JPS6289228A - Magnetic storage medium - Google Patents
Magnetic storage mediumInfo
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- JPS6289228A JPS6289228A JP23165785A JP23165785A JPS6289228A JP S6289228 A JPS6289228 A JP S6289228A JP 23165785 A JP23165785 A JP 23165785A JP 23165785 A JP23165785 A JP 23165785A JP S6289228 A JPS6289228 A JP S6289228A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気的記憶装置(磁気ディスク装置または磁気
ドラム装置など)に用いられる磁気記憶体に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a magnetic storage body used in a magnetic storage device (such as a magnetic disk device or a magnetic drum device).
(従来の技術)
一般に記録再生磁気ヘッド(以下ヘッドと呼ぶ)と磁気
記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法に
は次のような方法がある。すなわち操作開始時にヘッド
と磁気記憶体面とを接触状態でセットした後、磁気記憶
体に所要の回転を与えることによりヘッドと磁気記憶体
面の間に空気層分の空間を作シ、この状態で記録再生を
する方法である(コンタクト・スタート・ストップ方式
。(Prior Art) In general, there are the following methods for recording and reproducing a magnetic storage device that includes a recording and reproducing magnetic head (hereinafter referred to as a head) and a magnetic storage body. In other words, at the start of operation, the head and the magnetic storage surface are set in contact, and then a space corresponding to an air layer is created between the head and the magnetic storage surface by giving the magnetic storage the required rotation, and recording is performed in this state. This is a method of playback (contact start-stop method).
以下C8Sと呼ぶ)。この方法では操作終了時に磁気記
憶体の回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶体面は操
作開始時と同様に接触摩擦状態にある。(hereinafter referred to as C8S). In this method, the magnetic storage body stops rotating at the end of the operation, and at this time the head and the magnetic storage body surface are in the same frictional state as at the start of the operation.
これらの接触摩擦状態におけるヘッドと磁気記憶体の間
に生じる摩擦力は、ヘッドおよび磁気記憶体を摩耗させ
ついにはヘッドおよび磁性媒体に傷を生じせしめること
がある。The frictional force generated between the head and the magnetic storage body in these contact friction states can wear out the head and the magnetic storage body, and may eventually cause damage to the head and the magnetic medium.
また前記接触摩擦状態においてヘッドのわずかな姿勢の
変化がヘッドにかかる荷重を不均一くさせヘッドおよび
磁気記憶体表面に蕩を作ることもある。Further, in the contact friction state, a slight change in the posture of the head may cause the load applied to the head to become non-uniform, resulting in damage to the surface of the head and the magnetic storage body.
さらにヘッドと磁気記憶体の長時間の接触により、両者
は互いに吸着し離れにくくなる。Furthermore, when the head and the magnetic storage body are in contact for a long time, they attract each other and become difficult to separate.
このヘッドとの接触および摺動による磁気記憶体の破壊
および吸着を防止するために、従来特開昭52−498
05号公報に見られるように、磁気記憶体表面にパーフ
ロロアルキルポリエーテルなどの潤滑剤を被覆していた
。In order to prevent damage and adsorption of the magnetic storage body due to contact and sliding with the head, a conventional method has been proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-498.
As seen in Publication No. 05, the surface of the magnetic memory body was coated with a lubricant such as perfluoroalkyl polyether.
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながらこのような潤滑剤は耐荷重性が悪くヘッド
との摺動または多数回のC8Sの繰り返しにおいて磁気
記憶体の傷の発生を防ぐことが出来なかった。また除去
された潤滑剤が磁気記憶体とヘッドの接触摺動面に厚く
局在して吸着し離れなくなるという欠点もあった。(Problems to be Solved by the Invention) However, such a lubricant has poor load resistance and cannot prevent the occurrence of scratches on the magnetic storage body during sliding with the head or when C8S is repeated many times. Another disadvantage is that the removed lubricant is thickly localized on the contact sliding surface between the magnetic storage body and the head and is stuck thereto, making it difficult to separate from the lubricant.
本発明の目的は、この問題点を解決した磁気記憶体を提
供することにある。An object of the present invention is to provide a magnetic memory that solves this problem.
(問題を解決するための手段)
本発明の磁気記憶体は、その部分断面図(第1図)に示
すように下地体1の上に磁性媒体2が被覆され、さらに
該媒体上にラダー型ポリシロキサンからなる潤滑剤4が
被覆された構造を有する。(Means for Solving the Problems) The magnetic storage body of the present invention has a magnetic medium 2 coated on a base body 1, as shown in a partial cross-sectional view (FIG. 1), and further has a ladder type structure on the medium. It has a structure coated with a lubricant 4 made of polysiloxane.
下地体1はアルミ合金、チタン合金、またはステンレス
などの金属、またはポリエステル、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン
、芳香族ポリエーテル、エポキシ樹脂、尿41旨、メラ
ミン樹脂、ポリカーボネート、ジアリルフタレート樹脂
、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール樹
脂、ポリブチレンテレフタレート、ビスマレイミドトリ
アジン樹脂、ポリオキシペンジレン樹脂。The base body 1 is made of metal such as aluminum alloy, titanium alloy, or stainless steel, or polyester, polyimide, polyamideimide, polyether sulfone, polysulfone, aromatic polyether, epoxy resin, urine 41, melamine resin, polycarbonate, diallyl phthalate. Resin, acrylic resin, phenolic resin, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, polyacetal resin, polybutylene terephthalate, bismaleimide triazine resin, polyoxypendylene resin.
ポリアミノビスマレイミド樹脂、ポリフェニレンオキサ
イド、ポリフェニレンサルファイドなどのグラスチック
、またはガラス、シリコン、ゲルマニウム、アルミナ、
シリカ、ダイアモンドなどのセラミックス、または陽極
酸化アルマイト被覆アルミ合金あるいは、N i−Pメ
ッキ膜、Cr、FeNt*ステンレス、MoまたはWな
どの金属または前記プラスチック、前記セラミックスを
被覆したアルミ合金、チタン合金、ステンレスなどの積
層合金基板、あるいは前記金属あるいは前記セラミック
スが被覆された前記プラスチック基板、あるいは前記金
属または前記プラスチックが被覆されたセラミックス基
板である。Plastics such as polyamino bismaleimide resin, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, or glass, silicon, germanium, alumina,
Ceramics such as silica and diamond, or aluminum alloys coated with anodized alumite, Ni-P plating films, metals such as Cr, FeNt*stainless steel, Mo or W, or the above plastics, aluminum alloys coated with the above ceramics, titanium alloys, The substrate may be a laminated alloy substrate such as stainless steel, a plastic substrate coated with the metal or ceramic, or a ceramic substrate coated with the metal or plastic.
次にこの下地体1の上に被覆されるに磁性媒体2として
Fe、O,+ r−FetOx * Fe、N4+バリ
ウムフエライトなどの鉄酸化物または鉄窒化物などのセ
ラミックスまたはCo 、Co−Ni 、Co−Ni
−P 。Next, this base body 1 is coated with a magnetic medium 2 made of ceramics such as iron oxide or iron nitride such as Fe, O, + r-FetOx * Fe, N4 + barium ferrite, or Co, Co-Ni, Co-Ni
-P.
Co −Mn −P 、Co−Mn−−Ni −P 、
Co−Re 、Co−Ni−Re 、Co −Mn −
Re −P 、Co−Cr 、Co−Fe−Cr 。Co-Mn-P, Co-Mn--Ni-P,
Co-Re, Co-Ni-Re, Co-Mn-
Re-P, Co-Cr, Co-Fe-Cr.
Co−V、Co−Ru 、Co−0s 、Co−Pt
、Co −Ni−Pt。Co-V, Co-Ru, Co-0s, Co-Pt
, Co-Ni-Pt.
Co−Pt−Cr 、Co−PC−V、Co−Rh 、
Co−Cr−Rh。Co-Pt-Cr, Co-PC-V, Co-Rh,
Co-Cr-Rh.
Co−Nl −Mo 、Co−Ni Cr 、Co−
N1−W、Co−8m。Co-Nl-Mo, Co-NiCr, Co-
N1-W, Co-8m.
などのコバルトを含む金ノ、1またはFe−Mg、Fe
−Nd、Fe−Ag、Fe−Pd、Fe Tb な
どの鉄を含む金7もまたはMn−Al、Mn Cu A
1などのマンガンを含む金属が用いられる。Gold containing cobalt such as 1 or Fe-Mg, Fe
- Gold containing iron such as Nd, Fe-Ag, Fe-Pd, Fe-Tb or Mn-Al, Mn Cu A
A metal containing manganese such as 1 is used.
Il′A滑剤4としては次の基本構造を含んでいる。Il'A lubricant 4 includes the following basic structure.
R′
R−(S I O) rIR″′
R”−(S +0 ) nR’″1
R”
ここでR,R’ 、iじ、R”’ 、 RII 1+
、 RII II l は−Cmu、m+11 Cr
nFtm+1 (mは1以上の整数)またはC6Ha
−Ca H4CHt C1、Ca f(s CHg 0
OCH* 、 CHH,C,Ha、C,H,CH,、C
,H,St (CH,)、、−X(Xは−H= CO
OH、−NCO、−M (OR) s −n Rn(n
は0.1または2.MはSi、Tl、Zr、Go。R' R-(S I O) rIR"'R"-(S +0) nR'"1 R" where R, R', iji, R"', RII 1+
, RII II l is −Cmu, m+11 Cr
nFtm+1 (m is an integer greater than or equal to 1) or C6Ha
-Ca H4CHt C1, Ca f(s CHg 0
OCH*, CHH, C, Ha, C, H, CH,, C
,H,St(CH,),,-X(X is-H=CO
OH, -NCO, -M (OR) s -n Rn(n
is 0.1 or 2. M is Si, Tl, Zr, Go.
Snなどの金属または半金属)、−CN、−NH,。metals or metalloids such as Sn), -CN, -NH,.
−NRH,−NH−、−CH−CM、、−8o、I(、
−No。-NRH, -NH-, -CH-CM, -8o, I(,
-No.
−0I(、−COOR,−N)(CONH−、−NHC
O−、−NC3゜−8R,−CONH,、−PO(OH
)、、=PO(OH)。-0I(, -COOR, -N)(CONH-, -NHC
O-, -NC3゜-8R, -CONH,, -PO(OH
),,=PO(OH).
=PO−、=P−、−0−、−3−(Rは−CrnH*
rn+ 1 * mは1以上の整数)、−CH,−0−
0−CH,−、−CH=CH,。=PO-, =P-, -0-, -3- (R is -CrnH*
rn+ 1 * m is an integer of 1 or more), -CH, -0-
0-CH,-,-CH=CH,.
−CミCMなどの官能基)などのいずれかである。-C (functional group such as CM).
第2図は、本発明の別の磁気記憶体の部分断面図である
。第2図において、下地体1および磁性媒体2、潤滑剤
4は第1図と同じであるが磁性媒体2と潤滑剤4の間に
保護膜3が被覆されている。FIG. 2 is a partial cross-sectional view of another magnetic storage body of the present invention. In FIG. 2, the base body 1, magnetic medium 2, and lubricant 4 are the same as in FIG. 1, but a protective film 3 is coated between the magnetic medium 2 and the lubricant 4.
該保護膜3はS 10. 、 St、N4. S ic
または珪酸重合物などの珪素化合物またはAt、o、
、CoO、Co。The protective film 3 is S10. , St, N4. Sic
or silicon compounds such as silicic acid polymers or At, o,
,CoO,Co.
04、Co、O,、a−Fe、O,、Cr5O,、Cr
O,、Tie、 。04, Co, O,, a-Fe, O,, Cr5O,, Cr
O,,Tie,.
ZrO,、ZnO,PbO,NlO,MoO,またはS
nO,などの金属酸化物またはTIN、ZrN、Cr
N、TaN。ZrO, ZnO, PbO, NlO, MoO, or S
Metal oxides such as nO, or TIN, ZrN, Cr
N.TaN.
BNなどの金属窒化物またはM o S 2 、 WS
* 、T a S 1などの金属硫化物あるいはTi
c、ZrC,CrC。Metal nitrides such as BN or M o S 2 , WS
*, metal sulfides such as T a S 1 or Ti
c, ZrC, CrC.
TaCなどの金属炭化物またはぶつ化黒鉛などの金属ぶ
つ化物またはW、Cr、工r、NiB、NiP。Metal carbides such as TaC, metal carbides such as buttomized graphite, or W, Cr, NiB, NiP.
FeCr、NiCr、Sn、Pb、Zn、TI、Au、
Ag1Cu#Ga 、Ru 、Rh 、Mn 、Mo
、OsまたはTaまたはそれらの合金などの金属または
合金またはS i 、Go 。FeCr, NiCr, Sn, Pb, Zn, TI, Au,
Ag1Cu#Ga, Ru, Rh, Mn, Mo
, Os or Ta or their alloys or S i , Go .
B、C(非晶質あるいはダイアモンド状あるいはその混
合物)などの半導体あるいはポリテトラフルオロエチレ
ン、フェノール樹脂、ポリイミドなどのプラスチックが
用いられる。該保護膜3の上に被覆される表面改質層4
は用いられる保護膜により最適な物質が決められる。表
面改質層4は第1図のところで説明したような官能基を
含む化合物であり、保@膜3が上記金属の場合は上記官
能基の中で−COOH,−CH−CH,,−NH,、−
CN が最適である。また保護膜3が上記珪素化合物、
金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、金属炭化物、半
導体などのセラミックスの場合は、上記官能基の中でも
一8i(OR)3−nRnが最も適している。また保護
膜3がプラスチックの場合は、−CH−CI(、。Semiconductors such as B and C (amorphous or diamond-like or a mixture thereof) or plastics such as polytetrafluoroethylene, phenol resin, and polyimide are used. A surface modification layer 4 coated on the protective film 3
The most suitable material is determined by the protective film used. The surface modification layer 4 is a compound containing functional groups as explained in FIG. ,,−
CN is optimal. Further, the protective film 3 is made of the above silicon compound,
In the case of ceramics such as metal oxides, metal nitrides, metal sulfides, metal carbides, and semiconductors, -8i(OR)3-nRn is most suitable among the above functional groups. Moreover, when the protective film 3 is made of plastic, -CH-CI(,.
−Nf(、、−CN、−CH−CF(−、−CミC−、
−CII、−0−0−CH,−がigJ:適である。-Nf(,, -CN, -CH-CF(-, -CmiC-,
-CII, -0-0-CH,- is suitable for igJ.
(作用)
前記詞滑fll 4はその分子中に含まれる梯状(ラダ
ー型)のS五〇 結合のため潤滑剤の耐荷重能が高く耐
摩耗性に優れておシまた耐熱性も高い。また極性がR,
R’ 、R”、R”ZR”−、R・”°によって遮閉さ
れているため表面張力が低くヘッドと磁気記憶体との吸
着を起こしにくいなどの優れた特性を有している。(Function) Due to the ladder-shaped S50 bond contained in the molecule, the lubricant has a high load-bearing capacity, excellent wear resistance, and high heat resistance. Also, the polarity is R,
Since it is shielded by R', R'', R''ZR''-, and R·''°, it has excellent characteristics such as low surface tension and difficulty in causing adhesion between the head and the magnetic storage body.
(実施例)
以下、実施例により本発明を説明する。ここでは以下に
示す試料と比較試料を作製しその特性を測定した。(Example) The present invention will be explained below with reference to Examples. Here, the following samples and comparative samples were prepared and their characteristics were measured.
試料l
アルミ合金基板の上にニッケルー燐めっき膜が被覆され
表面粗さ0.02umK鏡面仕上げされた下地体1の上
に、磁性媒体2としてコバルト−ニッケルー燐合金を0
.05umの厚さにめっきした。次にこの磁性媒体2の
上に保護膜3として特開昭゛52−20804号公報に
示されたようなポリ珪酸(珪酸重合物)を回転塗布法に
より500Aの厚さに被覆し250℃で焼成した。次に
この保護膜3の上に潤滑剤4として下記の構造を有する
ラダー−型ポリシロキサンを20オングストロームの厚
さに被覆して、磁気ディスクを作った。Sample 1 A cobalt-nickel-phosphorus alloy was coated as a magnetic medium 2 on a base body 1, which was an aluminum alloy substrate coated with a nickel-phosphorus plating film and had a mirror finish with a surface roughness of 0.02 umK.
.. It was plated to a thickness of 0.05 um. Next, a protective film 3 of polysilicic acid (silicic acid polymer) as disclosed in JP-A-52-20804 was coated on the magnetic medium 2 to a thickness of 500A by a spin coating method, and the film was heated at 250°C. Fired. Next, a ladder-type polysiloxane having the following structure was coated on the protective film 3 as a lubricant 4 to a thickness of 20 angstroms to produce a magnetic disk.
ラダー型ポリシロキサン HsC(S i (CH,) O)n CH。Ladder type polysiloxane HsC(S i (CH,) O) n CH.
H,C(S l (CH,) O)nCH。H,C(S (CH,) O)nCH.
(nは1O−20)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験によシ
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。(n is 1O-20) When this magnetic disk was subjected to a C8S test 100,000 times to evaluate its wear resistance, no scratches were observed on the surface of the head or magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料2
試料lと同様にして但し潤滑剤4として下記の構造を有
するラダー型ポリシロキサンを被覆して、磁気ディスク
を作った。Sample 2 A magnetic disk was prepared in the same manner as Sample 1 except that it was coated with a ladder-type polysiloxane having the structure shown below as lubricant 4.
ラダー型ポリシロキサン
H,C,(S l (C,Ha) 0 )n C8H6
HaCs (S i (CaHs) O)n CaHa
(nは5)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験によシ
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。Ladder type polysiloxane H, C, (S l (C, Ha) 0 )n C8H6
HaCs (S i (CaHs) O)n CaHa
(n is 5) When this magnetic disk was subjected to a C8S test 100,000 times to evaluate its wear resistance, no scratches were observed on the surface of the head or magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料3
試料lと同様にして但し磁性媒体2の上に保護膜3とし
て無電解めっき法によシニッケルー燐を100A被覆し
その上に潤滑剤4として下記の構造を有するラダー型ポ
リシロキサンを20オングストロームの厚さに被覆して
、磁気ディスクを作った。Sample 3 Same as Sample 1, except that the magnetic medium 2 is coated with 100A of nickel-phosphorus as a protective film 3 by electroless plating, and on top of that, 20 angstroms of ladder-type polysiloxane having the following structure is applied as a lubricant 4. A magnetic disk was made by coating the material to a thickness of .
ラダー型ポリシロキサン
HlC(S i(C,H4Ca” ts ) O)n
CH* COOHHsC(S i (C*H4C6FT
1) 0 )nCH,C00H(nは5)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験によシ
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。Ladder type polysiloxane HlC(S i(C,H4Ca” ts ) O)n
CH* COOHHsC(S i (C*H4C6FT
1) 0) nCH, C00H (n is 5) When the wear resistance of this magnetic disk was evaluated by performing a C8S test 100,000 times, no scratches were observed on the surface of the head or the magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、■
、2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, compared to when they were not left,
, the increase was only 2 times.
試料4
試料1と同様にして但し磁性媒体2の上に保藤膜として
、スパッタ法によりカーボンを200オングストローム
被覆した後、潤滑剤4として下記の構造を有するラダー
型ポリシロキサンを被覆して、磁気ディスクを作った。Sample 4 Same as sample 1, except that 200 angstroms of carbon was coated as a Hoto film on the magnetic medium 2 by sputtering, and then a ladder type polysiloxane having the structure shown below was coated as the lubricant 4. I made a disc.
ラダー型ポリシロキサン
u、c (S i (C*HnCaFts) 0 )n
CH。Ladder type polysiloxane u, c (S i (C*HnCaFts) 0 ) n
CH.
H,C(Si ((lH4c、F、、)0)nCH。H,C(Si ((lH4c,F,,)0)nCH.
(nは10)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験により
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。(n is 10) When the wear resistance of this magnetic disk was evaluated by C8S test 100,000 times, no scratches were observed on the surface of the head or the magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
The increase was only 2 times.
試料5
試料1と同様にして但し保護膜3の上に潤滑剤4として
下記の構造を有するラダー型ポリシロキサンを被覆して
、磁気ディスクを作った。Sample 5 A magnetic disk was fabricated in the same manner as Sample 1, except that the protective film 3 was coated with a ladder-type polysiloxane having the structure shown below as a lubricant 4.
ラダー型ポリシロキサン
H,C(S i (CH,) O)n HH,C(S
i (CH,) O)nH(nは20)
この磁気ディスクを1ooooo回のCSS試験により
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には鵠は全く認められなかった。Ladder type polysiloxane H,C(S i (CH,) O)n HH,C(S
i (CH,) O) nH (n is 20) When the wear resistance of this magnetic disk was evaluated by CSS test 1ooooo times, no scratches were found on the surface of the head or the magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料6
試料1と同様にして但し下地体1としてCrをNIPめ
っき層の上にスパッタ法によりlumの厚さに被覆しそ
の上に磁性媒体2としてCoNi合金をスパッタ法によ
り0.05umの厚さに被覆しその上に保護膜として、
スパッタ法によりCrを200オングストローム被覆し
た後、潤滑剤4として下記の構造を有するラダー型ポリ
シロキサンを被覆して、磁気ディスクを作った。Sample 6 Same as Sample 1 except that Cr was coated as the base 1 on the NIP plating layer to a thickness of lum by sputtering, and CoNi alloy was coated on top of it as the magnetic medium 2 to a thickness of 0.05 um by sputtering. and as a protective film on top of it,
After coating 200 angstroms of Cr by sputtering, a ladder-type polysiloxane having the following structure was coated as lubricant 4 to produce a magnetic disk.
ラダー型ポリシロキサン H,C(S t (CM、) O)nCH,NH。Ladder type polysiloxane H,C(St(CM,)O)nCH,NH.
H,C(S i (CH,) 0 )nCH,NH。H, C(S i (CH,) 0) nCH, NH.
(nは20)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験によシ
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかっ念。(n is 20) When this magnetic disk was subjected to a C8S test 100,000 times to evaluate its wear resistance, no scratches were observed on the surface of the head or magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料7
試料1と同様にして但し磁性媒体2の上に保護膜3とし
て、NIPを無電解めっきにより500オングストロー
ム被覆した後、300℃で2時間焼成して表面に100
オングストロームのN i Oを形成させその上に潤滑
剤4として下記の構造を有するラダー型ポリシロキサン
を被覆して、磁気ディスクを作った。Sample 7 Same as Sample 1 except that 500 angstroms of NIP was coated on the magnetic medium 2 as a protective film 3 by electroless plating, and then baked at 300°C for 2 hours to coat the surface with 100 angstroms of NIP.
A magnetic disk was manufactured by forming angstrom N i O and coating it with a ladder type polysiloxane having the structure shown below as a lubricant 4.
ラダー型ポリシロキサン
H,C(S + (CH,) O)nCH,S t (
OCR,) 。Ladder type polysiloxane H,C(S + (CH,) O)nCH,S t (
OCR, ).
■
HllC(S 1(CH,) 0 )nCH,S l
(OCR,) 。■ HllC(S 1(CH,) 0 )nCH, S l
(OCR,).
(nは20)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験によハ
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。(n is 20) When this magnetic disk was subjected to a C8S test 100,000 times to evaluate its wear resistance, no scratches were observed on the surface of the head or magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料8
試料1と同様にして但し磁性媒体2としてγFe*O,
をスパッタ法により0.1umの厚さで被覆し該磁性媒
体の上に、潤滑剤4として下記の構造ヲ有スるラダー型
ポリシロキサンを被覆して、磁気ディスクを作った。Sample 8 Same as sample 1 except that γFe*O,
was coated with a thickness of 0.1 um by sputtering, and a ladder type polysiloxane having the structure shown below was coated on the magnetic medium as a lubricant 4 to produce a magnetic disk.
ラダー型ポリシロキサン H,C(S i (OCR,) O)nCH。Ladder type polysiloxane H, C(S i (OCR,) O) nCH.
H,C(S i (CH,) O)nCH。H, C(S i (CH,) O) nCH.
(nは20)
試料9
試料1と同様にして但し磁性媒体2としてCoCr合金
をスパッタ法によ50.1umの厚さで被覆し該磁性媒
体の上に、潤滑剤4として下記の構造を有するラダー型
ポリシロキサンを被覆して、磁気ディスクを作った。(n is 20) Sample 9 Same as Sample 1 except that a CoCr alloy was coated as the magnetic medium 2 to a thickness of 50.1 um by sputtering, and the following structure was applied as the lubricant 4 on the magnetic medium. A magnetic disk was made by coating it with ladder-type polysiloxane.
ラダー型ポリシロキサン H,C(S l (CH,C00H) 0 )。CH。Ladder type polysiloxane H, C (S l (CH, C00H) 0). CH.
H,C(S t (CH,) O)nCH。H,C(St(CH,)O)nCH.
(nは20 )
この磁気ディスクを1ooooo回のC8S試験により
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。(n is 20) When the wear resistance of this magnetic disk was evaluated by C8S test 1ooooo times, no scratches were observed on the surface of the head or the magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料10
試料1と同様にして但し磁性媒体2の上に保護膜3とし
てSnを無電解めっき法によ、90.05umの厚さで
被覆し250℃で焼成してS nowを形成した後、該
保護膜3の上に、潤滑剤4として下記の構造を有スるシ
ラノール変成ポリシラスチレンを被覆して、磁気ディス
クを作った。Sample 10 Same as Sample 1 except that Sn was coated on the magnetic medium 2 as a protective film 3 to a thickness of 90.05 um by electroless plating and baked at 250°C to form Sn now. The protective film 3 was coated with silanol-modified polysilastyrene having the following structure as a lubricant 4 to produce a magnetic disk.
ラダー型ポリシロキサン
H,C(St (C,H,CF、)O)nCH,St
(OcH,)xH,C(St (C,H4CF、)0)
nCH,Si (OCR,)。Ladder type polysiloxane H,C(St (C,H,CF,)O)nCH,St
(OcH,)xH,C(St (C,H4CF,)0)
nCH,Si (OCR,).
(nは20 )
この磁気ディスクを100000回のC8S試験により
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全ぐ認められなかった。(n is 20) When the wear resistance of this magnetic disk was evaluated by C8S test 100,000 times, no scratches were observed on the surface of the head or the magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料11
試料1と同様にして但し保護膜3としてBNをスパッタ
法により0.1umの厚さで被覆し該保護膜の上に、潤
滑剤4として下記の構造を有するラダー型ポリシロキサ
ンを被覆して、磁気ディスクを作った。Sample 11 Same as Sample 1 except that BN was coated as the protective film 3 to a thickness of 0.1 um by sputtering, and on top of the protective film, a ladder type polysiloxane having the following structure was coated as the lubricant 4. and created a magnetic disk.
ラダー型ポリシロキサン
H,C(Sl (C1H,CF、)O)nCH,0OC
CH,(CF、)−H,C(Si (C,H4CF、)
0)nCH,0OCCH,(CF、) −一(CF’、
) CF、 O)mCF。Ladder type polysiloxane H,C(Sl (C1H,CF,)O)nCH,0OC
CH,(CF,)-H,C(Si(C,H4CF,)
0)nCH,0OCCH,(CF,) -1(CF',
) CF, O)mCF.
−(CF、)CF、0)、T、CF。-(CF,)CF,0),T,CF.
(nは202mは10)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験により
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。(n is 10 for 202 m) When the wear resistance of this magnetic disk was evaluated by C8S test 100,000 times, no scratches were observed on the surface of the head or the magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
.2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
.. The increase was only 2 times.
試料15
試料1と同様にして但し保護膜3としてTicをスパッ
タ法により0.1umの厚さで被覆し該保護llQの上
に、潤滑剤4として下記の構造を有するラグー型ポリシ
ロキサンを被覆して、磁気ディスクを作った。Sample 15 Same as Sample 1 except that TIC was coated as the protective film 3 to a thickness of 0.1 um by sputtering, and on top of the protective film 11Q, Ragout type polysiloxane having the following structure was coated as the lubricant 4. and created a magnetic disk.
ラダー型ポリシロキサン
H,C(S i (C,H,CF、) O)n CH,
0OCCH,−H,C(S t (C,H4CF、)
O)nCH,0OCCH,−−(C21”40)(CF
、0)9COOHp
−(C2F40)(CF、0)qCOOH(nは20.
pは10.qは8)
この磁気ディスクを100000回のC8S試験により
耐摩耗性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面には傷は全く認められなかった。Ladder type polysiloxane H,C(S i (C,H,CF,) O)n CH,
0OCCH, -H,C(S t (C,H4CF,)
O)nCH,0OCCH, --(C21"40)(CF
,0)9COOHp-(C2F40)(CF,0)qCOOH(n is 20.
p is 10. q is 8) When this magnetic disk was evaluated for wear resistance by 100,000 C8S tests, no scratches were observed on the surface of the head or magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
2倍の増加にとどまった。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
The increase was only 2 times.
比較試料1
試料】と同様にして但し潤滑剤4として下記の構造を有
スるパーフロロアルキルポリエーテルを被覆して、磁気
ディスクを作った。Comparative Sample 1 A magnetic disk was prepared in the same manner as Sample] except that it was coated with perfluoroalkyl polyether having the following structure as Lubricant 4.
パーフロロアルキルポリエーテル F(C,F’40)(CF、0)qCF。Perfluoroalkyl polyether F(C,F'40)(CF,0)qCF.
この磁気ディスクを20000回のC8S試験により;
@摩耗性を評価したところヘッド訃よび磁気ディスクの
表面に磁性媒体に達する傷が発生した。This magnetic disk was subjected to 20,000 C8S tests;
When the wear resistance was evaluated, scratches reaching the magnetic medium were found on the head and on the surface of the magnetic disk.
壕だヘッドと(−気ディスクを70時間数1なしてその
間に働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ
、10倍の増加が見られた。When we measured the suction force that worked during the 70-hour period with the moat head and the disk, we found that it increased tenfold compared to when it was left unused.
比較試料2
試料3と同様にして但し保護膜3の上に、潤滑剤4とし
て下記の構造を有するジメチルシリコーンオイルを被ω
して、磁気ディスクを作った。Comparative sample 2 Same as sample 3, except that dimethyl silicone oil having the following structure was applied as a lubricant 4 on the protective film 3.
and created a magnetic disk.
ジメチルシリコーンオイル
H,C(Si (CH,)to)nSt(CHs)*こ
の磁気ディスクを20000回のC8S試験により耐1
11粍性を評価したところヘッドおよび磁気ディスクの
表面に磁性媒体に達する傷が発生した。Dimethyl silicone oil H, C (Si (CH,) to) nSt (CHs)
When the scratches were evaluated, scratches reaching the magnetic medium were found on the surfaces of the head and magnetic disk.
またヘッドと磁気ディスクを70時間放置してその間に
働く吸着力を測定したところ放置しないときに比べ、1
5倍の増加が見られた。In addition, when the head and magnetic disk were left for 70 hours and the adsorption force acting during that time was measured, it was 1.
A 5-fold increase was seen.
(発明の効果)
以上のように本発明の磁気記憶体は耐摩耗性に浸れ、か
つヘッドとディスクの吸着を生じにくく磁気ディスクの
信頼性を飛曜的に向上できることが分かった。(Effects of the Invention) As described above, it has been found that the magnetic storage body of the present invention has excellent wear resistance and is less likely to cause adhesion between the head and the disk, and can significantly improve the reliability of the magnetic disk.
なお本発明の実施例では磁気ディスクについて述べたが
フロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも本発
明が有効であることは明らかである。In the embodiments of the present invention, magnetic disks have been described, but it is clear that the present invention is also effective for floppy disks, magnetic tapes, and magnetic cards.
第1図および第2図は本発明を示す部分断面図である。
■・・・・・下地体、 2・・・・・磁性媒体、 3・
・・・保護IFA!、 4・−・・4寥〕滑庁]であ
る。1 and 2 are partial cross-sectional views showing the present invention. ■... Base body, 2... Magnetic medium, 3.
...Protection IFA! , 4.
Claims (1)
接または保護膜を介してラダー型ポリシロキサンからな
る濡滑剤が被覆されてなる構造を有することを特徴とす
る磁気記憶体。1. A magnetic memory having a structure in which a magnetic medium is coated on a base body, and a wetting agent made of ladder-type polysiloxane is further coated on the medium directly or through a protective film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23165785A JPS6289228A (en) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | Magnetic storage medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23165785A JPS6289228A (en) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | Magnetic storage medium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6289228A true JPS6289228A (en) | 1987-04-23 |
JPH0548529B2 JPH0548529B2 (en) | 1993-07-21 |
Family
ID=16926927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23165785A Granted JPS6289228A (en) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | Magnetic storage medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6289228A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5527617A (en) * | 1991-07-22 | 1996-06-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Metal thin film magnetic recording medium having a silicone compound protective layer |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52140303A (en) * | 1976-05-18 | 1977-11-22 | Sony Corp | Magnetic record medium |
JPS5613527A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1985
- 1985-10-16 JP JP23165785A patent/JPS6289228A/en active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52140303A (en) * | 1976-05-18 | 1977-11-22 | Sony Corp | Magnetic record medium |
JPS5613527A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5527617A (en) * | 1991-07-22 | 1996-06-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Metal thin film magnetic recording medium having a silicone compound protective layer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0548529B2 (en) | 1993-07-21 |
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