JPS63158861A - 高熱伝導性回路基板の製造方法 - Google Patents
高熱伝導性回路基板の製造方法Info
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- JPS63158861A JPS63158861A JP30518486A JP30518486A JPS63158861A JP S63158861 A JPS63158861 A JP S63158861A JP 30518486 A JP30518486 A JP 30518486A JP 30518486 A JP30518486 A JP 30518486A JP S63158861 A JPS63158861 A JP S63158861A
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Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本艷明は実質的に窒化アルミニウムセラミックからなる
基板(以下、AIN基板とhう。)を用いfc、高熱伝
導性回路基板の製造方法に関する。
基板(以下、AIN基板とhう。)を用いfc、高熱伝
導性回路基板の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来から回路基板としC用iられている材料としで、
All0.等のセラミック基板、樹脂基板等のq!rf
fflの材料がある。なかでもAj、O,セラミック基
板は、機械的強度、電気的絶縁性に優れており、また、
グリーンシート化が容易である友め多1配線等の高@度
配線が可能であり、広く用いられている。
All0.等のセラミック基板、樹脂基板等のq!rf
fflの材料がある。なかでもAj、O,セラミック基
板は、機械的強度、電気的絶縁性に優れており、また、
グリーンシート化が容易である友め多1配線等の高@度
配線が可能であり、広く用いられている。
一方、近年の電子機器の小形化等の進展に伴い。
回@5板上の電気素子(IC等)実装密度が高くなって
きでいる。さらに、パワー半導体等の搭載も考慮すると
回路基板上での発格欲が大きくなる傾向があり、放熱を
効果的に行うことが要求される。
きでいる。さらに、パワー半導体等の搭載も考慮すると
回路基板上での発格欲が大きくなる傾向があり、放熱を
効果的に行うことが要求される。
しかしながらAj、0.セラミック基板の第六導率は2
QW/m−に程度と低く1発熱量が多い場合に基板側か
らの放熱が余り期待できない。従って、高密度1臥パワ
ー半4本塔双モジュール等の際の基板側からの放熱を考
はすると1機械的強度、電気的絶縁性等の回路基板とし
て要求される特性を備え、かつ、熱伝導性の良好な回路
基板の開発が要求されでいる。
QW/m−に程度と低く1発熱量が多い場合に基板側か
らの放熱が余り期待できない。従って、高密度1臥パワ
ー半4本塔双モジュール等の際の基板側からの放熱を考
はすると1機械的強度、電気的絶縁性等の回路基板とし
て要求される特性を備え、かつ、熱伝導性の良好な回路
基板の開発が要求されでいる。
近年のファインセラミックス技術の進展に伴い、s r
Ce A IN 等の1城的強度に優れ化セラミッ
ク材料が開発されでいる。これらの材料は熱伝導性も浸
れ、講造材としてのもδ用が研究されCいる。
Ce A IN 等の1城的強度に優れ化セラミッ
ク材料が開発されでいる。これらの材料は熱伝導性も浸
れ、講造材としてのもδ用が研究されCいる。
まm、8iCoa好な熱伝導性?利用しで、これを回路
基板としC用1ハようとする動きもちるが%d戒心率高
<、’s縁耐圧が低いため、高周波、高電圧が印加され
る素子の搭載を考1すると間1がある。
基板としC用1ハようとする動きもちるが%d戒心率高
<、’s縁耐圧が低いため、高周波、高電圧が印加され
る素子の搭載を考1すると間1がある。
AIN基板は、成気絶縁性、鴫伝導性ともに良好であり
1回路基板への応用が有望視される。しかしながら、A
INは例えば金属アルミニウムm融用のルツボとして用
いられでいるように、金属に灯する濡れ性が悪く、導体
層の接合は困難とされCい友、しかし現在に至っては特
開昭60−178687号によるもの、白金扮の添加、
及び窒化アルミニウム粉末全添加する等、導体ペースト
の開発がさかん擾こ行なわれ、導体層の接合可能となっ
た。
1回路基板への応用が有望視される。しかしながら、A
INは例えば金属アルミニウムm融用のルツボとして用
いられでいるように、金属に灯する濡れ性が悪く、導体
層の接合は困難とされCい友、しかし現在に至っては特
開昭60−178687号によるもの、白金扮の添加、
及び窒化アルミニウム粉末全添加する等、導体ペースト
の開発がさかん擾こ行なわれ、導体層の接合可能となっ
た。
次に、上記方法により得られた導体Ilを用い、−役に
アルミナ用として用いられでいる抵抗ペーストを用い、
抵抗層の形成を実施したが、フクレ。
アルミナ用として用いられでいる抵抗ペーストを用い、
抵抗層の形成を実施したが、フクレ。
クラックの発生は見られなかつ九ものの、信頼性試験に
おいて、AIN基板と抵抗体との境界面でクラックの発
生があり、実用上大きな問題となった。
おいて、AIN基板と抵抗体との境界面でクラックの発
生があり、実用上大きな問題となった。
(発明が解決しようとする間4点)
このように、AIN基板に厚膜導体及び上層抵抗体の形
成には、厚膜導体及び抵抗体とAJN基板の熱膨張係数
の差により、信頼性試験においてクラック発生という問
題点を生じ九〇 本発明の目的は、導体層iと抵抗体層のオーバーラツプ
する部分にあらかじめAIIN、fi、板上tこアンダ
ーコート1it−もうけた事により、抵抗形成OT能な
回路基板を提供する事憂こある。
成には、厚膜導体及び抵抗体とAJN基板の熱膨張係数
の差により、信頼性試験においてクラック発生という問
題点を生じ九〇 本発明の目的は、導体層iと抵抗体層のオーバーラツプ
する部分にあらかじめAIIN、fi、板上tこアンダ
ーコート1it−もうけた事により、抵抗形成OT能な
回路基板を提供する事憂こある。
(問題点を解決する九めの手段)
本発明は、窒化アルミニウム基板上に導体と抵抗体のオ
ーバラップする部分に、アンダーコート層ともうけた事
を特徴とするものである。アンダーコート材としC%A
/N基板の熱膨張係数45XIO’/”Cに対し、45
〜5 X 10 @/’Cの熱膨張係数を有するアンダ
ーコート−を用いる事を特徴とするものである。
ーバラップする部分に、アンダーコート層ともうけた事
を特徴とするものである。アンダーコート材としC%A
/N基板の熱膨張係数45XIO’/”Cに対し、45
〜5 X 10 @/’Cの熱膨張係数を有するアンダ
ーコート−を用いる事を特徴とするものである。
以下においで本発明全史に詳しく説明する。
本発明者等は、従来アルミナ基板用としで用いられてい
るAu、A31−Pd、Cu等から成る4本ペースト及
び同様にアルミナ用に開発され友抵抗百ペースト?用い
、多層構造の実験を行つ九が、信頼注試1倹におい′C
1マイクロクラックを発生し、その沼生原因につい′C
種々研究した結果、厚膜構造?形成する除虫じるAIN
基板の熱膨張係数と。
るAu、A31−Pd、Cu等から成る4本ペースト及
び同様にアルミナ用に開発され友抵抗百ペースト?用い
、多層構造の実験を行つ九が、信頼注試1倹におい′C
1マイクロクラックを発生し、その沼生原因につい′C
種々研究した結果、厚膜構造?形成する除虫じるAIN
基板の熱膨張係数と。
1体層と抵抗1及びオーバーコート部のオーバーラツプ
する部分の熱膨張係数はAIN基板と導体層−の熱1彫
張係数の差の1倍となる為、熱膨張係数の差が大きく違
ってくる事や、導体ペーストのAIN基板との密着性が
熱膨張係数の差等から弱くなる事、及びAIIN基板の
熱伝導が、 AJ、0.基板と異なる一事により、クラ
ックが発生する事を究明し九。
する部分の熱膨張係数はAIN基板と導体層−の熱1彫
張係数の差の1倍となる為、熱膨張係数の差が大きく違
ってくる事や、導体ペーストのAIN基板との密着性が
熱膨張係数の差等から弱くなる事、及びAIIN基板の
熱伝導が、 AJ、0.基板と異なる一事により、クラ
ックが発生する事を究明し九。
以上の事により1本発明者等は、熱膨張係数。
伝導度及びAjNi[との密着性等を考慮しt厚膜導体
ペーストの開発を試みたが、熱膨張係数をAJN基板の
4.5XIO″″@/℃に近づける事は出来るものの、
シート抵抗の増加がいちじるしく、又密着性も弱くなる
等高密度実装用としての使用は難しいという問題点が生
じ九。
ペーストの開発を試みたが、熱膨張係数をAJN基板の
4.5XIO″″@/℃に近づける事は出来るものの、
シート抵抗の増加がいちじるしく、又密着性も弱くなる
等高密度実装用としての使用は難しいという問題点が生
じ九。
以上の事より、熱醤張係数の4.5X10″″’/’C
!にイイし、しかもAjN基板との密層性の良い絶縁ペ
ーストを用い、導体と抵抗体のオーバラップする部分に
、アンダーコート舖ヲ形成する事により、高信頼性を有
する高熱伝導性回路基板の製造方法を見出した。
!にイイし、しかもAjN基板との密層性の良い絶縁ペ
ーストを用い、導体と抵抗体のオーバラップする部分に
、アンダーコート舖ヲ形成する事により、高信頼性を有
する高熱伝導性回路基板の製造方法を見出した。
さC1この絶縁層であるが、厚膜多層構造を考慮しt場
&、工桿の作業性からも考え、5μm厚位でもクラック
の発生を2さえる事を確認し之。
&、工桿の作業性からも考え、5μm厚位でもクラック
の発生を2さえる事を確認し之。
(作用)
クラック発生をおさえたAjN厚膜抵抗形成基板の製造
が可能となった。
が可能となった。
<*施例)
以下本発明の実施例を第1図を参照しで眸細に説明する
。Y、O,を3wt多含有するAJN基板を大気中12
50℃、1htの条件で酸化石Flを行な・い、得られ
flニーAIN基板+1) Iこ熱膨張係数5×106
/℃を有する絶縁体ペーストを325メツシユパターン
で印刷し、常温にlQmln放置後120℃、IQml
nの条件で乾燥し、続いて850℃+tOminの条件
で焼成し得られtアンダーコー)+1+2)、導体層と
して、Pt、St 、Pb、Cu、At等を含有するA
g−Pd01から成る抵抗ペースtyc−上記条件と同
様のプロセスで形成しで得られ友抵抗体層114) 、
又オーバーコートとしr P b O−8I O,−B
、0.系から成るガラスペース)1用い、上記同様常置
放置及び乾燥後700℃−IQminのグロファイルに
より得られ九オーバーコート+5)、以上により得られ
九基板倉用い、150℃m30m1n放置及び−65℃
m 30 m i n放置の冷熱サイクル試験t−実施
し九結果、マイクロクラック発生が無く、又抵抗質比率
も0.1%とAj、0.基板上tこ形成しt厚膜抵抗と
同程度で、しかも基板材料としてAlN1に使つでいる
事から、抵抗体からの放熱性の良い回路基板を得る事が
出来九。
。Y、O,を3wt多含有するAJN基板を大気中12
50℃、1htの条件で酸化石Flを行な・い、得られ
flニーAIN基板+1) Iこ熱膨張係数5×106
/℃を有する絶縁体ペーストを325メツシユパターン
で印刷し、常温にlQmln放置後120℃、IQml
nの条件で乾燥し、続いて850℃+tOminの条件
で焼成し得られtアンダーコー)+1+2)、導体層と
して、Pt、St 、Pb、Cu、At等を含有するA
g−Pd01から成る抵抗ペースtyc−上記条件と同
様のプロセスで形成しで得られ友抵抗体層114) 、
又オーバーコートとしr P b O−8I O,−B
、0.系から成るガラスペース)1用い、上記同様常置
放置及び乾燥後700℃−IQminのグロファイルに
より得られ九オーバーコート+5)、以上により得られ
九基板倉用い、150℃m30m1n放置及び−65℃
m 30 m i n放置の冷熱サイクル試験t−実施
し九結果、マイクロクラック発生が無く、又抵抗質比率
も0.1%とAj、0.基板上tこ形成しt厚膜抵抗と
同程度で、しかも基板材料としてAlN1に使つでいる
事から、抵抗体からの放熱性の良い回路基板を得る事が
出来九。
又1本発明の実施例では、アンダーニート材として厚膜
工穆をのべ九が、薄膜によるアンダーコート層ヲ用いる
事により厚膜によるものと同様の事が出来る。
工穆をのべ九が、薄膜によるアンダーコート層ヲ用いる
事により厚膜によるものと同様の事が出来る。
以上詳述しt如く本発明によれば、AIN基板上に、厚
膜多113造の回路倉形成することができ。
膜多113造の回路倉形成することができ。
AjNセラミックの1気的絶縁性、高熱伝導性?生かし
た回路基板倉得ることができる。
た回路基板倉得ることができる。
この回路基板は比較的発装置の多い、高ff1度実装用
、パワー手導本塔載用としC好適である。
、パワー手導本塔載用としC好適である。
#、1図は本発明の夷M列を示す厚膜多1配線基板の部
分断面図である。 l・・・基板、2・・・矛アンダーコート@%3・・・
導体lit。 4・・・抵抗体層、5・・・オーバーコート層。 代理人 沖理士 則 近 奢 借 間 竹 花 喜久男第 1 図
分断面図である。 l・・・基板、2・・・矛アンダーコート@%3・・・
導体lit。 4・・・抵抗体層、5・・・オーバーコート層。 代理人 沖理士 則 近 奢 借 間 竹 花 喜久男第 1 図
Claims (2)
- (1)窒化アルミニウム基板上に少なくとも導体層と抵
抗体層とを形成する厚膜形成工程においで、導体層と抵
抗体層とのオーバラップする部分にあらかじめ基体との
熱膨張係数の差が、0.5×10^−^6/℃以内であ
る絶縁層を用いた事を特徴とする高熱伝導性回路基板の
製造方法。 - (2)基体である窒化アルミニウムと絶縁層との密着性
の良好な絶縁ペーストを用いた事を特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の高熱伝導性回路基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30518486A JPS63158861A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 高熱伝導性回路基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30518486A JPS63158861A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 高熱伝導性回路基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63158861A true JPS63158861A (ja) | 1988-07-01 |
Family
ID=17942064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30518486A Pending JPS63158861A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 高熱伝導性回路基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63158861A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009513447A (ja) * | 2005-10-27 | 2009-04-02 | カーボナイト コーポレーション | 液体容器用の分配用栓 |
-
1986
- 1986-12-23 JP JP30518486A patent/JPS63158861A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009513447A (ja) * | 2005-10-27 | 2009-04-02 | カーボナイト コーポレーション | 液体容器用の分配用栓 |
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