇｔ −ｏｐサブシステム中で、増幅器回路はＢＰＤの
２つのセンサーからの電圧信号を受けてそれらを加算す
る。得られる電圧はビーム強度に比例しており、それは
次にクロック（ＣＬＫ）パルスに変換される。電圧信号
は２８８ミクロン毎に発生される。したがって、パルス
幅２８８ミクロンのＣＬＫパルス周波数が得られる。
２つのセンサーからの電圧信号を受けてそれらを加算す
る。得られる電圧はビーム強度に比例しており、それは
次にクロック（ＣＬＫ）パルスに変換される。電圧信号
は２８８ミクロン毎に発生される。したがって、パルス
幅２８８ミクロンのＣＬＫパルス周波数が得られる。
ストロボＰＬＬ盤（５ｔｒｏｂｅ ＰＬＬ Ｂｏａｒ
ｄ）は、このＣＬＫ周波数をＥＸＰ ＣＬＫｉ号のパル
ス列に変換する。各ＥＸＰ ＣＬＫ倍号はデータサブシ
ステム（図になし）及びビーム制御盤（図になし）に送
られる。各ＥＸＰ ＣＬＫ４Ｍ号は、データサブシステ
ムに指令して１つの露光点に対するデータをビーム制御
盤に送らせる。
ｄ）は、このＣＬＫ周波数をＥＸＰ ＣＬＫｉ号のパル
ス列に変換する。各ＥＸＰ ＣＬＫ倍号はデータサブシ
ステム（図になし）及びビーム制御盤（図になし）に送
られる。各ＥＸＰ ＣＬＫ４Ｍ号は、データサブシステ
ムに指令して１つの露光点に対するデータをビーム制御
盤に送らせる。
ビーム制御盤は、データ変調を実行し、また走査線に沿
っての強度値を記憶するＬＵＴを含む。
っての強度値を記憶するＬＵＴを含む。
ビーム位置検出器パルスは、走査線全体にわたってレー
ザ強度が適切なものとなるようにＬＵＴアドレスを進ま
せる。
ザ強度が適切なものとなるようにＬＵＴアドレスを進ま
せる。
要約すると、レーザビームの光路中に配置されている光
学要素は、変調された適正強度の露光ビームをフィルム
に向ける作用をする。これらの要素は、ビーム位置を調
整し、ビームを変調し、そしてビーム強度を調整するＥ
ｔ−Ｏｐサブシステムによって制御される。
学要素は、変調された適正強度の露光ビームをフィルム
に向ける作用をする。これらの要素は、ビーム位置を調
整し、ビームを変調し、そしてビーム強度を調整するＥ
ｔ−Ｏｐサブシステムによって制御される。
第２図〜第５Ｂ図の装置を除いた、ｐａｔ−ｏｐ サブ
システム、データサブシステム、ストロボＰＬＬビーム
及びビーム制御盤を含む第１Ａ図及び第１Ｂ図の装置は
既知であジ、イスラエル国１１ａｒｚｌｉα所在の５ｃ
ｉｔａｚ Ｃｏｍｐｘｔａｒ社から「レイ・スター・カ
ラーイメージセッター（Ｒａｙ ５ｔａｒ Ｃｏｌｏｒ
Ｉｍａｇｅ Ｓｍｔｔａデ）」として入手可能である。
システム、データサブシステム、ストロボＰＬＬビーム
及びビーム制御盤を含む第１Ａ図及び第１Ｂ図の装置は
既知であジ、イスラエル国１１ａｒｚｌｉα所在の５ｃ
ｉｔａｚ Ｃｏｍｐｘｔａｒ社から「レイ・スター・カ
ラーイメージセッター（Ｒａｙ ５ｔａｒ Ｃｏｌｏｒ
Ｉｍａｇｅ Ｓｍｔｔａデ）」として入手可能である。
この分野に精通した人は、この発明が上述した特定のも
のに限定されないことを理解するであろう。
のに限定されないことを理解するであろう。
第１Ａ図はこの発明の１つの好適な実施例に従って構成
されかつ作動するスキャナ装置の概略図、第１Ｂ図は第
１Ａ図のスキャナ装置の概略的光学線図、 第２図はこの発明の１つの好適な実施例に従う走査ビー
ム及び参照ビームの発生及び利用を示す概略的光学線図
、 第３図は第２図に示した装置の一部を構成する受光装置
の側面図、 第４図は第２図に示した装置の一部を構成するライトガ
イドを通る光路の一部を示す略図、第５Ａ図及び第５Ｂ
図は第２図に示した装置の一部を構成する位置検出装置
の略図及び側面図、そして Ｍ６図は速度及び位置制御ループのブロック図である。 （外４名） 第４図
されかつ作動するスキャナ装置の概略図、第１Ｂ図は第
１Ａ図のスキャナ装置の概略的光学線図、 第２図はこの発明の１つの好適な実施例に従う走査ビー
ム及び参照ビームの発生及び利用を示す概略的光学線図
、 第３図は第２図に示した装置の一部を構成する受光装置
の側面図、 第４図は第２図に示した装置の一部を構成するライトガ
イドを通る光路の一部を示す略図、第５Ａ図及び第５Ｂ
図は第２図に示した装置の一部を構成する位置検出装置
の略図及び側面図、そして Ｍ６図は速度及び位置制御ループのブロック図である。 （外４名） 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レーザ光源と、大略平行な走査ビームと参照ビーム
を発生するための手段と、走査される表面に走査ビーム
を向けるための手段と、参照ビームの位置を検知するこ
とによつて走査ビームの２次元位置を実時間で測定する
ための手段とを含むレーザビームスキャナであつて、 上記参照ビームの位置を検知するための手段は、走査軸
に沿つて配置されかつ走査軸に沿つて多数の周期的パタ
ーンを画成し、そのパターンによつて第１の次元での参
照ビームの位置を決定可能にする格子と、上記多数の周
期的パターンを横切るように配置された格子線と、該格
子線の両側に配置されて格子線の上下に入射する光線の
相対量を検知して第２の次元での参照ビーム位置を決定
可能にする第１及び第２のセンサーとからなり、それに
よつて走査軸に沿う全ての位置で走査軸方向及びそれに
垂直な方向での参照ビーム位置を測定できるようにした
、レーザビームスキャナ。 ２、走査軸に沿つて配置されかつ走査軸に沿つて多数の
周期的パターンを画成し、そのパターンによつて第１の
次元でのビーム位置を決定可能にする格子と、上記多数
の周期的パターンを横切るように配置された格子線と、
該格子線の両側に配置されて格子線の上下に入射する光
線の相対量を検知して第２の次元でのビーム位置を決定
可能にする第１及び第２のセンサーとからなり、それに
よつて走査軸に沿う全ての位置で走査軸方向及びそれに
垂直な方向でのビーム位置を測定できるようにした、レ
ーザビームの２次元位置を実時間で検知するためのレー
ザビームスキャナ。 ３、レーザ光源と、大略平行な走査ビームと参照ビーム
を発生するための手段と、走査される表面に走査ビーム
を向けるための手段と、走査される表面から反射された
光線を受光するための手段とを含み、 上記受光手段は、走査される表面に対して受光関係にお
かれて走査線の一方の側に走査線に並べて配置されたラ
イトガイドと、走査される表面から受光した光線をライ
トガイド中に反射するために走査される表面に対して受
光関係におかれて走査線の反対側に走査線に並べて配置
された円柱ミラーとを含んでいる、レーザビームスキャ
ナ。 ４、走査される表面に対して受光関係におかれて走査線
の一方の側に走査線に並べて配置されたライトガイドと
、走査される表面から受光した光線をライトガイド中に
反射するために走査される表面に対して受光関係におか
れて走査線の反対側に走査線に並べて配置された円柱ミ
ラーとからなる、走査される表面から反射された光線を
受光するためのレーザビームスキャナ。 ５、前記ライトガイドは、走査線に平行に配置された細
長い部分と、ライトガイドに沿つて通過する光線を隣接
する軸方向端部から出射させるように軸方向に通すライ
トパイプとからなる特許請求の範囲第３項又は第４項に
記載のレーザビームスキャナ。 ６、細長い部分とライトガイドに沿つて通過する光線を
隣接する軸方向端部から出射させるように軸方向に通す
ライトパイプとからなるライトガイド、及びライトガイ
ドを通過する光線を受光するためにライトガイドの軸方
向端部に隣接して配置されたレーザービームスキャナ。 ７、ライトガイドを通過する光線を受光するためにライ
トガイドの軸方向端部に隣接して配置された光検出器を
有する特許請求の範囲第３項から第６項のいずれか１項
に記載のレーザビームスキャナ。 ８、集光効率を最適化するためにライトガイドが螢光材
料で作られている特許請求の範囲第３項から第７項のい
ずれか１項に記載のレーザビームスキャナ。 ９、走査ビーム強度を走査軸に沿う相対的位置の関数と
して調整するための手段を有する特許請求の範囲第１項
から第８項のいずれか１項に記載のレーザビームスキャ
ナ。 １０、データフローを走査ビームの位置に同期させるた
めの手段を有する特許請求の範囲第１項から第９項のい
ずれか１項に記載のレーザビームスキヤナ。 １１、データフローが中断した場合、走査ビームを走査
される表面に対して正確に整復するための手段を有する
特許請求の範囲第１０項に記載のレーザビームスキャナ
。 １２、上記正確に整復するための手段が、再生結果に縞
ができるのを防ぐために元の走査のときと正確に同じ速
度で整復を行う手段からなる特許請求の範囲第１１項に
記載のレーザビームスキャナ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IL8024286A IL80242A (en) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | Laser scanner |
| IL80242 | 1986-10-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63278020A true JPS63278020A (ja) | 1988-11-15 |
Family
ID=11057189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62253463A Pending JPS63278020A (ja) | 1986-10-07 | 1987-10-07 | レーザビームスキャナ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4931637A (ja) |
| EP (1) | EP0263774A3 (ja) |
| JP (1) | JPS63278020A (ja) |
| CA (1) | CA1324194C (ja) |
| IL (3) | IL80242A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5012089A (en) * | 1988-10-24 | 1991-04-30 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Scanning beam control system and optical scale structure useful thereto |
| US5153422A (en) * | 1990-03-15 | 1992-10-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Photosensor and image scanner utilizing the same |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5111308A (en) * | 1986-05-02 | 1992-05-05 | Scitex Corporation Ltd. | Method of incorporating a scanned image into a page layout |
| IL78675A (en) * | 1986-05-02 | 1993-02-21 | Scitex Corp Ltd | Color separation scanner |
| US5157516A (en) * | 1987-04-30 | 1992-10-20 | Scitex Corporation Ltd. | Method of incorporating a scanned image into a page layout |
| US5070237A (en) * | 1989-05-16 | 1991-12-03 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Optical measurement and detection system |
| IL94308A0 (en) * | 1990-05-07 | 1991-03-10 | Scitex Corp Ltd | Laser scanning apparatus |
| US5191447A (en) * | 1990-12-07 | 1993-03-02 | Intergraph Corporation | Scanning beam control system with translated reference scale |
| US5255112A (en) * | 1990-12-20 | 1993-10-19 | Hitachi, Ltd. | Optical scanning apparatus and system |
| WO1993000696A1 (en) * | 1991-06-21 | 1993-01-07 | Zera, Gary, William | Optical scanned-beam position sensing system |
| US5386123A (en) * | 1992-08-20 | 1995-01-31 | Xerox Corporation | Beam steering sensor for a raster scanner using a lateral effect detecting device |
| JP2823470B2 (ja) * | 1993-03-09 | 1998-11-11 | シャープ株式会社 | 光走査装置及びそれを用いた表示装置並びに画像情報入出力装置 |
| US5481403A (en) * | 1993-06-03 | 1996-01-02 | Volt Information Sciences, Inc. | Dry silver photographic imaging device and method |
| US5521999A (en) * | 1994-03-17 | 1996-05-28 | Eastman Kodak Company | Optical system for a laser printer |
| WO1997046391A1 (en) * | 1996-06-03 | 1997-12-11 | Tom Jaungtain Chiang | Scan position detection beam |
| USD435556S (en) * | 1999-10-14 | 2000-12-26 | Hewlett-Packard Company | Guide lights for a hand-held scanner |
| EP1143266A3 (en) * | 2000-04-05 | 2006-08-23 | Konica Corporation | Light-condensing device, light-condensing system and image reading apparatus |
| EP2462429A1 (en) * | 2009-08-05 | 2012-06-13 | Corning Inc. | Label-independent optical reader system and methods with optical scanning |
| FR2979625B1 (fr) * | 2011-09-02 | 2013-08-30 | Thales Sa | Systeme optique de detection de l'etat d'enroulement d'un cable sur un treuil |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4214157A (en) * | 1978-07-07 | 1980-07-22 | Pitney Bowes, Inc. | Apparatus and method for correcting imperfection in a polygon used for laser scanning |
| JPS5567722A (en) * | 1978-11-16 | 1980-05-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light beam recorder |
| US4346295A (en) * | 1978-12-26 | 1982-08-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image read out device |
| US4408826A (en) * | 1980-08-05 | 1983-10-11 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for scanning a laser beam including means for focusing a scale scanning beam and a read/write scanning beam on the same facet of a polygon scanning mirror |
| US4371897A (en) * | 1980-09-02 | 1983-02-01 | Xerox Corporation | Fluorescent activated, spatially quantitative light detector |
| GB2085580B (en) * | 1980-10-21 | 1984-06-06 | Crosfield Electronics Ltd | A flying spot scanner |
| DE3046584C2 (de) * | 1980-12-11 | 1984-03-15 | Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh, 2300 Kiel | Optisch-mechanischer Abtaster |
| JPS5831662A (ja) * | 1981-08-19 | 1983-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 被走査シ−ト前端検出方法および装置 |
| DE3266654D1 (en) * | 1982-06-03 | 1985-11-07 | Hell Rudolf Dr Ing Gmbh | Scanning method and arrangement |
| JPS5981969A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光検出装置 |
| JPS60111634A (ja) * | 1983-11-19 | 1985-06-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線画像情報読取装置 |
| JPS60263567A (ja) * | 1984-06-11 | 1985-12-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線画像情報読取装置 |
| CA1262190A (en) * | 1985-07-16 | 1989-10-03 | Terumi Matsuda | Image read-out apparatus |
-
1986
- 1986-10-07 IL IL8024286A patent/IL80242A/en not_active IP Right Cessation
- 1986-10-07 IL IL93327A patent/IL93327A/xx unknown
- 1986-10-07 IL IL93328A patent/IL93328A/xx unknown
-
1987
- 1987-10-06 EP EP19870630202 patent/EP0263774A3/en not_active Withdrawn
- 1987-10-07 CA CA000548804A patent/CA1324194C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-07 JP JP62253463A patent/JPS63278020A/ja active Pending
-
1989
- 1989-08-21 US US07/396,805 patent/US4931637A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5012089A (en) * | 1988-10-24 | 1991-04-30 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Scanning beam control system and optical scale structure useful thereto |
| US5153422A (en) * | 1990-03-15 | 1992-10-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Photosensor and image scanner utilizing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4931637A (en) | 1990-06-05 |
| EP0263774A3 (en) | 1990-10-24 |
| IL80242A0 (en) | 1987-01-30 |
| CA1324194C (en) | 1993-11-09 |
| EP0263774A2 (en) | 1988-04-13 |
| IL93327A (en) | 1993-03-15 |
| IL93328A (en) | 1993-03-15 |
| IL80242A (en) | 1994-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63278020A (ja) | レーザビームスキャナ | |
| US4661699A (en) | Scanning beam control system and method with bi-directional reference scale | |
| US4796038A (en) | Laser pattern generation apparatus | |
| CA1145170A (en) | Apparatus and method for correcting imperfection in a polygon used for laser scanning | |
| US5247174A (en) | Laser scanning apparatus having a scanning beam and a reference beam | |
| US4600837A (en) | Optical scanning apparatus with dynamic scan path control | |
| US4797696A (en) | Beam splitting apparatus | |
| US4310757A (en) | Apparatus for correcting scanning speed in a polygon used for laser scanning | |
| US4523093A (en) | Scanning beam reference and read system | |
| GB2178548A (en) | Pattern generation | |
| JPS5858685A (ja) | 走査エネルギビ−ムの位置を検出する方法および走査システム | |
| US4751525A (en) | Scanning system and method of scanning | |
| US4516023A (en) | Scanner/plotter optical system | |
| US6927902B2 (en) | Laser scanning microscope | |
| JPH04505517A (ja) | 光ビームスキャナ用ビーム位置センサ | |
| US4761660A (en) | Laser scanning apparatus using a fan style grating plate | |
| CA1186237A (en) | Printer beam position feedback sensor | |
| US5307198A (en) | Scanner with combined predictive and diffractive feedback control of beam position | |
| JP2002196270A (ja) | レーザー描画装置 | |
| JP3004407B2 (ja) | 回転多面鏡の回転検出機構 | |
| GB2101360A (en) | Light scanning apparatus | |
| JP4508821B2 (ja) | ポリゴンミラーを用いた面倒れ補正方式の光走査光学系の共役位置の連続測定方法及び測定装置 | |
| JPS62503049A (ja) | 二次元的な対象物を整向、検査及び／または測定するための方法及び装置 | |
| JP3435219B2 (ja) | 光走査装置 | |
| WO2005116721A1 (en) | Anamorphic laser scanning device |