JPS63190348A - レ−ザダストモニタ装置 - Google Patents
レ−ザダストモニタ装置Info
- Publication number
- JPS63190348A JPS63190348A JP62021723A JP2172387A JPS63190348A JP S63190348 A JPS63190348 A JP S63190348A JP 62021723 A JP62021723 A JP 62021723A JP 2172387 A JP2172387 A JP 2172387A JP S63190348 A JPS63190348 A JP S63190348A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- scattered light
- scanner
- container
- dust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000428 dust Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 title description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はレーザ光を使用して真空チャンバ内のウェハ上
のダストを検出するレーザダストモ二り装置に関する。
のダストを検出するレーザダストモ二り装置に関する。
(従来の技術)
従来この種装置として、例えば第1図示のように、レー
ザaから出力するレーザ光すを、スキャナCを介して、
真空チャンバd内のウェハeに導かせると共に、該ウェ
ハe上のダストにより生ずる散乱光をその上側のフォト
マルチプライヤfで検出するようにした式のものは知ら
れる。
ザaから出力するレーザ光すを、スキャナCを介して、
真空チャンバd内のウェハeに導かせると共に、該ウェ
ハe上のダストにより生ずる散乱光をその上側のフォト
マルチプライヤfで検出するようにした式のものは知ら
れる。
(発明が解決しようとする問題点)
然し乍ら、この場合、該スキャナCは該レーザ光すをX
方向とX方向との2方向にスキャンする2軸走査型であ
るを一般とし、更に該マルチプライヤfは生ずる散乱光
に対しある角度位置にしか受光面をもたない1個である
を一般としたもので、次のような各種の不都合を伴う。
方向とX方向との2方向にスキャンする2軸走査型であ
るを一般とし、更に該マルチプライヤfは生ずる散乱光
に対しある角度位置にしか受光面をもたない1個である
を一般としたもので、次のような各種の不都合を伴う。
即ち、該マルチプライヤfは、検出する散乱光強度が弱
く、対雑音比が小さくなって感度が低くなり勝ちであり
、更に2軸走査により走査位置が2次元的に変化するた
め、バックグラウンドの変動が複雑であり、これはスキ
ャナ部からの迷光が主要因あり、スキャナミラーの影響
で変化すると考えられ、かくてその出力信号を正確に読
取ることが困難であり、更に2軸走査のため、該ウェハ
eが円形の場合、その全面走査が極めて困難である等の
不都合を伴う。
く、対雑音比が小さくなって感度が低くなり勝ちであり
、更に2軸走査により走査位置が2次元的に変化するた
め、バックグラウンドの変動が複雑であり、これはスキ
ャナ部からの迷光が主要因あり、スキャナミラーの影響
で変化すると考えられ、かくてその出力信号を正確に読
取ることが困難であり、更に2軸走査のため、該ウェハ
eが円形の場合、その全面走査が極めて困難である等の
不都合を伴う。
また、光ファイバ等を用いて散乱光を集めてフォトマル
チプライヤfの感度を上げることも試みられたが、これ
もバックグランドの変動については解決することが出来
ず、正確な散乱光の検出が難しい。
チプライヤfの感度を上げることも試みられたが、これ
もバックグランドの変動については解決することが出来
ず、正確な散乱光の検出が難しい。
(問題点を解決するための手段)
本発明はか)る不都合のない装置を得ることをその目的
としたもので、レーザから出力するレーザ光を、スキャ
ナを介して真空チャンバ内のウェハ上に導かせると共に
、該ウェハ上のダストにより生ずる散乱光をその上側の
フォトマルチプライヤで検出するようにしたものにおい
て、該ウェハを回転ステージ上に存してモータその他で
駆動されて回転する型式に構成すると共に、該スキャナ
を該ウェハの半径方向にのみ該レーザ光を走査する一軸
走査型に構成させ、更に該ウェハの直上位置に、前記し
た散乱光を集光して該マルチプライヤに導か拷る略半球
状の容器を備えて成る。
としたもので、レーザから出力するレーザ光を、スキャ
ナを介して真空チャンバ内のウェハ上に導かせると共に
、該ウェハ上のダストにより生ずる散乱光をその上側の
フォトマルチプライヤで検出するようにしたものにおい
て、該ウェハを回転ステージ上に存してモータその他で
駆動されて回転する型式に構成すると共に、該スキャナ
を該ウェハの半径方向にのみ該レーザ光を走査する一軸
走査型に構成させ、更に該ウェハの直上位置に、前記し
た散乱光を集光して該マルチプライヤに導か拷る略半球
状の容器を備えて成る。
(実施例)
本発明の実施例を別紙図面に付説明する。
第2図はその1例を示すもので、(1)は1ie−Ne
レーザ、(2)は該レーザ(1)から出力するレーザ光
を示し、該レーザ光(2)はスキャナ(3)を介して真
空チャンバ(4)内のウェハ(5)上に導かれると共に
、該ウェハ(5)上のダストにより生ずる散乱光を検出
すべく、その上側にフォトマルチプライヤ(6)を備え
る。図面でのは反射レーザ光の出口窓を示す。
レーザ、(2)は該レーザ(1)から出力するレーザ光
を示し、該レーザ光(2)はスキャナ(3)を介して真
空チャンバ(4)内のウェハ(5)上に導かれると共に
、該ウェハ(5)上のダストにより生ずる散乱光を検出
すべく、その上側にフォトマルチプライヤ(6)を備え
る。図面でのは反射レーザ光の出口窓を示す。
以上は従来のものと特に異ならないが、本発明によれば
、該スキャナ(3)を、該ウェハ(5)の半径方向にの
み該レーザ光(2)を走査する1軸走査型に構成すると
共に、該ウェハ(5)を回転ステージ(8)を介してそ
の下側のモータその他の駆動源(9)で駆動されて回転
する型式に構成させ、更に該ウェハ(5)の直上位置に
、前記した散乱光を集光して該マルチプライヤ(6)に
導く略半球状の容器(10を備えるようにした。尚該容
器(IGは該レーザ光(2)の導入を、その反射光の導
出とをさまたげないようにスリット等を備えるものとし
、更に、その内面を鏡面仕上げとするを一般とするが、
例えば第3図示のように、その内周面に光ファイバ0v
の多数本を配設する型式とすることも可能であり更・に
前記した回転ステージ(8)は例えば第3図示のように
磁気浮上型とすることも差支えない。
、該スキャナ(3)を、該ウェハ(5)の半径方向にの
み該レーザ光(2)を走査する1軸走査型に構成すると
共に、該ウェハ(5)を回転ステージ(8)を介してそ
の下側のモータその他の駆動源(9)で駆動されて回転
する型式に構成させ、更に該ウェハ(5)の直上位置に
、前記した散乱光を集光して該マルチプライヤ(6)に
導く略半球状の容器(10を備えるようにした。尚該容
器(IGは該レーザ光(2)の導入を、その反射光の導
出とをさまたげないようにスリット等を備えるものとし
、更に、その内面を鏡面仕上げとするを一般とするが、
例えば第3図示のように、その内周面に光ファイバ0v
の多数本を配設する型式とすることも可能であり更・に
前記した回転ステージ(8)は例えば第3図示のように
磁気浮上型とすることも差支えない。
(作 用)
その作用を説明するに、ウェハ(5)を所定速度で一方
向に回転させると共に、その1回転ごとにレーザ光(2
)を半径方向の内周側から外周側に1回送りすることを
順次に繰返せば、該ウェハ〈5)はその全面が該レーザ
光(2)により走査されるが、この際ダストの存在によ
り生ずる散乱光はその上側の容器aOで捕捉されてフォ
トマルチブライヤ(6)に検出されかくて各データをコ
ンピュータ処理することによりダストの位置、大きさ等
を知ることが出来る。
向に回転させると共に、その1回転ごとにレーザ光(2
)を半径方向の内周側から外周側に1回送りすることを
順次に繰返せば、該ウェハ〈5)はその全面が該レーザ
光(2)により走査されるが、この際ダストの存在によ
り生ずる散乱光はその上側の容器aOで捕捉されてフォ
トマルチブライヤ(6)に検出されかくて各データをコ
ンピュータ処理することによりダストの位置、大きさ等
を知ることが出来る。
尚か)る作動に際し、該容器qOは散乱光を集光する作
用を営むばかりでなく、スキャナ(3)部に生ずる迷光
が真空チャンバ(4)内に導かれるとき、これがそのま
)該マルチプライヤ(6)に導かれることを阻止し、か
くてバックグラウンド自体を低減させ得られ、更には、
S/N比を向上させることが可能であり、これは前記し
た1軸走査によるバックグラウンドの変動の減少と相俟
って全体として感度を著しく向上させ得られる。
用を営むばかりでなく、スキャナ(3)部に生ずる迷光
が真空チャンバ(4)内に導かれるとき、これがそのま
)該マルチプライヤ(6)に導かれることを阻止し、か
くてバックグラウンド自体を低減させ得られ、更には、
S/N比を向上させることが可能であり、これは前記し
た1軸走査によるバックグラウンドの変動の減少と相俟
って全体として感度を著しく向上させ得られる。
(発明の効果)
このように本発明によるときは、スキャナを1軸走査型
とすると共にウェハを回転式とし、更に該ウェハ上に散
乱光を集光してフォトマルチプライヤに導く容器を備え
るもので、前記した従来のものの各種の不都合を無くし
得られて、高感度のものに得ることが出来、その構成は
比較的簡単で廉価に得られる等の効果を有する。
とすると共にウェハを回転式とし、更に該ウェハ上に散
乱光を集光してフォトマルチプライヤに導く容器を備え
るもので、前記した従来のものの各種の不都合を無くし
得られて、高感度のものに得ることが出来、その構成は
比較的簡単で廉価に得られる等の効果を有する。
第1図は従来例の斜面図、第2図は本発明装置の1例の
截断側面線図、第3図はその変形例の截断側面線図であ
る。 (1)・・・レーザ (2)・・・レーザ光(3)
・・・スキャナ (4)・・・真空チャンバ(5)
・・・ウェハ (6)・・・フォトマルチプライヤ
(8)・・・回転ステージ (9)・・・駆動源(IG
・・・集光容器 −7= 図 C) 派 一◇幣 、V
截断側面線図、第3図はその変形例の截断側面線図であ
る。 (1)・・・レーザ (2)・・・レーザ光(3)
・・・スキャナ (4)・・・真空チャンバ(5)
・・・ウェハ (6)・・・フォトマルチプライヤ
(8)・・・回転ステージ (9)・・・駆動源(IG
・・・集光容器 −7= 図 C) 派 一◇幣 、V
Claims (1)
- レーザから出力するレーザ光を、スキャナを介して真空
チャンバ内のウェハ上に導かせると共に、該ウェハ上の
ダストにより生ずる散乱光をその上側のフォトマルチプ
ライヤで検出するようにしたものにおいて、該ウェハを
回転ステージ上に存してモータその他で駆動されて回転
する型式に構成すると共に、該スキャナを該ウェハの半
径方向にのみ該レーザ光を走査する一軸走査型に構成さ
せ、更に該ウェハの直上位置に、前記した散乱光を集光
して該マルチプライヤに導かせる略半球状の容器を備え
て成るレーザダストモニタ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62021723A JPS63190348A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | レ−ザダストモニタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62021723A JPS63190348A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | レ−ザダストモニタ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63190348A true JPS63190348A (ja) | 1988-08-05 |
Family
ID=12063000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62021723A Pending JPS63190348A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | レ−ザダストモニタ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63190348A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010236920A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Jasco Corp | 微粒子測定装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61283852A (ja) * | 1985-06-11 | 1986-12-13 | Toshiba Corp | 表面検査装置 |
JPS6211145A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
-
1987
- 1987-02-03 JP JP62021723A patent/JPS63190348A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61283852A (ja) * | 1985-06-11 | 1986-12-13 | Toshiba Corp | 表面検査装置 |
JPS6211145A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010236920A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Jasco Corp | 微粒子測定装置 |
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