JPS63120715A

JPS63120715A - ソルダーレジストインキ組成物

Info

Publication number: JPS63120715A
Application number: JP61266604A
Authority: JP
Inventors: Koji Isobe; 磯部　孝治; Minoru Yokoshima; 実横島
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1986-11-11
Filing date: 1986-11-11
Publication date: 1988-05-25
Anticipated expiration: 2009-03-30
Also published as: JPH0623325B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野〕本発明は、放射線硬化型の樹脂組成物及びソルダーレジ
ストインキ組成物に関し特に、プリント配線基板の永久
保護膜として使用される紫外線により硬化し、耐熱性、
耐薬品性、耐湿性、密着性及び電気絶縁性に優れたツル
ダーレジストに適するソルダーレジストインキ組成物に
関する。

（従来の技術す近年、省資源、省エネルギー、作業性向上、生産性向上
などの理由により紫外線硬化型組成物が多用されて米て
いる。プリント配線基板加工分野においても同様の理由
によりソルダーレジストインキ、マーキングインキなど
種々のインキが従来の熱硬化型組成物から紫外線硬化型
組成物へと移行してきている。ソルダーレジストインキ
はいち早く紫外線硬化型組成物へと移行した。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、現在この紫外線硬化型即成物の適用され
ている用途としては、ラジオ、ビデオ、テレビ等に使用
されている民生用基板と称せられる分骨に限られ、コン
ピューター、制御機器等の産業用基板といわれる分野へ
の適用は未だ行われていないのが実情である。これは、
産業用基板に使用されるソルダーレジストインキには、
民生基板用ソルダーレジストインキには、民生基板用ソ
ルダーレジストインキに要求されていない、高電気絶縁
性、加湿下における・・ンダ、耐熱性、密着性、耐薬品
性など高い性能が更求されており、現在の民生基板用ソ
ルダーレジストインキでは要求性能レベルに達していな
いためである。

（問題点を解決するための手段）本発明者らは、上記の問題点を解決するため鋭意研究の
結果、紫外線硬化型ソルダーレジストインキに適した、
耐熱性、耐湿性、耐溶剤性、電気絶縁性及び密着性に憂
れ１こ樹脂組成物を提供することに成功した。すなわち
、本発明は、（１）　　エポキシ樹脂と（メタンアクリ
ル酸とを反応させて得られる１分子中に２個以上の（メ
タ）アクリロイル基を有するエポキシポリ（メタコアク
リレート（５）とアクリロイルモルホリン■と他の不飽
和基含有化合物（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成
物及び（２）　　エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを反
応させて得られる１分子中に２個以上の（メタノアクリ
ル酸ル基を有するエポキシポリ（メタンアクリレート因
とアクリロイルモルホリン（Ｂ）と他の不飽和基含有化
合物（Ｃ）を含むことを特徴とするソルダーレジストイ
ンキ組成物である。

本発明の樹脂組成物に使用する前記穴乃至（Ｏの成分に
ついて、具体例を示して、更に詳しく説明する。先ず（
４）成分のエポキシポリ（メタ）アクリレートは、エポ
キシ樹脂と（メタノアクリル酸（アクリル酸又はメタク
リル酸ンとを反応させ得られる１分子中に２個以上の（
メタ）アクリロイル基を有す化合物であり、使用するエ
ポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡタイプ（例えば
、シェル化学■製、エピコート８２８．１００１．１０
０４等ン、ビスフェノールＦタイプ（例えば、シェル化
学■製、エピコートＲ−８０７）、ビスフェノールＳタ
イプ、フェノールノボラックタイプ（例えば、日本化薬
（株製ＥＰＰＮ２０１、シェル化学■製、エピコート１
５２゜１５４等）、クレゾールノボラックタイプ（例え
ば、日本化薬■製、ＥＯＣＮ−１０２，１０３等）、ヒ
ダントインタイプ等のエポキシ樹脂が挙げられる。エポ
キシ樹脂と（メタノアクリル酸とのう反応を行〜場合、エポキシ樹脂の１化学当滑に対する（
メタ）アクリル酸の使用割合は、０．３〜２，０化学当
量であるのが好ましく、特に好ましくに、０．５〜１．
１化学当量である。反応は、触媒を使用し促進させるこ
とができる。この様な触媒はトリフェニルスチビン、メ
チルトリエチルアンモニウムクロライド等の公知の触媒
でありその使用■は、反応液の重量に対して好ましくは
、０．１〜２０％、特に好ましくは、１〜５％使用され
る。反応温度は、好ましくは６０〜１２０℃、特に好ま
しくは７０〜１００℃である。反応時の重合防止のため
に重合防止剤を添加しておくことが好ましく、そのよう
な重合防止剤には、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール、フェノチアジン、Ｎ−ニトロンフェニルアミン
、銅塩等が挙げられる。その使用量は、通常反応混合物
に対して０．０１〜１重量％が好ましい。このようにし
て得られるエポキシポリ（メタノアクリレート囚は公知
である。囚成分の具体的化合物のうちで特に良好な性質
を示すものとしては、エポキシ樹脂としてフェノールノ
ボラックタイプのエポキシ樹脂を使用したエポキシポリ
アクリレートが挙げられる。■成分の配合量は、（４）
乃至（Ｃ）の成分のｍ　ｔ　１００重量に対して１０〜
７０重量部が好ｆしく、特に２０〜５０重量部が好まし
い。

（Ｄ成分であるアクリロイルモルホリンは、公知であり
、市場より容易に入手する事ができる。

例えば、異人■製、Ａ　ＣＭ　Ｏ等である。（Ｄ成分の
配合量は、因乃至（Ｃ）の成分の飴量１００重量部に対
して５〜５０重量部が好ましく、特に１０〜４０重量部
が好ましい。次に（Ｃ）成分は、囚成分及び＜８）成分
以外の不飽和基含有化合物であり具体的化合物としては
、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルピ
トール（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（
メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）
アクリレート、インボロニル（メタ）アクリレート、ジ
シクロペンタジェンエトキシ（メタ）アクリレート、水
添ジシクロペンタジェン（メタンアクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタノアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート
、トリメチロールプロパントリプロポキシトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタンアク
リレート、ヒドロキシピパリン酸エステルネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬
■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＭＡＮＤＡ）、２−ヒドロキシ
エチル（メタノアクリレートのリン酸エステル（例えば
、日本化薬■製、ＫＡＹＡＭＡ　ＰＭｌ、ＰＭ２）、２
−ヒドロキシエチル（メタノアクリレートのε−カプロ
ラクトン付加物のリン酸エステル（例えば、日本化薬■
製、ＫＡＹＡＭＡ　　ＰＭ２１等う等が挙げられる。特
に好ましい（Ｃ）成分としては、カルピトールアクリレ
ート、フェニルオキシエチルアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリプロポキシトリアクリレート、ヒドロキシピバリ
ン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等
が挙げられる。

（Ｃ）成分の配合量は、■乃至（Ｃ）の成分の総量１０
０重量部に対して、１０〜７０重量部が好ましく、特に
２０゛〜６０重量部が好ましい。本発明の樹脂組成物（
ソルダーレジストインキ組開始剤を使用する必要がある
。光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始
剤であっても良いが配合後の貯蔵安定性の良い事が要求
される。この様な光重合開始剤としては、例えハ、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテルなど
のベンゾインアルキルエーテル系、２．２−ジェトキシ
アセトフェノン、４−フェノキシ−２，２−ジクロロア
セトフェノンなどのアセトフェノン系、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、４′−インプロピル−
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなどのプ
ロピオフェノン糸、ベンジルジメチルケタール、１−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン及び２−エチル
アントラキノン、２！クロロアントラキノンなどのアン
トラキノン糸、２−クロロチオキサントン、２．４−ジ
エチルチオキサントンなどのチオキサントン系元重合開
始剤等があげられる。特に好ましい光重合開始剤として
は、２−エチルアントラキノン、２．４−ジェトキシチ
オキサントン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、
一種でも、二種以上任童の割合で混合使用してもかまわ
ない。そ　つの使用量は、通常、樹脂組成物（ソルダー
レジストインキ組成物）の０．１〜１０重景％好ましく
は１〜５重量％である。

本発明の樹脂組成物はソルダーレジストインキに有用で
ある他、金属の保護コーティング等にも使用できる。

本発明のソルダーレジストインキ組成物を用いて印刷す
る場合、スクリーン印刷法またはオフセット印刷法によ
り印刷されるが、その場合の印刷性を向上させるため、
例えば、メルク、炭酸カルシウム、アルミナ、硫酸バリ
ウム、マイカなどの体質顔料、およびレベリング剤、着
色顔料、種変剤、増粘剤、キレート剤などを本発明組成
物に加えてもかまわない。本発明の組成物は、紫外線を
照射することにより常法により硬化させることができる
。

（実施例）以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお実
施例中の部は、重量部である。

畔施例１゜エポキシポリ（メタ）アクリレートとしてフ工ノールノ
ボラック型エポキシ樹脂（シェル化学■製、エピコート
１５４）とアクリル酸の当量付加物１６部、アクリロイ
ルモルホリン（異人■製、ＡＣＭＯ）１７部、ヒドロキ
シピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリ
レート（日本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＭＡＮＤＡ）
１４部、トリメチロールプロパントリアクリレート（日
本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　　ＴＭＰＴＡ）１３部、
シアニングリーンｔｓ部、タルク３０部、モダフロー（
モンサンド社製のレベリング剤）１部及び２−エチル・
アントラキノン１部を加え５０〜８０℃で＋　−に混合
した後、三本ロール（■弁上製作所製）で十分に混練し
たものを、スクリーンにタテ２０１１０１、ヨコ３０闘
のパターンをもつスクリーンを用いてスクリーン印刷法
により、プリント配線板の銅箔上に印刷し、紫外線で硬
化した所、硬化塗膜の鉛筆硬度は３Ｈ，常態、４０℃９
０％ＲＨ４時間の加湿処理及び８０’Ｃ温水１時間浸漬
直後における２６０℃、１２０秒間のハンダ浸漬におい
てフクレ、ハガレを生じなかった。ヌ、絶縁抵抗は１．
５ＸＩＯΩであった。

実施例２゜エポキシポリ（メタ）アクリレートとして、フェノール
・ノボラック型エポキシ樹脂（日本化薬■製、ＥＰＰＮ
−２０１）とアクリル酸の当量付加物２１．５部、アク
リロイルモルホリン（異人■製、ＡＣＭＯ）２７．６部
、トリメチロールプロパントリプロポキシトリアクリレ
ート（日本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　　ＴＰＡ−３３
０）２０．９部、シアニングリーン１．５　部、タルク
３０部、モダフロー１部、及びイルガキュアー６５１（
チバ・ガイギー社裂、光重合開始剤）３部を加え、実施
例１と同様に混線、印刷、硬化した所、硬化塗膜の鉛筆
硬度は３Ｈ１常態、４０　’Ｃ９０％ＲＩ−１４時間の
加湿処理及び８０°Ｃ温水１時間浸漬直後における２６
０℃、１２０秒間のハンダ浸漬においてフクレ、ハガレ
を生じなかった。又絶縁抵抗は５．ＯＸ　１０”Ωであ
った。

実施例３゜エポキシポリ（メタ）アクリレートとしては、フェノー
ル・ノボラック型エポキシ樹脂（シェル化学■製、エビ
コー）］　５４）とアクリル酸の当量付加物１６部、ビ
スフェノールＦ型エポキシ樹脂（シェル化学■製、エピ
コートＲ−８０７）とアクリル酸のｉｔ付加物１６部、
アクリロイルモルホリン（異人■製、ＡＣＭＯ）１０．
５部、カルピトールアクリレート１７．５部、トリメチ
ロールプロパントリプロポキシトリアクリレート（日本
化薬（掬製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ−３，３０）１０
．０部、シアニングリーン１．５］　タルク３０部、モ
ダフロー１部及び２−二チルアントラキノン１部を加え
実施例Ｉと同様に混線、印刷、硬化した所、硬化塗膜の
鉛筆硬度５Ｈ，常態、４０°Ｇ９０％ＲＨ４時間の加湿
処理及び８０℃温水１時間浸漬直後における２６０℃、
１２０秒間のハンダ浸漬においてフクレ、ハガレを生じ
ながった。ヌ、絶縁抵抗は、１．０Ｘ１０　Ωであった
。

比較例１゜実施例１の配合組成の中で、アクリロイルモルホリンの
ところをトリメチロールプロパントリアクリレートにか
えた以外は、実施例１と同様にして硬化した所、硬化塗
膜の鉛筆硬度は、４Ｈ１常態、４０℃９０％ＲＨ４時間
の加湿処理及び８０℃温水１時間浸漬直後における２６
０℃、６０秒のハンダ浸漬においてフクレ、ハガレが発
生した。

又、絶縁抵抗は１．０Ｘ１０　　Ωであった。

（発明の効果）本発明の樹脂組成物及びソルダーレジストインキ組成物
は、耐熱性、耐湿性、耐溶剤性及び′ポ気絶縁性に優れ
、ソルダーレジストに％ＫＪする。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを反応させ
て得られる１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル
基を有するエポキシポリ（メタ）アクリレート（Ａ）と
アクリロイルモルホリン（Ｂ）と他の不飽和基含有化合
物（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物。
（２）エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを反応させ
て得られる１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル
基を有するエポキシポリ（メタ）アクリレート（Ａ）と
アクリロイルモルホリン（Ｂ）と他の不飽相基含有化合
分（Ｃ）を含むことを特徴とするソルダーレジストイン
キ組成物。