JPS63218802A - Fringe scanning type shearing interference measuring apparatus - Google Patents
Fringe scanning type shearing interference measuring apparatusInfo
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- 238000010008 shearing Methods 0.000 title claims description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 34
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 24
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は、縞走査シアリング干渉測定装置に関する。[Detailed description of the invention] (Technical field) The present invention relates to a fringe scanning shearing interferometry apparatus.
（従来技術）
縞走査シアリング干渉測定装置では測定光束即ち、測定
波面を有する光束が２光路に分割され、分割された光束
の一方が他方に対して横ずらし即ちシアされる。このシ
アにおける横ずらし量即ちシア量は、測定精度に直接に
影響するので、これを高精度に知る必要がある。(Prior Art) In a fringe scanning shearing interferometry apparatus, a measurement light beam, that is, a light beam having a measurement wavefront, is split into two optical paths, and one of the split light beams is laterally shifted or sheared relative to the other. The amount of lateral shift in shear, that is, the amount of shear, directly affects measurement accuracy, so it is necessary to know this with high precision.
シアを行う方法として、従来、平行平面ガラスの表裏面
の反射を利用する方法、平行平面ガラスを斜めに透過す
るときの、屈折による横ずれを利用する方法、コーナー
キューブプリズムを用いる方法等が知られている。しか
し、これらは、何れもシアされる光束が平面波であり、
このためこれらを干渉させても干渉縞が生ぜず、このた
め干渉を利用した高精度のシア量測定が出来ない。Conventionally known methods for shearing include a method that utilizes reflection on the front and back surfaces of parallel plane glass, a method that utilizes lateral shift due to refraction when passing through parallel plane glass obliquely, and a method that uses a corner cube prism. ing. However, in all of these, the sheared light flux is a plane wave,
Therefore, interference fringes are not generated even if these are caused to interfere, and it is therefore impossible to measure the shear amount with high precision using interference.
（目 的）
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、
その目的とするところは、シア量を高精度に知ることが
出来、従って高精度の測定が可能である新規な、縞走査
シアリング干渉測定装置の提供にある。(Purpose) The present invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and
The purpose is to provide a novel fringe scanning shearing interference measuring device that can determine the amount of shear with high accuracy and therefore can perform highly accurate measurement.
（構 成） 以下、本発明を説明する。(composition) The present invention will be explained below.
本発明は、縞走査シアリング干渉測定装置である。この
装置は、選択光学系と、１組のア・フォーカルレンズ系
と、ビームスプリッタ−と、２個の平面ミラーと、ピエ
ゾ素子と５回転駆動手段とを有する。The present invention is a fringe scanning shearing interferometric measurement device. This device has a selection optical system, a set of afocal lens systems, a beam splitter, two plane mirrors, a piezo element, and a five-rotation drive means.
選択光学系は、測定波面と基準平面波面とを任意に選択
するための光学系である。The selection optical system is an optical system for arbitrarily selecting a measurement wavefront and a reference plane wavefront.
１組のア・フォーカルレンズ系は、測定波面が選択され
たとき、測定光束を受光面上ヘリレーするためのレンズ
系である。One set of a-focal lens systems is a lens system for relaying a measurement light beam onto a light receiving surface when a measurement wavefront is selected.
ビームスプリッタ−は、このア・フォーカルレンズ系の
レンズに挟まれた光路内で、光束を２分割する。The beam splitter splits the light beam into two within the optical path sandwiched between the lenses of this afocal lens system.
２個の平面ミラーは、上記２分割された光束をそれぞれ
反射し、上記ビームスプリッタ−を介して再度合流させ
る。The two plane mirrors each reflect the two-split light beams and recombine them via the beam splitter.
ピエゾ素子は、平面ミラーの一方を変位させることによ
り、フリンジスキャンを行う。The piezo element performs fringe scanning by displacing one of the plane mirrors.
回転駆動手段は、他方の平面ミラーを微小回転させる。The rotation driving means causes the other plane mirror to rotate slightly.
この微小回転の回転軸は、他方の平面ミラーの鏡面を通
り、この鏡面への入射光軸に直交する。The rotation axis of this minute rotation passes through the mirror surface of the other plane mirror and is orthogonal to the optical axis of incidence on this mirror surface.
１組のア・フォーカルレンズ系の集光点位置は、上記２
個の平面ミラーの鏡面に一致する。従って。The focal point position of one set of a-focal lens system is as shown in 2 above.
corresponds to the mirror surface of the plane mirror. Therefore.
上記回転軸は他方の平面ミラーにおける集光点位置を通
る。The rotation axis passes through the focal point position on the other plane mirror.
（実施例） 以下１図面を参照しながら具体的に説明する。(Example) A detailed explanation will be given below with reference to one drawing.
第１図は、本発明の１実施例を要部のみ説明図的に略示
している。この実施例は物体の表面形状を測定するため
の装置である。図中、符号１０はレーザー光源を示す。FIG. 1 schematically shows only the essential parts of an embodiment of the present invention. This embodiment is an apparatus for measuring the surface shape of an object. In the figure, reference numeral 10 indicates a laser light source.
レーザー光源１０から放射された光束は、ビームエキス
パンダー１２により、ビーム径を拡大され、ミラー１４
により反射されたのち、ビームスプリッタ−１６に入射
する。レーザー光源１０、ビームエキスパンダー１２、
ミラー１４は、測定装置の光源光学系を構成している。The beam diameter of the beam emitted from the laser light source 10 is expanded by the beam expander 12, and the beam diameter is expanded by the beam expander 12.
After being reflected by the beam, the beam enters the beam splitter 16. laser light source 10, beam expander 12,
The mirror 14 constitutes a light source optical system of the measuring device.
ビームスプリッタ−１６に入射した光束は２光束に分離
され、一方は、被検体０すなわち形状を測定すべき被検
面を有する物体の上記被検面に入射し、他方は、ミラー
Ｎの基準面に入射する。基準面は高精度に仕上げられた
平面である。被検面、基準面からの反射光はビームスプ
リッタ−１６を透過し、もしくはビームスプリッタ−１
６に反射されて４ビームスプリッタ−１６から射出しミ
ラー１８に反射されて測定系へと入射する。ビームスプ
リッタ−１６と被検体Ｏ、ミラーＮの間には、シャッタ
ーＳＬ、Ｓ２が設けられており、これらを選択的に開閉
することにより、上記測定系へ入射する反射光を選択で
きる。すなわち、ビームスプリッタ−１６、ミラーＮ、
１８．シャッターＳｌ、Ｓ２は、この実施例において１
選択光学系を構成し、この選択光学系により、被検面か
らの反射光と基準面からの反射光のうちの任意の一方を
選択して測定系へ入射させることができる。被検面から
の反射光は測定光束であって測定波面を有する。基準面
からの反射光はその波面が基準平面波面である。The light flux incident on the beam splitter 16 is separated into two light fluxes, one of which is incident on the subject surface of the subject 0, that is, an object having a subject surface whose shape is to be measured, and the other is incident on the reference surface of the mirror N. incident on . The reference plane is a highly precisely finished plane. The reflected light from the test surface and the reference surface passes through the beam splitter 16 or beam splitter 1.
6, the beam is reflected from the 4-beam splitter 16, and reflected by the exit mirror 18, and enters the measurement system. Shutters SL and S2 are provided between the beam splitter 16, the object O, and the mirror N, and by selectively opening and closing these, the reflected light that enters the measurement system can be selected. That is, beam splitter 16, mirror N,
18. Shutters Sl and S2 are 1 in this example.
A selection optical system is configured, and by this selection optical system, any one of the reflected light from the test surface and the reflected light from the reference surface can be selected and made to enter the measurement system. The reflected light from the surface to be measured is a measurement light beam and has a measurement wavefront. The wavefront of the reflected light from the reference plane is the reference plane wavefront.
さて、測定系は、１組のア・フォーカルレンズ系を構成
するレンズ２０Ａ、 ２０Ｂと、ビームスプリッタ−２
２と、平面ミラー２４．２８と、ピエゾ素子２６と、回
転駆動手段３０と、エリアセンサー３２とを有している
。Now, the measurement system consists of lenses 20A and 20B that constitute a set of afocal lens systems, and a beam splitter 2.
2, a plane mirror 24, 28, a piezo element 26, a rotation drive means 30, and an area sensor 32.
ア・フォーカルレンズ系を構成するレンズ２０Ａ。Lens 20A forming an a-focal lens system.
２０Ｂの前者の、像側焦点件、後者の物体側焦点とは互
いに合致して集光点となっている。そしてこのア・フォ
ーカルレンズ系の集光点は、平面ミラー２４．２８の鏡
面に一致している。このア・フォーカルレンズ系により
、基準面もしくは被検面がエリ、Ｒ、
アセンサー３２の受光面上に結像。The former image-side focal point and the latter object-side focal point of 20B coincide with each other to form a condensing point. The focal point of this a-focal lens system coincides with the mirror surfaces of the plane mirrors 24 and 28. With this a-focal lens system, the reference plane or test surface is imaged onto the light receiving surface of the Eri, R, and Acensor 32.
ビームスプリッタ−２２は、ア・フォーカルレンズ系を
構成するレンズ２０Ａ、 ２０Ｂに挟まれた光路内で光
束を２分割し、２分割された光束の一方は平面ミラー２
４に、他方は平面ミラー２８に入射する。The beam splitter 22 splits the light beam into two within the optical path sandwiched between the lenses 20A and 20B constituting the afocal lens system, and one of the two divided light beams passes through the plane mirror 2.
4, the other one enters the plane mirror 28.
各平面ミラー２４．２８により折り返された光束はビー
ムスプリッタ−２２を介して再び合流し、レンズ２０Ｂ
を介してエリアセンサー３２に入射する。The light beams reflected by the plane mirrors 24 and 28 are combined again via the beam splitter 22, and the lens 20B
The light enters the area sensor 32 via the.
また、ピエゾ素子２６は平面ミラー２４を矢印方向に変
位させて、フリンジスキャンを行う。Furthermore, the piezo element 26 displaces the plane mirror 24 in the direction of the arrow to perform fringe scanning.
回転駆動手段３０は、平面ミラー２８を入射光軸に直交
する軸の回りに微小回転させうるようになっている。こ
の回転軸は平面ミラー２８の鏡面に合致した前述のア・
フォーカルレンズ系の集光点を通り、この実施例では図
面に直交する方向となっている。The rotation driving means 30 is configured to slightly rotate the plane mirror 28 around an axis perpendicular to the incident optical axis. This axis of rotation coincides with the mirror surface of the plane mirror 28.
The light passes through the focal point of the focal lens system, and in this embodiment is in a direction perpendicular to the drawing.
測定装置は、これらのほかに、エリアセンサー３２の出
力にたいする演算や測定のプロセスを制御する制御演算
手段としてコンピュタ−システムを有する。In addition to these, the measuring device has a computer system as a control calculation means for controlling the calculation and measurement process for the output of the area sensor 32.
以下に、第１図の装置による測定に付き説明する。まず
、シア量Ｓにつき説明する。シャッターＳ１を閉じ、シ
ャッターＳ２を開いて、レーザー光源ｌＯを発光させる
と、前述の如く基準平面波面が選択される。このときレ
ンズ２ＯＡ、 ２０Ｂを光路外へ退避させておくとエリ
アセンサー３２に入射する光束は平面波である。平面ミ
ラー２８の入射光軸に対する傾き角がθ／２であると、
第２図（Ｉ）に示すように、平面ミラー２８により反射
された光束Ｌ１は、平面ミラー２４に反射された光束Ｌ
Ｏに対し、角θだけ傾いてエリアセンサー３２に入射す
る。従って、光束ＬＯの波面に対して、光束Ｌｌの波面
は角０だけ傾く。このため受光面上では傾き角θに対応
する干渉縞が生ずるので、この干渉縞パターンをフリン
ジスキャンして縞走査測定を行うことにより、角θを極
めて高精度に測定することができる。Measurement using the apparatus shown in FIG. 1 will be explained below. First, the shear amount S will be explained. When the shutter S1 is closed and the shutter S2 is opened to cause the laser light source IO to emit light, the reference plane wavefront is selected as described above. At this time, if the lenses 2OA and 20B are retracted out of the optical path, the light beam incident on the area sensor 32 is a plane wave. When the inclination angle of the plane mirror 28 with respect to the incident optical axis is θ/2,
As shown in FIG. 2(I), the light beam L1 reflected by the plane mirror 28 is the light beam L1 reflected by the plane mirror 24.
The light enters the area sensor 32 at an angle θ with respect to O. Therefore, the wavefront of the light beam Ll is inclined by an angle 0 with respect to the wavefront of the light beam LO. Therefore, interference fringes corresponding to the inclination angle θ are generated on the light-receiving surface, and by fringe-scanning this interference fringe pattern and performing fringe scanning measurement, the angle θ can be measured with extremely high accuracy.
この状態で、レンズ２０Ａ、 ２０Ｂを光路中に配備す
ると、平面ミラー２４．２８に反射された光束１０１．
ＬｌＯは、レンズ２０Ｂを透過した後たがいに平行とな
り、量光束ＬＯＩ、ＬＩＯのシア量Ｓはレンズ２０Ｂの
焦点距離をｆとしてｆ ｔａｎθで与えられる。In this state, when the lenses 20A and 20B are placed in the optical path, the light beams 101 .
After passing through the lens 20B, the LlO becomes parallel to each other, and the shear amount S of the light flux LOI and LIO is given by f tan θ, where f is the focal length of the lens 20B.
平面ミラー２４．２８の間の相対的な角度が９０度十θ
／２または知９０度−θ／２に固定さ九でいれば、シア
量は前述の如＜ ｆ ｔａｎ θであって一定であるが
、上記相対的角度に要求される精度は秒オーダー以下で
あり、実際には上記角度が支持体系の熱変形等で変化す
るので、上記相対的角度を定数として扱うことはできな
い。しかし、本発明では上述の如きシア量測定を、形状
測定に先立って行うことにより、各測定ごとに極めて正
確なシア量を知ることができる。角θの測定は上述の如
くフリンジスキャンによる縞走査測定で行うが、具体的
には例えば以下のようにする。即ち、縞走査干渉測定方
式により、光束Ｌ１の波面の解析的な方程式を最小２乗
法で決定して光束１０の波面との間の傾き角θを決定す
るのである。なおフリンジスキャンの際の平面ミラー２
４の変位量は、レーザー光束の波長程度の微小量である
ので、平面ミラー２４の鏡面と集光点との間の実質的な
位置ずれは生じない。The relative angle between the plane mirrors 24 and 28 is 90 degrees and θ.
If it is fixed at /2 or 90 degrees - θ/2, the shear amount is constant as < f tan θ as described above, but the accuracy required for the above relative angle is on the order of seconds or less. However, in reality, the above-mentioned angle changes due to thermal deformation of the support system, etc., so the above-mentioned relative angle cannot be treated as a constant. However, in the present invention, by performing the shear amount measurement as described above prior to the shape measurement, an extremely accurate shear amount can be determined for each measurement. The angle θ is measured by fringe scanning measurement as described above, and specifically, for example, as follows. That is, by using the fringe scanning interferometry method, an analytical equation for the wavefront of the light beam L1 is determined by the method of least squares, and the inclination angle θ with respect to the wavefront of the light beam 10 is determined. In addition, plane mirror 2 during fringe scanning
Since the amount of displacement 4 is as small as the wavelength of the laser beam, no substantial positional deviation occurs between the mirror surface of the plane mirror 24 and the focal point.
このようにして、シア量がもとまったら、次には被検体
Ｏの表面形状の測定を行う。即ち、第１図でシャッター
Ｓ２を閉じて、シャッター３１を開くことによって、被
検面からの反射光を選択すると、選択光学系により測定
波面が選択されたことになって、エリアセンサー３２に
は測定波面を有する２光束がシア量Ｓだけ互いに横ずれ
して入射し、干渉縞を生成する。そこでフリンジスキャ
ンを行って両光束の位相差ΔＷを測定する。そしてこの
ΔＷに対して、
Ｗ（Ｘ）＝（１／Ｓ） Ｓ Ａ ＷｄＸ （ｄＸはサ
ンプルピッチ）なる演算を行うことにより、Ｘ方向即ち
、第１図で上下方向の測定波面の形状が得られる。After the shear amount is determined in this manner, the surface shape of the object O is next measured. That is, when the reflected light from the test surface is selected by closing the shutter S2 and opening the shutter 31 in FIG. 1, the measurement wavefront is selected by the selection optical system, and the area sensor 32 Two beams of light having measurement wavefronts are incident with each other laterally shifted by a shear amount S, and interference fringes are generated. Therefore, a fringe scan is performed to measure the phase difference ΔW between the two light beams. Then, by performing the calculation W(X) = (1/S) S A WdX (dX is the sample pitch) on this ΔW, the shape of the measured wavefront in the X direction, that is, in the vertical direction in Fig. 1, can be obtained. It will be done.
第１図で図面に直交するＹ方向の形状は被験面を光軸に
直交する面内で９０度回転させるか、あるいは平面ミラ
ー２８の回転軸を入射光軸のまわりに９０度回転させて
上と同様のプロセスを実行すれば得られ、これら各方向
の形状の合成により、波面形状として被験面の形状を知
ることができる。上に説明した実施例ではシア量Ｓを測
定する際に、ア・フォーカルレンズ系を光路外へ退避さ
せる必要があった。第３図の実施例はア・フォーカルレ
ンズ系を光路上から退避させることなくシア量を測定で
きるようになっている。即ち、この実施例では、選択光
学系がビームスプリッタ−１３，１５，１６，１７，ミ
ラー１８．シャッターＳ３．Ｎ４．Ｎ５によって構成さ
れている。また、この実施例では、ビームエキスパンダ
ー１２により、光束径を拡大されて射出する平行光束自
体が基準平面波面を有する。The shape in the Y direction perpendicular to the drawing in Fig. 1 can be obtained by rotating the test surface 90 degrees in a plane perpendicular to the optical axis, or by rotating the rotation axis of the plane mirror 28 by 90 degrees around the incident optical axis. By performing the same process as above, it is possible to obtain the shape of the test surface as a wavefront shape by combining the shapes in each direction. In the embodiment described above, when measuring the shear amount S, it was necessary to retreat the afocal lens system out of the optical path. In the embodiment shown in FIG. 3, the amount of shear can be measured without retracting the afocal lens system from the optical path. That is, in this embodiment, the selection optical system includes beam splitters 13, 15, 16, 17, mirrors 18 . Shutter S3. N4. It is composed of N5. Further, in this embodiment, the beam expander 12 expands the beam diameter and the emitted parallel beam itself has a reference plane wavefront.
シア量を測定するには、シャッターＳ３． Ｎ５を閉じ
、シャッターＳ４を開いてレーザー光源１０を発光させ
ればよい。このとき、基準平面波面を有する光束は、ビ
ームスプリッタ−１３，１５，２２を経て、平面ミラー
２４．２８に入射し平面ミラー２４．２８に反射された
のちは、ビームスプリッタ−２２を介して再度合流し、
ビームスプリッタ−１５，１３，１７を介してエリアセ
ンサー３２に入射する。To measure the shear amount, shutter S3. N5 may be closed and shutter S4 may be opened to cause the laser light source 10 to emit light. At this time, the light beam having the reference plane wavefront passes through the beam splitters 13, 15, and 22, enters the plane mirror 24.28, is reflected by the plane mirror 24.28, and then passes through the beam splitter 22 again. join together,
The beam enters the area sensor 32 via the beam splitters 15, 13, and 17.
従って、このとき光束はア・フォーカルレンズ系を通ら
ないので、波面の平面性を保ったまま、エリアセンサー
３２に到達するので、先に説明した実施例の場合と同様
にしてシア量Ｓを正確に知ることができる。シア量を測
定した後、シャッターＳ４を閉じ、シャッターＳ３．Ｎ
５を開けば測定波面が選択され、このときの測定光路の
構成は第１図の実施例と同様になる。従って、第１図の
実施例と同様にして、測定を実行できる。Therefore, since the light beam does not pass through the afocal lens system at this time, it reaches the area sensor 32 while maintaining the flatness of the wavefront. can be known. After measuring the shear amount, shutter S4 is closed, and shutter S3. N
5, the measurement wavefront is selected, and the configuration of the measurement optical path at this time is the same as in the embodiment shown in FIG. Therefore, measurements can be performed in the same manner as in the embodiment of FIG.
（効 果）
以上、本発明によれば、新規な縞走査シアリング干渉測
定装置を提供できる。この装置は上述の如き構成を有し
、シア量を正確に知りうるので、高精度の測定を実現で
きる。また、平面ミラーの微小回転の調整によりシア量
を変化させ得るので測定波面形状のうねり量に応じてシ
ア量を可変でき、しかもシア量の調整は平面ミラーの回
転のみで行い得るから、極めて容易である。なお、回転
駆動手段は公知の種々のものが利用できるが、回転角が
微小であるので、ピエゾ素子を利用したものが、好適で
ある。(Effects) As described above, according to the present invention, a novel fringe scanning shearing interference measuring device can be provided. This device has the above-mentioned configuration and can accurately determine the amount of shear, making it possible to achieve highly accurate measurement. In addition, the amount of shear can be changed by adjusting the minute rotation of the plane mirror, so the amount of shear can be varied according to the amount of waviness of the measured wavefront shape. Furthermore, the amount of shear can be adjusted simply by rotating the plane mirror, so it is extremely easy to adjust the amount of shear. It is. Note that various known rotary drive means can be used, but since the rotation angle is minute, one using a piezo element is preferable.
第１図は、本発明の１実施例を要部のみしめす図、第２
図は、上記実施例に即して本発明の詳細な説明するため
の図、第３図は、本発明の別実施例を説明するための図
である。
００１．被験体、Ｎ１１．基準面を持つミラー、１８Ａ
、 １８Ｂ、 、 、シャッター、２ＯＡ、 ２０Ｂ、
、 、ア・フォーカルレンズ系を構成するレンズ、２
２．、、 ビームスプリッタ−１２４，２８，、、平
面ミラー２６． 、 、 ピエゾ素子、３０、 、
、回転駆動手段、３２． 、 、エリアセンサー心４
図
形２ 図
０ＢFIG. 1 is a diagram showing only the main parts of one embodiment of the present invention, and FIG.
The figures are diagrams for explaining the present invention in detail in accordance with the above embodiment, and FIG. 3 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention. 001. Subject, N11. Mirror with reference plane, 18A
, 18B, , Shutter, 2OA, 20B,
, , Lenses constituting the a-focal lens system, 2
2. ,, beam splitter 124, 28, , plane mirror 26. , , piezo element, 30, ,
, rotational drive means, 32. , ,Area sensor core 4
Figure 2 Figure 0B
Claims (1)
学系と、 測定波面が選択されたとき測定光束を受光面上へリレー
する１組のア・フォーカルレンズ系と、このア・フォー
カルレンズ系のレンズに挟まれた光路内で、光束を２分
割するビームスプリッターと、 上記２分割された２光束をそれぞれ反射し、上記ビーム
スプリッターを介して再度合流させる２個の平面ミラー
と、 これら２個の平面ミラーの一方を変位させてフリンジス
キャンを行うピエゾ素子と、 他方の平面ミラーを、その鏡面を通り入射光軸に直交す
る軸のまわりに微小回転させる回転駆動手段と、を有し
、 上記ア・フォーカルレンズ系の集光点位置が、上記２個
の平面ミラーの鏡面位置と一致していることを特徴とす
る、縞走査シアリング干渉測定装置。[Scope of Claims] A selection optical system that can arbitrarily select a measurement wavefront and a reference plane wavefront; a set of afocal lens systems that relay a measurement light beam onto a light receiving surface when the measurement wavefront is selected; In the optical path sandwiched between the lenses of this afocal lens system, there is a beam splitter that splits the light beam into two, and two planes that reflect the two split light beams and recombine them via the beam splitter. a piezo element that performs fringe scanning by displacing one of these two plane mirrors; and a rotation drive means that slightly rotates the other plane mirror around an axis that passes through the mirror surface and is perpendicular to the incident optical axis. A fringe-scanning shearing interferometer, characterized in that the focal point position of the a-focal lens system coincides with the mirror surface position of the two plane mirrors.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62051656A JP2527176B2 (en) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | Fringe scanning shearing interferometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62051656A JP2527176B2 (en) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | Fringe scanning shearing interferometer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63218802A true JPS63218802A (en) | 1988-09-12 |
| JP2527176B2 JP2527176B2 (en) | 1996-08-21 |
Family
ID=12892918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62051656A Expired - Lifetime JP2527176B2 (en) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | Fringe scanning shearing interferometer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2527176B2 (en) |
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| JPS60196612A (en) * | 1984-03-19 | 1985-10-05 | Ricoh Co Ltd | Surface shape measuring apparatus |
| JPS60253945A (en) * | 1984-05-31 | 1985-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Shape measuring instrument |
| JPS61272607A (en) * | 1985-05-29 | 1986-12-02 | Kyocera Corp | Shearing interferometer |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP62051656A patent/JP2527176B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60196612A (en) * | 1984-03-19 | 1985-10-05 | Ricoh Co Ltd | Surface shape measuring apparatus |
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| JPS61272607A (en) * | 1985-05-29 | 1986-12-02 | Kyocera Corp | Shearing interferometer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2527176B2 (en) | 1996-08-21 |
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