JPS63124945A - パタ−ン欠陥検出方法 - Google Patents
パタ−ン欠陥検出方法Info
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- JPS63124945A JPS63124945A JP26974286A JP26974286A JPS63124945A JP S63124945 A JPS63124945 A JP S63124945A JP 26974286 A JP26974286 A JP 26974286A JP 26974286 A JP26974286 A JP 26974286A JP S63124945 A JPS63124945 A JP S63124945A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、プリント配線基板等のパターンの欠陥検出方
法に係り、特に、光学的に回路パターンを検知し、検査
を行うパターン欠陥検出方法に関する。
法に係り、特に、光学的に回路パターンを検知し、検査
を行うパターン欠陥検出方法に関する。
（従来の技術）
従来、パターン検査を行う方法の一つとして、「膨張収
縮法」があり、この方法として、例えば、「複雑パター
ンを対象とした傷抽出装置方式」電気学会論文誌（Ｃ）
ｖｏｌ、 ９４−Ｃｔｌｈ ５、ＰＰ８９〜９６゜１
９７４に記載されるものがあった。
縮法」があり、この方法として、例えば、「複雑パター
ンを対象とした傷抽出装置方式」電気学会論文誌（Ｃ）
ｖｏｌ、 ９４−Ｃｔｌｈ ５、ＰＰ８９〜９６゜１
９７４に記載されるものがあった。
以下、この従来のパターン欠陥検出方法の原理について
第４図を用いて説明する。
第４図を用いて説明する。
第４図（ａ）において、８は背景、９は対象パターンを
示し、この対象パターン９には黒の傷１１−Ｉと白の傷
１０−２を有している。
示し、この対象パターン９には黒の傷１１−Ｉと白の傷
１０−２を有している。
いま、第４図（ｂ）に示されるように、対象パターン９
を均一に膨張させると白の傷１０−１は押しつぶされ、
これを収縮させると、第４図（ｃ）に示されるように、
黒の傷１１−１だけが復元される。従って、第４図（ａ
）と第４図（ｃ）の各対応点を比較し、異なる部分を判
定することにより、第４図（ｄ）に示されるように白の
微小部１０−１を抽出することができる。同様にして、
第４図（ａ）を、まず、第４図ＣＦ＞に示されるように
、対象パターン９を均一に収縮させると、黒の傷ｘｉ−
＋はなくなり、再び対象パターン９を膨張させると、第
４図（ｇ）に示されるように、白の傷１０−Ｉだけが復
元される。ここで、第４図（ａ）と第４図（ｇ）の各対
応点を比較し、異なる部分を判定することにより、第４
図（ｈ）に示されるように、黒の微小部１１−ｓだけが
復元される。
を均一に膨張させると白の傷１０−１は押しつぶされ、
これを収縮させると、第４図（ｃ）に示されるように、
黒の傷１１−１だけが復元される。従って、第４図（ａ
）と第４図（ｃ）の各対応点を比較し、異なる部分を判
定することにより、第４図（ｄ）に示されるように白の
微小部１０−１を抽出することができる。同様にして、
第４図（ａ）を、まず、第４図ＣＦ＞に示されるように
、対象パターン９を均一に収縮させると、黒の傷ｘｉ−
＋はなくなり、再び対象パターン９を膨張させると、第
４図（ｇ）に示されるように、白の傷１０−Ｉだけが復
元される。ここで、第４図（ａ）と第４図（ｇ）の各対
応点を比較し、異なる部分を判定することにより、第４
図（ｈ）に示されるように、黒の微小部１１−ｓだけが
復元される。
そこで、第４図（ｄ） 、 （ｈ）を併合することによ
り、第４図（ｅ）に示されるように、全ての傷を表す微
小部１０−３．１１−ｉを抽出することができる。
り、第４図（ｅ）に示されるように、全ての傷を表す微
小部１０−３．１１−ｉを抽出することができる。
第５図はこの従来の膨張収縮法によるパターン欠陥検出
の機能ブロック図であり、画像入力部２３、Ａ／Ｄ変換
（２値化）部２４、画像記憶部２５を経て、第１の膨張
処理部２６、第１の収縮処理部２７、第１の比較処理部
２８を設け、これと並行した第２の収縮処理部２９、第
２の膨張処理部３０、第２の比較処理部３１を設け、更
に、第１の比較処理部２８と第２の比較処理部３１を併
合する欠陥判定部３２が設けられる。
の機能ブロック図であり、画像入力部２３、Ａ／Ｄ変換
（２値化）部２４、画像記憶部２５を経て、第１の膨張
処理部２６、第１の収縮処理部２７、第１の比較処理部
２８を設け、これと並行した第２の収縮処理部２９、第
２の膨張処理部３０、第２の比較処理部３１を設け、更
に、第１の比較処理部２８と第２の比較処理部３１を併
合する欠陥判定部３２が設けられる。
上記した膨張収縮法によれば、このように、予め基準と
なる正常パターンを用意する必要がないので、基板の位
置決め等も不要であり、微細な回路パターンの欠陥検出
のような精密な位置決めを必要とする対象についても適
用することができる。
なる正常パターンを用意する必要がないので、基板の位
置決め等も不要であり、微細な回路パターンの欠陥検出
のような精密な位置決めを必要とする対象についても適
用することができる。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、上記の膨張収縮法では欠陥の検出方法と
して、被検査画像を膨張収縮及び収縮膨張処理を行うこ
とにより、疑似的に正常パターン画像を生成し、被検査
画像と比較することにより欠陥を検出することになるが
、膨張収縮及び収縮膨張処理にかなりの時間を要し、ま
た、蒸着膜上にフォトレジストで回路パターンを形成し
ているような対象では、パターン画像（フォトレジスト
のパターン部と蒸着膜の背景部に領域分割された画像）
を得ることが難しく、線画像（フォトレジストのパター
ン部と薄着膜の背景部との境界部分のみの画像）であれ
ば容易に得ることができるが、この膨張収縮法は線画像
には適用することができないという問題があった。
して、被検査画像を膨張収縮及び収縮膨張処理を行うこ
とにより、疑似的に正常パターン画像を生成し、被検査
画像と比較することにより欠陥を検出することになるが
、膨張収縮及び収縮膨張処理にかなりの時間を要し、ま
た、蒸着膜上にフォトレジストで回路パターンを形成し
ているような対象では、パターン画像（フォトレジスト
のパターン部と蒸着膜の背景部に領域分割された画像）
を得ることが難しく、線画像（フォトレジストのパター
ン部と薄着膜の背景部との境界部分のみの画像）であれ
ば容易に得ることができるが、この膨張収縮法は線画像
には適用することができないという問題があった。
本発明は、以上述べた処理時間が長くかかり、かつ線画
像に適用できないという問題点を除去し、位置決めが不
要であり、しかも処理時間が速（被検査対象の範囲が広
いパターン欠陥検出方法を提供することを目的とする。
像に適用できないという問題点を除去し、位置決めが不
要であり、しかも処理時間が速（被検査対象の範囲が広
いパターン欠陥検出方法を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、上記問題点を解決するために、被検査対象の
線画像データを得て、正常な隣合う線画像が接触しない
程度に拡大処理し、この拡大処理の前後での線部分と背
景部分との領域数（ラヘリング数）を比較することによ
り、被検査画像内の欠陥の有無を検出するようにしたも
のである。
線画像データを得て、正常な隣合う線画像が接触しない
程度に拡大処理し、この拡大処理の前後での線部分と背
景部分との領域数（ラヘリング数）を比較することによ
り、被検査画像内の欠陥の有無を検出するようにしたも
のである。
（作用）
本発明によれば、上記のように構成したので、パターン
画像が得られないような対象、例えば、蒸着膜上にフォ
トレジストで回路パターンが形成されているような対象
の欠陥検出にも適用できる。
画像が得られないような対象、例えば、蒸着膜上にフォ
トレジストで回路パターンが形成されているような対象
の欠陥検出にも適用できる。
また、同じ汎用の画像処理装置を使用するとしても、従
来の膨張収縮法よりも約２倍程度速度を向上させること
ができる。
来の膨張収縮法よりも約２倍程度速度を向上させること
ができる。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の実施例の処理手順を示すブロック図で
あり、このパターン欠陥検出装置は、画像入力部１、Ａ
／Ｄｉ換部２．２（ａ化部３、線画像作成部４、領域数
計数部５ａ、５ｂ、拡大処理部６、領域数計数部１ａ、
１ｂ、欠陥判定部８から成る。
あり、このパターン欠陥検出装置は、画像入力部１、Ａ
／Ｄｉ換部２．２（ａ化部３、線画像作成部４、領域数
計数部５ａ、５ｂ、拡大処理部６、領域数計数部１ａ、
１ｂ、欠陥判定部８から成る。
ここで、画像入力部１は被検査パターンをＩＴＶカメラ
等の描像手段で受光し、光電変換を行って被検査パター
ンの映像信号を得る。画像入力部１で得られた被検査パ
ターンの映像信号はＡ／Ｄ変喚部２でディジタル信号化
され、２値化部３で２値化処理し画像メモリに記憶する
。線画像作成部４は画像メモリに記憶された被検査画像
がパターン画像である時に、パターン画像データを線画
像データに変換し、領域数計数部５ａ、５ｂ及び拡大処
理部６に転送する。ＳＮ域数計数部５ａでは線部分の領
域数を、領域数計数部５ｂでは背景部分の領域数をそれ
ぞれ計数し、それぞれの計数値Ｎ ６＠＋ Ｎ６ｂを欠
陥判定部８へ転送する。拡大処理部６では正常時に線画
上の線が隣接ｔ、る線に接しない程度に被検査パターン
の線画像データを拡大処理し、結果の画像データを領域
数計数部７ａ。
等の描像手段で受光し、光電変換を行って被検査パター
ンの映像信号を得る。画像入力部１で得られた被検査パ
ターンの映像信号はＡ／Ｄ変喚部２でディジタル信号化
され、２値化部３で２値化処理し画像メモリに記憶する
。線画像作成部４は画像メモリに記憶された被検査画像
がパターン画像である時に、パターン画像データを線画
像データに変換し、領域数計数部５ａ、５ｂ及び拡大処
理部６に転送する。ＳＮ域数計数部５ａでは線部分の領
域数を、領域数計数部５ｂでは背景部分の領域数をそれ
ぞれ計数し、それぞれの計数値Ｎ ６＠＋ Ｎ６ｂを欠
陥判定部８へ転送する。拡大処理部６では正常時に線画
上の線が隣接ｔ、る線に接しない程度に被検査パターン
の線画像データを拡大処理し、結果の画像データを領域
数計数部７ａ。
７ｂに転送する。ここで拡大処理とは、前記した膨張収
縮法で行っているものと同様の処理である。
縮法で行っているものと同様の処理である。
領域数計数部７ａでは、線画の線部分の領域数を、領域
数計数部７ｂでは背景部分の領域数を計数し、それぞれ
の計数値Ｎ ｒｌｌ＋ Ｎｒｂを欠陥判定部８に転送す
る。そこで、欠陥判定部８においは領域数計数部５ａ、
５ｂ、７ａ、７ｂで求められた、ツレぞれの計数値Ｎ
（１１１＋ ＮＯｂ＋ Ｎ１．ｌｌｌ Ｎｒｂに対して
、Ｎ ６＠＝Ｎｒ＠ｓかつ、Ｎ、、”Ｎ、ｂが成り立つ
時、被検査パターンを正常と判定し、これ以外の時を欠
陥として判定する。
数計数部７ｂでは背景部分の領域数を計数し、それぞれ
の計数値Ｎ ｒｌｌ＋ Ｎｒｂを欠陥判定部８に転送す
る。そこで、欠陥判定部８においは領域数計数部５ａ、
５ｂ、７ａ、７ｂで求められた、ツレぞれの計数値Ｎ
（１１１＋ ＮＯｂ＋ Ｎ１．ｌｌｌ Ｎｒｂに対して
、Ｎ ６＠＝Ｎｒ＠ｓかつ、Ｎ、、”Ｎ、ｂが成り立つ
時、被検査パターンを正常と判定し、これ以外の時を欠
陥として判定する。
以下、具体例に沿って説明する。
第２図は第１のパターンの欠陥例を示す図である。つま
り、第２図（ａ）は回路パターン欠陥で代表的な欠は欠
陥（回路パターンの部分的な細り）の例を示すものであ
り、第２図（ｂ）は第２図（ａ）に示す画像に対して拡
大処理を行った状態を示す図である。
り、第２図（ａ）は回路パターン欠陥で代表的な欠は欠
陥（回路パターンの部分的な細り）の例を示すものであ
り、第２図（ｂ）は第２図（ａ）に示す画像に対して拡
大処理を行った状態を示す図である。
第２図（ａ）の場合、線画の線部分■、■の領域数Ｎ
ｏａは２であり、背景部分＋１１． ＋２１． ＋３＋
の領域数Ｎ０．は３である。
ｏａは２であり、背景部分＋１１． ＋２１． ＋３＋
の領域数Ｎ０．は３である。
一方、拡大処理された第２図（ｂ）の場合、第２図（ａ
）の線部分■の領域数Ｎ ｒｅはｌとなり、背景部分子
ｔ）、 ＋２１． （３１，（４１の領域数Ｎ０は４と
なる。
）の線部分■の領域数Ｎ ｒｅはｌとなり、背景部分子
ｔ）、 ＋２１． （３１，（４１の領域数Ｎ０は４と
なる。
ここで、Ｎｏ、≠Ｎｒ、であり、かつ、Ｎｏ、≠Ｎ。
であるので、第２図（ａ）に示されるような被検査パタ
ーンは欠陥として判定される。
ーンは欠陥として判定される。
第３図は第２のパターンの欠陥例を示す図である。つま
り、第３図（ａ）は画像内に回路パターンの終端部があ
る場合の欠は欠陥の例であり、第３図（ｂ）は第３図（
ａ）に示す画像に対して拡大処理を行った状態を示す図
である。
り、第３図（ａ）は画像内に回路パターンの終端部があ
る場合の欠は欠陥の例であり、第３図（ｂ）は第３図（
ａ）に示す画像に対して拡大処理を行った状態を示す図
である。
ここで、第３図（ａ）に示される欠陥例は第２図（ａ）
に示される欠陥例と基本的には同じ種類の欠陥であるが
、Ｎ ６１１＋ Ｎｏｂ＋ Ｎ、、、 Ｎｒｂはそれぞ
れ１、 ２． １． ３であり、Ｎ ｏａ＝Ｎｒ＋ｅ＋
Ｎｏｂ≠Ｎｒ＆となり、第３図（ａ）に示すような被
検査パターンも欠陥として判定される。
に示される欠陥例と基本的には同じ種類の欠陥であるが
、Ｎ ６１１＋ Ｎｏｂ＋ Ｎ、、、 Ｎｒｂはそれぞ
れ１、 ２． １． ３であり、Ｎ ｏａ＝Ｎｒ＋ｅ＋
Ｎｏｂ≠Ｎｒ＆となり、第３図（ａ）に示すような被
検査パターンも欠陥として判定される。
このように画像内にパターン終端部がある場合には線部
分の領域数Ｎ Ｏ＠ｒ ｒ’ｌｒａだけでは欠陥の判定
ができないので、背景部分の領域数Ｎ。＋Ｎｒｂの計数
が必要である。
分の領域数Ｎ Ｏ＠ｒ ｒ’ｌｒａだけでは欠陥の判定
ができないので、背景部分の領域数Ｎ。＋Ｎｒｂの計数
が必要である。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
（発明の効果）
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、線画像
データを得て、正常な隣合う線画像が接触しない程度に
拡大処理し、この拡大処理の前後での線部分と背景部分
との領域数（ラベリング数）を比較することにより、被
検査画像内の欠陥の有無を検出するようにしたので、 （１）パターン画像が得られないような対象、例えば、
蒸着膜上にフォトレジストで回路パターンが形成されて
いるような対象の欠陥検査にも適用でき、検査対象の範
囲を拡大することができる。
データを得て、正常な隣合う線画像が接触しない程度に
拡大処理し、この拡大処理の前後での線部分と背景部分
との領域数（ラベリング数）を比較することにより、被
検査画像内の欠陥の有無を検出するようにしたので、 （１）パターン画像が得られないような対象、例えば、
蒸着膜上にフォトレジストで回路パターンが形成されて
いるような対象の欠陥検査にも適用でき、検査対象の範
囲を拡大することができる。
（２）同じ汎用の画像処理装置を使用するとしても、従
来の膨張収縮法よりも約２倍程度速度を向上させること
ができる。
来の膨張収縮法よりも約２倍程度速度を向上させること
ができる。
第１図は本発明の実施例の処理手順を示すブロック図、
第２図は第１のパターンの欠陥例を示す図、第３図は第
２のパターンの欠陥例を示す図、第４図は従来の膨張収
縮法の原理図、第５図は従来の膨張収縮法の機能ブロッ
ク図である。 １・・・画像入力部、２・・・Ａ／Ｄ変換部、３・・・
２値化部、４・・・線画像作成部、５ａ、５ｂ・・・領
域数計数部、６・・・拡大処理部、７ａ、７ｂ・・・領
域数計数部、８・・・欠陥判定部。
第２図は第１のパターンの欠陥例を示す図、第３図は第
２のパターンの欠陥例を示す図、第４図は従来の膨張収
縮法の原理図、第５図は従来の膨張収縮法の機能ブロッ
ク図である。 １・・・画像入力部、２・・・Ａ／Ｄ変換部、３・・・
２値化部、４・・・線画像作成部、５ａ、５ｂ・・・領
域数計数部、６・・・拡大処理部、７ａ、７ｂ・・・領
域数計数部、８・・・欠陥判定部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 パターンを光学的に検知して検査を行うパターン欠陥
検出方法において、 （ａ）被検査対象に基づく線画像を作成し、（ｂ）該線
画像の線部分領域数及び背景部分領域数をそれぞれ計数
し、 （ｃ）前記線画像を正常な隣合う線画像が接触しないよ
うに拡大処理し、 （ｄ）該拡大線画像の線部分領域数及び背景部分領域数
をそれぞれ計数し、 （ｅ）前記拡大処理前後の線部分、背景部分の領域数を
比較し、パターンの欠陥の有無を判定することを特徴と
するパターン欠陥検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26974286A JPS63124945A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | パタ−ン欠陥検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26974286A JPS63124945A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | パタ−ン欠陥検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63124945A true JPS63124945A (ja) | 1988-05-28 |
Family
ID=17476523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26974286A Pending JPS63124945A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | パタ−ン欠陥検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63124945A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017146248A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 欠陥検出装置、欠陥検出方法およびプログラム |
| WO2017141611A1 (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 欠陥検出装置、欠陥検出方法およびプログラム |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP26974286A patent/JPS63124945A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017146248A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 欠陥検出装置、欠陥検出方法およびプログラム |
| WO2017141611A1 (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 欠陥検出装置、欠陥検出方法およびプログラム |
| US11216936B2 (en) | 2016-02-19 | 2022-01-04 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Defect detection device, defect detection method, and program |
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