JPS6324532A - X線源 - Google Patents

X線源

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JPS6324532A
JPS6324532A JP62113403A JP11340387A JPS6324532A JP S6324532 A JPS6324532 A JP S6324532A JP 62113403 A JP62113403 A JP 62113403A JP 11340387 A JP11340387 A JP 11340387A JP S6324532 A JPS6324532 A JP S6324532A
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JP
Japan
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anode
ray source
grid
potential
cathode
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JP62113403A
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カーチス・バーンバック
ジェイ・タナー
リチャード・ヒース
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KUWANTAMU DAIAGUNOSUTEITSUKUSU
KUWANTAMU DAIAGUNOSUTEITSUKUSU Ltd
Original Assignee
KUWANTAMU DAIAGUNOSUTEITSUKUSU
KUWANTAMU DAIAGUNOSUTEITSUKUSU Ltd
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Publication date
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    • G21K1/02Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
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    • H01J35/14Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
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    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S4/00Devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in wave ranges other than those covered by groups H01S1/00, H01S3/00 or H01S5/00, e.g. phonon masers, X-ray lasers or gamma-ray lasers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、新規なX線源に関するものである。
従来技術 本発明は同一出願人により昭和61年5月20日に出願
された「冷陰極ガス放電管を備えた平行X線ビーム発生
装置」と題する特願昭6l−117114号に関連して
おり、その内容が参考のために本出願に記載されている
。上記出願は加熱フィラメント陰極よりも冷陰極を用い
た新規なX線源を開示している。三極管構造と関連して
冷陰極を使用することにより、放電管を例えば医療診断
に使用する時に適当なグレースケールレンディンヨンを
得るのに必要な、一定の制動放射スペクトルを有するX
線が放出される。
冷陰極は比較的広い表面積を有する、朝力な電子の発生
源を与えるように構成できる。このような構成は従来の
フィラメント加熱陰極に使用する陽極上の高密度のター
ゲット領域を無くす。上記出願に記載されているように
、制御グリッドがX線源管の陰極と陽極の間に配置され
る。制御グリッドによりX線源管の放電及び操作が確実
に大略一定電圧で行われるので、X線源管のK V p
eakの変化及びその結果としての制動放射量の変動を
避けることができる。
発明の要旨 本発明は上述のX線源管に類似した陰極・グリッ□ド・
陽極構造を使用するが、陽極内の作動媒体からX線の自
然放出を起こす。電子が陽極に衝突すると、X線か発生
し、特に、作動媒体が西填された陽極の中空中心部にい
つ注する。X線は衝突電子と共にポンプとして作用して
、先行発明で作られるポンピングX線と異なるコヒレン
トX線の自然放出を起こす逆転分布を作る。
このように、本発明は新規なX線源を堤供する。
本発明のX線源が一連の段で構成される時、高度に増幅
されたX線ビームが得られる。
本発明のX線源は、円筒状陰陽と、陰極の軸心上に中心
を合わせた中空の中心陰極と、陽極を囲繞すると共に陽
極と陰極の間に配置されたグリッドとにより形成される
中心の陽極管は一端が、ガス蒸気を発生ずると共にガス
蒸気を陽極管に軸心に沿って流すガス源又は炉に接続さ
れる。ガスは望ましい実施例において作動媒体を形成す
るが、曲の材料を使用してもよい。高負電圧が陰極に印
加されるが、陰極から陽極への電子の流れは、陽極のよ
うに大地電位に通常維持される中間のグリッドによって
阻止される。非常に短い高負パルスがグリッドの一端に
印加されることにより、グリッドに陰極からの電子によ
って作られる空間電荷が放出される。陰極とグリッドの
円筒形状は放出された電子を中心の陽極に集中さ仕る。
グリッド電位はグリッドの一軸方向端部に接続されてい
るので、その高電圧パルスがグリッドの軸方向長さに沿
って伝搬する電位の相対論的波(relativist
ic wave)を作り、該波が進行するにつれて電子
をグリッドから陽匪に向けて放出させる。管状の陽極へ
の電子の衝突は陽極管の内面からX線を発生させる。作
られたX線束は従来のレーザのポンピングエネルギーと
同等である。このX線束は衝突電子と共に陽極管内のガ
スイオンと相互に作用して逆転分布を作り、該逆転分布
は、伝搬するグリッド電位によって誘起される電子の放
出と同期して陽極管の長手を掃引するX線の非常に強力
なパルスを発生する。
本発明の一実施例において、ガス蒸気は、一つの連続陽
極を貫流して、第1段と同一の構造を有する第2段装置
に至ることができる。然しなから、第2段のグリッドは
、第1段ユニットのX線放射出力が第2段ユニットに到
達する瞬間に放電される。従って、第2段ユニットの放
射がより高くポンピングされて、X線ビームが増幅され
る。先行ずろユニットからのX線が到達する時に放電す
るようにタイミングを設定された夫々のグリッドと共に
任意の数の段を組合わせることができる。
本発明の別の実施例においては、1個のグリッドが度数
側の段に対して使用されると共に、グリッドに沿う電位
の伝搬が、夫々の陰極の軸心の長手に沿って段から段に
伝搬する相対論的波のように、連続グリッドから連続陰
極への電子の放出を起こす。この構成は前記の多段実施
例で必要なグリッドタイミング回路を不要とする。
本発明の別の実施例においては、気化材料を収納する陽
極管を単線材料で置換することができろ。
単線は陰極からの電子の放出によって気化される。
従って、単線材料は作動媒体の原子源として機能する。
本発明の更に別の実施例において、グリッドがシステム
から消去されると共に、固定電圧が陽極と陰極の間に接
続される。光エミツタ材料が陰極の内面に内張すされる
。レーザ光は光エミツタ表面に照射されて電子放出を誘
起する。軸方向に向けられたレーザビームの光エミツタ
表面に沿う伝搬は、他の実施例における伝搬電位のよう
に機能して陽極に沿うX線の移動波頭を誘起する。
装置の構造は必ずしら円筒形である必要はない。
装置の形状は所望のX線出カバターンに応じて変えるこ
とができる。
実施例 第1A図及び第113図は本発明の単一ユニットの構成
を示す。その基本的な構成は陰極2を形成する円筒形電
極と、その軸心上に設けた中空の陽極管4と、陽極管を
囲繞すると共に陽極と陰極の間に設けられた円筒形グリ
ッド6から成る。円筒形陰極2は約IC・の壁厚を有す
ると共に川面をプノーボンフエルトで内張すして炭素材
料で形成される。陽極4は数ミルの壁厚を有する直径が
0.5インヂの中空の棒から成り、レニウム又はモリブ
デンなどの材料で形成されていることが画才しい。
グリッド6は通常のいかなる導電性金属からでも形成さ
れ得るが、電子グレードニッケル又はニッケル・クロム
合金から成ることが望ましい。第2図により詳しく示さ
れろように、グリッド6は端環(エンドリング)8及び
端環8を連結する複数のスラットIOから成る。グリッ
ドのスラット又はフィンは約120個設けられているが
、この数は所望の特定のグリッドの形状に従って変動す
る。
望ましい実施例では、陰極2の直径は6インチから2フ
イートに及び得る。限界寸法は陽極の直径に対する陰極
の直径の比であり、この比は10.1よりら大きい。こ
の比が大きくなる程、陽極上の電子の密度は高くなる。
幾何学上の条件により他の陽極/陰極比を用いることは
可能であるが、それに伴って駆動条件が変わる。
グリッド6は陰極2に極めて近接して位置する。
典型的には、陰極2は陽極4から約7.25インチのと
ころに位置し、グリッド6は陰極2にほぼ隣接している
この組立物の典型的な長さは1.5フイートから2フイ
ートであるが、この範囲に制約されない。
しかしながらこの長さは以下に詳述する如く、作動媒体
における錦安定状態の持続時間の長さに依るのが好まし
い。
陽極4は陰極内に外から支持されるよう陰極2よりも少
し長いことが好ましい。一対のセラミック支持端板12
.13にはグリッド6及び陰+S2の端を受承する丸め
の円筒形の%114 、 l 5が設けられている。セ
ラミック支持絶縁体12は台板l8上に装着された支持
管16.17により支持されている。台板18及び上板
19は大地電位に保たれている。
ステンレス又は銅の管20がガス隙22から陽極にガス
を供給するため陽極4に接続されている。
作動媒体はネオン、アルミニウム、ナトリウム、セレン
、イツトリウム等のいかなる種類のガスでもよい。アル
ゴン、クリプトン、キセノンも用いることができ、それ
らは室温においては気体であるため気化の必要がなく、
よって装置の構成がより単純となるため特に望ましい。
液体水銀らまた作動媒体として用いることができる。水
銀を気化してイオン化可能な原子を発生させるために液
体水銀を電流によって、予熱すればよい。発生した軟ら
かいX線を適当に透過できるのであれば池の液体又は固
体を用いてもよい。
室温において気体ではない物質を用いる場合は気化ガス
を生じさせ、その気化ガスを陽極4の軸心に沿って供給
するための炉を設けることが必要である。炉は周知のい
かなる種類でもよく、例えば2,500℃の温度で運転
することかできる。
陽極内での気体の圧力は陽極の壁の厚さと壁の耐圧前方
に合わU・てできるだけ高くなければならない。
陽極4は電線24により合板18に電気的に結合されて
おり、従って大地電位に保たれている。
陰極2は絶縁体28を貫通する電線26により一150
KVの電源に電気的に結合されている。グリッド6は、
絶縁体32を貫通する導線30によって、一端において
切換管34に接続されている。
第2図により詳しく示されるように導線30は実際は、
縮環8を通ってグリッド6の個々のスラット10の両端
に延在する複数の電線から成る。第1B図に示すように
セラミック支持絶縁体12に四部35が電線用に設けら
れている。導線30を構成する個々の電線は1/l 0
00インチ以内の差で同じ長さに設計されているため、
切角管34からの電圧の変化が各スラットにほぼ同じ瞬
間に達する。切換管34はグリッド6に1ナノセカンド
で一150KVのパルスを供給することができる。Ei
mac Y 847切換管(商標)を用いるのが好まし
い。
組立物全体はガラスの覆い36に囲繞され、ガラスの覆
いの内側は10−”トールの真空に保たれている。真空
ポンプと連絡するよう開口37がセラミック支持絶縁体
12.13及び合板1gに設けられている。
第3図に示すように装置の運転において、陰極の電位は
一150KVに上げられる。この時点で、陽極4への電
子の流れは大地電位のグリッド6の存在により阻止され
る。しかしながら、グリッド6において空間電荷が生じ
ると、1ナノセカンド持続する一150KVの電位の極
めて鋭いパルスが導線30を通ってグリッドの一端に印
加される。
このパルスは、グリッドの軸方向に伝搬する電位の相対
論的波を生じさせ、この波は進みながらグリッドから陽
極に向けて電子を放出する。グリッドから放出された全
ての電子は約1ナノセカンド以内に陽極4に達する。電
子が管状陽極4に衝突することにより管の内側の表面よ
りX線が生じる。
このX線束は従来のレーザのポンピングエネルギーに等
しい。このX線束は衝突する電子とともに作動媒体のガ
スイオンと相互作用し、極めて強いX線のパルスを生じ
る。このパルスは、伝搬するグリッド電位に誘起される
電子の放出と同期して□ 陽極管の長手を掃引する。約200KeVの電子エネル
ギーが容易に得られる。グリッド形状は、グリッドの長
手に沿った伝搬が光速で行なわれるように設計されねば
ならない。
生じるX線は、用いられる作動媒体に依って波長が50
オングストロームから200オンダストロームまでの紫
外線又は軟かいX線である。例えば、セレンガスを作動
媒体として用いた場合、約180オングストロームの放
射線が生じる。他の作動媒体を用いればより高エネルギ
ーのX線を得ることかできる。本発明のこの形式により
生じるX線は全て単一パスで生じる。即ち、真のレーザ
におけるような従来の多重反射が生じず、1つの波頭が
管の軸心に沿って通過ずろことにより、増幅された誘発
放射だけが生じるのである(即ち管は超放射源として機
能している)。管組立物の長さは、作動媒体より選択さ
れた原子内に亭安定状Rが存在する時間の長さに等しく
なるよう調整されるべきである。従って、セレンが用い
られた場合、セレンは!80オングストロームで放射す
るため準安定状態の寿命から管の長さは約1フイートと
なる。即ち、準安定状態の存在するのは1ナノセカンド
である。陽極の壁は薄く作られているため、レーザ空間
に入ってきた電子はその空間でのX線の発生を増加さ仕
る。
陽極管4内で生じた放射線は管4に沿って両方向に流れ
るため、ガス源又は炉22の損傷を防ぐための適当なX
線ダンプ38を管のガス源側の端に設けることが必要で
ある。X線ダンプ38は例えば、鉛で内張すされ摂氏数
千度の熱に耐えることのできる立方晶ホウ素硝酸塩で構
成することができる。
第1図に示す実施例では、生じたX線放射線量を測定す
るための検出器40が陽極管4の開口端部に設けられて
いる。しかしながら、第4図及び第5図に示す別の実施
例では、陽極4内の蒸気は1段目の装置と同一構造を有
する2段目の装置に流れることができ、第1ユニツトか
らのX線出力が第2ユニツトに到達するや否や第2ユニ
ツトが放電される。このため第2ユニツトの放射は更+
、−より高くポンピングされる。
第4図に示す実施例では、多数の段がそれぞれのグリッ
ドと組合わさっており、これらのグリッドは、先行する
波が到達したとき放電するように制御されている。この
目的のためにグリッドタイミング回路42が設けられて
いる。
第5図に示す実施例では、連続グリッドが多数の段に用
いられている。電位がグリッドに沿って伝搬することに
よって、相対論的波がそれぞれの陰極の軸心に沿って段
から段へ伝搬するのに従い連続グリッドから連続陽極4
への電子の放出を引き起こす。第4図の多段の実施例で
は必要とされたグリッドタイミング回路がこの構成では
不要となる。
第6図に示す本発明の実施例では、X線ビームは平面鏡
41から入反射をすることにより2つの同じユニシトを
繰返し通過する。鏡43はビームスプリッタであり、X
線ビームの強度が増jと出力45が鏡43を通って生じ
る。2つ(又はそれ以上)の段のグリッドはゲインを(
従ってX線ビームの強度を)増加させるために交互に放
電される。
気化成分を含む陽極管4を、気化すべき材料から成る単
線44で置換えた、発明のもうひとつの実施例を第7A
図及び第7B図に示す。単線の材料は作動媒体の原子源
となる。単線は陰極2からの電子の放出により気化され
、Iショット毎に交換しなければならない。
第8Δ図及び第8B図に示す実施例では、グリッドは装
置から削除され、固定電圧が陰極2に印加される。陰極
2の内側の表面は、ヨウ化セシウム又は仕事関数の低い
他の素材で裏打ちされたニッケルなどの光エミツタ材料
でできている。エキシマレーザ(最低200ワツト)か
らの出力波長100−300+1メートルのレーザ光が
、光学系によって円筒形の光の管に形作られると共に、
電子の放出を誘起するために陰極2の光エミツタ表面を
照射するように配置される。第8B図に示す例において
は、円筒形の光を放物線状反射鏡48に反射する円錐状
反射鏡46によりレーザ光は遮ぎられ、放物線状反射鏡
48は円筒形陰極の内部に伝搬する中空の円筒状のレー
ザ光を形成する。光エミツタ表面に沿ったレーザ光の伝
搬は、前述の実施例における伝搬する電位と同様の動き
をし、このことにより、陽極4に沿って移動するX線の
波頭を誘起する。
上述の多数の実施例に関して本発明を記載したが、ほか
にも様々な変形が明らかに可能である。
例えば、垂直入射で反射するX線鏡カマ人手可能であれ
ば、従来の多重内部反射を備えた真のX線レーザを形成
することができる。また前述の如く必ずしも、好ましい
実施例に示した円筒形である必要はなく、他の種々な形
状でら同様に満足に操作される。
第9図は、円錐台の形状をした本発明の一例を示す。こ
の様な形状はレーザ光の発散出力を生じ第10A図、第
10B図及び第10c図は、様々な形状の本発明から生
じる出力をそれぞれ示す。
第9図に関して前述したように、円錐形では第10A図
に示す発散出力を生じる。双曲線状の形では第1OB図
に示すようなガラス形出力を生じる。
放物線状の形の場合、第10c図に示すような方形波出
力を生じる。
【図面の簡単な説明】
第1A図及び第113図は夫々、本発明にかかるX線源
の断面図及び斜視図であり、第2図は本発明に使用され
るグリッドの斜視図であり、第3図は陰極、グリッド及
び陽極の相対電位を示すタイミング図であり、第4図は
多数のユニットが直列に接続されかつグリッドタイミン
グ回路をX線ビームの伝搬の制御用に用いた本発明の一
実施例を示す図であり、第5図は多数の段が互いに接続
されかつX線ビームの伝搬を制御する単一のグリッドを
特徴とする本発明の別の実施例を示す図であり、第6図
はX線ビームが増幅を目的として2っの段を繰返し通過
する本発明の一実施例を示す図であり、第7A図及び第
7B図は作動媒体用の原子源となる材料でできた単線に
より陽極が構成された本発明の別の実施例の夫々、側面
図及び端面図であり、第8Δ図及び第8B図は陰極の内
面を伝わるレーザビームをグリッドの代わりに用いた本
発明の別の実施例を示す図であり、第9図は円錐台状の
本発明の一実施例を示す図であり、第10A図、第1Q
B図、第tOC図は本発明の様々な形状から生じる出カ
バターンを示す図である。 2・・・陰極、4・・・陽極、6・・・グリッド、8・
・・縮環、IO・・・スラット、12.13・・・支持
端板、14.15・・・溝、16、17・・・支持管、
18・・台板、19・・・上板、22・ガス源、28.
32・・・絶縁体、34・・・切換管、36・・覆い、
38・・・X線ダンプ、40・・・検出器、42・・・
グリッドタイミング回路。 特許出願人 クワンタム・ダイアグノスティックス・リ
ミテッド 代 理 人 弁理士青 山 葆 外2名j−4−−コ=
55−

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)大面積の冷陰極と、作動媒体を有する縦長の陽極
    と、陰極と陽極の間に配置されたゲートとして機能する
    グリッドとを備えるX線源において、陰極は陽極とグリ
    ッドを囲繞し、又、電極及び陽極を、夫々、第1電位及
    び第2電位に設定し、更に、グリッドは夫々が第1電位
    及び第2電位と大略同一の電位間で急速に切換え可能で
    あり、且つ、グリッドに印加される第1電位のパルスは
    グリッドから陽極に対して電子を放出し、上記電子の陽
    極への衝突により陽極からポンピングX線が発生し、更
    に、陽極と陰極の間の電圧(KVpeak)は大略一定
    に保持されると共に、陽極から発生したポンピングX線
    の制動放射スペクトルは大略一定であり、更に、ポンピ
    ングX線と上記電子は作動媒体をポンピングして、陽極
    の長手方向に平行な方向に進行するコヒレントX線を発
    生させることを特徴とするX線源。
  2. (2)特許請求の範囲第1項に記載したX線源において
    、陰極は円筒状の電極を備える一方、陽極は陰極の軸心
    上に配置した中空の円筒管を備え、且つ、上記円筒管に
    作動媒体を充填したことを特徴とするX線源。
  3. (3)特許請求の範囲第2項に記載したX線源において
    、グリッドは一端において切換管に連結された円筒を備
    え、且つ、切換管はグリッドの上記一端に第1電位又は
    第2電位を印加する一方、グリッドは、第2電位から第
    1電位に切換えられた時、電位の相対論的波(rela
    tivisticwave)を発生し、電位の相対論的
    波は、グリッドの上記一端から他端へグリッドの軸方向
    長さに沿って伝搬して、陽極の長手に沿って陽極に衝突
    する電子の対応した移動波頭を生成し、又、上記電子の
    陽極に対する衝突により陽極からポンピングX線を発生
    し、更に、陽極は、上記電子と共に作動媒体をポンピン
    グして、コヒレントX線を発生し、又、コヒレントX線
    は、電子の移動波頭と電位の相対論的波と同期して陽極
    の長手を掃引することを特徴とするX線源。
  4. (4)特許請求の範囲第3項に記載したX線源において
    、グリッドは導電性金属から成る円筒を備え、且つ、上
    記円筒は、一対のエンドリングによって夫々の端部が連
    結された複数個のスラットによって形成されていること
    を特徴とするX線源。
  5. (5)特許請求の範囲第4項に記載したX線源において
    、グリッドから陽極までの距離と比較して、グリッドを
    陰極がら比較的短い距離の位置に配置したことを特徴と
    するX線源。
  6. (6)特許請求の範囲第3項に記載したX線源において
    、陰極の直径の陽極の直径に対する比が少くとも10:
    1であることを特徴とするX線源。
  7. (7)特許請求の範囲第1項に記載したX線源において
    、更に、電位の上記パルスをグリッドに供給するための
    切換管を設け、上記切換管をグリッドに連結したことを
    特徴とするX線源。
  8. (8)特許請求の範囲第3項に記載したX線源において
    、更に、レーザガスを供給する炉を陽極の一端に設けた
    ことを特徴とするX線源。
  9. (9)特許請求の範囲第3項に記載したX線源において
    、第1電位は約−150KVであり、又、第2電位は大
    略大地電位であることを特徴とするX線源。
  10. (10)特許請求の範囲第8項に記載したX線源におい
    て、更に、X線が炉を破損するのを防止するために、ダ
    ンプを炉の前方に配置したことを特徴とするX線源。
  11. (11)特許請求の範囲第3項に記載したX線源におい
    て、更に、1個の管状の陽極によって互いに連結された
    複数個の同一のX線源ユニットを備え、更に、陽極を通
    って伝搬するX線が別のX線の発生によって各々のX線
    源ユニットにおいて増幅されるように、各々のX線源ユ
    ニットの夫々のグリッドを適当な時間に放電パルスを受
    けるように制御することを特徴とするX線源。
  12. (12)特許請求の範囲第3項に記載したX線源におい
    て、更に、1個の管状の陽極と1個のグリッドによって
    互いに連結された複数個の同一のX線源ユニットを備え
    、又、上記パルスはグリッドの一端に印加され、更に、
    陽極を通って伝搬するX線が別のX線の発生によって各
    々のX線源ユニットにおいて増幅されるように、グリッ
    ドを通って、上記パルスが伝搬することによりX線の夫
    々の波が陽極を通って、夫々のX線源ユニットを通過伝
    搬せしめられることを特徴とするX線源。
  13. (13)特許請求の範囲第3項に記載したX線源におい
    て、少くとも1個のX線源ユニットと、複数個の平面鏡
    と、X線源ユニット内をX線ビームを繰返し循環するこ
    とによってX線を増幅するビームスプリッタとを設け、
    ビームスプリッタは増幅されたX線の出力ポートを形成
    することを特徴とするX線源。
  14. (14)特許請求の範囲第1項に記載したX線源におい
    て、陽極は単線を備え、単線はX線を発生するようにグ
    リッドから放出される電子の衝突によって気化されるこ
    とを特徴とするX線源。
  15. (15)大面積の冷陰極と、陽極と、レーザ源とを備え
    るX線源において、 陰極及び陽極を、夫々、第1電位及び第2電位に保持し
    、又、陰極は内面に光電子放出材料を設けた円筒状の電
    極を備える一方、陽極を陰極の軸心上に配置すると共に
    、レーザ源からのレーザビームは光路を貫流して光電子
    放出材料上に注がれるレーザ光の円筒状管を形成し、更
    に、レーザビームの光電子放出材料上の照射は陰極から
    陽極への電子放出を誘起して陽極からポンピングX線を
    発生し、又、陽極と陰極の間の電圧(KVpeak)は
    大略一定に維持される一方、陽極から発生するポンピン
    グX線の制動放射スペクトルは大略一定であることを特
    徴とするX線源。
  16. (16)特許請求の範囲第15項に記載したX線源にお
    いて、陽極は、中空の円筒状の管を備えると共に、作動
    媒体を充填していることを特徴とするX線源。
  17. (17)特許請求の範囲第16項に記載したX線源にお
    いて、光電子放出材料に沿ったレーザビームの伝搬は陽
    極の長手に沿う電子の対応する移動波頭を発生し、又、
    上記電子は陽極内にポンピングX線を発生し、更に、ポ
    ンピングX線は上記電子と共にコヒレントX線を発生し
    、且つ、コヒレントX線は、電子の移動波頭及びレーザ
    ビームの伝搬と同期して陽極の長手を掃引することを特
    徴とするX線源。
  18. (18)特許請求の範囲第17項に記載したX線源にお
    いて、第1電位は約−150KVであり、又、第2電位
    は大略大地電位であることを特徴とするX線源。
  19. (19)特許請求の範囲第18項に記載したX線源にお
    いて、光路に円錐状反射鏡と放物線状反射鏡とを設けた
    ことを特徴とするX線源。
  20. (20)特許請求の範囲第1項に記載したX線源におい
    て、陰極と、陽極と、グリッドは円錐台の形状を成すこ
    とを特徴とするX線源。
  21. (21)特許請求の範囲第1項に記載したX線源におい
    て、陰極と、陽極と、グリッドは双曲線形状を有するこ
    とを特徴とするX線源。
  22. (22)特許請求の範囲第1項に記載したX線源におい
    て、陰極と、陽極と、グリッドは放物線形状を有するこ
    とを特徴とするX線源。
JP62113403A 1986-05-07 1987-05-07 X線源 Pending JPS6324532A (ja)

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CA1278017C (en) 1990-12-18
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