JPS63153743A

JPS63153743A - 光情報記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPS63153743A
Application number: JP62167842A
Authority: JP
Inventors: Tamotsu Iida; 保飯田; Atsuki Hirose; 広瀬　篤樹
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Ltd
Priority date: 1986-07-10
Filing date: 1987-07-07
Publication date: 1988-06-27
Also published as: US4896313A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、放射線ビームを照射することによって情報の
記録再生を行う光情報記録媒体と、この情報記録媒体の
製造方法とに関する。

〔従来の技術〕

例えば追記型光ディスクや書き換え型光ディスクなどの
光情報記録媒体は、ガラスや硬質プラスチック等によっ
て形成された基板の片面に記録信号（例えば、情報信号
やアドレス信号）をピット（例えば、くぼみ）の形で記
録したものであって、このピットの配列を光学的に検出
することによって記録された情報信号を再生するように
なっている。

即ち、光情報記録媒体の記録面には、第１１図に示すよ
うに、記録信号（ａ）をリミッタにかけて得られるリミ
ッタ波形（ｂ）の立上りの位相に対応する前端と立下り
に位相に対応する後端とを有するピット（Ｃ）が連続し
て形成されており、このピット列に沿って再往用放射線
ビームを照射することによって、ピットがある部分とな
い部分の反射光の強さの差を利用してピットの前端と後
端を検出し、この信号からリミッタ波形を得て記録信号
を読み出すようになっている。この過程をより詳細に説
明すると、ピットがない部分においては、第１２図（ａ
）に示すように、再生用放射線ビーム４０は光情報記録
ディスクの背面に形成さ九た反射膜（図示せず）にて全
反射され、全光束が対物レンズ４１の開口内に戻される
。また、ピットがある部分においては、第１２図（ｂ）
に示すように、再生用放射線ビーム４０はピット４２に
て回折されて反射角度の大きい回折光束４３を生じ、こ
れらの大部分は対物レンズ４１の開口外に外れて。

結果的に当該対物レンズ４１に戻ってくる光束の光量が
減少する。更に、上記対物レンズ４１の開口内に戻って
きた光束にピット４２の干渉効果による光量減少が加算
される。このような光量変化をホトダイオードなどの検
出器にて検出することによって、ピット４２の有無及そ
の長さの変化を検出して光情報記録媒体に記録された情
報を読み出すことができる。

尚、ピットがある部分の反射光量はピットのサイズに関
係し、詳細な計算は省略するが、基板の屈折率をｎｌ、
再生用放射線ビームの波長をλとした場合、ピットの深
さがｍλ／４ｎｚ（但し。

ｍは整数）で、ピット長が再生用放射線スポットの直径
よりも長く、かつピット幅が再生用放射線スポットの直
径の約１／３のときにピットとランド部（ピット形成部
以外の部分）との反射光量差が最大になる。よって、Ｃ
Ｎ比が最も良好な再生信号を得ることができる。

ところで、かかる光情報記録媒体は、該光情報記録媒体
に形成されるべきピットと略同−の凹凸が形成された原
盤から転写技術によって複製される。ｒｆＫ盤に上記ピ
ットをカッティングする手段としては、表面にホトレジ
ストが均一の厚さに塗布された原盤を駆動し、該原盤と
対向に配置されたカッティングヘッドにて前記ホトレジ
ストに所要の記録信号によって変調された放射線ビーム
を照射し、当該放射線ビームの照射パターンに対応した
形状のピットを露光する方法が知られている。

放射線スポット内の放射線の強度分布が均等と仮定した
場合、ホトレジストの露光量は、カッティング用放射線
ビームの強度と照射時間との積に比例する。従って、一
定強度のカッティング用放射線ビームを上記ホトレジス
ト層に一定の線速度でトレースしたとすると、第１３図
に示すように、放射線スポット４３の照射始端Ａでは照
射時間が瞬間であるためにホトレジストの露光量が小さ
く、当該Ａ点より放射線スポット４３の移動側では放射
線スポット４３の移動距離Ｕに比例して照射時間が長く
なるためにホトレジストの露光量が比例的に大きくなる
。そして、上記Ａ点より放射線スポット４３のスポット
径ｄだけ離隔した点Ｂ以降は放射線ビームの照射時間が
、放射線スポット４３の前縁が照射されてから当該放射
線スポット４３の＠縁か通過するまでの時間になるため
ホトレジストの霧光量も一定になる。放射線スポット４
３の照射終端側では逆に、照射終端りから放射線スポッ
ト４３のスポット径ｄだけ離隔した点Ｃの露光量が最も
大きく、この０点から放射線スポット４：３のスポット
径ｄの領域では、照射終端りからの距離に比例して照射
時間が短か（なるため、ホトレジストの露光量が比例的
に減少する。

実際には放射線スポット４３内の強度分布は均一でなく
、中央部が強く周辺部に至るに従って弱くなるガウス分
布になっているため、放射線スポット４３の照射始端Ａ
及び照射終端りにおいては一層ホトレジストの露光量が
小さくなる。

ホトレジストにカッティングされるピットの大きさ及び
深さは、ホトレジストに照射された放射線ビームの露光
量に略比例するため、上記のように、照射始端と照射終
端における露光量が小さく、その中間領域での露光量が
大きくすると、現像後ホトレジストに形成されるピット
の断面形状は、第１４図に示すように、ピット４４の側
面４４ｃがシャープに形成される（θ」２６０〜７０度
）のに対し、第１５図に示すように、ピット４４の前端
部４４ａと後端部４４ｂがだれた形状（０−２４５〜５
３度）に形成される。よって、このピット４４の平面形
状は、第１６図に示すように。

ピット４４の中間部が最も幅広で、前端部４４ａと後端
部４４ｂが幅狭になり、また、ピット・４４の前端部４
４ａ及び後端部４４））がだれた形状となった分だけ、
ホトレジストの表面から所定の深さを有するピット４４
の底面４５の長さが開口部に比べて短かくなる（Ａ＝０
．０９〜０．１１μｍ＞。

さらに、光情報記録媒体が追記型光ディスクや書き換え
型光ディスクなどのディスク状光情報記　、。

録媒体であって、角速度一定で情報の記録、再生を行う
ものである場合には、原盤を定角速度にて回転駆動しつ
つカッティングヘッドを原盤の内周から外周に順次移送
してホトレジストの露光を行うが、カッティング部の半
径領域にかかわらず一定強度の放射線ビームを照射する
と、外周に至るに従って原盤の周速が速くなるため、ホ
トレジストの露光量が比例的に低下し、形成されるピッ
トの幅が幅狭化するという問題を生じる。

従来はかかる不具合を防止するため、第１７図に示すよ
うに、基板の回転中心から放射線スポットの照射位置ま
での距離に比例して放射線ビームの強度を順次上昇する
といったカッティング方法が採られている。これによっ
て、ピット形成部の半径領域にかかわらず、はぼ一定幅
のピットが形成できるようになっている。

〔発明が解決しようとする問題点」叙上のように、ピット形成部におけるピット部とランド
部からの再生用放射線ビームの反射光量差、即ち再生信
号のＣＮ比は、ピットの形状（深さ及び幅）が特定の値
に形成されている場合に最大となる。従って、第１５図
に示したように、ピットの深さが再生用放射線ビームの
走査方向に関して徐々に深くなるように形成された場合
、第１８図に示すように、これから読み出される信号の
波形４５が理想的なパルス波形４６に対して立上りエツ
ジ及び立下りエツジがなまった形になる。このため、読
み出し信号のジッタが大きくなるといった問題を生じる
。

特に、第１９図に示すように、ピット長が再生用放射線
スポット径よりも短かいピットについては、ピット４４
が再生用放射線スポット４３に占める面積が、再生用放
射線スポット径よりも長いピットが再生用放射線スポッ
トに占める面積に比べて小さくなり、再生出力信号レベ
ルが低下するばかりでなく、最も再生出力信号レベルの
高い底面４４ｃの面積が微小化するため、安定した情報
の読み出しが困難になるという問題を生じる。

尚、強度の高いカッティング用放射線ビームを用いてホ
トレジストを露光すれば、ピット４４の前端部４４ａ及
び後端部４４ｂにおける形状をシャープに形成すること
ができ、ピットの前端部４４ａ及び後端部４４ｂにおけ
る読み出し信号の立上す及び立下りがなまるといった問
題を解消することができる。しかしながら、この高強度
のカッチ、ｒング用放射線ビームを照射始端Ａから照射
終端りまで連続的に照射すると、ピットの中間領域にお
ける幅が再生用放射線スポット径に対する最適幅よりも
大きくなってＣＮ比の低下をきたし、また、ピットの小
型化、記録密度の向上という技術的課題にも反すること
になる。

本発明の目的は、前記した従来技術の諸問題を解決し、
再生特性が良好でかつ記録密度の高い光情報記録媒体を
提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、かかる目的を達成するため、基板の片面に記
録信号に対応した配列で形成されるピットの前面と基板
のピット形成面とのなす角度、及びピットの後面と基板
のピット形成面とのなす角度が、ピットの放射線ビーム
走査方向の中央部における側面と基板のピット形成面と
のなす角度より大きい角度になるようにしたことを特徴
とするものである。

また、Ｓ面にホトレジスト層が形成された原盤に記録信
号によって変調されたレーザビームを照射することによ
って当該記録信号に対応した配列のピットを露光する際
、上記記録信号の立上りエツジ及び立下りエツジに対応
して高強度のレーザビームを照射し、上記立上りエツジ
及び立下リエツシの中１１１１１では上記立上りエツジ
及び立下りエツジに対応して照射したレーザビームより
も低強度のレーザビームを照射するようにしたことを製
造上の特徴とするものである。

し作用〕ピットの形状を叙上のように形成すると、当該ピットか
ら読み出される再生信号のピットの立下りと立上りのな
まりの程度が小さくなり、ジッダが低減されて再生特性
の向上を図ることができる。

また、ピット長が再生用レーザスポットよりも短かいピ
ットからもその長さに比例した情報を読み出すことが可
能になるので、記録密度の向上が図られる。

〔実施例〕

第１図乃至第５図は本発明の第１実施例図であって、■
は基板、２は記録信号に対応して配列されたピット列、
３は上記ピット列２を構成する各ピットを示している。

基板１は、例えばガラスやマイカなどのセラミックス、
　ＰＣ（ポリカーボネート）、ｒ’ＭＭＡ（ポリメチル
メタクリレート）、ポリメチルペンテン、エポキシなど
のプラスチックス、あるいはアルミニウム合金などの金
属等によって形成される。これら基板１へのピット列２
の転写手段としては、基板材料に適応した適宜の手段が
適用される。例えば、基板ｌがセラミックス製や金属製
である場合には、基板１に転写すべき所望の信号パター
ンの反転パターンが形成されたスタンパと呼称される金
型と基板との間で光硬化性樹脂を展伸し、信号パターン
が転写された光硬化性樹脂を基板ｌ側に付着する所謂２
Ｐ法が適す。また、基板ｌがＰＣやＰＭＭＡなどの熱可
塑性のプラスチックスにて形成される場合には、キャビ
ティの片面が上記スタンパにて形成された金型内に溶融
プラスチックスを高圧で射出する射出成形法が適す。

さらに、基板１がエポキシなどの熱硬化性のプラスチッ
クスにて形成される場合には、キャビティの片面が上記
スタンパにて形成された金型内に液状プラスチックスを
静注する注型法が適する。

ピット列２を構成する各ピット３は、第１図及び第２図
に示すように、開口面（ピット３を構成する各面のうち
、基板ｌと反対側の面ンにおけるピット３の前端部３ａ
から底面におけるピット３の前端部４ａに至るピットの
前面５ａと基板ｌのピット形成面１ａとのなす角度、及
び開口面におけるピット３の後端部３ｂから底面におけ
るピット３の後端部４ｂに至るピットの後面５ｂと基板
１のピット形成面１ａとのなす角度θ１が、ピット３の
放射線ビームの走査方向に関する中央部３Ｃにおけるピ
ット３の側面５ｃと基板ｌのピット形成面１ａとのなす
角度θ２より大きい角度に形成される。この場合、上記
ピット３の前面５ａと基板ｌのピット形成面１ａとのな
す角度、及びピット３の後面５ｂと基板ｌのピット形成
面１ａとのなす角度θ１は、ジッタ低減の観点からは９
０度に近いほど好ましいが、実用上６０度〜８０度に形
成されれば足りる。これに対し、ピットの側面５ｃと基
板１のピット形成面１ａとのなす角度θ２は、光検出器
においてそれが連続したデータであると検知されれば足
りるのであって、実用上４５度〜５６度程度に形成すれ
ば足りる。

尚、上記ピット３の深さＤは、再生信号レベルを最大に
するため、再生用放射線ビームの波長をλ、基板ｌの屈
折率（透明基板の場合ンをｎｘとした場合、ｍλ／４ｎ
ｚ＜ｍは整数）の深さに形成される。

上記ピット３の平面形状は、第３図に示すように、ピッ
ト３の前端部及び後端部をさらに強調するため、前端部
と後端部をその中間部に比べて幅広に形成することがで
きるし、また、第４図に示すように、ピット３の前端部
から後端部までほぼ同一幅に形成することもできる。い
ずれの場合にも、ピット３の前面５ａと後面５ｂと側面
５ｃとがそれぞれ斜面にて形成されるため、基板ｌの平
面側から観察したとき、ピット３の底面４がピット３の
開口面の形状の内周に観察される。

ピット３の横幅は、当該ピット３から読み呂される再生
信号レベルを最大にするため、再生用放射線スポット径
の約１７３の幅に形成される。この場合、ピット３の開
口面におけるす法を斜上のように形成することもできる
し、また、底面における寸法を斜上のようにすることも
できる。さらに、ピットの平面形状が第３図のようなも
のである場合には、幅広に形成さハた前端部及び後端部
の幅を再生用放射線スポット径の約１／３の幅に形成す
ることもできるし１幅狭に形成された中間部の幅を再生
用放射線スポット径の約１／３の幅に形成することもで
きる。尚、再生信号レベルを最大にすると共に、情報の
記録密度を最大にするためには、ピット３の底面の前端
部及び後端部の幅を再生用放射線スポット径の約１／３
の幅に形成することが最も好ましい。

以下に、第３図のような平面形状を有し、１．６μｍの
再生用放射線スポットが適用されるピットの各部の寸法
の一例を掲げる６尚、Ｗｚは開口面における前端部３ａ
及び後端部３ｂの幅、Ｗｚは底面における前端部３ａ及
び後端部３ｂの幅、Ｗｓは開口面における中央部３Ｃの
幅、Ｗ４は底面における中央部３Ｃの幅、Ｓは前端部３
ａ及び後端部３ｂの長さである。

Ｗｘ　〜０．５２〜０．５８　ａｍＷ　ｚ　＝　０　、４０〜０　、４４　ｉｔ　ｍＷ３〜
０．５２〜０．５５　ａｍＷａ　〜０．３５〜０．３８μｍ５＝０．３５〜０．４５μｍ上記ピット３の長さは、再生用放射線スポット径よりも
長くすることもできるし、また、記録密度を高密度化す
るため、第５図に示すように、再生用放射線スポット径
ｄよりも短かくすることもできる。この場合、１つの記
録媒体中に再生用放射線スポット径よりも長いピットと
短かいピットを混在形成することもできる。

勿論、ピット長が再生用放射線スポット径ｄよりも短か
いピットについても、ピット３の前面５ａと基板ｌのピ
ット形成面１ａとのなす角度、及びピット３の後面５ｂ
と基板ｌのピット形成面１ａとのなす角度θ１は、ピッ
ト３の側面５ｃと基板１のピット形成面１ａとのなす角
度θ２より大きい角度に形成される。また、ピット３の
深さＤは、λ／４ｎ１の深さに形成される。さらに、上
記ピット３の平面形状は、第５図に示すようなひようた
ん形に形成することもできるし、また、第４図に示すよ
うな形状に形成することもできる。

ピットの幅が同じである場合、ピット長を再生用放射線
スポット径ｄよりも短かくすると、再生用放射線スポッ
ト６に占めろピット３の割合が５再生用放射線スポツト
怪よりも長いピットが再往用放射線スポットに占める割
合に比べて小さくなり、光検出器に入射する反射光量が
低下して、再生信号レベルが低下する。かかる不具合を
防止するため、ピット長が再生用放射線スポット径ｄよ
りも短かいピットについては、その長さに比例して幅広
に形成し、再生用放射線スポット６に占めるピットの割
合を、再生用放射線スポット径よすも長いピットが再生
用放射線スポットに占める割合と略等しくなるようにす
ることが好ましい。

この場合、再生用放射線スポット径ｄよりも短かいピッ
ト長を有するピットの開口面における前端部及び後端部
の幅を、再生用放射線スポット６の直径よりも長いピッ
ト長を有するピットの開口部における前端部及び後端部
の幅よりも幅広に形成することもできる。また、再生用
放射線スポット径ｄよりも短かいピット長を有するピッ
トの底面部における前端部及び後端部の幅を、再生用放
射線スポットの直径よりも長いピッ１−長を有するピッ
トの底面部における前端部及び後端部の幅よりも幅広に
形成することもできる。また、再生用放射線スポット径
よりも短かいピッＩ−長を有するピットの開口部におけ
る中央部（長手方向、即ち放射線ビームの走査方向に関
する中央部）の幅を、再生用放射線スポットの直径より
も長いピット長を有するピットの開口部における放射線
ビームの中央部の幅よりも幅広に形成することもできる
。

さらには、再生用放射線スポット径よりも短かいピット
長を有するピットの底面部における中央部の幅を、再生
用放射線スポットの直径よりも長いピット長を有するピ
ットの底面部における中央部の幅よりも幅広に形成する
こともできる。

以下に、第５図のような平面形状を有し、１．６μｍの
再生用放射線スポットが適用されるピットの各部の寸法
の一例を掲げる。尚、Ｗｓは開口面における前端部３ａ
及び後端部３ｂの幅、Ｗ８は底面における前端部３ａ及
び後端部３ｂの幅、Ｗ７は中央部における開口部の幅、
Ｗ日は中央部における底面部の幅である６Ｗｓ＝０．５２〜０．５８μｍＷｓ　〜０．４０〜０．４　Ｊ　ｕｎＷ？＝０．４８〜０．５８ｔｔｍＷ　ｓ　＝　０　、３６〜０　、４４　ａ　ｍこのよう
にして、再生用放射線スポットの直径よりも短かいピッ
ト長を有するピットの開口面の面積または底面の面積を
、再生用放射線スポットの直径よりも長いピット長を有
するピットの開口面が再生用放射線スポットに占める面
積と同等に形成することができる。

上記実施例の光情報記録媒体は、ピット３の前面５ａと
基板１のピット形成面１ａとのなす角度、及びピット３
の後面５ｂと基板１のピット形成面ｌａとのなす角度θ
１をシャープに形成したので。

該ピット３から読み出される読出し信号の立上りエツジ
及び立下りエツジがシャープになり、読出し信号のジッ
タを減少することができる。また、再生用放射線スポッ
ト径よりもピット長の短かいピットからも高ＣＮ比及び
低ジツタの情報を読み出すことができるので、ピットの
短縮化を図ることができ、記録密度の向上を図ることが
できる。

尚、上記実施例においては、トラッキング情報に対応す
るプリグループ（案内溝）が形成されていない光情報記
録媒体について説明したが１本発明の要旨はこれに限定
されるものではなく、プリグループを有する光情報記録
媒体についても全く同様に実施することができる。また
、上記実施例においては、ピット３の底面の深さが一様
に形成された所謂底切りの光情報記録媒体について説明
したが９本発明の要旨はこれに限定されるものではなく
、原盤をカッティングする際、ホトレジストをカッティ
ング用放射線ビームの露光深度よりも充分に厚く形成し
、ピットの底面が曲面状に形成されたものについても同
様に実施することができる。

ピット３の前端部３ａ及び後端部３ｂの幅、及びピット
３の前面５ａ及び後面５ｂの傾斜角度。

それにピット３の中間部３Ｃの幅、及びピット３の側面
５ｃの傾斜角度は、光デイスク原盤をカッティングする
際に、ホトレジストの露光量（放射線光強度）を調整す
ることによって調整することができる。以下、光ディス
クを例にとって、ｇａのカッティング装置、及びこれを
用いたピット露光方法の一例について説明する。

第６図は原盤カッティング装置の全体の構成を示す斜視
図であって、１０は原盤、１１はターンテーブル、１２
は第１の放射線光源、１３は八−〇光変調器、１４は反
射鏡、１５はＥ−○変調器。

１６はＥ−０変調器１５に加えられる記録信号源、１７
は記録信号源１６の処理回路、１８は反射鏡。

１９はビームエキスパンダ、２０は第２の放射線光源、
２１はハーフミラ−５２２はビーム合成プリズム、２３
は反射鏡、２４はカッティングヘッド、２５はカッティ
ングヘッド２４に備えられたホーカスアクチュエータ、
２６はカッティングヘッド２４に備えられた対物レンズ
、２７はホーカスアクチュエータを制御するホーカス制
御回路である。

上記第１の放射線光ｇ１２は、光デイスク原盤１０に塗
布されたホトレジストの露光用として用いられ、このホ
トレジストの感光域外の波長を有する第２の放射線光源
２０は上記ホーカスアクチュエータ２５の自動焦点調整
に用いられる。

Ａ−０光変調器１３は、第７図に示すように。

例えばＬｉＮｂ０：１などの圧電体２８に周波数ｆの電
圧を印加して、Ｔｅ０ｚ、ＰｂＭｏＯ４などの媒質２９
中に波長λの疎密波３０を発生させ、これを回折格子と
して信号波を回折させるものであって、超音波駆動電圧
を振幅変調することによって、変調光３１を得るように
なっている。従って、八−〇光変調器１３の超音波駆動
電圧を振幅変調することによって、光デイスク原盤１０
に形成されたホトレジストの露光量を調整することがで
きる。

Ｅ−０光変Ｗ１４器１５は、第８図に示すように。

ポッケルスセル３１ａに電圧を加えて結晶の屈折率楕円
体の主軸との間に異方性を生じ、結晶内を進む２つの直
線偏波間に電界の強さに比例した位相速度の差を生じる
現象を利用するものであって、ポッケルスセル３１ａか
ら出る楕円偏光３２をアナライザ３３を介して取り出し
、振幅変調された光３４を得るようになっている。

ビームエキスパンダ１０は一種のコリメータであって、
カッティングヘッド１５に備えられた対物レンズ１７の
開ロ一杯にビームを入射させるために、ビーム径を広げ
るようになっている。

かかるカッティング装置によって光デ、ｒスク原盤をカ
ッティングする場合には、ターンテーブル１１を回転駆
動して未記録の光ディスクｙＫ盤１０を定角速度回転し
、該朱記録光ディスク原盤１０の表面に形成されたホト
レジストに、前記Ａ−０光変！ｉｌ＠１３の超音波駆動
電圧を振幅変調することによって所要の強度にビームを
照射する。即ち、第９図（ａ）に示すように、記録信号
３５の立上りエツジ３５ａと対応する放射線ビームの照
射始端Ａにおいて瞬間的に強度Ｐ１の放射線ビームを照
射し、直ちに放射線ビームの強度を上記初期放射線ビー
ムの強度Ｐ１よりも弱めて記録信号の立上りエツジ３５
ａから立下りエツジ３５ｂまでの間を強度Ｐｚにて露光
し、Ｑ後に記録信号の立下りエツジ３５ｂと対応する放
射線ビームの照射終端りにおいて、上記初期放射線ビー
ムと同じ強度Ｐ１の放射線ビームを照射してホトレジス
トのカッチ・Ｃングを行う。上記初期放射線ビームの強
度Ｐ１及び中間の放射線ビームの強度Ｐ２は、第９図（
ｂ）に示すように、放射線スポット３６の照射始端Ａか
らスポット径ｄだけ離隔した位置Ｂのホトレジスト層の
露光量、及び放射線スポット３６の照射終端りからスポ
ット径ｄだけ離隔した位置Ｃのホトレジスト層の露光量
が、所定の幅のピットをカッティングするに足る露光量
になるように調整される。例えば、同一感度のホトレジ
ストを露光することによって一定強度の放射線ビームを
一定線速度でトレースした場合と同一幅のピットを形成
する場合には、放射線スポット３６の照射始端Ａからス
ポット径ｄだけ離隔した位！！Ｂ及び放射線スポット３
Ｇの照射終端りからスポット径ｄだけ離隔した位置Ｃの
ホトレジスト層の露光量Ｑｘが、一定強度の放射線ビー
ムを一定線速度にてトレースした場合の露光量Ｑｚと略
等しくなるように調整される。

また、再生用放射線スポット径よりも短かいピット長の
ピットをカッティングする場合には、ピットの幅を再生
用放射線スポット径よりも長いピットに比べて幅広に形
成するため１．上記と同様の露光手段において、より高
強度の放射線ビームが照射される。

上記の露光方法によると、放射線スポットの照射始端Ａ
から放射線スポットの直径ｄだけ離隔した位置Ｂ及び照
射終端りから放射線スポットの直径ｄだけ離隔した位置
Ｃにおいては初期放射線ビームによる露光量と強度Ｐ２
の放射線ビームをスポット径ｄだけトレースすることに
よる露光量とが加算されるのでホトレジストの露光量が
大きくなって１幅広にして前面５ａ及び後面５ｂの傾斜
角がシャープな前端部３ａ及び後端部３ｂを形成するこ
とができ、また、その中間部では低強度の放射線スポッ
トを照射するので露光量が小さくなってピット幅が幅狭
になる。この場合、放射線ビームの強度Ｐｘ、Ｐｚを放
射線スポットの照射始端Ａからスポット径ｄだけ離隔し
た部分Ｂの露光量Ｑｌが一定強度の放射線ビームを一定
線速度でトレースした場合の露光量Ｑ２と略等しくなる
ように調整すると、前端部３ａ及び後端部３ｂの幅が一
定強度の放射線ビームを一定線速度でトレースすること
によって形成されるピットのピット幅と略同じ幅になり
、記録密度が低下することがない、尚、ピット３の中央
部３ｃは、放射線スポットの照射始端Ａの露光量Ｑ３と
核部から放射線スポットのスポット径ｄだけ離隔した位
［Ｂの露光量Ｑｚとの差分の露光量で一光される。

本発明の光情報記録ディスクは、上記のようにしてピッ
トが露光された光デイスク原盤から転写技術によって複
製される。

尚１本発明の要旨は、ピットの前端部と後端部の断面形
状をシャープにする点に存するのであって、放射線ビー
ムの照射始端Ａがら照射終端りの中間における放射線ビ
ームの強度を適宜調整することによって、ピット３の側
面の傾斜をピット３の前面及び後面の傾斜と同一にする
と共に、ピット３の中間部３ｃの幅を照射始端Ａ及び照
射終端りからスポット径ｄだけ離隔した位置Ｃ，Ｄにお
けるピット幅と同一幅に形成することもできる。

また１本発明の光情報記録媒体は、光ディスクのみなら
ず、光カードや光テープなど、任意の光情報記録媒体に
適用することができる。第１０図は光カードの一例を示
す正面図であって、カード本体３７の長手方向に磁気ス
トライプ３８と光記録ストライプ３９とが平行に形成さ
れており、この光記録ストライプ３９にピット列２が形
成されている。本実施例に示すように、ピット３の平面
形状を、再生用放射線ビームの走査方向と直角の方向に
延びる矩形または楕円形に形成することもできる。

勿論、カッティング装置については上記実施例に示した
ものに限定されるものではなく、この他、公知に属する
任意のカッティング装置を適用することができる。また
、第１０図に示したように。

再生用放射線ビームの走査方向と直角の方向に延びる矩
形または楕円形のピット３をカッティングするに際して
は、スポット形状が走査方向と直角の方向に延びる矩形
または楕円形の記録用放射線ビームを用いることができ
る。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の光情報記録媒体は、ピッ
トの前面と基板のピット形成面とのなす角度、及びピッ
トの後面と基板のピット形成面とのなす角度を、ピット
の中央部におけるピットの側面と基板のピット形成面と
のなす角度よりも大きい角度に形成したので、該ピット
から読み出される読出し信号の立上りエツジ及び立下り
エツジがシャープになり、読出し信号のジッタを減少す
ることができる。また、ピット長が再生用放射線スポッ
ト径よりも短かいピットについては、再生用放射線スポ
ット径よりも長いピットに比べて幅広に形成したので、
当該ピットから読み出される再生信号のＣＮ比が向上し
、再生用放射線スポット径よりも長いピットと同様の情
報を読み出すことができる。よって、ピットの短縮化を
図ることができ、記録密度が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る光情報記録媒体に形成されるピッ
トの放射線ビーム走査方向の断面形状を示す要部断面図
、第２図は第１図のピットの放射線ビーム走査方向と直
角の方向の断面形状を示す要部断面図、第３図は本発明
に係るピットの平面形状の一例を示す要部平面図、第４
図は本発明に係るピットの他の例を示す要部平面図、第
５図は再生用放射線スポット径よりも短かいピット長を
有するピットの平面形状の一例を示す要部平面図。第６図は光デイスク原盤カッティング装置の全体の構成
を示す斜視図、第７図はＡ−０光変調器の原理を示す斜
視図、第８図はＥ−０光変調器の原理を示す斜視図、第
９図（ａ）、（ｂ）は記録信号の立上りエツジ及び立下
りエツジと、光ディスクに照射される放射線ビームの強
度と、ホトレジストの露光量との関係を示すグラフ、第
１０図は本発明を光カードに応用した場合の実施例を示
す平面図、第１１図は記録信号と光情報記録媒体に形成
されるピットの関係を示す説明図、第１２図（ａ）（ｂ
）は光情報記録媒体の再生原理を示す斜視図、第１３図
は一定強度の放射線スポットを一定線速度でトレースし
たときのホトレジストの露光強度の変化を示すグラフ、
第１４図は従来の光情報記録媒体に形成されているピッ
トの側面形状を示す断面図、第１５図は従来の光情報記
録媒体に形成されているピットの前面及び後面の形状を
示す断面図、第１６図は従来のピットの平面形状を示す
平面図、第１７図は従来の露光方法におけるディスク半
径と露光強度との関係を示すグラフ、第１８図は従来の
ピットから読み出される再生信号特性を示すグラフ、第
１９図は再生用放射線スポット径よりも短かいピット長
を有する従来のピットの平面形状を示す平面図である。ｌ：ディスク基板、ｌａ：ピット形成面、２：ピット列
、３：ピット、３ａ：前端部、３ｂ：後端部、３ｃ：中
間部、４ａ、４ｂ：底面、５ａ：前面、５ｂ＝後面、５
ｃ：側面、１０：光デイスク原盤、１２：第１の放射線
光源、１３：Ａ−０光変調器、１５：Ｅ−０変調器、１
６：情報信号源、２０：第２の放射線光源、２２：ビー
ム合成プリズム、２４：対物レンズ第１図第２図第３図第４図第５図第６図第７図第８図第９図時間第１０図第１１図第１２図（Ｇ）　　　　　　　（ｂ）第１３図第１４図一０当乍↑Ｑ− 第１５図第１７図デンスク＃呼号第旧図第１９図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板の片面に記録信号に対応した配列のピット列
を有する光情報記録媒体において、上記ピット列を構成
する各ピットの前面と基板のピット形成面とのなす角度
、及びピットの後面と基板のピット形成面とのなす角度
が、ピットの放射線ビーム走査方向の中央部における側
面と基板のピット形成面とのなす角度より大きい角度に
形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
（２）基板の平面側から観察したとき、ピットの前端部
及び後端部が、当該ピットの放射線ビーム走査方向の中
央部よりも幅広に形成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第（１）項記載の光情報記録媒体。
（３）基板の平面側から観察したとき、ピットの前端部
から後端部までほぼ同一幅に形成されていることを特徴
とする特許請求の範囲第（１）項記載の光情報記録媒体
。
（４）ピット長が再生用放射線ビームの直径よりも短か
いピットを有することを特徴とする特許請求の範囲第（
１）項記載の光情報記録媒体。
（５）再生用放射線スポット径よりも短かいピット長を
有するピットの開口面における前端部及び後端部の幅を
、再生用放射線スポットの直径よりも長いピット長を有
するピットの開口面における前端部及び後端部の幅より
も幅広に形成したことを特徴とする特許請求の範囲第（
４）項記載の光情報記録媒体。
（６）再生用放射線スポット径よりも短かいピット長を
有するピットの底面における前端部及び後端部の幅を、
再生用放射線スポットの直径よりも長いピット長を有す
るピットの底面における前端部及び後端部の幅よりも幅
広に形成したことを特徴とする特許請求の範囲第（４）
項記載の光情報記録媒体。
（７）再生用放射線スポット径よりも短かいピット長を
有するピットの開口面における中央部の幅を、再生用放
射線スポットの直径よりも長いピット長を有するピット
の開口面における中央部の幅よりも幅広に形成したこと
を特徴とする特許請求の範囲第（４）項記載の光情報記
録媒体。
（８）再生用放射線スポット径よりも短かいピット長を
有するピットの底面における中央部の幅を、再生用放射
線スポットの直径よりも長いピット長を有するピットの
底面における中央部の幅よりも幅広に形成したことを特
徴とする特許請求の範囲第（４）項記載の光情報記録媒
体。
（９）再生用放射線スポットの直径よりも短かいピット
長を有するピットの開口面の面積を、再生用放射線スポ
ットの直径よりも長いピット長を有するピットの開口面
が再生用放射線スポットに占める面積とほぼ同等に形成
したことを特徴とする特許請求の範囲第（４）項記載の
光情報記録媒体。
（１０）再生用放射線スポットの直径よりも短かいピッ
ト長を有するピットの底面の面積を、再生用放射線スポ
ットの直径よりも長いピット長を有するピットの底面が
再生用放射線スポットに占める面積とほぼ同等に形成し
たことを特徴とする特許請求の範囲第（４）項記載の光
情報記録媒体。
（１１）ピットの長手方向が再生用放射線ビームの走査
方向と直角に向けられたピット列を有することを特徴と
する特許請求の範囲第（１）項記載の光情報記録媒体。
（１２）表面にホトレジスト層が形成された原盤に記録
信号によつて変調された放射線ビームを照射することに
よつて当該記録信号に対応した配列のピットを露光する
工程を有する光情報記録媒体の製造方法において、上記
記録信号の立上りエッジ及び立下りエッジに対応して高
強度の放射線ビームを照射し、上記立上りエッジ及び立
下りエッジの中間では上記立上りエッジ及び立下りエッ
ジに対応して照射した放射線ビームよりも低強度の放射
線ビームを照射するようにしたことを特徴とする光情報
記録媒体の製造方法。
（１３）再生用放射線スポットの直径よりも短かいピッ
ト長を有するピットを露光する際に、再生用放射線スポ
ットの直径よりも長いピット長を有するピットを露光す
る際よりも高強度の放射線ビームを照射するようにした
ことを特徴とする特許請求の範囲第（１２）項記載の光
情報記録媒体の製造方法。
（１４）記録用放射線ビームとして、スポット形状が走
査方向に直角な方向に延びる楕円形の放射線ビームを用
いたことを特徴とする特許請求の範囲第（１２）項記載
の光情報記録媒体の製造方法。