JPS63235435A - 金属タンタルの製造方法 - Google Patents
金属タンタルの製造方法Info
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
- C22B34/24—Obtaining niobium or tantalum
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は金属タンタルの製造方法に関する。
[従来の技術・問題点]
従来、金属タンタルを遣る方法としては、ニオブと共存
することが多く、溶媒抽出技術によってFe、Mn、T
i、Sn、Sb、W、Si及び/またはAI等の不純物
とニオブを分層し、KOH及びKCIを含む水溶液とタ
ンタルイオンを抽出している有機溶媒を接触させること
によりに2TaFγの結晶を造り、このKiT・aFy
を溶融塩電解槽にて還元し、金属タンタルを得る方法が
ある。
することが多く、溶媒抽出技術によってFe、Mn、T
i、Sn、Sb、W、Si及び/またはAI等の不純物
とニオブを分層し、KOH及びKCIを含む水溶液とタ
ンタルイオンを抽出している有機溶媒を接触させること
によりに2TaFγの結晶を造り、このKiT・aFy
を溶融塩電解槽にて還元し、金属タンタルを得る方法が
ある。
また、K、TaFtの結晶を次式に示すように金属Na
、Mgと接触させて金属タンタルを得る方法も採用され
ている。
、Mgと接触させて金属タンタルを得る方法も採用され
ている。
KzTaFv+5Na47a+2KF+ 5NaFこれ
らの方法では、還元にコストがかかるという欠点があっ
た。また、溶融塩電解法では、微細な金属タンタルが得
られず、タンタルコンデンサー用に使用できる性状のも
のを造ることができないという欠点があった。
らの方法では、還元にコストがかかるという欠点があっ
た。また、溶融塩電解法では、微細な金属タンタルが得
られず、タンタルコンデンサー用に使用できる性状のも
のを造ることができないという欠点があった。
また、タンタルのハロゲン化物を造る方法としては、一
旦金属タンタルを造り、次に、ハロゲンガスと接触させ
ることににより、次式のようにタンタルのフッ化物や塩
化物を得ることが広く採用されている。
旦金属タンタルを造り、次に、ハロゲンガスと接触させ
ることににより、次式のようにタンタルのフッ化物や塩
化物を得ることが広く採用されている。
T a+ 2 、5 Cb” T aCbTa+ 2.
5 F 2 →TaF sこのような従来法では、まず
金属を造り、再びこれをハロゲンガスと反応させてハロ
ゲン化物を造るものであり、高価なタンタル金属を出発
原料とするために、コストが嵩み、しかも、収率が低い
という欠点があった。また、純度を向上させるために、
エレクトロンビームを採用しなければならない等、エネ
ルギー多消費型の製造方法であった。
5 F 2 →TaF sこのような従来法では、まず
金属を造り、再びこれをハロゲンガスと反応させてハロ
ゲン化物を造るものであり、高価なタンタル金属を出発
原料とするために、コストが嵩み、しかも、収率が低い
という欠点があった。また、純度を向上させるために、
エレクトロンビームを採用しなければならない等、エネ
ルギー多消費型の製造方法であった。
[問題点を解決するための手段]
本発明の金属タンタルの製造方法はタンタルのハロゲン
化物を原料として製造するものであり、高価な金属タン
タルを出発原料としてタンタルのハロゲン化物を造る、
これまでの方法とは異なるものであり、一般に天然に存
在する鉱物資源例えばタンクライト、コロンバイト、ス
トルベライトバイロクロア、及び錫スラグ、TaNbF
e合金等のタンタル含有原料からあるいは産業廃棄物例
えIfタンタルコンデンサーのスクラップ及び超硬ロー
ル °、/ノツプ等から一挙に高純度のタンタルハロゲ
ン化物を造り、これを原料として金属タンタルを造る方
法に関するもので、従来法のように、溶媒抽出技術を利
用して不純物を分離して生成したに、TaFtの結晶を
造る工程、次に、これを金属Naを用いて金属タンタル
を造る工程及び製造された金属タンタルを原料として高
温下でハロゲンガスと反応させてタンタルのハロゲン化
物を造る工程からなるように工程が長くなるという欠点
や収率が低下するという欠点を克服するものである。
化物を原料として製造するものであり、高価な金属タン
タルを出発原料としてタンタルのハロゲン化物を造る、
これまでの方法とは異なるものであり、一般に天然に存
在する鉱物資源例えばタンクライト、コロンバイト、ス
トルベライトバイロクロア、及び錫スラグ、TaNbF
e合金等のタンタル含有原料からあるいは産業廃棄物例
えIfタンタルコンデンサーのスクラップ及び超硬ロー
ル °、/ノツプ等から一挙に高純度のタンタルハロゲ
ン化物を造り、これを原料として金属タンタルを造る方
法に関するもので、従来法のように、溶媒抽出技術を利
用して不純物を分離して生成したに、TaFtの結晶を
造る工程、次に、これを金属Naを用いて金属タンタル
を造る工程及び製造された金属タンタルを原料として高
温下でハロゲンガスと反応させてタンタルのハロゲン化
物を造る工程からなるように工程が長くなるという欠点
や収率が低下するという欠点を克服するものである。
従って、本発明は主としてタンタルとニオブを含有し且
つ1種または2種以上の金属不純物イオンが共存するフ
ッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液からの金属タンタルの
製造方法において、(a)前記フッ酸またはフッ酸と硫
酸の混合液にケトンの群、中性りん酸エステルの群、ア
ルキルアミンの群及びアミドの群より選択された1種ま
たは2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化水素で希
釈された有機溶媒(A)を接触させて前記フッ酸または
フッ酸と硫酸の混合液中のタンタルを優先的に抽出し、
次に、有機溶媒(A)を水またはNH,及びHFまたは
に+及びHFを含有する水溶液と接触させることにより
、有機溶媒(A)に抽出されたタンタルを前記水または
水溶液側に逆抽出すると共に有機溶媒(A)を再生する
第1工程:(b)逆抽出されたタンタルイオンを含有す
る水溶液ニN H3及びNH,OHまたはKOH及びK
Fを添加し、タンタル、フッ素及びNH4+またはタン
タル、フッ素及びに+を含有する沈澱物を造る第2工程
; (c)第1工程で得られたタンタル含有抽出液あるいは
第2工程で造られた沈澱物に、H2SO,、HCI、H
I、HBr及びHFの群より選択された1種または2種
以上の酸を添加し、沈澱物を溶解して溶液とし、H+イ
オン濃度を調節した後、エステルの群、エーテルの群、
ケトンの群及びアルコールの群よりなる群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒(B)を接触させるこ
とにより、前記溶液中のタンタルイオンをハロゲン化金
属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、次に、有機溶媒
(B)を常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発あるいは
加熱・蒸留することにより有機溶媒(B)を再生すると
共にタンタルのハロゲン化物を製造する第3工程;及び (d)第3工程で得られたタンタルのハロゲン化物を、
金属Na、My、Ca、Zn及びPbの単体及び/また
はこれらを主体とする合金と接触させることにより金属
タンタルを造る第4工程よりなることを特徴とする金属
タンタルの製造方法を提供するにある。
つ1種または2種以上の金属不純物イオンが共存するフ
ッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液からの金属タンタルの
製造方法において、(a)前記フッ酸またはフッ酸と硫
酸の混合液にケトンの群、中性りん酸エステルの群、ア
ルキルアミンの群及びアミドの群より選択された1種ま
たは2種以上の有機溶媒であって、石油系炭化水素で希
釈された有機溶媒(A)を接触させて前記フッ酸または
フッ酸と硫酸の混合液中のタンタルを優先的に抽出し、
次に、有機溶媒(A)を水またはNH,及びHFまたは
に+及びHFを含有する水溶液と接触させることにより
、有機溶媒(A)に抽出されたタンタルを前記水または
水溶液側に逆抽出すると共に有機溶媒(A)を再生する
第1工程:(b)逆抽出されたタンタルイオンを含有す
る水溶液ニN H3及びNH,OHまたはKOH及びK
Fを添加し、タンタル、フッ素及びNH4+またはタン
タル、フッ素及びに+を含有する沈澱物を造る第2工程
; (c)第1工程で得られたタンタル含有抽出液あるいは
第2工程で造られた沈澱物に、H2SO,、HCI、H
I、HBr及びHFの群より選択された1種または2種
以上の酸を添加し、沈澱物を溶解して溶液とし、H+イ
オン濃度を調節した後、エステルの群、エーテルの群、
ケトンの群及びアルコールの群よりなる群から選択され
た1種または2種以上の有機溶媒(B)を接触させるこ
とにより、前記溶液中のタンタルイオンをハロゲン化金
属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、次に、有機溶媒
(B)を常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発あるいは
加熱・蒸留することにより有機溶媒(B)を再生すると
共にタンタルのハロゲン化物を製造する第3工程;及び (d)第3工程で得られたタンタルのハロゲン化物を、
金属Na、My、Ca、Zn及びPbの単体及び/また
はこれらを主体とする合金と接触させることにより金属
タンタルを造る第4工程よりなることを特徴とする金属
タンタルの製造方法を提供するにある。
[作 用コ
タンクライト、コロンバイト、ストルベライト、パイロ
クロア、錫スラグ、TaNbFc合金等のタンタル含有
原料あるいはタンタルコンデンサーのスクラップ及び超
硬ロールのスクラップよりWを除去回収したタンタルを
含有する産業廃棄物等の固形物をHF及びHF+H2S
O4の混酸で溶解して得られた主としてタンタルとニオ
ブを含有し且つ1種または2種以上の金属不純物イオン
(例えばFe、 Mn、 i’i、 Sn、 Sb、
W、Ni、 Co、Cu、K 、 N a、 N H4
、Zn、Mo、Si、Af、Ca、V、Li、Th等)
が共存しているフッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液を、
ケトンの群、中性りん酸エステルの群、アルキルアミン
の群及びアミドの群よの選択された有機溶媒であって、
石油系炭化水素で希釈された有機溶媒(A)と接触させ
て前記フッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液中のタンタル
を優先的に抽出し、他の金属イオンと分離する0次に、
有機溶媒(A)に抽出されたNb及び他の金属不純物の
濃度が許容できない場合には、有機溶媒(A)を水また
はNH,とHFを含有する水溶液と接触させて、有機溶
媒(A)中に共抽出されたNb及び他の金属不純物等の
タンタルイオンより抽出分配比の小さい金属イオンを選
択的に有機相より水相に移行させる0次に、有機溶媒(
A)を水またはNH,及びHFまたはK“及びHFを含
有する水溶液と接触させることにより有機溶媒(A)に
含有されるタンタルを水溶液側に逆抽出すると共に有機
溶媒(A)を再生する0以上の工程より本発明の第1工
程はなる。
クロア、錫スラグ、TaNbFc合金等のタンタル含有
原料あるいはタンタルコンデンサーのスクラップ及び超
硬ロールのスクラップよりWを除去回収したタンタルを
含有する産業廃棄物等の固形物をHF及びHF+H2S
O4の混酸で溶解して得られた主としてタンタルとニオ
ブを含有し且つ1種または2種以上の金属不純物イオン
(例えばFe、 Mn、 i’i、 Sn、 Sb、
W、Ni、 Co、Cu、K 、 N a、 N H4
、Zn、Mo、Si、Af、Ca、V、Li、Th等)
が共存しているフッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液を、
ケトンの群、中性りん酸エステルの群、アルキルアミン
の群及びアミドの群よの選択された有機溶媒であって、
石油系炭化水素で希釈された有機溶媒(A)と接触させ
て前記フッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液中のタンタル
を優先的に抽出し、他の金属イオンと分離する0次に、
有機溶媒(A)に抽出されたNb及び他の金属不純物の
濃度が許容できない場合には、有機溶媒(A)を水また
はNH,とHFを含有する水溶液と接触させて、有機溶
媒(A)中に共抽出されたNb及び他の金属不純物等の
タンタルイオンより抽出分配比の小さい金属イオンを選
択的に有機相より水相に移行させる0次に、有機溶媒(
A)を水またはNH,及びHFまたはK“及びHFを含
有する水溶液と接触させることにより有機溶媒(A)に
含有されるタンタルを水溶液側に逆抽出すると共に有機
溶媒(A)を再生する0以上の工程より本発明の第1工
程はなる。
本発明の第2工程は逆抽出されたタンタルイオンを含有
する水溶液にNH,及びN H40HまたはKOH及び
KFを添加して次式に示すようにF−イオンとNH,+
イオンまたはF−イオンとにゝイオンを含有する沈澱物
を造ることよりなる:pHの低い領域での反応 HTaFs + 3NtlJ−(Ni14)zTall
Fs↓pHの高い領域での反応 HTaFi + H3O+ 3NII3→(NII+)
iTaOFs L + Nl14F本発明方法の第3工
程は第2工程で造られた上記にその一例を示す沈澱物あ
るいは第1工程で得られたタンタルイオンを含有する逆
抽出液にH2S O4、HCl及びHFの群より選択さ
れた1種または2種以上の酸を加え、沈澱物を溶解して
溶液とし、H+イオン濃度を調節した後、エステルの群
、エーテルの群、ケトンの群及びアルコールの群よりな
る群から選択された1種または2種以上の有機溶媒(B
)を接触させることにより、該溶媒中のタンタルイオン
をハロゲン化金属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、
次に、有機溶媒(B)を常圧状態または減圧状態で加熱
・蒸発あるいは加熱・蒸留することにより有機溶媒(B
)を再生すると共にタンタルのハロゲン化物を造ること
よりなる。ここでタンタルイオンを有機溶媒(B)に抽
出した時に、有機溶媒(B)中のNb及び他の金属不純
物の濃度が許容できないものである場合には、上述の有
機溶媒(A)と同様の操作によりNb及び他の金属不純
物を水相に移行させる工程を適宜組み込むことができる
。
する水溶液にNH,及びN H40HまたはKOH及び
KFを添加して次式に示すようにF−イオンとNH,+
イオンまたはF−イオンとにゝイオンを含有する沈澱物
を造ることよりなる:pHの低い領域での反応 HTaFs + 3NtlJ−(Ni14)zTall
Fs↓pHの高い領域での反応 HTaFi + H3O+ 3NII3→(NII+)
iTaOFs L + Nl14F本発明方法の第3工
程は第2工程で造られた上記にその一例を示す沈澱物あ
るいは第1工程で得られたタンタルイオンを含有する逆
抽出液にH2S O4、HCl及びHFの群より選択さ
れた1種または2種以上の酸を加え、沈澱物を溶解して
溶液とし、H+イオン濃度を調節した後、エステルの群
、エーテルの群、ケトンの群及びアルコールの群よりな
る群から選択された1種または2種以上の有機溶媒(B
)を接触させることにより、該溶媒中のタンタルイオン
をハロゲン化金属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、
次に、有機溶媒(B)を常圧状態または減圧状態で加熱
・蒸発あるいは加熱・蒸留することにより有機溶媒(B
)を再生すると共にタンタルのハロゲン化物を造ること
よりなる。ここでタンタルイオンを有機溶媒(B)に抽
出した時に、有機溶媒(B)中のNb及び他の金属不純
物の濃度が許容できないものである場合には、上述の有
機溶媒(A)と同様の操作によりNb及び他の金属不純
物を水相に移行させる工程を適宜組み込むことができる
。
本発明の第4工程は、第3工程で得られたタンタルのハ
ロゲン化物を、金属Na、Mg、Ca、 Zn及びPb
の単体及び/またはこれらを主体とする合金と接触させ
ることにより金属タンタルを製造するものである。
ロゲン化物を、金属Na、Mg、Ca、 Zn及びPb
の単体及び/またはこれらを主体とする合金と接触させ
ることにより金属タンタルを製造するものである。
タンタルとニオブを含有し且つ1種または2種以上の上
述したような金属不純物イオンが共存するHFまたはH
F+H2SO4の混合液を、ケトンの群、中性りん酸エ
ステルの群、アルキルアミンの群及びアミドの群より選
択された1種または2種以上の有機溶媒であって、石油
系炭化水素で希釈された有機溶媒(A)と接触させると
、有機溶媒(A)は前記HFまたは混合液中のタンタル
イオンを次式に示すように優先的に抽出する。
述したような金属不純物イオンが共存するHFまたはH
F+H2SO4の混合液を、ケトンの群、中性りん酸エ
ステルの群、アルキルアミンの群及びアミドの群より選
択された1種または2種以上の有機溶媒であって、石油
系炭化水素で希釈された有機溶媒(A)と接触させると
、有機溶媒(A)は前記HFまたは混合液中のタンタル
イオンを次式に示すように優先的に抽出する。
TiF4−+H”+ nOrg−+HTaFs −nO
rg抽出分配比はT a > N bであり、その他の
金属イオンは更に抽出分配比が小さく、Nbの抽出分配
比に比較して10′″3である。
rg抽出分配比はT a > N bであり、その他の
金属イオンは更に抽出分配比が小さく、Nbの抽出分配
比に比較して10′″3である。
Nbの抽出分配比はH2S O4濃度が高くなるに従っ
てTaの抽出分配比に近似してくるので、Taの抽出に
際してH2SO,濃度の調節が重要である。
てTaの抽出分配比に近似してくるので、Taの抽出に
際してH2SO,濃度の調節が重要である。
次に、Taを抽出・含有している有機溶媒(A)を水ま
たはN H3と)(Fを含有している水溶液と接触させ
ることにより、有機溶媒に共抽出されているNb及び他
の金属不純物の微量の金属イオンを選択的に有機相より
水相に移行させることができる。これは有機溶媒(A)
中のNb及び他の金属不純物の濃度が許容できない場合
に行なう必要がある工程であるが、上述のような原料を
使用する場合には通常行なう必要がある。
たはN H3と)(Fを含有している水溶液と接触させ
ることにより、有機溶媒に共抽出されているNb及び他
の金属不純物の微量の金属イオンを選択的に有機相より
水相に移行させることができる。これは有機溶媒(A)
中のNb及び他の金属不純物の濃度が許容できない場合
に行なう必要がある工程であるが、上述のような原料を
使用する場合には通常行なう必要がある。
Taとは異なり、Nb及び他の上述のような金属不純物
はH,SO4濃度によって大きく抽出分配比が変化する
性質を利用して、有機相の共抽出物質を除いた後に、有
機溶媒(A)を再び水またはNH3とHFまたはに1及
びHFを含有する水溶液と接触させることによりタンタ
ルイオンを水相に逆抽出する。
はH,SO4濃度によって大きく抽出分配比が変化する
性質を利用して、有機相の共抽出物質を除いた後に、有
機溶媒(A)を再び水またはNH3とHFまたはに1及
びHFを含有する水溶液と接触させることによりタンタ
ルイオンを水相に逆抽出する。
共抽出物の洗浄操作とTaイオンの逆抽出操作は用いる
水溶液は同一であっても、接触させる時の流量比率ある
いはN H3の混入比率を高めることによって水相側の
遊離HF濃度が変化し、その結果、タンタルの抽出分配
比が大きく変化することを利用するものである。
水溶液は同一であっても、接触させる時の流量比率ある
いはN H3の混入比率を高めることによって水相側の
遊離HF濃度が変化し、その結果、タンタルの抽出分配
比が大きく変化することを利用するものである。
tlTaF1norg+ 3NHJ−+ (NHn)z
TaFt+NtlnHF2+nOrg水相に逆抽出され
たタンタルイオンはNH,を添加することにより、次式
に示すように水酸化物に近いN )I 4+とF−を含
有する沈澱物を生ずる。
TaFt+NtlnHF2+nOrg水相に逆抽出され
たタンタルイオンはNH,を添加することにより、次式
に示すように水酸化物に近いN )I 4+とF−を含
有する沈澱物を生ずる。
(Nun)zTaFt + 2NH3+ H20→側H
,)、Ta0F5↓+2Nl(、FNH3を添加する前
に、大量の水を加え、水溶液中のHF濃度を希薄にすれ
ば、タンタルイオンを水酸化物として沈澱させることが
できる。
,)、Ta0F5↓+2Nl(、FNH3を添加する前
に、大量の水を加え、水溶液中のHF濃度を希薄にすれ
ば、タンタルイオンを水酸化物として沈澱させることが
できる。
(Nf14)a丁aF7+5NH3+5Hzo−Ta(
OH)s↓+78H,F次に、タンタル逆抽出液及びタ
ンタル含有沈澱物に、HF 、HI 、 HBr、H2
SO4及びHClの中から選択される1種または2種以
上の酸を加えて沈澱物を溶解し且つH+イオン濃度を調
節する。
OH)s↓+78H,F次に、タンタル逆抽出液及びタ
ンタル含有沈澱物に、HF 、HI 、 HBr、H2
SO4及びHClの中から選択される1種または2種以
上の酸を加えて沈澱物を溶解し且つH+イオン濃度を調
節する。
(NH4) 2TaF 7 + Lso4−+ TaF
i−” (NH4) 2SO4十〇F + II十(N
!14)zTaOFsト11F + 112SO<−T
aFs−+(N11.)2S04+l+20+8” Ta(Oll)s + 611C1−TaC1g−+5
11zO+I+”高濃度のタンタルハロゲン化錯イオン
を含有する水溶液に、エステルの群、エーテルの群、ケ
トンの群及びアルコールの群よりなる群より選択された
1種または、2種以上の有機溶媒(B)を接触させるこ
とにより次式に示すようにタンタルをハロゲン砲金EI
O体として抽出することができる。
i−” (NH4) 2SO4十〇F + II十(N
!14)zTaOFsト11F + 112SO<−T
aFs−+(N11.)2S04+l+20+8” Ta(Oll)s + 611C1−TaC1g−+5
11zO+I+”高濃度のタンタルハロゲン化錯イオン
を含有する水溶液に、エステルの群、エーテルの群、ケ
トンの群及びアルコールの群よりなる群より選択された
1種または、2種以上の有機溶媒(B)を接触させるこ
とにより次式に示すようにタンタルをハロゲン砲金EI
O体として抽出することができる。
TaF5−+ H”+ nOrg−>HTaFs ・n
orgTaCl、−+ H”+ norg−* HTa
Cli HnOrg式中、○rgとは含酸素有機溶媒を
示し、エステル、エーテル、ケトン及びアルコールの各
群がら選択されるものである。
orgTaCl、−+ H”+ norg−* HTa
Cli HnOrg式中、○rgとは含酸素有機溶媒を
示し、エステル、エーテル、ケトン及びアルコールの各
群がら選択されるものである。
次に、必要であれば、有機溶媒(B)を洗浄し、次に、
タンタルのハロゲン化金属錯体を抽出・含有する有機溶
媒(B)を常圧状態あるいは減圧状態で、加熱・蒸発ま
たは加熱・蒸留することにより次式に示すように有機溶
媒(B)を回収すると共にタンタルのハロゲン化物を造
ることができる。
タンタルのハロゲン化金属錯体を抽出・含有する有機溶
媒(B)を常圧状態あるいは減圧状態で、加熱・蒸発ま
たは加熱・蒸留することにより次式に示すように有機溶
媒(B)を回収すると共にタンタルのハロゲン化物を造
ることができる。
加熱
HTaF6− norg −−−+TaF5+ IIF
↑+nOrg↑また、加熱・蒸発あるいは加熱・蒸留を
行なう前に、必要に応じて、物理的に混入している水、
抽出されているH2Oを乾燥・除去することによりT
a F s及びTaCl5に含有される酸素量を極めて
微量に低下させることができる。
↑+nOrg↑また、加熱・蒸発あるいは加熱・蒸留を
行なう前に、必要に応じて、物理的に混入している水、
抽出されているH2Oを乾燥・除去することによりT
a F s及びTaCl5に含有される酸素量を極めて
微量に低下させることができる。
加熱・蒸発及び加熱・蒸留の温度によって、含酸素有機
溶媒(B)の酸化を防止し且つ生成するハロゲン化物の
酸化を防止する目的のために、装置内を不活性ガスで充
満させることができる。
溶媒(B)の酸化を防止し且つ生成するハロゲン化物の
酸化を防止する目的のために、装置内を不活性ガスで充
満させることができる。
上述のようにして製造されたタンタルのハロゲン化物を
次式に示すように金属Na、My、Ca、Zn及びpb
よりなる群から選択された単体及び/またはこれらを主
体とする合金と接触させることにより金属タンタルを製
造することができる。
次式に示すように金属Na、My、Ca、Zn及びpb
よりなる群から選択された単体及び/またはこれらを主
体とする合金と接触させることにより金属タンタルを製
造することができる。
TaC5+5Nm−+Ta+5NaF
TaC1s+2.5MfI−Ta+2.5MgCj!z
TaFs+2.5Ca−+Ta+2.5CaF。
TaFs+2.5Ca−+Ta+2.5CaF。
TaCl5+ 2.5 Zn−Ta+ 2.5 ZnC
1zTaFs+2.5Pb−+Ta+2.5PbFz還
元剤として用いられる上述の金属の単体または合金は気
体状、液体状及び赤熱状態として使用することができ、
また、タンタルのハロゲン化物も気体状、液体状として
反応に供される。
1zTaFs+2.5Pb−+Ta+2.5PbFz還
元剤として用いられる上述の金属の単体または合金は気
体状、液体状及び赤熱状態として使用することができ、
また、タンタルのハロゲン化物も気体状、液体状として
反応に供される。
還元反応は250℃以上の温度で生じ、酸化物の生成を
抑制するなめに、Ar等の不活性ガス雰囲気中で行なわ
れる。また、不活性ガスに還元ガスを混合して使用する
ことができる。
抑制するなめに、Ar等の不活性ガス雰囲気中で行なわ
れる。また、不活性ガスに還元ガスを混合して使用する
ことができる。
本発明で出発原料となるタンタルとNb、 Fe、Mn
、Ti、Sn、Sb、Wl、Ni、Co、Cu、K、N
a、 N H4、Zn、Mo、Si、AZ、Ca、V
、Li、Th等の1種または2種以上の金属不純物イオ
ンが共存する水溶液は次のようにして造られる。
、Ti、Sn、Sb、Wl、Ni、Co、Cu、K、N
a、 N H4、Zn、Mo、Si、AZ、Ca、V
、Li、Th等の1種または2種以上の金属不純物イオ
ンが共存する水溶液は次のようにして造られる。
−mに、タンライト、コロンバイト、ストルベライト、
パイロクロア、錫スラグ及びTaNbFe合金のような
タンタル含有原料あるいはタンタルコンデンサーのスク
ラップ、不良品等の電子材料廃棄物を、フッ酸単独及び
フッ酸と硫酸あるいはフッ酸と硝酸の如き混酸により溶
解することにより造ることができる。
パイロクロア、錫スラグ及びTaNbFe合金のような
タンタル含有原料あるいはタンタルコンデンサーのスク
ラップ、不良品等の電子材料廃棄物を、フッ酸単独及び
フッ酸と硫酸あるいはフッ酸と硝酸の如き混酸により溶
解することにより造ることができる。
本発明で使用される有機溶媒(A>は次の群より選択さ
れる。
れる。
■ケトンの群:
R・>c=。
(式中、R及びR′はアルキル基またはアリール基を示
し、炭素原子数が3〜18個のものが使用される)で表
されるケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルプロピルケトン及びその類似ケトン。
し、炭素原子数が3〜18個のものが使用される)で表
されるケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルプロピルケトン及びその類似ケトン。
■中性りん酸エステル:
(式中、Rは炭素原子数4〜18個のアルキル基を表す
)。
)。
■アルキルアミンの群:
RNH−1R2NH−及びR,NH−(式中、Rはアル
キル基を表し、炭素原子数が4〜24個のものが使用さ
れる)で表される第1級〜第3級アミン。
キル基を表し、炭素原子数が4〜24個のものが使用さ
れる)で表される第1級〜第3級アミン。
■アミドの群:
(式中、Rはア゛ルキル基を示し、炭素原子数が4〜2
5個のものが使用される)。
5個のものが使用される)。
本発明方法に使用される有機溶媒(A)の希釈剤は石油
系炭化水素であり、芳香族質のものも、脂肪族質のもの
も使用することができる。勿論、これらの混合物を使用
することもできる。有機溶媒(A)すなわち抽出剤は上
述の各群から選択され、1種の場合も、2種以上を併用
する場合もあるが、これらの混合比は対象とする水溶液
の性状や不純物の種類とそれらの共存する割合によって
決定することができる。
系炭化水素であり、芳香族質のものも、脂肪族質のもの
も使用することができる。勿論、これらの混合物を使用
することもできる。有機溶媒(A)すなわち抽出剤は上
述の各群から選択され、1種の場合も、2種以上を併用
する場合もあるが、これらの混合比は対象とする水溶液
の性状や不純物の種類とそれらの共存する割合によって
決定することができる。
抽出剤濃度も同様で、−mに2〜100%(容積比)に
調節して使用することができ゛る。
調節して使用することができ゛る。
本発明で使用される有機溶媒(B)は次の群より選択さ
れる。
れる。
■ケトンの群:
R・>c=。
(式中、R及びR′はアルキル基またはアリール基を示
し、炭素原子数が2〜18個のものが使用される)で表
されるケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルプロピルケトン、メチルシクロヘキサノン
及びその類似ケトン。
し、炭素原子数が2〜18個のものが使用される)で表
されるケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルプロピルケトン、メチルシクロヘキサノン
及びその類似ケトン。
■アミドの群:
(式中、Rはアルキル基を示し、炭素原子数が2〜18
個のものが使用される)。
個のものが使用される)。
■エステルの群:
りん酸エステル及び酢酸エステルから選択することがで
きる。
きる。
■エーテルの群:
脂肪族単一エーテル、脂肪族混成エーテル、脂肪族不飽
和エーテル及び芳香族エーテルの中より選択することが
でき、ジイソアミルエーテル、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジクロールエチルエーテル及びこ
れらと類似する形態のエーテルを含むものである。
和エーテル及び芳香族エーテルの中より選択することが
でき、ジイソアミルエーテル、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジクロールエチルエーテル及びこ
れらと類似する形態のエーテルを含むものである。
■アルコールの群:
炭素原子数4〜22個の各種(ノルマル、第2、第3)
アルコールを使用することができる。
アルコールを使用することができる。
本発明で使用される副生ハロゲン化アンモニウムの固形
物を洗浄するための溶剤としては以下のものを挙げるこ
とができる。
物を洗浄するための溶剤としては以下のものを挙げるこ
とができる。
■石油系炭化水素系では、石油エーテル、石油ベンゼン
、ヘキソン等の沸点が100℃以下で、表面張力が20
℃で30ダイン/C輪以下のものが含まれる。
、ヘキソン等の沸点が100℃以下で、表面張力が20
℃で30ダイン/C輪以下のものが含まれる。
■芳香族炭化水素系では、ベンゼン等が使用される。
本発明で使用される乾燥剤とは有機溶媒(B)に物理的
に混入している水及びタンタルのハロゲン化錯体と共に
抽出されたH2Oを除去し、乾燥するために使用するも
ので、無水芒硝、無水塩化カルシウム、無水硫酸マグネ
シウム、無水塩化マグネシウム、無水塩化カリウム、付
活アルミナ、過塩素酸マグネシウム、五酸化りん、無水
炭酸カリウム、酸化バリウム及び合成ゼオライト等のモ
レキュラーシーブを使用することができる。
に混入している水及びタンタルのハロゲン化錯体と共に
抽出されたH2Oを除去し、乾燥するために使用するも
ので、無水芒硝、無水塩化カルシウム、無水硫酸マグネ
シウム、無水塩化マグネシウム、無水塩化カリウム、付
活アルミナ、過塩素酸マグネシウム、五酸化りん、無水
炭酸カリウム、酸化バリウム及び合成ゼオライト等のモ
レキュラーシーブを使用することができる。
本発明の任意工程である乾燥工程は有機溶媒(B)巾に
物理的に混入している水及びタンタルのハロゲン化錯体
と共に抽出されたH2Oを除去して最終生成物であるタ
ンタルのハロゲン化物中の酸素含量を最低量まで減少さ
せるための工程である。しかし、ある程度の有機溶媒(
B)中に存在する水は常圧状態あるいは減圧状態での加
熱・蒸発あるいは加熱・蒸留工程で除去することもでき
る。
物理的に混入している水及びタンタルのハロゲン化錯体
と共に抽出されたH2Oを除去して最終生成物であるタ
ンタルのハロゲン化物中の酸素含量を最低量まで減少さ
せるための工程である。しかし、ある程度の有機溶媒(
B)中に存在する水は常圧状態あるいは減圧状態での加
熱・蒸発あるいは加熱・蒸留工程で除去することもでき
る。
なお、この乾燥工程は有機溶媒(B)を上述のような物
質と接触させるものであるために、水を除去する代わり
に若干の不純物が有機溶媒(B)中に混入する場合もあ
り、最終生成物であるタンタルのハロゲン化物において
、所望とされる酸素含有量並びに不純物含有量等により
必要に応じて行なうことができる。
質と接触させるものであるために、水を除去する代わり
に若干の不純物が有機溶媒(B)中に混入する場合もあ
り、最終生成物であるタンタルのハロゲン化物において
、所望とされる酸素含有量並びに不純物含有量等により
必要に応じて行なうことができる。
本発明で使用する不活性ガスとはN2ガスまたはArガ
スであり、有機溶媒(B)を加熱・蒸発あるいは加熱蒸
留する際に有機溶媒(B)の酸化を防止したり、生成し
たタンタルのハロゲン化物が変質しないように用いるこ
とができる。
スであり、有機溶媒(B)を加熱・蒸発あるいは加熱蒸
留する際に有機溶媒(B)の酸化を防止したり、生成し
たタンタルのハロゲン化物が変質しないように用いるこ
とができる。
更に、タンタルのハロゲン化物を250℃以上の高温で
金属Na、Mg、Ca、 Zn及びPbの単体及び/ま
たはこれらを主体とする合金と接触させて金属タンタル
を造る際にも、装置内の大気を追い出す目的及び気体状
の還元剤あるいは気体状のタンタルのハロゲン化物を反
応装置に導くためにもArガスを使用することができる
。
金属Na、Mg、Ca、 Zn及びPbの単体及び/ま
たはこれらを主体とする合金と接触させて金属タンタル
を造る際にも、装置内の大気を追い出す目的及び気体状
の還元剤あるいは気体状のタンタルのハロゲン化物を反
応装置に導くためにもArガスを使用することができる
。
還元装置内に大気が侵入することを防止するために、A
rガスを単独でまたはArガスと水素ガスの混合気体を
導入することもできる。
rガスを単独でまたはArガスと水素ガスの混合気体を
導入することもできる。
以下、本発明方法を添付図に基づき説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではないことを理解されたい
。
はこれらに限定されるものではないことを理解されたい
。
第1図のフローシートは本発明操作の基本型を示す図で
あり、主としてTaとNbを含み、1種または2種以上
の金属不純物イオンを含有しているフッ酸単独またはフ
ッ酸と硫酸との混合物をタンタルの抽出工程(A)に導
き、有機溶媒(A)と接触させることにより上述のフッ
酸または混合液中のタンタルをフッ化物錯体として抽出
する。
あり、主としてTaとNbを含み、1種または2種以上
の金属不純物イオンを含有しているフッ酸単独またはフ
ッ酸と硫酸との混合物をタンタルの抽出工程(A)に導
き、有機溶媒(A)と接触させることにより上述のフッ
酸または混合液中のタンタルをフッ化物錯体として抽出
する。
タンタルを抽出・含有する有機溶媒(A)中には、Nb
と1種または2種以上の金属不純物例えばFe、Mn、
Ti、Sn、Sb、W、Ni、Co、Cu、K、N a
、 N H4、Zn、Mo、 Si、AI、Ca、V、
Li、Th等の金属イオンも微量抽出され、これらの抽
出量が許容できない場合には、これら金属不純物を選択
的に洗浄する洗浄工程(B)へ導き、水またはN Hs
とHFの混合液(イ)と接触させることにより有機相よ
り水相に不純物金属イオンを移行せしめた後、該有機溶
媒をタンタルの逆抽出工程(C)に導き、水またはNH
3及びHFまたはに+及びKFを含有する水溶液(ロ)
と接触させることにより有機相よりタンタルのフッ化物
錯体を水相に移行せしめると共に有機溶媒を再生して再
度タンタルの抽出工程(A)へ循環する0本発明方法の
第1工程は以上の工程よりなる。
と1種または2種以上の金属不純物例えばFe、Mn、
Ti、Sn、Sb、W、Ni、Co、Cu、K、N a
、 N H4、Zn、Mo、 Si、AI、Ca、V、
Li、Th等の金属イオンも微量抽出され、これらの抽
出量が許容できない場合には、これら金属不純物を選択
的に洗浄する洗浄工程(B)へ導き、水またはN Hs
とHFの混合液(イ)と接触させることにより有機相よ
り水相に不純物金属イオンを移行せしめた後、該有機溶
媒をタンタルの逆抽出工程(C)に導き、水またはNH
3及びHFまたはに+及びKFを含有する水溶液(ロ)
と接触させることにより有機相よりタンタルのフッ化物
錯体を水相に移行せしめると共に有機溶媒を再生して再
度タンタルの抽出工程(A)へ循環する0本発明方法の
第1工程は以上の工程よりなる。
本発明方法の第2工程は水相中に移行せしめたタンタル
を中和・沢過工程(D)に導き、NH,ガス及びNH,
○HまたはKOH及びKF(ハ)を添加することによっ
てタンタルとNH,+及びHFを含有する沈澱物が得ら
れる。
を中和・沢過工程(D)に導き、NH,ガス及びNH,
○HまたはKOH及びKF(ハ)を添加することによっ
てタンタルとNH,+及びHFを含有する沈澱物が得ら
れる。
次に、第1工程で得られたタンタルのフッ化物錯体を含
有する逆抽出液及び第2工程で得られたN H3とI−
I Fを含有するタンタルの沈澱物を溶解し、H+イオ
ン濃度を調節する溶解・H+イオン濃度調節工程(E)
において、H,SO,、HBr、HI、HCI及びHF
の中から選択された1種または2種以上のa(ニ)を加
えた後、タンタルのハロゲン化錯体を抽出する抽出工程
(F)において、エーテルの群、ケトンの群、アミドの
群、エステルの群及びアルコールの群からなる各群から
選択された1種または2種以上の抽出剤からなる有機溶
媒(B)と接触させることにより、該溶液中のタンタル
のハロゲン化錯体が有機溶媒(B)に抽出・含有される
。
有する逆抽出液及び第2工程で得られたN H3とI−
I Fを含有するタンタルの沈澱物を溶解し、H+イオ
ン濃度を調節する溶解・H+イオン濃度調節工程(E)
において、H,SO,、HBr、HI、HCI及びHF
の中から選択された1種または2種以上のa(ニ)を加
えた後、タンタルのハロゲン化錯体を抽出する抽出工程
(F)において、エーテルの群、ケトンの群、アミドの
群、エステルの群及びアルコールの群からなる各群から
選択された1種または2種以上の抽出剤からなる有機溶
媒(B)と接触させることにより、該溶液中のタンタル
のハロゲン化錯体が有機溶媒(B)に抽出・含有される
。
次に、有機溶媒を加熱・蒸発または加熱・蒸留工程(G
)に導き、必要によりN2、Arガス(ホ)等を導入し
た常圧状態あるいは減圧状態で加熱・蒸発または加熱・
蒸留することにより、有機溶媒(B)を再生すると共に
タンタルの塩化物錯体及びタンタルのフッ化物錯体等の
タンタルのハロゲン化物(H)を製造すやことができる
0以上の工程より、本発明方法の第3工程がなる。
)に導き、必要によりN2、Arガス(ホ)等を導入し
た常圧状態あるいは減圧状態で加熱・蒸発または加熱・
蒸留することにより、有機溶媒(B)を再生すると共に
タンタルの塩化物錯体及びタンタルのフッ化物錯体等の
タンタルのハロゲン化物(H)を製造すやことができる
0以上の工程より、本発明方法の第3工程がなる。
本発明の第3工程で製造されたタンタルのハロゲン化物
(H)を原料として金属タンタルを製造するのが本発明
の第4工程である。
(H)を原料として金属タンタルを製造するのが本発明
の第4工程である。
タンタルのハロゲン化物(H)を還元反応工程(K)に
おいて、必要により不活性ガス(ト)の存在下で金属N
a、Mg、Ca、Zn及びPbの単体またはこれらを主
体とする合金である還元剤(へ)と接触させることによ
り金属タンタル(L)が製造される。
おいて、必要により不活性ガス(ト)の存在下で金属N
a、Mg、Ca、Zn及びPbの単体またはこれらを主
体とする合金である還元剤(へ)と接触させることによ
り金属タンタル(L)が製造される。
第2図のフローシートは金属タンタルを造る方法として
は第1図のフローシートと同一であるが、第3工程にお
いて、タンタルのハロゲン化錯体を抽出する抽出工程(
F)を出たタンタルを抽出・含有している有機溶媒(B
)を乾燥剤(チ)と接触させることよりなる乾燥工程(
J)が組み込まれたものである。
は第1図のフローシートと同一であるが、第3工程にお
いて、タンタルのハロゲン化錯体を抽出する抽出工程(
F)を出たタンタルを抽出・含有している有機溶媒(B
)を乾燥剤(チ)と接触させることよりなる乾燥工程(
J)が組み込まれたものである。
[実 施 例]
以下に実施例を挙げ、本発明を更に説明する。
以下の試験に使用するTa含有液はタンクライトとコロ
ンバイトを混合してHFとH2SO,の混酸で溶解する
ことによって得られたものである。
ンバイトを混合してHFとH2SO,の混酸で溶解する
ことによって得られたものである。
得られたTa含有液の組成を以下の第1表に記載する。
第二−ニー−大−(単位g/1)
Ta205 49.6N bzo
s 80 、1Fe
8.4Mn
6.1Ti
1.8Sn 0.6S
b O,IW
0.04Si
4.1A1
1.lH2SO4152,O HF 120.8上述のTa含
有液を使用し、抽出条件0/A =1/1、振どう時間
5分間の同一条件を使用して第2表に示す4種類の抽出
剤を用いた場合の抽出分配比を求めた。得られた結果を
以下の第2表に記載する。
s 80 、1Fe
8.4Mn
6.1Ti
1.8Sn 0.6S
b O,IW
0.04Si
4.1A1
1.lH2SO4152,O HF 120.8上述のTa含
有液を使用し、抽出条件0/A =1/1、振どう時間
5分間の同一条件を使用して第2表に示す4種類の抽出
剤を用いた場合の抽出分配比を求めた。得られた結果を
以下の第2表に記載する。
抽出分配比(DME)は次式によって算出される。
なお、H2SO,濃度が低下するに従い、Nb2O5の
抽出分配比は低下する。また、TazOs濃度が低下す
ると、N b 20 sの抽出分配比が大きくなる。
抽出分配比は低下する。また、TazOs濃度が低下す
ると、N b 20 sの抽出分配比が大きくなる。
A 金 の゛ ・
第2表に記載するように抽出された金属を含有する有機
溶媒を水または0.3モル/ρNH4F含有液と接触さ
せてNb2O,を選択的に除去する洗浄試験を行なった
。その結果を第3表に示す。
溶媒を水または0.3モル/ρNH4F含有液と接触さ
せてNb2O,を選択的に除去する洗浄試験を行なった
。その結果を第3表に示す。
実装置では、洗浄操作を自流多段接触させるので、抽出
分配比の小さいNb2O5、Fe、Mn、 Ti等の不
純物は水相に移り、有機相にはT a 20 sのみが
残留する。
分配比の小さいNb2O5、Fe、Mn、 Ti等の不
純物は水相に移り、有機相にはT a 20 sのみが
残留する。
Ta ・ び ゛ ・ ・次に、2.
0モル/INH,F水溶液を上記有機相と接触させるこ
とにより有機相のTa205を逆抽出させる試験を行な
った。その結果を第4表に記載する。
0モル/INH,F水溶液を上記有機相と接触させるこ
とにより有機相のTa205を逆抽出させる試験を行な
った。その結果を第4表に記載する。
し、得られた沈澱物を乾燥し、分析し、得られた結果を
以下の第5表に示す、なお、第5表の分析結果が希望す
る製品純度を満足しない場合には、再溶解して第2表及
び第3表の操作を1回以上反復することによりTaの純
度を向上させることができる。
以下の第5表に示す、なお、第5表の分析結果が希望す
る製品純度を満足しない場合には、再溶解して第2表及
び第3表の操作を1回以上反復することによりTaの純
度を向上させることができる。
第一−5−一轟エ (単位二重量%)
次に、Taの逆抽出液にH2SO4を添加し、Ta沈澱
物に[−(C1とH,SO,を添加することにより第6
表に記載する組成をもつ溶液を調製し、第3工程のタン
タルの塩化物及びフッ化物製造試験用原料とした。
物に[−(C1とH,SO,を添加することにより第6
表に記載する組成をもつ溶液を調製し、第3工程のタン
タルの塩化物及びフッ化物製造試験用原料とした。
1−民 (g/l)
? B こ W抽出には、1
00%ジブチルエーテルと100%メチルイソブチルケ
トンを使用し2O/A=115、振どう時間5分間の条
件を使用した。抽出結果を第7表に示す。
00%ジブチルエーテルと100%メチルイソブチルケ
トンを使用し2O/A=115、振どう時間5分間の条
件を使用した。抽出結果を第7表に示す。
[−民 (g/l)
使用した有機溶媒:メチルイソブチルケトンTaJs
NbaOs IIF HCl1lzSO−有機相
84 <0.001 43.5 <0.1
<0.1水相 103 0.06 92.3 −−
91.7使用した有機溶媒ニジブチルエーテル Taxes NbtOs +lF flci’
H2SO4有機相 80.7 <0.001 1.
6 57.8 <0.1水相 137.6 0.00
4 9.8156.2110.4Fe、Mn、Ti%S
n、Sb、W、Si、A1.Ni及びZnイオンの抽出
量はいずれもO,001g/I!以下であった。万一、
これらの不純物の抽出量が多い場合には、洗浄工程が必
要となる。
NbaOs IIF HCl1lzSO−有機相
84 <0.001 43.5 <0.1
<0.1水相 103 0.06 92.3 −−
91.7使用した有機溶媒ニジブチルエーテル Taxes NbtOs +lF flci’
H2SO4有機相 80.7 <0.001 1.
6 57.8 <0.1水相 137.6 0.00
4 9.8156.2110.4Fe、Mn、Ti%S
n、Sb、W、Si、A1.Ni及びZnイオンの抽出
量はいずれもO,001g/I!以下であった。万一、
これらの不純物の抽出量が多い場合には、洗浄工程が必
要となる。
上述の抽出試験では、TJL以外の不純物金属イオン濃
度がいずれもO,0O1y/j!以下の微量であったが
、不手際からTaイオン以外の不純物イオンが抽出され
てしまった場合には、第1工程の洗浄工程(B)と同様
に水及びNH4+とHFの含有液と接触させることによ
り遭択的にTa以外の不純物金属イオンを水相に移行せ
しめて、有機溶媒中にはTaイオンのみを残留させる操
作を行なうことが必要となる。
度がいずれもO,0O1y/j!以下の微量であったが
、不手際からTaイオン以外の不純物イオンが抽出され
てしまった場合には、第1工程の洗浄工程(B)と同様
に水及びNH4+とHFの含有液と接触させることによ
り遭択的にTa以外の不純物金属イオンを水相に移行せ
しめて、有機溶媒中にはTaイオンのみを残留させる操
作を行なうことが必要となる。
DttL・ または ^・
実験器内にArガスを入れて大気を追い出してから加熱
・蒸発あるいは加熱・蒸留試験を行なった。得られた結
果を第8表に示す。
・蒸発あるいは加熱・蒸留試験を行なった。得られた結
果を第8表に示す。
m要1
上述のようにして造られたタンタルのハロゲン化物を使
用して還元試験を行なった。得られた結果を第9表に記
載する。
用して還元試験を行なった。得られた結果を第9表に記
載する。
[発明の効果コ
本発明方法により金属タンタルを製造すれば、従来法に
比較して工程が簡素化され、原料の制限もなくなり、省
エネルギーな製造方法で、良品質な金属タンタルを造る
ことができる。
比較して工程が簡素化され、原料の制限もなくなり、省
エネルギーな製造方法で、良品質な金属タンタルを造る
ことができる。
第1図は本発明操作の基本型を示すフローシートであり
、第2図は第1図に記載する基本型の操作に乾燥工程を
加えた操作を示すフローシートである。 図中: A・・・抽出工程; B・・・洗浄工程; C・・・逆抽出工程; D・・・中和・p過工程; E・・・溶解・H+イオン濃度調節工程;F・・・抽出
工程; G・・・加熱・蒸発または加熱・蒸留工程;H・・・タ
ンタルのハロゲン化物; J・・・乾燥工程; K・・・還元反応工程; L・・・金属タンタル; (イ)水またはNH3とHFの混合液;(ロ)水または
N H、及びHFまたはに2及びKFを含有する水溶液
; (ハ) N Hsガス及びNH,OHまなはKOH及び
HF; (ニ)H2S O4、HBr、 HI 、 HCl及び
HFの中から選択されたIPlまたは2種以上の酸;(
ホ)N2.Arガス; (へ)還元剤; (ト)不活性ガス; (チ)乾燥剤。
、第2図は第1図に記載する基本型の操作に乾燥工程を
加えた操作を示すフローシートである。 図中: A・・・抽出工程; B・・・洗浄工程; C・・・逆抽出工程; D・・・中和・p過工程; E・・・溶解・H+イオン濃度調節工程;F・・・抽出
工程; G・・・加熱・蒸発または加熱・蒸留工程;H・・・タ
ンタルのハロゲン化物; J・・・乾燥工程; K・・・還元反応工程; L・・・金属タンタル; (イ)水またはNH3とHFの混合液;(ロ)水または
N H、及びHFまたはに2及びKFを含有する水溶液
; (ハ) N Hsガス及びNH,OHまなはKOH及び
HF; (ニ)H2S O4、HBr、 HI 、 HCl及び
HFの中から選択されたIPlまたは2種以上の酸;(
ホ)N2.Arガス; (へ)還元剤; (ト)不活性ガス; (チ)乾燥剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主としてタンタルとニオブを含有し且つ1種または
2種以上の金属不純物イオンが共存するフッ酸またはフ
ッ酸と硫酸の混合液からの金属タンタルの製造方法にお
いて、 (a)前記フッ酸またはフッ酸と硫酸の混合液にケトン
の群、中性りん酸エステルの群、アルキルアミンの群及
びアミドの群より選択された1種または2種以上の有機
溶媒であって、石油系炭化水素で希釈された有機溶媒(
A)を接触させて前記フッ酸またはフッ酸と硫酸の混合
液中のタンタルを優先的に抽出し、次に、有機溶媒(A
)を水またはNH_3及びHFまたはK^+及びHFを
含有する水溶液と接触させることにより、有機溶媒(A
)に抽出されたタンタルを前記水または水溶液側に逆抽
出すると共に有機溶媒(A)を再生する第1工程;(b
)逆抽出されたタンタルイオンを含有する水溶液にNH
_3及びNH_4OHまたはKOH及びKFを添加し、
タンタル、フッ素及びNH_4^+またはタンタル、フ
ッ素及びK^+を含有する沈澱物を造る第2工程; (c)第1工程で得られたタンタル含有抽出液あるいは
第2工程で造られた沈澱物に、H_2SO_4、HCl
、HI、HBr及びHFの群より選択された1種または
2種以上の酸を添加し、沈澱物を溶解して溶液とし、H
^+イオン濃度を調節した後、エステルの群、エーテル
の群、ケトンの群及びアルコールの群よりなる群から選
択された1種または2種以上の有機溶媒(B)を接触さ
せることにより、前記溶液中のタンタルイオンをハロゲ
ン化金属錯体として有機溶媒(B)に抽出し、次に、有
機溶媒(B)を常圧状態または減圧状態で加熱・蒸発あ
るいは加熱・蒸留することにより有機溶媒(B)を再生
すると共にタンタルのハロゲン化物を製造する第3工程
;及び (d)第3工程で得られたタンタルのハロゲン化物を、
金属Na、Mg、Ca、Zn及びPbの単体及び/また
はこれらを主体とする合金と接触させることにより金属
タンタルを造る第4工程よりなることを特徴とする金属
タンタルの製造方法。 2、第1工程で得られたタンタル含有逆抽出液あるいは
第2工程で造られた沈澱物に、フッ酸及び/または硫酸
を添加し、沈澱物を溶解し且つH^+イオンの濃度を調
節した後、第1工程及び第2工程の操作を1回以上反復
して得られるタンタルのハロゲン化物の純度を向上させ
る特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 3、第3工程で得られたタンタルのハロゲン化錯体を抽
出・含有している有機溶媒(B)を乾燥剤と接触させる
ことにより物理的に含有している水及び抽出・含有して
いるH_2Oを除去・乾燥する特許請求の範囲第1項記
載の製造方法。 4、Nbイオンまたは1種または2種以上の金属不純物
イオンの濃度に依存して、タンタルを抽出した有機溶媒
(A)を、水またはNH_3とHFを含有する水溶液と
接触させて、有機溶媒(A)中に共抽出された1種また
は2種以上の金属不純物イオンを選択的に有機相より水
相に移行させ、次に、逆抽出を行なう特許請求の範囲第
1項記載の製造方法。 5、Nbイオンまたは1種または2種以上の金属不純物
イオンの濃度に依存して、タンタルを抽出した有機溶媒
(B)を、水またはNH_3とHFを含有する水溶液と
接触させて、有機溶媒(B)中に共抽出された1種また
は2種以上の金属不純物イオンを選択的に有機相より水
相に移行させ、次に、加熱・蒸発または加熱・蒸留を行
なう特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6809187A JPS63235435A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | 金属タンタルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6809187A JPS63235435A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | 金属タンタルの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63235435A true JPS63235435A (ja) | 1988-09-30 |
Family
ID=13363716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6809187A Pending JPS63235435A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | 金属タンタルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63235435A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7964085B1 (en) | 2002-11-25 | 2011-06-21 | Applied Materials, Inc. | Electrochemical removal of tantalum-containing materials |
US7981191B2 (en) | 2007-10-15 | 2011-07-19 | Hi-Temp Specialty Metals, Inc. | Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material |
US8980045B2 (en) | 2007-05-30 | 2015-03-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate cleaning chamber and components |
US9481608B2 (en) | 2005-07-13 | 2016-11-01 | Applied Materials, Inc. | Surface annealing of components for substrate processing chambers |
JP6427698B1 (ja) * | 2018-03-26 | 2018-11-21 | 株式会社アサカ理研 | 抽出方法 |
JP2019172653A (ja) * | 2018-10-29 | 2019-10-10 | 株式会社アサカ理研 | 金属用抽出剤及びそれを用いる抽出方法 |
-
1987
- 1987-03-24 JP JP6809187A patent/JPS63235435A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7964085B1 (en) | 2002-11-25 | 2011-06-21 | Applied Materials, Inc. | Electrochemical removal of tantalum-containing materials |
US9068273B2 (en) | 2002-11-25 | 2015-06-30 | Quantum Global Technologies LLC | Electrochemical removal of tantalum-containing materials |
US9481608B2 (en) | 2005-07-13 | 2016-11-01 | Applied Materials, Inc. | Surface annealing of components for substrate processing chambers |
US8980045B2 (en) | 2007-05-30 | 2015-03-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate cleaning chamber and components |
US7981191B2 (en) | 2007-10-15 | 2011-07-19 | Hi-Temp Specialty Metals, Inc. | Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material |
JP6427698B1 (ja) * | 2018-03-26 | 2018-11-21 | 株式会社アサカ理研 | 抽出方法 |
WO2019187407A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 株式会社アサカ理研 | 金属用抽出剤及びそれを用いる抽出方法 |
JP2019172653A (ja) * | 2018-10-29 | 2019-10-10 | 株式会社アサカ理研 | 金属用抽出剤及びそれを用いる抽出方法 |
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