JPS63235435A - 金属タンタルの製造方法 - Google Patents

金属タンタルの製造方法

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JPS63235435A
JPS63235435A JP6809187A JP6809187A JPS63235435A JP S63235435 A JPS63235435 A JP S63235435A JP 6809187 A JP6809187 A JP 6809187A JP 6809187 A JP6809187 A JP 6809187A JP S63235435 A JPS63235435 A JP S63235435A
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JP
Japan
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tantalum
organic solvent
extracted
metal
ions
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JP6809187A
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English (en)
Inventor
Michio Watanabe
渡辺 彭夫
Michio Nanjo
南條 道夫
Yamaji Nishimura
西村 山治
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NISHIMURA WATANABE CHIYUUSHIYUTSU KENKYUSHO KK
Solex Research Corp
Original Assignee
NISHIMURA WATANABE CHIYUUSHIYUTSU KENKYUSHO KK
Solex Research Corp
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Publication date
Application filed by NISHIMURA WATANABE CHIYUUSHIYUTSU KENKYUSHO KK, Solex Research Corp filed Critical NISHIMURA WATANABE CHIYUUSHIYUTSU KENKYUSHO KK
Priority to JP6809187A priority Critical patent/JPS63235435A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B34/00Obtaining refractory metals
    • C22B34/20Obtaining niobium, tantalum or vanadium
    • C22B34/24Obtaining niobium or tantalum

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は金属タンタルの製造方法に関する。
[従来の技術・問題点] 従来、金属タンタルを遣る方法としては、ニオブと共存
することが多く、溶媒抽出技術によってFe、Mn、T
i、Sn、Sb、W、Si及び/またはAI等の不純物
とニオブを分層し、KOH及びKCIを含む水溶液とタ
ンタルイオンを抽出している有機溶媒を接触させること
によりに2TaFγの結晶を造り、このKiT・aFy
を溶融塩電解槽にて還元し、金属タンタルを得る方法が
ある。
また、K、TaFtの結晶を次式に示すように金属Na
、Mgと接触させて金属タンタルを得る方法も採用され
ている。
KzTaFv+5Na47a+2KF+ 5NaFこれ
らの方法では、還元にコストがかかるという欠点があっ
た。また、溶融塩電解法では、微細な金属タンタルが得
られず、タンタルコンデンサー用に使用できる性状のも
のを造ることができないという欠点があった。
また、タンタルのハロゲン化物を造る方法としては、一
旦金属タンタルを造り、次に、ハロゲンガスと接触させ
ることににより、次式のようにタンタルのフッ化物や塩
化物を得ることが広く採用されている。
T a+ 2 、5 Cb” T aCbTa+ 2.
5 F 2 →TaF sこのような従来法では、まず
金属を造り、再びこれをハロゲンガスと反応させてハロ
ゲン化物を造るものであり、高価なタンタル金属を出発
原料とするために、コストが嵩み、しかも、収率が低い
という欠点があった。また、純度を向上させるために、
エレクトロンビームを採用しなければならない等、エネ
ルギー多消費型の製造方法であった。
[問題点を解決するための手段] 本発明の金属タンタルの製造方法はタンタルのハロゲン
化物を原料として製造するものであり、高価な金属タン
タルを出発原料としてタンタルのハロゲン化物を造る、
これまでの方法とは異なるものであり、一般に天然に存
在する鉱物資源例えばタンクライト、コロンバイト、ス
トルベライトバイロクロア、及び錫スラグ、TaNbF
e合金等のタンタル含有原料からあるいは産業廃棄物例
えIfタンタルコンデンサーのスクラップ及び超硬ロー
ル °、/ノツプ等から一挙に高純度のタンタルハロゲ
ン化物を造り、これを原料として金属タンタルを造る方
法に関するもので、従来法のように、溶媒抽出技術を利
用して不純物を分離して生成したに、TaFtの結晶を
造る工程、次に、これを金属Naを用いて金属タンタル
を造る工程及び製造された金属タンタルを原料として高
温下でハロゲンガスと反応させてタンタルのハロゲン化
物を造る工程からなるように工程が長くなるという欠点
や収率が低下するという欠点を克服するものである。
従って、本発明は主としてタンタルとニオブを含有し且
つ1種または2種以上の金属不純物イオンが共存するフ
ッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液からの金属タンタルの
製造方法において、(a)前記フッ酸またはフッ酸と硫
酸の混合液にケトンの群、中性りん酸エステルの群、ア
ルキルアミンの群及びアミドの群より選択された1種ま
たは2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化水素で希
釈された有機溶媒(A)を接触させて前記フッ酸または
フッ酸と硫酸の混合液中のタンタルを優先的に抽出し、
次に、有機溶媒(A)を水またはNH,及びHFまたは
に+及びHFを含有する水溶液と接触させることにより
、有機溶媒(A)に抽出されたタンタルを前記水または
水溶液側に逆抽出すると共に有機溶媒(A)を再生する
第1工程:(b)逆抽出されたタンタルイオンを含有す
る水溶液ニN H3及びNH,OHまたはKOH及びK
Fを添加し、タンタル、フッ素及びNH4+またはタン
タル、フッ素及びに+を含有する沈澱物を造る第2工程
; (c)第1工程で得られたタンタル含有抽出液あるいは
第2工程で造られた沈澱物に、H2SO,、HCI、H
I、HBr及びHFの群より選択された1種または2種
以上の酸を添加し、沈澱物を溶解して溶液とし、H+イ
オン濃度を調節した後、エステルの群、エーテルの群、
ケトンの群及びアルコールの群よりなる群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒(B)を接触させるこ
とにより、前記溶液中のタンタルイオンをハロゲン化金
属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、次に、有機溶媒
(B)を常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発あるいは
加熱・蒸留することにより有機溶媒(B)を再生すると
共にタンタルのハロゲン化物を製造する第3工程;及び (d)第3工程で得られたタンタルのハロゲン化物を、
金属Na、My、Ca、Zn及びPbの単体及び/また
はこれらを主体とする合金と接触させることにより金属
タンタルを造る第4工程よりなることを特徴とする金属
タンタルの製造方法を提供するにある。
[作 用コ タンクライト、コロンバイト、ストルベライト、パイロ
クロア、錫スラグ、TaNbFc合金等のタンタル含有
原料あるいはタンタルコンデンサーのスクラップ及び超
硬ロールのスクラップよりWを除去回収したタンタルを
含有する産業廃棄物等の固形物をHF及びHF+H2S
O4の混酸で溶解して得られた主としてタンタルとニオ
ブを含有し且つ1種または2種以上の金属不純物イオン
(例えばFe、 Mn、 i’i、 Sn、 Sb、 
W、Ni、 Co、Cu、K 、 N a、 N H4
、Zn、Mo、Si、Af、Ca、V、Li、Th等)
が共存しているフッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液を、
ケトンの群、中性りん酸エステルの群、アルキルアミン
の群及びアミドの群よの選択された有機溶媒であって、
石油系炭化水素で希釈された有機溶媒(A)と接触させ
て前記フッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液中のタンタル
を優先的に抽出し、他の金属イオンと分離する0次に、
有機溶媒(A)に抽出されたNb及び他の金属不純物の
濃度が許容できない場合には、有機溶媒(A)を水また
はNH,とHFを含有する水溶液と接触させて、有機溶
媒(A)中に共抽出されたNb及び他の金属不純物等の
タンタルイオンより抽出分配比の小さい金属イオンを選
択的に有機相より水相に移行させる0次に、有機溶媒(
A)を水またはNH,及びHFまたはK“及びHFを含
有する水溶液と接触させることにより有機溶媒(A)に
含有されるタンタルを水溶液側に逆抽出すると共に有機
溶媒(A)を再生する0以上の工程より本発明の第1工
程はなる。
本発明の第2工程は逆抽出されたタンタルイオンを含有
する水溶液にNH,及びN H40HまたはKOH及び
KFを添加して次式に示すようにF−イオンとNH,+
イオンまたはF−イオンとにゝイオンを含有する沈澱物
を造ることよりなる:pHの低い領域での反応 HTaFs + 3NtlJ−(Ni14)zTall
Fs↓pHの高い領域での反応 HTaFi + H3O+ 3NII3→(NII+)
iTaOFs L + Nl14F本発明方法の第3工
程は第2工程で造られた上記にその一例を示す沈澱物あ
るいは第1工程で得られたタンタルイオンを含有する逆
抽出液にH2S O4、HCl及びHFの群より選択さ
れた1種または2種以上の酸を加え、沈澱物を溶解して
溶液とし、H+イオン濃度を調節した後、エステルの群
、エーテルの群、ケトンの群及びアルコールの群よりな
る群から選択された1種または2種以上の有機溶媒(B
)を接触させることにより、該溶媒中のタンタルイオン
をハロゲン化金属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、
次に、有機溶媒(B)を常圧状態または減圧状態で加熱
・蒸発あるいは加熱・蒸留することにより有機溶媒(B
)を再生すると共にタンタルのハロゲン化物を造ること
よりなる。ここでタンタルイオンを有機溶媒(B)に抽
出した時に、有機溶媒(B)中のNb及び他の金属不純
物の濃度が許容できないものである場合には、上述の有
機溶媒(A)と同様の操作によりNb及び他の金属不純
物を水相に移行させる工程を適宜組み込むことができる
本発明の第4工程は、第3工程で得られたタンタルのハ
ロゲン化物を、金属Na、Mg、Ca、 Zn及びPb
の単体及び/またはこれらを主体とする合金と接触させ
ることにより金属タンタルを製造するものである。
タンタルとニオブを含有し且つ1種または2種以上の上
述したような金属不純物イオンが共存するHFまたはH
F+H2SO4の混合液を、ケトンの群、中性りん酸エ
ステルの群、アルキルアミンの群及びアミドの群より選
択された1種または2種以上の有機溶媒であって、石油
系炭化水素で希釈された有機溶媒(A)と接触させると
、有機溶媒(A)は前記HFまたは混合液中のタンタル
イオンを次式に示すように優先的に抽出する。
TiF4−+H”+ nOrg−+HTaFs −nO
rg抽出分配比はT a > N bであり、その他の
金属イオンは更に抽出分配比が小さく、Nbの抽出分配
比に比較して10′″3である。
Nbの抽出分配比はH2S O4濃度が高くなるに従っ
てTaの抽出分配比に近似してくるので、Taの抽出に
際してH2SO,濃度の調節が重要である。
次に、Taを抽出・含有している有機溶媒(A)を水ま
たはN H3と)(Fを含有している水溶液と接触させ
ることにより、有機溶媒に共抽出されているNb及び他
の金属不純物の微量の金属イオンを選択的に有機相より
水相に移行させることができる。これは有機溶媒(A)
中のNb及び他の金属不純物の濃度が許容できない場合
に行なう必要がある工程であるが、上述のような原料を
使用する場合には通常行なう必要がある。
Taとは異なり、Nb及び他の上述のような金属不純物
はH,SO4濃度によって大きく抽出分配比が変化する
性質を利用して、有機相の共抽出物質を除いた後に、有
機溶媒(A)を再び水またはNH3とHFまたはに1及
びHFを含有する水溶液と接触させることによりタンタ
ルイオンを水相に逆抽出する。
共抽出物の洗浄操作とTaイオンの逆抽出操作は用いる
水溶液は同一であっても、接触させる時の流量比率ある
いはN H3の混入比率を高めることによって水相側の
遊離HF濃度が変化し、その結果、タンタルの抽出分配
比が大きく変化することを利用するものである。
tlTaF1norg+ 3NHJ−+ (NHn)z
TaFt+NtlnHF2+nOrg水相に逆抽出され
たタンタルイオンはNH,を添加することにより、次式
に示すように水酸化物に近いN )I 4+とF−を含
有する沈澱物を生ずる。
(Nun)zTaFt + 2NH3+ H20→側H
,)、Ta0F5↓+2Nl(、FNH3を添加する前
に、大量の水を加え、水溶液中のHF濃度を希薄にすれ
ば、タンタルイオンを水酸化物として沈澱させることが
できる。
(Nf14)a丁aF7+5NH3+5Hzo−Ta(
OH)s↓+78H,F次に、タンタル逆抽出液及びタ
ンタル含有沈澱物に、HF 、HI 、 HBr、H2
SO4及びHClの中から選択される1種または2種以
上の酸を加えて沈澱物を溶解し且つH+イオン濃度を調
節する。
(NH4) 2TaF 7 + Lso4−+ TaF
i−” (NH4) 2SO4十〇F + II十(N
!14)zTaOFsト11F + 112SO<−T
aFs−+(N11.)2S04+l+20+8” Ta(Oll)s + 611C1−TaC1g−+5
11zO+I+”高濃度のタンタルハロゲン化錯イオン
を含有する水溶液に、エステルの群、エーテルの群、ケ
トンの群及びアルコールの群よりなる群より選択された
1種または、2種以上の有機溶媒(B)を接触させるこ
とにより次式に示すようにタンタルをハロゲン砲金EI
O体として抽出することができる。
TaF5−+ H”+ nOrg−>HTaFs ・n
orgTaCl、−+ H”+ norg−* HTa
Cli HnOrg式中、○rgとは含酸素有機溶媒を
示し、エステル、エーテル、ケトン及びアルコールの各
群がら選択されるものである。
次に、必要であれば、有機溶媒(B)を洗浄し、次に、
タンタルのハロゲン化金属錯体を抽出・含有する有機溶
媒(B)を常圧状態あるいは減圧状態で、加熱・蒸発ま
たは加熱・蒸留することにより次式に示すように有機溶
媒(B)を回収すると共にタンタルのハロゲン化物を造
ることができる。
加熱 HTaF6− norg −−−+TaF5+ IIF
↑+nOrg↑また、加熱・蒸発あるいは加熱・蒸留を
行なう前に、必要に応じて、物理的に混入している水、
抽出されているH2Oを乾燥・除去することによりT 
a F s及びTaCl5に含有される酸素量を極めて
微量に低下させることができる。
加熱・蒸発及び加熱・蒸留の温度によって、含酸素有機
溶媒(B)の酸化を防止し且つ生成するハロゲン化物の
酸化を防止する目的のために、装置内を不活性ガスで充
満させることができる。
上述のようにして製造されたタンタルのハロゲン化物を
次式に示すように金属Na、My、Ca、Zn及びpb
よりなる群から選択された単体及び/またはこれらを主
体とする合金と接触させることにより金属タンタルを製
造することができる。
TaC5+5Nm−+Ta+5NaF TaC1s+2.5MfI−Ta+2.5MgCj!z
TaFs+2.5Ca−+Ta+2.5CaF。
TaCl5+ 2.5 Zn−Ta+ 2.5 ZnC
1zTaFs+2.5Pb−+Ta+2.5PbFz還
元剤として用いられる上述の金属の単体または合金は気
体状、液体状及び赤熱状態として使用することができ、
また、タンタルのハロゲン化物も気体状、液体状として
反応に供される。
還元反応は250℃以上の温度で生じ、酸化物の生成を
抑制するなめに、Ar等の不活性ガス雰囲気中で行なわ
れる。また、不活性ガスに還元ガスを混合して使用する
ことができる。
本発明で出発原料となるタンタルとNb、 Fe、Mn
、Ti、Sn、Sb、Wl、Ni、Co、Cu、K、N
 a、 N H4、Zn、Mo、Si、AZ、Ca、V
、Li、Th等の1種または2種以上の金属不純物イオ
ンが共存する水溶液は次のようにして造られる。
−mに、タンライト、コロンバイト、ストルベライト、
パイロクロア、錫スラグ及びTaNbFe合金のような
タンタル含有原料あるいはタンタルコンデンサーのスク
ラップ、不良品等の電子材料廃棄物を、フッ酸単独及び
フッ酸と硫酸あるいはフッ酸と硝酸の如き混酸により溶
解することにより造ることができる。
本発明で使用される有機溶媒(A>は次の群より選択さ
れる。
■ケトンの群: R・>c=。
(式中、R及びR′はアルキル基またはアリール基を示
し、炭素原子数が3〜18個のものが使用される)で表
されるケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルプロピルケトン及びその類似ケトン。
■中性りん酸エステル: (式中、Rは炭素原子数4〜18個のアルキル基を表す
)。
■アルキルアミンの群: RNH−1R2NH−及びR,NH−(式中、Rはアル
キル基を表し、炭素原子数が4〜24個のものが使用さ
れる)で表される第1級〜第3級アミン。
■アミドの群: (式中、Rはア゛ルキル基を示し、炭素原子数が4〜2
5個のものが使用される)。
本発明方法に使用される有機溶媒(A)の希釈剤は石油
系炭化水素であり、芳香族質のものも、脂肪族質のもの
も使用することができる。勿論、これらの混合物を使用
することもできる。有機溶媒(A)すなわち抽出剤は上
述の各群から選択され、1種の場合も、2種以上を併用
する場合もあるが、これらの混合比は対象とする水溶液
の性状や不純物の種類とそれらの共存する割合によって
決定することができる。
抽出剤濃度も同様で、−mに2〜100%(容積比)に
調節して使用することができ゛る。
本発明で使用される有機溶媒(B)は次の群より選択さ
れる。
■ケトンの群: R・>c=。
(式中、R及びR′はアルキル基またはアリール基を示
し、炭素原子数が2〜18個のものが使用される)で表
されるケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルプロピルケトン、メチルシクロヘキサノン
及びその類似ケトン。
■アミドの群: (式中、Rはアルキル基を示し、炭素原子数が2〜18
個のものが使用される)。
■エステルの群: りん酸エステル及び酢酸エステルから選択することがで
きる。
■エーテルの群: 脂肪族単一エーテル、脂肪族混成エーテル、脂肪族不飽
和エーテル及び芳香族エーテルの中より選択することが
でき、ジイソアミルエーテル、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジクロールエチルエーテル及びこ
れらと類似する形態のエーテルを含むものである。
■アルコールの群: 炭素原子数4〜22個の各種(ノルマル、第2、第3)
アルコールを使用することができる。
本発明で使用される副生ハロゲン化アンモニウムの固形
物を洗浄するための溶剤としては以下のものを挙げるこ
とができる。
■石油系炭化水素系では、石油エーテル、石油ベンゼン
、ヘキソン等の沸点が100℃以下で、表面張力が20
℃で30ダイン/C輪以下のものが含まれる。
■芳香族炭化水素系では、ベンゼン等が使用される。
本発明で使用される乾燥剤とは有機溶媒(B)に物理的
に混入している水及びタンタルのハロゲン化錯体と共に
抽出されたH2Oを除去し、乾燥するために使用するも
ので、無水芒硝、無水塩化カルシウム、無水硫酸マグネ
シウム、無水塩化マグネシウム、無水塩化カリウム、付
活アルミナ、過塩素酸マグネシウム、五酸化りん、無水
炭酸カリウム、酸化バリウム及び合成ゼオライト等のモ
レキュラーシーブを使用することができる。
本発明の任意工程である乾燥工程は有機溶媒(B)巾に
物理的に混入している水及びタンタルのハロゲン化錯体
と共に抽出されたH2Oを除去して最終生成物であるタ
ンタルのハロゲン化物中の酸素含量を最低量まで減少さ
せるための工程である。しかし、ある程度の有機溶媒(
B)中に存在する水は常圧状態あるいは減圧状態での加
熱・蒸発あるいは加熱・蒸留工程で除去することもでき
る。
なお、この乾燥工程は有機溶媒(B)を上述のような物
質と接触させるものであるために、水を除去する代わり
に若干の不純物が有機溶媒(B)中に混入する場合もあ
り、最終生成物であるタンタルのハロゲン化物において
、所望とされる酸素含有量並びに不純物含有量等により
必要に応じて行なうことができる。
本発明で使用する不活性ガスとはN2ガスまたはArガ
スであり、有機溶媒(B)を加熱・蒸発あるいは加熱蒸
留する際に有機溶媒(B)の酸化を防止したり、生成し
たタンタルのハロゲン化物が変質しないように用いるこ
とができる。
更に、タンタルのハロゲン化物を250℃以上の高温で
金属Na、Mg、Ca、 Zn及びPbの単体及び/ま
たはこれらを主体とする合金と接触させて金属タンタル
を造る際にも、装置内の大気を追い出す目的及び気体状
の還元剤あるいは気体状のタンタルのハロゲン化物を反
応装置に導くためにもArガスを使用することができる
還元装置内に大気が侵入することを防止するために、A
rガスを単独でまたはArガスと水素ガスの混合気体を
導入することもできる。
以下、本発明方法を添付図に基づき説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではないことを理解されたい
第1図のフローシートは本発明操作の基本型を示す図で
あり、主としてTaとNbを含み、1種または2種以上
の金属不純物イオンを含有しているフッ酸単独またはフ
ッ酸と硫酸との混合物をタンタルの抽出工程(A)に導
き、有機溶媒(A)と接触させることにより上述のフッ
酸または混合液中のタンタルをフッ化物錯体として抽出
する。
タンタルを抽出・含有する有機溶媒(A)中には、Nb
と1種または2種以上の金属不純物例えばFe、Mn、
Ti、Sn、Sb、W、Ni、Co、Cu、K、N a
、 N H4、Zn、Mo、 Si、AI、Ca、V、
Li、Th等の金属イオンも微量抽出され、これらの抽
出量が許容できない場合には、これら金属不純物を選択
的に洗浄する洗浄工程(B)へ導き、水またはN Hs
とHFの混合液(イ)と接触させることにより有機相よ
り水相に不純物金属イオンを移行せしめた後、該有機溶
媒をタンタルの逆抽出工程(C)に導き、水またはNH
3及びHFまたはに+及びKFを含有する水溶液(ロ)
と接触させることにより有機相よりタンタルのフッ化物
錯体を水相に移行せしめると共に有機溶媒を再生して再
度タンタルの抽出工程(A)へ循環する0本発明方法の
第1工程は以上の工程よりなる。
本発明方法の第2工程は水相中に移行せしめたタンタル
を中和・沢過工程(D)に導き、NH,ガス及びNH,
○HまたはKOH及びKF(ハ)を添加することによっ
てタンタルとNH,+及びHFを含有する沈澱物が得ら
れる。
次に、第1工程で得られたタンタルのフッ化物錯体を含
有する逆抽出液及び第2工程で得られたN H3とI−
I Fを含有するタンタルの沈澱物を溶解し、H+イオ
ン濃度を調節する溶解・H+イオン濃度調節工程(E)
において、H,SO,、HBr、HI、HCI及びHF
の中から選択された1種または2種以上のa(ニ)を加
えた後、タンタルのハロゲン化錯体を抽出する抽出工程
(F)において、エーテルの群、ケトンの群、アミドの
群、エステルの群及びアルコールの群からなる各群から
選択された1種または2種以上の抽出剤からなる有機溶
媒(B)と接触させることにより、該溶液中のタンタル
のハロゲン化錯体が有機溶媒(B)に抽出・含有される
次に、有機溶媒を加熱・蒸発または加熱・蒸留工程(G
)に導き、必要によりN2、Arガス(ホ)等を導入し
た常圧状態あるいは減圧状態で加熱・蒸発または加熱・
蒸留することにより、有機溶媒(B)を再生すると共に
タンタルの塩化物錯体及びタンタルのフッ化物錯体等の
タンタルのハロゲン化物(H)を製造すやことができる
0以上の工程より、本発明方法の第3工程がなる。
本発明の第3工程で製造されたタンタルのハロゲン化物
(H)を原料として金属タンタルを製造するのが本発明
の第4工程である。
タンタルのハロゲン化物(H)を還元反応工程(K)に
おいて、必要により不活性ガス(ト)の存在下で金属N
a、Mg、Ca、Zn及びPbの単体またはこれらを主
体とする合金である還元剤(へ)と接触させることによ
り金属タンタル(L)が製造される。
第2図のフローシートは金属タンタルを造る方法として
は第1図のフローシートと同一であるが、第3工程にお
いて、タンタルのハロゲン化錯体を抽出する抽出工程(
F)を出たタンタルを抽出・含有している有機溶媒(B
)を乾燥剤(チ)と接触させることよりなる乾燥工程(
J)が組み込まれたものである。
[実 施 例] 以下に実施例を挙げ、本発明を更に説明する。
以下の試験に使用するTa含有液はタンクライトとコロ
ンバイトを混合してHFとH2SO,の混酸で溶解する
ことによって得られたものである。
得られたTa含有液の組成を以下の第1表に記載する。
第二−ニー−大−(単位g/1) Ta205          49.6N bzo 
s           80 、1Fe      
          8.4Mn          
      6.1Ti              
 1.8Sn               0.6S
b               O,IW     
            0.04Si       
        4.1A1            
  1.lH2SO4152,O HF            120.8上述のTa含
有液を使用し、抽出条件0/A =1/1、振どう時間
5分間の同一条件を使用して第2表に示す4種類の抽出
剤を用いた場合の抽出分配比を求めた。得られた結果を
以下の第2表に記載する。
抽出分配比(DME)は次式によって算出される。
なお、H2SO,濃度が低下するに従い、Nb2O5の
抽出分配比は低下する。また、TazOs濃度が低下す
ると、N b 20 sの抽出分配比が大きくなる。
A   金  の゛ ・ 第2表に記載するように抽出された金属を含有する有機
溶媒を水または0.3モル/ρNH4F含有液と接触さ
せてNb2O,を選択的に除去する洗浄試験を行なった
。その結果を第3表に示す。
実装置では、洗浄操作を自流多段接触させるので、抽出
分配比の小さいNb2O5、Fe、Mn、 Ti等の不
純物は水相に移り、有機相にはT a 20 sのみが
残留する。
Ta     ・   び   ゛ ・ ・次に、2.
0モル/INH,F水溶液を上記有機相と接触させるこ
とにより有機相のTa205を逆抽出させる試験を行な
った。その結果を第4表に記載する。
し、得られた沈澱物を乾燥し、分析し、得られた結果を
以下の第5表に示す、なお、第5表の分析結果が希望す
る製品純度を満足しない場合には、再溶解して第2表及
び第3表の操作を1回以上反復することによりTaの純
度を向上させることができる。
第一−5−一轟エ (単位二重量%) 次に、Taの逆抽出液にH2SO4を添加し、Ta沈澱
物に[−(C1とH,SO,を添加することにより第6
表に記載する組成をもつ溶液を調製し、第3工程のタン
タルの塩化物及びフッ化物製造試験用原料とした。
1−民    (g/l) ?      B   こ      W抽出には、1
00%ジブチルエーテルと100%メチルイソブチルケ
トンを使用し2O/A=115、振どう時間5分間の条
件を使用した。抽出結果を第7表に示す。
[−民   (g/l) 使用した有機溶媒:メチルイソブチルケトンTaJs 
 NbaOs  IIF  HCl1lzSO−有機相
 84   <0.001 43.5  <0.1  
<0.1水相 103  0.06 92.3 −− 
91.7使用した有機溶媒ニジブチルエーテル Taxes  NbtOs  +lF  flci’ 
 H2SO4有機相 80.7  <0.001 1.
6 57.8  <0.1水相 137.6 0.00
4 9.8156.2110.4Fe、Mn、Ti%S
n、Sb、W、Si、A1.Ni及びZnイオンの抽出
量はいずれもO,001g/I!以下であった。万一、
これらの不純物の抽出量が多い場合には、洗浄工程が必
要となる。
上述の抽出試験では、TJL以外の不純物金属イオン濃
度がいずれもO,0O1y/j!以下の微量であったが
、不手際からTaイオン以外の不純物イオンが抽出され
てしまった場合には、第1工程の洗浄工程(B)と同様
に水及びNH4+とHFの含有液と接触させることによ
り遭択的にTa以外の不純物金属イオンを水相に移行せ
しめて、有機溶媒中にはTaイオンのみを残留させる操
作を行なうことが必要となる。
DttL・  または ^・ 実験器内にArガスを入れて大気を追い出してから加熱
・蒸発あるいは加熱・蒸留試験を行なった。得られた結
果を第8表に示す。
m要1 上述のようにして造られたタンタルのハロゲン化物を使
用して還元試験を行なった。得られた結果を第9表に記
載する。
[発明の効果コ 本発明方法により金属タンタルを製造すれば、従来法に
比較して工程が簡素化され、原料の制限もなくなり、省
エネルギーな製造方法で、良品質な金属タンタルを造る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明操作の基本型を示すフローシートであり
、第2図は第1図に記載する基本型の操作に乾燥工程を
加えた操作を示すフローシートである。 図中: A・・・抽出工程; B・・・洗浄工程; C・・・逆抽出工程; D・・・中和・p過工程; E・・・溶解・H+イオン濃度調節工程;F・・・抽出
工程; G・・・加熱・蒸発または加熱・蒸留工程;H・・・タ
ンタルのハロゲン化物; J・・・乾燥工程; K・・・還元反応工程; L・・・金属タンタル; (イ)水またはNH3とHFの混合液;(ロ)水または
N H、及びHFまたはに2及びKFを含有する水溶液
; (ハ) N Hsガス及びNH,OHまなはKOH及び
HF; (ニ)H2S O4、HBr、 HI 、 HCl及び
HFの中から選択されたIPlまたは2種以上の酸;(
ホ)N2.Arガス; (へ)還元剤; (ト)不活性ガス; (チ)乾燥剤。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、主としてタンタルとニオブを含有し且つ1種または
    2種以上の金属不純物イオンが共存するフッ酸またはフ
    ッ酸と硫酸の混合液からの金属タンタルの製造方法にお
    いて、 (a)前記フッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液にケトン
    の群、中性りん酸エステルの群、アルキルアミンの群及
    びアミドの群より選択された1種または2種以上の有機
    溶媒であって、石油系炭化水素で希釈された有機溶媒(
    A)を接触させて前記フッ酸またはフッ酸と硫酸の混合
    液中のタンタルを優先的に抽出し、次に、有機溶媒(A
    )を水またはNH_3及びHFまたはK^+及びHFを
    含有する水溶液と接触させることにより、有機溶媒(A
    )に抽出されたタンタルを前記水または水溶液側に逆抽
    出すると共に有機溶媒(A)を再生する第1工程;(b
    )逆抽出されたタンタルイオンを含有する水溶液にNH
    _3及びNH_4OHまたはKOH及びKFを添加し、
    タンタル、フッ素及びNH_4^+またはタンタル、フ
    ッ素及びK^+を含有する沈澱物を造る第2工程; (c)第1工程で得られたタンタル含有抽出液あるいは
    第2工程で造られた沈澱物に、H_2SO_4、HCl
    、HI、HBr及びHFの群より選択された1種または
    2種以上の酸を添加し、沈澱物を溶解して溶液とし、H
    ^+イオン濃度を調節した後、エステルの群、エーテル
    の群、ケトンの群及びアルコールの群よりなる群から選
    択された1種または2種以上の有機溶媒(B)を接触さ
    せることにより、前記溶液中のタンタルイオンをハロゲ
    ン化金属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、次に、有
    機溶媒(B)を常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発あ
    るいは加熱・蒸留することにより有機溶媒(B)を再生
    すると共にタンタルのハロゲン化物を製造する第3工程
    ;及び (d)第3工程で得られたタンタルのハロゲン化物を、
    金属Na、Mg、Ca、Zn及びPbの単体及び/また
    はこれらを主体とする合金と接触させることにより金属
    タンタルを造る第4工程よりなることを特徴とする金属
    タンタルの製造方法。 2、第1工程で得られたタンタル含有逆抽出液あるいは
    第2工程で造られた沈澱物に、フッ酸及び/または硫酸
    を添加し、沈澱物を溶解し且つH^+イオンの濃度を調
    節した後、第1工程及び第2工程の操作を1回以上反復
    して得られるタンタルのハロゲン化物の純度を向上させ
    る特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 3、第3工程で得られたタンタルのハロゲン化錯体を抽
    出・含有している有機溶媒(B)を乾燥剤と接触させる
    ことにより物理的に含有している水及び抽出・含有して
    いるH_2Oを除去・乾燥する特許請求の範囲第1項記
    載の製造方法。 4、Nbイオンまたは1種または2種以上の金属不純物
    イオンの濃度に依存して、タンタルを抽出した有機溶媒
    (A)を、水またはNH_3とHFを含有する水溶液と
    接触させて、有機溶媒(A)中に共抽出された1種また
    は2種以上の金属不純物イオンを選択的に有機相より水
    相に移行させ、次に、逆抽出を行なう特許請求の範囲第
    1項記載の製造方法。 5、Nbイオンまたは1種または2種以上の金属不純物
    イオンの濃度に依存して、タンタルを抽出した有機溶媒
    (B)を、水またはNH_3とHFを含有する水溶液と
    接触させて、有機溶媒(B)中に共抽出された1種また
    は2種以上の金属不純物イオンを選択的に有機相より水
    相に移行させ、次に、加熱・蒸発または加熱・蒸留を行
    なう特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7964085B1 (en) 2002-11-25 2011-06-21 Applied Materials, Inc. Electrochemical removal of tantalum-containing materials
US7981191B2 (en) 2007-10-15 2011-07-19 Hi-Temp Specialty Metals, Inc. Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material
US8980045B2 (en) 2007-05-30 2015-03-17 Applied Materials, Inc. Substrate cleaning chamber and components
US9481608B2 (en) 2005-07-13 2016-11-01 Applied Materials, Inc. Surface annealing of components for substrate processing chambers
JP6427698B1 (ja) * 2018-03-26 2018-11-21 株式会社アサカ理研 抽出方法
JP2019172653A (ja) * 2018-10-29 2019-10-10 株式会社アサカ理研 金属用抽出剤及びそれを用いる抽出方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7964085B1 (en) 2002-11-25 2011-06-21 Applied Materials, Inc. Electrochemical removal of tantalum-containing materials
US9068273B2 (en) 2002-11-25 2015-06-30 Quantum Global Technologies LLC Electrochemical removal of tantalum-containing materials
US9481608B2 (en) 2005-07-13 2016-11-01 Applied Materials, Inc. Surface annealing of components for substrate processing chambers
US8980045B2 (en) 2007-05-30 2015-03-17 Applied Materials, Inc. Substrate cleaning chamber and components
US7981191B2 (en) 2007-10-15 2011-07-19 Hi-Temp Specialty Metals, Inc. Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material
JP6427698B1 (ja) * 2018-03-26 2018-11-21 株式会社アサカ理研 抽出方法
WO2019187407A1 (ja) * 2018-03-26 2019-10-03 株式会社アサカ理研 金属用抽出剤及びそれを用いる抽出方法
JP2019172653A (ja) * 2018-10-29 2019-10-10 株式会社アサカ理研 金属用抽出剤及びそれを用いる抽出方法

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