JPS63174952A - 高純度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルの製法 - Google Patents
高純度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルの製法Info
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- JPS63174952A JPS63174952A JP793087A JP793087A JPS63174952A JP S63174952 A JPS63174952 A JP S63174952A JP 793087 A JP793087 A JP 793087A JP 793087 A JP793087 A JP 793087A JP S63174952 A JPS63174952 A JP S63174952A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、高純度の2−(4−ヒドロキシフエノキシ)
プロピオン酸エステルの製法に関する。本発明の方法で
得られる化合物は各種の7二ノキシプロピオン酸系除草
剤の合成中間体として有用である。即ち本発明の方法で
得られる高純度な2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プ
ロピオン酸エステルは例えば、フルアジホップブチル、
キノホップエチル、ジクロホップメチル、トリホップメ
チル及びフェノキサプロップエチルなどの中間体として
有用に使用することが出来るものである。
プロピオン酸エステルの製法に関する。本発明の方法で
得られる化合物は各種の7二ノキシプロピオン酸系除草
剤の合成中間体として有用である。即ち本発明の方法で
得られる高純度な2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プ
ロピオン酸エステルは例えば、フルアジホップブチル、
キノホップエチル、ジクロホップメチル、トリホップメ
チル及びフェノキサプロップエチルなどの中間体として
有用に使用することが出来るものである。
(従来技術およびその問題点)
2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステ
ルの製造法については、多くの公知例が知られている。
ルの製造法については、多くの公知例が知られている。
例えば特開昭54−19925.56−59718.5
8−183666.59−95237.60−9493
5.60−204745.6〇−209548,61−
109753,61−158947などを挙げることが
出来る。しかしながら上記方法はいずれもハイドロキノ
ンと対応するプロピオン酸誘導体との反応により目的物
を得る方法であり、目的のハイドロキノンモノ置換体の
外に不要なビス置換体の副生を伴うという問題点がある
。モノ置換体を選択的に得るための試みも幾つか知られ
ている(例えば特開昭59−231044、アメリカ特
許4368068、公表公報昭57−501178、特
開昭6O−81150)。これらの方法はいずれも形式
的にはハイドロキノンの一方を保護した上でプロピオン
酸誘導体と反応させた後に保護基を除去するという方゛
式を採用している。
8−183666.59−95237.60−9493
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109753,61−158947などを挙げることが
出来る。しかしながら上記方法はいずれもハイドロキノ
ンと対応するプロピオン酸誘導体との反応により目的物
を得る方法であり、目的のハイドロキノンモノ置換体の
外に不要なビス置換体の副生を伴うという問題点がある
。モノ置換体を選択的に得るための試みも幾つか知られ
ている(例えば特開昭59−231044、アメリカ特
許4368068、公表公報昭57−501178、特
開昭6O−81150)。これらの方法はいずれも形式
的にはハイドロキノンの一方を保護した上でプロピオン
酸誘導体と反応させた後に保護基を除去するという方゛
式を採用している。
従って上記方法では保護基の導入及び除去と言った繁雑
な工程を経なければならない。また目的化合物が光学活
性体の場合にあっては、いずれの方法においても光学純
度は必ずしも満足いくものではなかった。光学的に純粋
な化合物を得ようとすれば、例えば特開昭61−831
44の如くジアステレオマー法による光学分割操作を何
度か繰り返す必要があった。以上の様に従来技術におい
ては、工業的有利に化学的及び光学的に高純度な2−(
4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルを得
ることは困難であった。
な工程を経なければならない。また目的化合物が光学活
性体の場合にあっては、いずれの方法においても光学純
度は必ずしも満足いくものではなかった。光学的に純粋
な化合物を得ようとすれば、例えば特開昭61−831
44の如くジアステレオマー法による光学分割操作を何
度か繰り返す必要があった。以上の様に従来技術におい
ては、工業的有利に化学的及び光学的に高純度な2−(
4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルを得
ることは困難であった。
(問題点を解決するための手段)
本発明の目的は、除草剤中間体として有望な高純度2−
(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルを
上記の種々の問題点を改善し効率的に得る方法を提供す
ることにある。即ち本発明は、1,4−ビス(1−カル
ボキシエトキシ)ベンゼン(以下ビス置換体という)を
含む2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸を
再結晶し、次いでエステル化することを特徴とする高純
度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エス
テルの製法に関するものである。本発明の方法で用いら
れるビス置換体を含む2−(4−ヒドロキシフエノキシ
)プロピオン酸は、従来技術の公知例で示した如くハイ
ドロキノンとプロピオン酸誘導体との反応生成物から導
くことができる。更に詳しくは本発明の対象とする2−
(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸は、ビス置
換体が30%以内の範囲で含まれ、又光学活性体にあっ
ては、その光学純度が95%ee(エナンチオエキセス
)以下である化合物である。本発明で使用できる溶媒と
してはハロゲン系溶媒、エステル系溶媒芳香族溶媒、ア
ルコール系溶媒、カルボン系溶媒、カルボン酸系溶媒及
び水など様々な溶媒を利用することができる。ハロゲン
系溶媒としてはメチレンクロリド、クロロホルム、1,
2−ジクロルエタン、1,1゜2.2.−テトラクロル
エタンが例示でき、エステル系溶媒としては酢酸エチル
、酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等が例
示できる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エ
タノール、n−プロパツール、イソプロパツール、n−
7’タノール、イ・へブタノール、t−ブタノール等が
例示できる。また炭化水素系溶媒としてはベンゼン、ト
ルエン、キシレン等が例示でき、カルボン酸系溶媒とし
てはギ酸、酢酸、プロピオン酸等が例示できる。しかし
ながら拳法で用いられる再結晶溶媒の種類及び量は特に
限定するものでなく、又2種類以上の混合溶媒も用いら
れる。
(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルを
上記の種々の問題点を改善し効率的に得る方法を提供す
ることにある。即ち本発明は、1,4−ビス(1−カル
ボキシエトキシ)ベンゼン(以下ビス置換体という)を
含む2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸を
再結晶し、次いでエステル化することを特徴とする高純
度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エス
テルの製法に関するものである。本発明の方法で用いら
れるビス置換体を含む2−(4−ヒドロキシフエノキシ
)プロピオン酸は、従来技術の公知例で示した如くハイ
ドロキノンとプロピオン酸誘導体との反応生成物から導
くことができる。更に詳しくは本発明の対象とする2−
(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸は、ビス置
換体が30%以内の範囲で含まれ、又光学活性体にあっ
ては、その光学純度が95%ee(エナンチオエキセス
)以下である化合物である。本発明で使用できる溶媒と
してはハロゲン系溶媒、エステル系溶媒芳香族溶媒、ア
ルコール系溶媒、カルボン系溶媒、カルボン酸系溶媒及
び水など様々な溶媒を利用することができる。ハロゲン
系溶媒としてはメチレンクロリド、クロロホルム、1,
2−ジクロルエタン、1,1゜2.2.−テトラクロル
エタンが例示でき、エステル系溶媒としては酢酸エチル
、酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等が例
示できる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エ
タノール、n−プロパツール、イソプロパツール、n−
7’タノール、イ・へブタノール、t−ブタノール等が
例示できる。また炭化水素系溶媒としてはベンゼン、ト
ルエン、キシレン等が例示でき、カルボン酸系溶媒とし
てはギ酸、酢酸、プロピオン酸等が例示できる。しかし
ながら拳法で用いられる再結晶溶媒の種類及び量は特に
限定するものでなく、又2種類以上の混合溶媒も用いら
れる。
本発明の方法を工程を追って説明すると、上記のビス置
換体を含む2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオ
ン酸を上記に例示した溶媒に室温下で加え徐々に加熱昇
温する。加熱温度は用いる溶媒の沸点や溶解度或いは量
により異&るが概ね50’Cから、150°Cの範囲が
好適である。この際必要であれば脱色のための活性炭を
適当量加えても良く、上記温度を保ち熱時ろ過により除
去できる。この様にして得られた澄明な溶液を約30分
から数時間かけて0°Cから室温まで徐冷し、析出した
結晶をろ過分離すことにより高純度の2−(4−ヒドロ
キシフエノキシ)プロピオン酸を得ることができる。こ
の様にして得られた高純度2−(4−ヒドロキシフエノ
キシ)プロピオン酸は常法に従ってエステル化され対応
するエステルに導く事ができる。
換体を含む2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオ
ン酸を上記に例示した溶媒に室温下で加え徐々に加熱昇
温する。加熱温度は用いる溶媒の沸点や溶解度或いは量
により異&るが概ね50’Cから、150°Cの範囲が
好適である。この際必要であれば脱色のための活性炭を
適当量加えても良く、上記温度を保ち熱時ろ過により除
去できる。この様にして得られた澄明な溶液を約30分
から数時間かけて0°Cから室温まで徐冷し、析出した
結晶をろ過分離すことにより高純度の2−(4−ヒドロ
キシフエノキシ)プロピオン酸を得ることができる。こ
の様にして得られた高純度2−(4−ヒドロキシフエノ
キシ)プロピオン酸は常法に従ってエステル化され対応
するエステルに導く事ができる。
(発明の効果)
光学活性な2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピキ
淋ることが明らかになった。プロピオン酸系除草剤はL
体に比べ0体の除草活性が大きいことが知られており、
拳法を用いれば0体の2−(4−ヒドロキシフエノキシ
)プロピAエステルを高い光学純度で得ることも出来る
。
淋ることが明らかになった。プロピオン酸系除草剤はL
体に比べ0体の除草活性が大きいことが知られており、
拳法を用いれば0体の2−(4−ヒドロキシフエノキシ
)プロピAエステルを高い光学純度で得ることも出来る
。
実施例1
3%(光学純度91.0%ee)、ビス置換体10.7
%、その他有機物1.1%、灰分3.2%、水分1.7
%月10.0gに水10ミリリットルを加え、80°C
まで加熱し溶解した。室温下で空冷し約1時間放置した
。析出した結晶をろ過分離し乾燥したところ、7.36
gの2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピ?% (
[Q] ’Q” +58.7(C=1.00、アセトン
))が得られた。更に常法に従いメチルエステル化する
ことにより2−(4−ヒドロキシフエノキシフロヒオン
酸メチルカフ、77g([α]v+43.3(C=1.
60、クロロホルム))得られた。このものの分析値を
以下に示す。
%、その他有機物1.1%、灰分3.2%、水分1.7
%月10.0gに水10ミリリットルを加え、80°C
まで加熱し溶解した。室温下で空冷し約1時間放置した
。析出した結晶をろ過分離し乾燥したところ、7.36
gの2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピ?% (
[Q] ’Q” +58.7(C=1.00、アセトン
))が得られた。更に常法に従いメチルエステル化する
ことにより2−(4−ヒドロキシフエノキシフロヒオン
酸メチルカフ、77g([α]v+43.3(C=1.
60、クロロホルム))得られた。このものの分析値を
以下に示す。
2−(4−ヒドロキシフエノキシ) 98.3%−プ
ロピオン酸メチル (光学純度98.9%ee)
ビス置換体 1.3%その他有機物
0.4% 組成比はガスクロマトグラフィにより決定した。
ロピオン酸メチル (光学純度98.9%ee)
ビス置換体 1.3%その他有機物
0.4% 組成比はガスクロマトグラフィにより決定した。
又光学純度は光学分割カラムを用い決定した。
実施例2〜6
実施例1において2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プ
ロピ八とビス置換体の組成比が96.9 : 3.1で
あり、溶媒及び溶媒の批をがえた他は実施例1と同様の
方法を行ったその結果を表1に示す。
ロピ八とビス置換体の組成比が96.9 : 3.1で
あり、溶媒及び溶媒の批をがえた他は実施例1と同様の
方法を行ったその結果を表1に示す。
Claims (3)
- (1)1,4−ビス(1−カルボキシエトキシ)ベンゼ
ンを含む2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン
酸を再結晶し、次いでエステル化する事を特徴とする高
純度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エ
ステルの製法。 - (2)再結晶溶媒が水である事を特徴とする特許請求の
範囲第一項記載の方法。 - (3)2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸
エステルが光学活性体である事を特徴とする特許請求の
範囲第一項及び第二項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP793087A JPS63174952A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 高純度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP793087A JPS63174952A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 高純度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63174952A true JPS63174952A (ja) | 1988-07-19 |
Family
ID=11679241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP793087A Pending JPS63174952A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 高純度2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸エステルの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63174952A (ja) |
-
1987
- 1987-01-16 JP JP793087A patent/JPS63174952A/ja active Pending
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