JPS63112574A - 4−トリ置換フエニル−2(3h)−チアゾロン誘導体 - Google Patents

4−トリ置換フエニル−2(3h)−チアゾロン誘導体

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Publication number
JPS63112574A
JPS63112574A JP26007486A JP26007486A JPS63112574A JP S63112574 A JPS63112574 A JP S63112574A JP 26007486 A JP26007486 A JP 26007486A JP 26007486 A JP26007486 A JP 26007486A JP S63112574 A JPS63112574 A JP S63112574A
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JP
Japan
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group
formula
compound
mono
thiazolone
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Pending
Application number
JP26007486A
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English (en)
Inventor
Yasuo Isomura
磯村 八州男
Shuichi Sakamoto
修一 坂本
Makoto Yoshida
誠 吉田
Tetsushi Abe
哲士 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は下記一般式(I)で示される新規な4−トリ置
換フェニル−2(3H)−チアゾロン誘導体及びその塩
に関する。
(式中の記号は以下の意味を有する。
R1及びR3;同−又は異って、)・ロゲン原子又は炭
素数が1乃至3個のアルキル基。
R2;水酸基、低級アルコキシ基、アミノ基。
モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基。
又はモノ若しくはジ低級アルカノイル アミノ基。
R4:水素原子、ンアノ基、ホルミル基、ヒドロキシイ
ミノメチル基、低級アルコ キシイミノメチル基、カルボキシ基。
低級アルコキシカルボニル基、カルバ モイル基、又はモノ若してはジ低級ア ルキルアミノカルボニル基) (従来の技術) 本発明者らは、先に抗炎症剤、解熱剤、鎮痛剤、抗関接
炎剤、抗リウマチ剤及び免疫機能調整剤として有用な4
− (3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)−2(3H)−チアゾロン誘導体又はその塩
を見出し、特許出願を行った(特願昭60−27276
2号)。
従来、4位にフェニル基を有する2 (3H)−チアゾ
ロン誘導体の合成例は極めて少ない。わずかに4−炭素
環アリール−5−置換又は未置換アミノアルキル−2(
3H)−チアゾロン化合物が特公昭52−6992号公
報に開示されており。
この化合物は、抗炎症性、抗アドレナリン性。
抗潰瘍性活性を有することが報告されている。
本発明は、これら先願あるいは公知化合物とは、その置
換基を異にする点に化学構造上の特徴を有する新規化合
物を提供するものである。
(解決するための手段) 本発明者らは1種々の新規化合物を創製し。
特にリウマチ、関節炎、骨粗鬆症による骨の胃常を改善
する薬理活性を有する化合物をスクリーニングした結果
、中でも頭記一般式(I)で示される化合物及びその塩
が、優れた薬理活性を有することをつきとめ9本発明に
至った。
すなわち9本発明は2頭記一般式(I)で示される化合
物及びその塩を構成とする。
本発明化合物(I)について詳細に説明すると。
以下の通りである。
本明細書の一般式の定義において、特に断わらない現り
、「低級」なる用語は炭素数が1乃至6個の直鎖又は分
岐状の炭素鎖を意味する。
従って、「低級アルキル基」としては、具体的には例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基。
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、 5ee−
ブチル基、  tert−ブチル基、ペンチル基、イソ
ペンチル基、ネオペンチルx、  tert−ペンチル
基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、1,2
−ジメチルプロピル基、ヘキシル基。
イソヘキシル基、■−メチルペンチル基、2−メチルペ
ンチル基、3−メチルペンチル基、 1゜1−ジメチル
ブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチ
ルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメ
チルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチル
ブチル基、2−エチルブチル基、1.L2−)ジメチル
プロピル基。
1.2.2− ト’J メチルプロピル基、1−エチル
−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロ
ピル基等が挙げられる。
また、「低級アルコキシ基」としては、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、イソブトキシ基、  5ec−ブトキシ基、  t
ert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチル
オキシ基、ネオペンチルオキシ基、  tert−ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基環炭素数1乃至6個の
直鎖又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。
また、「モノ−若しくはジー低級アルキルアミノ基」は
、アミノ基の一つ又は二つの水素原子が前記「低級アル
キル基」で置換された基を意味する。具体的にはメチル
アミン基、エチルアミノ基、プロピルアミン基、イソプ
ロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基
、ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ヘキシル
アミノ基等炭素数が1乃至6個の直鎖又は分岐状のアル
キル基で置換されたモノアルキルアミノ基、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイ
ンプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジアルキルア
ミノ基。
ジヘキシルアミノ基等炭素数が1乃至6個の直鎖又は分
岐状のアルキル基でジ置換された対称型のジアルキルア
ミノ基、エチルメチルアミノ基、メチルプロピルアミノ
基、エチルプロピルアミノ基、ブチルメチルアミノ基、
ブチルエチルアミノ基、ブチルプロピルアミノ基等炭素
数カ一■乃至6個の直鎖又は分岐状のアルキル基のうち
相異なるアルキル基でジ置換された非対称型のジアルキ
ルアミノ基が挙げられる。
また、低級アルカノイル基としては炭素数が2乃至6個
の直鎖又は分岐状のアルキルカルボニル基が挙げられ、
具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、
インブチリル基。
バレリル基、インバレリル基、ピバロ’f A41ヘキ
サノイル基等である。
従って「モノ若しくはジ低級アルカノイルアミノ基」は
、アミン基の一つ又は二つの水素原子が前記「低級アル
カノイル基」で置換された基を意味する。好適にはモノ
低級アルカノイルアミノ基であり、具体的にはアセトア
ミド基。
プロピオンアミド基、ブチリルアミノ基、イソブチリル
アミノ基、ビバロイルアシノ基、ヘキサノイルアミノ基
等が挙げられる。
「低級アルコキシイミノメチル基」は、ヒドロキシイミ
ノメチル基のヒドロキシ基の水素原子が前記「低級アル
キル基」で置換した基であり、具体的には、メトキンイ
ミノメチル基、エトキシイミノメチル基、プロポキンイ
ミノメチル基、イソプロポキシイミノメチル基、ブトキ
シイミノメチル基、  tert−ブトキシイミノメチ
基、ペンチルオキシイミノメチル基、ヘキシルオキシイ
ミノメチル基等の直鎖又は分岐状の低級アルキル基で置
換したヒドロキシイミノメチル基が例示される。
さらに、「低級アルコキシカルボニル基」トしては、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキ
シカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基。
インブトキシカルボニル基、 5ee−ブトキシ力/l
/ ホ=ル、S 、  tert −フ)キシカルボニ
ル基、ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキ
シカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニルg、t
ert−ヘンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシ
カルボニル基等カルボキシ基と炭素数が1乃至6個の直
鎖又は分岐状の低級アルコールとエステル形成された基
が挙げられる。
また、「モノ若しくはジ低級アルキルアミノカルボニル
基」はカルバモイル基の一つ又は二つの水素原子が前記
「低級アルキル基」での置換した基を意味し、具体的に
は、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニ
ル基、プロピルアミノカルボニル基、イソプロピルアミ
ノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基。
ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボニ
ル基等のカルボニル基とモノアルキルアミノ基とがアミ
ド結合したモノアルキルアミノカルボニル基;ジメチル
アミノカルボニル基。
ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボ
ニル基、ジブチルアミノカルボニル基。
ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘキシルアミノカル
ボニル基等のカルボニル基と対称型のジアルキルアミノ
基とがアミド結合した対称型シアルギルアミノカルボニ
ル基;ヤ、エチルメチルアミノカルボニル基、ブチルプ
ロピルアミノカルボニル基、エチルプロピルアミノカル
ボニル基、ブチルメチルアミノカルボニル基、ブチルエ
チルアミノカルボニル基、ブチルプロピルアミノカルボ
ニル基等のカルボニル基と非対称型のジアルキルアミノ
基とがアミド結合した非対称型ジアルキルアミノカルボ
ニル基が挙ケラれる。
「ハロゲン原子」としては、具体的には塩素原子、臭素
原子等が挙げられる。
本発明化合物(I)においては、ケト型、エノール型の
互変異性体が、またイミノメチル基や低級アルコキシイ
ミノメチル基であるときは。
syn型、  anti型の異性体が存在する。
また2本発明化合物(I)は、不整炭素原子を含む置換
基で置換した化合物である場合には。
光学異性体が存在する。
本発明には本発明化合物(I)の各種の立体異性体及び
その混合物の全てが含まれる。
上記一般式(I)で示される本発明化合物は塩を形成す
る。本発明には化合物(I)の塩も含まれ、このような
塩としては塩酸、臭化水素酸。
硫酸、硝酸やリン酸などの無機酸や、ギ酸、酢酸、シュ
ウ酸、クエン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、
酒石酸、メタンスルホン酸。
エタンスルホン酸などの有機酸との酸付加塩などが挙げ
られる。
本発明化合物(I)は種々の方法により合成することが
できる。代表的な製造法を以下に例示する。
(a)環化 M−8CN  (In) 又はアルカリ金属を意味する) 本発明化合物中R4が水素原子である化合物は、一般式
(II)で示されるアセトフェノン類と、一般式(m)
で示されるチオシアン酸類とを反応させるか、または式
(IV)で示されるアンモニウムチオカーバメートとを
反応させることにより製造される。
ここに、Xが示すハロゲン原子としてはヨウ素原子、臭
素原子、塩素原子等が9Mが示すアルカリ金属としては
ナトリウム、カリウム等が挙げられる。
反応は、化合物(ITT)の有機溶媒(例えばアセトン
、メチルエチルケトン、メタノール。
エタノール等の)溶液に、チオシアン酸アルカリ水溶液
、チオシアン酸と塩基との混合物。
又はアンモニウムチオカーバメートのアルコール溶液を
加え、室温下又は加熱下に実施される。
用いられる塩基としてはナトリウム、カリウムなどのア
ルカリ金属アルコラード、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムが好適である。
(b)  ホルミル化 (式中R1、R2及びR3は前記の意味を有する。)一
般式(Ib)で示されるホルミル化合物は、化化合物(
Ia)にオキシ塩化リン、オキザリルクロホルミル基を
導入するヴイルスマイアー(Vi lsme ier 
)反応により合成することができる。
反応はrチルホルムアミド等にオキシ塩化リン等を冷却
下に加えた後、化合物(Ia)を加えるかあるいは化合
物(Ia)#チルホルムアミド等に溶解し、これにオキ
シ塩化リン等を滴下して行うのが好適である。
R1悶− 一タ慢チルホルムアミドは溶媒をも兼ねることができる
が、さらに反応に不活性な他の有機溶媒例えばジクロロ
メタン、クロロホルム、ベンゼンやジクロロベンゼン等
を用いることもできる。
反応温度は室温乃至加温下に設定するのが望ましい。
(c)  オキシム化 (式中R1、R2及びR3は前記の意味を有し、R5は
水素原子又は低級アルキル基を意味する)一般式(Ic
)で示されるオキシムは、一般式(Ib)で示されるア
ルデヒドに一般式(V)で示されるヒドロキシルアミン
類を作用させることに製造することができる。
反応は、化合物(Ib)と、化合物(Ib)に対して;
−−\ ルホルムアミド、ジクロロメタン、ジクロロニータン、
クロロホルム、ヒリシン、ベンゼン、酢酸エチル、アセ
トニトリル、エーテル、メタノール、エタノール等の反
応に不活性な有機溶媒中、塩基の存在下9通常室温下に
行うのが好ましい。
用いられる塩基としては、ピリジン、ピコリン、ルチジ
ン、 N、N−ジメチルアニリン、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等カー挙げられる。
ピリジンは溶媒を兼ねることができる。
(d)  シアン化 (Td) (式中、R’lR2及びR3は前記と同じ意味を有する
一般式(Id)で示されるニトリル化合物は一般式(I
e’)で示されるオキシム化合物に脱水剤を作用させる
ことにより製造される。
反応は、ジクロロメタン、ジクロロエタン。
クロロホルム、ヒリシン、ベンゼン、酢酸エチル、アセ
トニトリル、エーテル、ジオキサン等の有機溶媒中、化
合物(Ic’)に、オキザリルクロリド、塩化チオニル
等の脱水剤を加え、室温乃至加温下に実施するのが有利
である。ピリジン。
ピコリン、ルチジン、  N、N−ジメチルアニリン等
の塩基を添加して実施することもできる。
なお、このニトリル化合物(Id)は、一般式(Ib 
)で示されるホルミル化合物にヒドロキシルアミン鉱酸
塩を、オキシム化及び脱水反応に共通の有機溶媒中、脱
水剤の存在下で反応させることにより、特にオキシム化
合物を単離することなく、直接製造することができる。
この反応においてピリジン含有有機溶媒を用いるときは
、特に脱水剤を必要としない。
また、このニトリル化合物(Id)は、オキザリルクロ
リドや温化チオニル等がホルミル化における縮合剤と脱
水反応の脱水剤を兼ねることができ、ホルミル化、オキ
シム化、脱水反応に共通の有機溶媒を用いピリジンを添
加し、かつヒドロキシルアミン鉱酸塩を用いるときは、
ホルミル化合物やオキシム化合物を特に単離することな
く化合物(Ia)より、直接製造することカー可能であ
る。
(e)  エーテルの開裂 (Te)             (Tf)(式中、
 R’l R2+ R3及びR4は前記の意味を有し。
R6は低級アルキル基を意味する) 一般式(If)で示されろ4−ヒドロキシフエニこの反
応は化合物(Ie)にピリジン塩酸塩、臭化水素、ヨウ
化水素(赤リン共存下を含む)、トリフルオロ酢酸、濃
塩酸、ヨウ化マグネシウムエーテラート、塩化アルミニ
ウム、臭化アルミニウムなどを常温乃至加熱下に作用さ
せることにより行われる。
(f)  直接メタル化によるカルボキシ化合物の合成 (Ta)                   (T
g)(式中HR’+R2及びR3は前記の意味を有する
)一般式(Ig)で示されるカルボキシ化合物は。
化合物(Ia)の直接メタル化により合成することがで
きる。
反応は、化合物(Ig)を反応に不活性な有機溶媒9例
えばエーテル、テトラヒドロフラン、1゜2−ジメトキ
シエタン等中でn−ブチルリチウムやフェニルリチウム
等のアルキルまたはアリリチウムと反応させ9次いで二
酸化炭素を用させることにより行われる。
反応は通常冷却下に行うのが好適である。なお、化合物
(Ig)は、化合物(Ib)や(Id)を通常の方法に
よって酸化して製造することもできる。
(g)  アミド化A法 (Th) (式中J  R’+R2及びR3は前記の意味を有し。
R7及びR8は同−又は異なって、水素原子。
低級アルキルキ基又は低級アルカノイル基を意味する) 本発明化合物中一般式(Ih)で示される化合物は、一
般式(Ig)で示されるカルボン酸又はその反応性誘導
体と一般式(■)で示されるアミン類とを反応させるこ
とにより製造される。
化合物(Ig)の反応性誘導体としては、酸クロライド
、酸ブロマイド等の酸ハライド;酸アジド;N−ヒドロ
キシベンゾトリアゾールのエステル、p−ニトロフェニ
ルエステル、p−クロルフェニルエステル等の活性エス
テル;対称型酸無水物;混合酸無水物例例えばイソブチ
ル炭酸クロライド、メチル炭酸クロライド、エチル炭酸
ブロマイドの如きアルキル炭酸ハライドと化合物(Ig
)を反応させて得られるアルキル炭酸混合酸無水物等で
ある。
化合物(Ig)を遊離のカルボン酸で反応させるときは
、喝クツクロヘキシルカルポジイド、l、1−カルボニ
ルジイミダゾール等の縮合剤の存在下に実施するのが有
利である。
また2反応性誘導体を作用させるときは1反応を促進さ
せるためにトリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、ル
チジン、 N、N−ジメチルアニリン如き有機塩基、あ
るいは炭酸カリウム。
炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
如き塩基の存在下に行うのが有利な場合力′−ある。
溶媒や温度条件等は用いられる反応性誘導体の種類など
によって適宜選択され、設定される。
エーテル、テトラヒドロフラン、クロロホルム。
ジクロルメタン、ジクロルエタン等の有機溶媒あるいは
これらの混合溶媒が挙げられる。
(h)  アミド化B法 (R1、R3及びR4は前記の意味を有し R9及びR
I Oは同−又は異って、低級アルキル基を意味する) 一般式(■j)や(Ik)で示される化合物は、一般式
(Ii)の化合物と、一般式(■)の化合物又はその反
応性誘導体とを反応させ9次いで一般式()■)で示さ
れるカルボン酸又はその反応性誘導体をさらに作用させ
ることにより製造される。
反応は前記(Ig)法と同様に実施できる。
その他の製造法 R2がモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基である化合
物やR4がモノ若しくはジ低級アルキルアミノカルボニ
ル基である化合物は、一般的なN−アルキル化反応によ
り合成することができる。反応に関与する基が別に存在
するときや。
副反応を抑制するために保護基を用いて実施するのネ有
利である。
上記に例示した種々の製造法により製造された本発明化
合物は遊離のまま、塩として製造されろときは塩のまま
あるいは遊離化合物を常法によりその塩となし単離され
精製される。
単離、精製は戸数、抽出、再結晶、各種カラムクロマト
グラフィー等通常用いられる化学操作を適用してなされ
る。
(発明の効果) 本発明によって提供される化合物(I)及びその塩は、
優れた抗炎症作用、解熱鎮痛作用、あるいはりウマチ、
関節炎、骨粗懸症等による骨の異常を改善する作用を有
するので、抗炎症剤。
解熱剤、鎮痛剤、抗リウマチ剤、抗関節炎剤。
抗骨粗鬆剤として有用である。
本発明化合物(I)及びその塩は、そのままもしくは自
体公知の薬学的に許容されうる担体。
賦形剤などと混合した医薬組成物として使用に供される
。投与は錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、丸剤等の経
口投与、注射剤、ンロンブ剤。
軟膏剤、坐剤等の非経口投与のいずれであってもよい。
投与量は投与対象、投与ルート、症状等によって異なる
が通常成人1日当り1〜500■、好ましくは10〜1
00 mgであり、これを1日2〜4回に分げて経口又
は非経口投与する。
(実施例) つぎに、実施例により本発明の化合物及びその製造法を
説明する。
実施例1 5−シアノ−4−(4−メトキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)−2(3H)−チアゾロンルムアミド10gと
1.2−ジクロロエタン2m7の混−′−液を滴下する
。滴下終了後室温にて30分間攪拌する。4−フェニル
−2(3H)−チアゾロン1.8gを熱還流する。反応
液を冷却後、10%炭酸カリウム水溶液50m1に分散
し、15〜20分間攪拌する。希塩酸で酸性とした後ク
ロロホルムで抽出する。抽出液70.65 gを得た。
融点 194−196℃(エタノール)元素分析値(C
l5HI2N202S : 260.316として)C
(%)    H(%)   N(%)理論値  59
.98   ’4.65  10.76実験値  59
.77  4.74  10.65実施例2 実施例1と同様にして以下の化合物を得た。
5−シアノ−4−(3,5−ジイソプロピル−4−ヒド
ロキシフェニル) −2(3H)−チアゾロン融点 2
66−267℃(クロロホルム)元素分析値(Cl6H
18N20Sとして)C(%)   H(%)   N
(%)理論値  63,55  6.00  9.26
実験値 63.43  6.08  9.11実施例3 4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)中
で油温160℃の油浴中にて2〜3時間攪拌する。
冷却後水を加えた後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を
1規定水酸化ナトリウムで抽出する。水層を希塩酸で酸
性とする。生じた沈殿を戸数する。
を得た。
融点 197−198°C(クロロホルム)元素分析値
(CoHoO3: 221.280として)C(%) 
   H(%)   N(%)理論値  59,71 
 5.01  6.33実験値  59.69  5,
03  6.20実施例4 実施例3と同様にして以下の化合物を得た。
5−シアノ−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−2(3H)−チアゾロン融点 〉300°
C(メタノール) C(%)   H(%)   N(%)理論値  55
,29  4.48  10.75実験値  5’5,
21  4.21  10.75実施例5 4−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)−2
(3H)−チアゾロン 2−プロモー3’、5’−ジメチル−4′−メトキシ−
アセトフェノ74gをアセトン30m1に溶解する。チ
オシアン酸カリウム1.53gを水3mlに溶解した溶
液を滴下する。滴下終了後1〜1.5時間室温で攪拌す
る。反応液を減圧濃縮し、残渣にエタノール30m1゜
濃塩酸3mlを加え、6〜10時間加熱還流する。冷却
後、生じた沈殿を戸取する。沈殿をエタノールより再結
晶して 4−(3,5−ジメチル−4−メトキシフェニ
ル)−2(3H)−チアゾロン1.0gヲ4だ。
融点 226−227°G(エタノール)元素分析イ真
(C,2H33N02S:235.307として)C(
%)    H(%)   N(%)理論値  61,
25  5.57  5.95実験値 61.20  
5,58  5.92実施例6〜7 実施例5と同様にして以下の化合物を得た。
4−(3,5−ジブロモ−4−アニリノ) −2(3H
)−チアゾロン 融点 246℃(分解)(アセトン) 元素分析値(CgH6N20SBr、、 H4C3Ha
Oとして)C(%)  H(%) N(%) S(%)
  Br(%)理論値 31.69 2.227,78
 8.89 44.48実験値 31.35 1.83
 7,69 9.19 44.61実施例7 4−(3−アセチルアミノ−2,4−ジエチルフェニル
)−2(3H)−チアゾロン 融点 253−255°C(アセトン)元素分析値(C
I5H18N202Sとして)C(%)  H(%) 
 N(%)S(%)理論値 62,04 6.25 9
.6’5 11.04実験値 62.00 6.23 
9.27 11.03実施例8 臭素1.2 mlを滴下する。TLCで原料の消失を確
認した後、減圧濃縮する。残渣をアセトン50に溶解す
る。チオシアン酸カリウム2.3gを3mlに溶解した
溶液を滴下する。室温で一時間攪拌した後、生じた沈殿
を戸数する。涙液を減圧濃縮する。残渣にエタノール5
0m7及び濃塩酸5+++tを加え終夜加熱還流する。
減圧濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトに付ス。クロロ
ホルム−メタノールにて浴出し粗製物340gを得た。
さらにベンゼンより再結晶し。
4−(3,5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−2(3H)−チアゾロン1.5gを得た。
融点 187j188°C(ベンゼン)元素分析値(C
l5HIQN 02Sとして)C(%)  H(%)N
(%>  S(%)理論値 64..94 6,90 
5.05 11.56実験値 64,96 6.90 
4.90 11.55実施例9 4−(3−アセチルアミノ−2,4−ジエチルフェニル
−2(3H)−チアゾロン2.0gと濃塩酸30m1の
混液を封管にて120−130°Cの油浴で3時間加熱
する。冷却後水を加える。生じた沈殿を戸数する。沈殿
をエタノールで再結晶し、4−(3−アミノ−2,4−
ジエチルフェニル)−2(3H)−チアゾロン塩酸塩0
.7gを得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中の記号は以下の意味を有する。 R^1及びR^3;同一又は異って、ハロゲン原子又は
    炭素数が1乃至3個のアルキル基、 R^2;水酸基、低級アルコキシ基、アミノ基、モノ若
    しくはジ低級アルキルアミノ基、 又はモノ若しくはジ低級アルカノイル アミノ基、 R^4;水素原子、シアノ基、ホルミル基、ヒドロキシ
    イミノメチル基、低級アルコ キシイミノメチル基、カルボキシ基、 低級アルコキシカルボニル基、カルバ モイル基、又はモノ若しくはジ低級ア ルキルアミノカルボニル基) で示される4−トリ置換フェニル−2(3H)−チアゾ
    ロン誘導体又はその塩。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0513379A1 (en) * 1990-11-30 1992-11-19 Teijin Limited 2-arylthiazole derivative and pharmaceutical composition containing the same
US5614520A (en) * 1990-11-30 1997-03-25 Teijin Limited 2-arylthiazole derivatives and pharmaceutical composition thereof

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